KR101217406B1 - 띠형상 워크의 노광 장치 및 띠형상 워크의 노광 장치에있어서의 포커스 조정 방법 - Google Patents
띠형상 워크의 노광 장치 및 띠형상 워크의 노광 장치에있어서의 포커스 조정 방법 Download PDFInfo
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CN102749817A (zh) * | 2012-06-27 | 2012-10-24 | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 | 一种介质基片零层对准标记结构 |
KR102072956B1 (ko) * | 2013-06-14 | 2020-02-03 | 가부시키가이샤 니콘 | 주사 노광 장치 |
CN104849964B (zh) * | 2014-02-14 | 2017-08-25 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种焦面测量装置及其测量方法 |
JP6115543B2 (ja) * | 2014-10-30 | 2017-04-19 | ウシオ電機株式会社 | アライメント装置、露光装置、およびアライメント方法 |
JP6483536B2 (ja) * | 2015-06-05 | 2019-03-13 | 株式会社アドテックエンジニアリング | パターン描画装置及びパターン描画方法 |
KR101693498B1 (ko) * | 2015-06-17 | 2017-01-17 | 주식회사 옵티레이 | 노광 장치에서의 카메라 조명 및 제어 방법 |
CN106647174B (zh) * | 2015-10-30 | 2018-08-14 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种调焦调平装置及调焦调平方法 |
CN106814546B (zh) * | 2015-11-30 | 2019-05-31 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 焦面检测装置、焦面标定方法与硅片曝光方法 |
CN109154784B (zh) * | 2016-05-19 | 2021-06-11 | 株式会社尼康 | 基板支承装置、曝光装置、及图案化装置 |
TWI606530B (zh) * | 2017-03-29 | 2017-11-21 | 台灣愛司帝科技股份有限公司 | 位置偵測與晶片分離裝置 |
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CN110658698B (zh) * | 2019-11-07 | 2021-12-28 | 江苏上达电子有限公司 | 一种cof基板的曝光定位方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03289662A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-19 | Ushio Inc | フィルム露光装置およびフィルム露光方法 |
JPH04146441A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-05-20 | Ushio Inc | フィルム露光装置 |
JP2000012452A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-14 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005311198A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Canon Inc | 露光装置、合焦位置検出装置及びそれらの方法、並びにデバイス製造方法 |
Family Cites Families (9)
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---|---|---|---|---|
JPS62114222A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-26 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JP2767774B2 (ja) * | 1990-03-30 | 1998-06-18 | ウシオ電機株式会社 | 投影露光装置 |
JP2786946B2 (ja) * | 1990-08-10 | 1998-08-13 | ウシオ電機株式会社 | フィルム露光装置及びフィルム露光方法 |
JP2000035676A (ja) * | 1998-05-15 | 2000-02-02 | Nippon Seiko Kk | 分割逐次近接露光装置 |
JP3201473B2 (ja) * | 1998-12-02 | 2001-08-20 | 日本電気株式会社 | 最適フォーカス位置測定方法およびフォーカス位置測定用マスク |
JP3949853B2 (ja) * | 1999-09-28 | 2007-07-25 | 株式会社東芝 | 露光装置の制御方法及び半導体製造装置の制御方法 |
JP2002134392A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-10 | Nikon Corp | 位置計測装置及び方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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JP2004014876A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Nikon Corp | 調整方法、空間像計測方法及び像面計測方法、並びに露光装置 |
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Patent Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPH03289662A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-19 | Ushio Inc | フィルム露光装置およびフィルム露光方法 |
JPH04146441A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-05-20 | Ushio Inc | フィルム露光装置 |
JP2000012452A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-14 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2005311198A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Canon Inc | 露光装置、合焦位置検出装置及びそれらの方法、並びにデバイス製造方法 |
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