JP4501257B2 - テープキャリア用露光装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、テープキャリア等のパターン露光の際に使用されるアライメント露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
テープキャリアは、テレビ、携帯電話、ゲーム機、ラジオ、音響機器、VTR等の民生用電子機器や、コンピュータ、OA機器、電子応用機器、電気計測器、通信機等の産業用電子機器に広く用いられている。近年、電子機器は小型化、高密度化、高性能化の要望が高まり、これに基づいて、用いられる部品においては配線の細線化、ビアホールの小径化、ランド、パッド等の小径化、基材のフレキシブル化、多層化及び高精細化が急速に進んでいる。
【0003】
一般的なテープキャリアの製造は、ポリイミド等の絶縁フィルムに導体層が形成された絶縁フィルムテープの両端にフィルムテープ搬送用及び位置決め用のスプロケットホールを形成し、そのスプロケットホールをガイドにして絶縁フィルムテープ上の導体層にレジストパターン形成、エッチング等のパターニング処理を施して配線パターン及び電極パッド等を作製している。
特に、レジストパターン形成するための露光工程ではあらかじめ形成されたデバイスホール等との位置合わせを必要とし、かなりの位置合わせ精度が要求されている。
【0004】
レジストパターン形成の露光工程に使用される従来の露光装置のアライメントは、フォトマスクの上部よりアライメント照明を行って、ワークからの反射光によりフォトマスクとワークのアライメントマークを読みとりパターン位置合わせを行っている。このような反射照明系のアライメントではワークからの反射光を利用してフォトマスクとワークのアライメントマークを読みとっているため、ワークの反射率及び読みとり倍率等により、反射光の光量が減少し、フォトマスクとワークのアライメントマークの所望のコントラストが得られず、パターン位置合わせ精度を維持するのが難しいという問題を有しており、高精細化、高密度化対応のテープキャリアの製造に支障をきたしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点に鑑み考案されたもので、配線パターンとデバイスホール等の位置合わせ精度に優れた高精細化、高密度化対応のテープキャリア用露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に於いて上記課題を解決するため、まず請求項1においては、少なくともUV光源と、フォトマスクと、マスクホルダーと、ワークと、定盤と、アライメント機構とを有し、前記アライメント機構がアライメント照明光手段と、アライメントマーク撮影手段と、撮影したアライメント画像の画像処理手段と、アライメント制御手段とを備えているテープキャリア用露光装置であって、前記アライメント照明光手段は、前記定盤のワーク設置部位より下部に設けられており、前記アライメント照明光手段より発せられる照明光は、光学レンズを経由した後、光路分波器を通じて分岐され、該分岐された照明光は、反射板で反射された後、前記定盤に設けられた開口部を通過する透過照明により、前記ワーク及び前記フォトマスクのアライメントマークを照射し、前記アライメントマーク撮影手段は、前記定盤上に設置されたワーク面側から、前記照明光により照射された前記ワーク及び前記フォトマスクのアライメントパターンの画像を撮影し、前記画像処理手段は、撮影されたアライメントパターンの画像を画像処理し、前記ワーク及び、前記フォトマスクのアライメントパターンの位置ずれ量を算出し、前記アライメント制御手段は、前記画像処理手段による算出結果に基づき、前記ワークと前記フォトマスクのアライメントパターンの位置合わせを、前記マスクホルダーを所定量移動させて行うことを特徴とする請求項1記載のテープキャリア用露光装置としたものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
図1は本発明のテープキャリア用露光装置の一実施例を示すテープキャリア用露光装置100の構成概略図である。本発明のテープキャリア100用露光装置は図1に示すように、UV光源10、フォトマスク20、ワーク30、開口部41を有する定盤40、フォトマスク20を保持するマスクホルダー50、アライメント照明光手段60、アライメントマーク撮像手段70、画像処理手段80及びアライメント制御手段90とから構成されており、前記アライメント照明光手段60が定盤40より下部の位置に設けられ、定盤40の開口部41よりワーク30及びフォトマスク20に照射するアライメント光を透過照明で照射できるようにして、フォトマスク20とワーク30の位置合わせができるようにしたものである。
【0009】
以下テープキャリア用露光装置100の各構成要素について説明する。
UV光源10はワーク30上の感光層にパターン露光に必要な照度で露光するための光源である。
フォトマスク20はガラス基板上にアライメントマーク及び所定のパターンが形成されたものである。
ワーク30は、あらかじめ絶縁フィルムテープの両端にスプロケットホール及びアライメントマークが、内部にデバイスホール、スリットホール及び銅箔からなる導体層等が形成されたもので、ここでは、配線パターン及び電極パッド等を形成するための感光層が導体層上に形成された中間工程のテープキャリアを指す。
【0010】
定盤40はワーク30を保持する支持台であると同時に、アライメント照明手段からのアライメント照明光をワーク30及びフォトマスク20のアライメントマークに照射するための開口部41を有している。開口部41はワーク30及びフォトマスク20のアライメントマークに対応する位置に設けられている。さらに、定盤40は露光時にワーク30をフォトマスク20に密着させたり、アライメント作業中にワーク30とフォトマスク20を所定間隔離反させる上下移動機構に連結している。
【0011】
アライメント光照明手段60は光源61、光学レンズ62、光源61からの光路を左右2方向に分配する光路分配器63及び反射板64から構成されており、定盤40よりも下部の位置に設けられている。
【0012】
アライメントマーク撮像手段70はワーク30とフォトマスク20のアライメントマークの画像を読みとるもので、通常CCDカメラが用いられる。画像処理手段80は前記アライメントマーク撮像手段70で読みとったワーク及びフォトマスクのアライメントパターンの位置ずれ量を判定処理するもので、前記ワーク30或いは前記フォトマスク20のアライメントマークを基準にしてX方向、Y方向及び角度θのずれ量を算出する。アライメント制御手段90は画像処理手段80にて算出したX方向、Y方向及び角度θのずれ量のデータをマスクホルダー50に連結されたステージの制御装置に送り込み、マスクホルダー50を所定量移動させてワーク30とフォトマスク20の位置合わせを行う。
【0013】
以下、本発明のテープキャリア用露光装置100を用いてテープキャリアを作製する事例について説明する。
図2(a)は本発明のテープキャリア用露光装置100を用いて作製したテープキャリアの一例を示すテープキャリア30cの平面図を、図2(b)は図2(a)の平面図をA−A線で切断した断面図を、図3(a)はテープキャリアの作製工程の一工程を示すテープキャリア30aの平面図を、図3(b)は図3(a)の平面図をA−A線で切断した断面図を、図4(a)はテープキャリアの作製工程の一工程を示すテープキャリア30bの平面図を、図4(b)は図4(a)の平面図をA−A線で切断した断面図を、図5(a)はフォトマスクに設けたアライメントマークの一例を示すアライメントマーク21の拡大平面図を、図5(b)はワークに設けたアライメントマークの一例を示すアライメントマーク34の拡大平面図をそれぞれ示す。
【0014】
まず、接着剤付きの絶縁フィルムを所定幅に断裁した絶縁フィルムテープ31の両端にスプロケットホール33及びアライメントマーク34を、内部にデバイスホール35及びスリットホール36を型抜き等で形成したテープキャリア30aを作製する(図3(a)及び(b)参照)。
アライメントマーク34はスプロケットホール33の形成時に同時に打ち抜きで形成し、アライメントマーク34の設置間隔は個片化されるテープキャリアの左右両端に配置されるスプロケットホール列に対し少なくとも1個配置されるようにスプロケットホール33間に設ける。
アライメントマーク34の形状は図5(b)にその一例を示すが、円形、十字形、正方形、長方形等各種形状パターンが適用でき、要求される精度によって適宜選択される。
【0015】
次に、テープキャリア30aの所定位置に銅箔からなる導体層32を加熱、加圧接着し、さらに、加熱して接着剤を硬化させてテープキャリア30bを作製する(図4(a)及び(b)参照)。
さらに、テープキャリア30bの導体層32上に感光層を形成したワーク30を本発明のテープキャリア用露光装置100にセットして、アライメント光照明手段60よりアライメント光を定盤40の開口部41よりワーク30及びフォトマスク20のアライメントマークに照射し、撮像手段70、画像処理手段80及び制御手段90にてワーク30とフォトマスク20のパターン位置合わせを行い、位置合わせが完了したところでワーク30とフォトマスク20を密着し、UV光源より所定量の照度でフォトマスク20を通してワーク30の感光層を露光し、感光層にパターン潜像を形成する。
さらに、現像、エッチング等の一連のパターンニング処理及び必要に応じてめっき処理を施してテープキャリア30cを得る。
【0016】
本発明のテープキャリア用露光装置100は、アライメント光照明手段60を定盤40より下部の位置に設けているため、ワーク30及びフォトマスク20のアライメントマークを透過照明で照射でき、撮像手段70でのアライメントマーク画像のコントラストが向上し、ワーク30とフォトマスク20の位置合わせ精度が格段に向上する。
【0017】
【発明の効果】
上記したように、本発明のテープキャリア用露光装置はアライメント照明手段を定盤より下部の位置に設け、前記定盤に設けられる開口部を通過する透過照明により、前記ワーク及び前記フォトマスクのアライメントマークを照射するため、フォトマスク上部からのアライメント照明によるワークからの反射光を用いる場合と比較して、撮像手段でのアライメントマーク画像のコントラストが向上し、結果的に位置合わせ精度に優れた高精度のテープキャリアを得ることができる。さらに、高精度のテープキャリアを用いることにより、半導体チップ等の実装工程及び検査工程で優れた位置合せ精度が得られると共に、半導体装置の歩留まりが向上し、テープキャリア分野において、優れた実用上の効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のテープキャリア用露光装置の一実施例を示すテープキャリア用露光装置100の構成概略図である。
【図2】(a)は、本発明のテープキャリア用露光装置100を用いて作製したテープキャリアの一例を示すテープキャリア30cの平面図である。
(b)は、(a)の平面図をA−A線で切断した断面図である。
【図3】
(a)は、テープキャリアの作製工程の一工程を示すテープキャリア30aの平面図である。
(b)は、(a)の平面図をA−A線で切断した断面図である。
【図4】(a)は、テープキャリアの作製工程の一工程を示すテープキャリア30bの平面図である。
(b)は、(a)の平面図をA−A線で切断した断面図である。
【図5】(a)は、フォトマスクに設けたアライメントマークの一例を示すアライメントマーク21の拡大平面図である。
(b)は、ワークに設けたアライメントマークの一例を示すアライメントマーク34の拡大平面図である。
【符号の説明】
10……UV光源
20……フォトマスク
21……アライメントマーク
21a……透過部
21b……遮光部
30……ワーク
30a、30b……中間工程のテープキャリア
30c……テープキャリア
31……絶縁フィルムテープ
32……導体層
32a……配線パターン
33……スプロケットホール
34……アライメントマーク
34a……透過部
34b……遮光部
35……デバイスホール
36……スリットホール
40……定盤
41……開口部
50……マスクホルダー
60……アライメント照明光手段
61……光源
62、65……光学レンズ
63……光路分配器
64……反射板
70……アライメントマーク撮像手段
80……画像処理手段
90……アライメント制御手段
100……テープキャリア用露光装置

Claims (1)

  1. 少なくともUV光源と、フォトマスクと、マスクホルダーと、ワークと、定盤と、アライメント機構とを有し、前記アライメント機構がアライメント照明光手段と、アライメントマーク撮影手段と、撮影したアライメント画像の画像処理手段と、アライメント制御手段とを備えているテープキャリア用露光装置であって、前記アライメント照明光手段は、前記定盤のワーク設置部位より下部に設けられており、前記アライメント照明光手段より発せられる照明光は、光学レンズを経由した後、光路分波器を通じて分岐され、該分岐された照明光は、反射板で反射された後、前記定盤に設けられた開口部を通過する透過照明により、前記ワーク及び前記フォトマスクのアライメントマークを照射し、前記アライメントマーク撮影手段は、前記定盤上に設置されたワーク面側から、前記照明光により照射された前記ワーク及び前記フォトマスクのアライメントパターンの画像を撮影し、前記画像処理手段は、撮影されたアライメントパターンの画像を画像処理し、前記ワーク及び、前記フォトマスクのアライメントパターンの位置ずれ量を算出し、前記アライメント制御手段は、前記画像処理手段による算出結果に基づき、前記ワークと前記フォトマスクのアライメントパターンの位置合わせを、前記マスクホルダーを所定量移動させて行うことを特徴とする請求項1記載のテープキャリア用露光装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03196651A (ja) * 1989-12-26 1991-08-28 Kuroda Precision Ind Ltd Tab用テープの製造方法
JPH05323621A (ja) * 1991-05-21 1993-12-07 Ushio Inc フィルム露光装置におけるフィルムとレチクルの位置合わせ方法
JPH11340120A (ja) * 1998-05-26 1999-12-10 Ushio Inc 裏面アライメント機能を備えた露光装置
JP2001109168A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板位置決め装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03196651A (ja) * 1989-12-26 1991-08-28 Kuroda Precision Ind Ltd Tab用テープの製造方法
JPH05323621A (ja) * 1991-05-21 1993-12-07 Ushio Inc フィルム露光装置におけるフィルムとレチクルの位置合わせ方法
JPH11340120A (ja) * 1998-05-26 1999-12-10 Ushio Inc 裏面アライメント機能を備えた露光装置
JP2001109168A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板位置決め装置

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