JP2001235877A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
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- JP2001235877A JP2001235877A JP2000013973A JP2000013973A JP2001235877A JP 2001235877 A JP2001235877 A JP 2001235877A JP 2000013973 A JP2000013973 A JP 2000013973A JP 2000013973 A JP2000013973 A JP 2000013973A JP 2001235877 A JP2001235877 A JP 2001235877A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクとワークのアライメントマークをそれ
ぞれ別々にＣＣＤカメラで独立的に確認でき、しかもマ
スクのアライメントポイントとワークのアライメントポ
イントとをそれぞれ移動可能に設定できるようにする。 【解決手段】 マスク４のアライメントマーク６及び片
面基板（ワーク）１０のアライメントマーク５をＣＣＤ
カメラ８で確認して位置合わせを行い、マスク４側から
露光光線を照射することにより露光を行う露光方法にお
いて、マスク４のアライメントマーク６が片面基板（ワ
ーク）１０の外縁の外側に位置するようにマスク４と片
面基板（ワーク）１０とを対向させ、マスク４と片面基
板（ワーク）１０のアライメントマーク６、５をそれぞ
れ別々にＣＣＤカメラ８で確認して位置合わせを行う。
ぞれ別々にＣＣＤカメラで独立的に確認でき、しかもマ
スクのアライメントポイントとワークのアライメントポ
イントとをそれぞれ移動可能に設定できるようにする。 【解決手段】 マスク４のアライメントマーク６及び片
面基板（ワーク）１０のアライメントマーク５をＣＣＤ
カメラ８で確認して位置合わせを行い、マスク４側から
露光光線を照射することにより露光を行う露光方法にお
いて、マスク４のアライメントマーク６が片面基板（ワ
ーク）１０の外縁の外側に位置するようにマスク４と片
面基板（ワーク）１０とを対向させ、マスク４と片面基
板（ワーク）１０のアライメントマーク６、５をそれぞ
れ別々にＣＣＤカメラ８で確認して位置合わせを行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリイミドフィル
ムなどの絶縁層上の導体層（銅箔等）やその上の絶縁層
をパターニングする際に必要な（感光性）レジストに対
する露光方法に関する。
ムなどの絶縁層上の導体層（銅箔等）やその上の絶縁層
をパターニングする際に必要な（感光性）レジストに対
する露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリイミドフィルム上に銅箔層が形成さ
れた片面基板（ワーク）の銅箔をフォトリソグラフ法に
従ってパターニングする場合、通常、銅箔上にレジスト
層を形成し、そのレジスト層に対しガラスマスクを介し
て露光処理を行い、現像処理し、エッチング処理を行う
ことによりレジストパターン層を形成し、そのレジスト
パターン層をエッチングマスクとして銅箔層をエッチン
グによりパターニングしている。ここで、露光の際のガ
ラスマスクとワークとの位置合わせは、以下に説明する
ように行われている。
れた片面基板（ワーク）の銅箔をフォトリソグラフ法に
従ってパターニングする場合、通常、銅箔上にレジスト
層を形成し、そのレジスト層に対しガラスマスクを介し
て露光処理を行い、現像処理し、エッチング処理を行う
ことによりレジストパターン層を形成し、そのレジスト
パターン層をエッチングマスクとして銅箔層をエッチン
グによりパターニングしている。ここで、露光の際のガ
ラスマスクとワークとの位置合わせは、以下に説明する
ように行われている。
【０００３】即ち、図４（ａ）に示すように、ガラスマ
スク４０側から（即ち、ガラスマスク４０の上方から）
アライメントマーク４１を照明４２で照らし、投影レン
ズ４３で集光して得られるアライメントマーク像をＣＣ
Ｄカメラ４４で確認する。次に、ＣＣＤカメラ４４と投
影レンズ４３との間に、ポリイミドフィルム／銅箔／レ
ジスト層の積層体からなる片面基板（ワーク）４５を、
投影レンズ４３側にレジスト層が位置するように挿入
し、片側基板４５のポリイミドフィルム側表面に形成さ
れたアライメントマーク４６をＣＣＤカメラ４４で確認
し、それらの確認結果に基づき片面基板４５とガラスマ
スク４０とを相対的に移動させることにより位置合わせ
している（図４（ｂ））。最近では、このような露光を
“roll toroll”で行う場合もある。
スク４０側から（即ち、ガラスマスク４０の上方から）
アライメントマーク４１を照明４２で照らし、投影レン
ズ４３で集光して得られるアライメントマーク像をＣＣ
Ｄカメラ４４で確認する。次に、ＣＣＤカメラ４４と投
影レンズ４３との間に、ポリイミドフィルム／銅箔／レ
ジスト層の積層体からなる片面基板（ワーク）４５を、
投影レンズ４３側にレジスト層が位置するように挿入
し、片側基板４５のポリイミドフィルム側表面に形成さ
れたアライメントマーク４６をＣＣＤカメラ４４で確認
し、それらの確認結果に基づき片面基板４５とガラスマ
スク４０とを相対的に移動させることにより位置合わせ
している（図４（ｂ））。最近では、このような露光を
“roll toroll”で行う場合もある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図４に示す
ように位置合わせを行う場合、投影レンズ４３とＣＣＤ
カメラ４４との間に片面基板４５を挿入した後は、ガラ
スマスク４０の位置合わせができないという問題があ
る。このため、露光処理毎に片面基板４５を投影レンズ
４３とＣＣＤカメラ４４との間から強制的にいったん退
避させてガラスマスク４０の位置合わせを行うことが考
えられるが、生産性を考慮すると、数回の露光処理毎に
一回の位置合わせが限度であり、結果的に位置合わせ精
度・露光精度が不十分になっていた。また、露光の際、
投影レンズ４３を使用するために、レンズのサイズに制
約を受け、比較的大面積の露光が困難という問題があっ
た。
ように位置合わせを行う場合、投影レンズ４３とＣＣＤ
カメラ４４との間に片面基板４５を挿入した後は、ガラ
スマスク４０の位置合わせができないという問題があ
る。このため、露光処理毎に片面基板４５を投影レンズ
４３とＣＣＤカメラ４４との間から強制的にいったん退
避させてガラスマスク４０の位置合わせを行うことが考
えられるが、生産性を考慮すると、数回の露光処理毎に
一回の位置合わせが限度であり、結果的に位置合わせ精
度・露光精度が不十分になっていた。また、露光の際、
投影レンズ４３を使用するために、レンズのサイズに制
約を受け、比較的大面積の露光が困難という問題があっ
た。
【０００５】本発明は、以上の従来の技術の課題を解決
しようとするものであり、片面基板等のワークの生産性
を低下させることなく且つ投影レンズを使用することな
く露光毎に位置合わせをできるようにすることを目的と
する。
しようとするものであり、片面基板等のワークの生産性
を低下させることなく且つ投影レンズを使用することな
く露光毎に位置合わせをできるようにすることを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、マスクの
幅を拡げてマスクのアライメントマークが片面基板等の
ワークの外縁の外側に位置するようにすると、マスクと
ワークのアライメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカ
メラで独立的に確認でき、更にマスクのアライメントポ
イントとワークのアライメントポイントとをそれぞれ移
動でき、しかも投影レンズを使用することなくプロキシ
ミティ露光（近接露光）が可能となることを見出し、本
発明を完成させるに至った。
幅を拡げてマスクのアライメントマークが片面基板等の
ワークの外縁の外側に位置するようにすると、マスクと
ワークのアライメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカ
メラで独立的に確認でき、更にマスクのアライメントポ
イントとワークのアライメントポイントとをそれぞれ移
動でき、しかも投影レンズを使用することなくプロキシ
ミティ露光（近接露光）が可能となることを見出し、本
発明を完成させるに至った。
【０００７】即ち、本発明は、マスクのアライメントマ
ーク及びワークのアライメントマークをＣＣＤカメラで
確認して位置合わせを行い、マスク側から露光光線を照
射することにより露光を行う露光方法において、マスク
のアライメントマークがワークの外縁の外側に位置する
ようにマスクとワークとを対向させ、マスクとワークの
アライメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで確
認して位置合わせを行うことを特徴とする露光方法を提
供する。
ーク及びワークのアライメントマークをＣＣＤカメラで
確認して位置合わせを行い、マスク側から露光光線を照
射することにより露光を行う露光方法において、マスク
のアライメントマークがワークの外縁の外側に位置する
ようにマスクとワークとを対向させ、マスクとワークの
アライメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで確
認して位置合わせを行うことを特徴とする露光方法を提
供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
ら詳細に説明する。
【０００９】図１は、本発明の露光方法の一例を示す概
略図であり、この態様においてはポリイミドフィルム等
の基材１上に銅箔等の導体層２が形成され、更にその上
にレジスト層３が形成された片面基板（ワーク）１０の
アライメントマーク５と、ガラスマスク等の寸法安定性
に優れたマスク４のアライメントマーク６とを、ＣＣＤ
カメラ８で確認して位置合わせを行い、マスク４側から
常法に従って露光光線を照射することにより露光を行
う。ここで、ＣＣＤカメラ８は、アライメントマーク毎
に設置してもよいが、移動可能なＣＣＤカメラを使用す
れば、一台のＣＣＤカメラで位置合わせを行うこともで
きる。また、ＣＣＤカメラ８の設置位置は、片面基板１
０の下方に設置することが好ましいが、アライメントマ
ーク６を確認する場合には、マスク４の上方に設置して
もよい。
略図であり、この態様においてはポリイミドフィルム等
の基材１上に銅箔等の導体層２が形成され、更にその上
にレジスト層３が形成された片面基板（ワーク）１０の
アライメントマーク５と、ガラスマスク等の寸法安定性
に優れたマスク４のアライメントマーク６とを、ＣＣＤ
カメラ８で確認して位置合わせを行い、マスク４側から
常法に従って露光光線を照射することにより露光を行
う。ここで、ＣＣＤカメラ８は、アライメントマーク毎
に設置してもよいが、移動可能なＣＣＤカメラを使用す
れば、一台のＣＣＤカメラで位置合わせを行うこともで
きる。また、ＣＣＤカメラ８の設置位置は、片面基板１
０の下方に設置することが好ましいが、アライメントマ
ーク６を確認する場合には、マスク４の上方に設置して
もよい。
【００１０】なお、図１の態様は、投影レンズを使用す
ることなく、プロキシミティ露光を適用した例である
が、必要に応じて投影レンズを使用してもよい。
ることなく、プロキシミティ露光を適用した例である
が、必要に応じて投影レンズを使用してもよい。
【００１１】本発明においては、マスク４のアライメン
トマーク６が片面基板１０の外縁の外側に位置するよう
にマスク４と片面基板１０とを対向させ、マスク４側か
ら（即ち、マスク４の上方から）アライメントマーク６
を照明７で照らしながら、マスク４のアライメントマー
ク６と片面基板１０のアライメントマーク５をそれぞれ
別々にＣＣＤカメラ８で確認する。そして、マスク４の
二つのアライメントマーク６の間の中点を基準点（アラ
イメントポイント）ＡＰ１として選択し、一方、片面基
板１０の二つのアライメントマーク５の間の中点を基準
点（アライメントポイント）ＡＰ２として選択し、ＡＰ
１とＡＰ２及び露光中心ＥＰとが重なり合うように、マ
スク４及び／又は片面基板１０を常法により移動させる
ことにより位置合わせする。
トマーク６が片面基板１０の外縁の外側に位置するよう
にマスク４と片面基板１０とを対向させ、マスク４側か
ら（即ち、マスク４の上方から）アライメントマーク６
を照明７で照らしながら、マスク４のアライメントマー
ク６と片面基板１０のアライメントマーク５をそれぞれ
別々にＣＣＤカメラ８で確認する。そして、マスク４の
二つのアライメントマーク６の間の中点を基準点（アラ
イメントポイント）ＡＰ１として選択し、一方、片面基
板１０の二つのアライメントマーク５の間の中点を基準
点（アライメントポイント）ＡＰ２として選択し、ＡＰ
１とＡＰ２及び露光中心ＥＰとが重なり合うように、マ
スク４及び／又は片面基板１０を常法により移動させる
ことにより位置合わせする。
【００１２】このように、マスク４のアライメントマー
ク６を片面基板１０の外縁の外側に位置するようにする
と、片面基板１０の有効露光領域を大幅に増大させるこ
とができる。特に、図２に示すように、片面基板１０を
“roll to roll”で露光する場合には、マスク４のアラ
イメントマーク６が片面基板１０の幅方向の外側にはみ
出させればよい。また、図１に示すように照明７を有効
露光領域の外側に配置することができるので、露光の際
に照明７を有効露光領域から退避させる必要がない。
ク６を片面基板１０の外縁の外側に位置するようにする
と、片面基板１０の有効露光領域を大幅に増大させるこ
とができる。特に、図２に示すように、片面基板１０を
“roll to roll”で露光する場合には、マスク４のアラ
イメントマーク６が片面基板１０の幅方向の外側にはみ
出させればよい。また、図１に示すように照明７を有効
露光領域の外側に配置することができるので、露光の際
に照明７を有効露光領域から退避させる必要がない。
【００１３】片面基板１０のアライメントマーク５とし
ては、一般的なアライメントマークを採用することがで
きる。例えば、基材１のＣＣＤカメラ８側の表面に形成
した凹部又は凸部をアライメントマークとして好ましく
採用することができる。具体的には、基材１としてポリ
アミック酸膜をイミド化して作成されるポリイミドフィ
ルムを使用した場合、ポリアミック酸膜にエッチングに
より形成した凹部をアライメントマークとして利用する
ことができる。また、基材１と光学的性質（色、光反射
率等）の異なるインキを用いて、基材１上にスクリーン
印刷等により設けたインキ層からなる凸部をアライメン
トマークとして利用することもできる。
ては、一般的なアライメントマークを採用することがで
きる。例えば、基材１のＣＣＤカメラ８側の表面に形成
した凹部又は凸部をアライメントマークとして好ましく
採用することができる。具体的には、基材１としてポリ
アミック酸膜をイミド化して作成されるポリイミドフィ
ルムを使用した場合、ポリアミック酸膜にエッチングに
より形成した凹部をアライメントマークとして利用する
ことができる。また、基材１と光学的性質（色、光反射
率等）の異なるインキを用いて、基材１上にスクリーン
印刷等により設けたインキ層からなる凸部をアライメン
トマークとして利用することもできる。
【００１４】また、図３に示すように、片面基板１０の
原反を幅方向に分割（例えば２分割）して露光する場合
には、露光精度を高めるために、マスク４のアライメン
トポイントＡＰ１と、片面基板１０のアライメントポイ
ントＡＰ２と、露光中心ＥＰとが重なり合うように、マ
スク４のアライメントポイントＡＰ１と片面基板１０の
アライメントポイントＡＰ２をそれぞれ移動可能に設定
できるようにすることが好ましい。ここで、アライメン
トポイントＡＰ２とアライメントポイントＡＰ１との移
動のさせ方は、あらかじめ求められた露光中心ＥＰの位
置に応じて計算により決定することができる。
原反を幅方向に分割（例えば２分割）して露光する場合
には、露光精度を高めるために、マスク４のアライメン
トポイントＡＰ１と、片面基板１０のアライメントポイ
ントＡＰ２と、露光中心ＥＰとが重なり合うように、マ
スク４のアライメントポイントＡＰ１と片面基板１０の
アライメントポイントＡＰ２をそれぞれ移動可能に設定
できるようにすることが好ましい。ここで、アライメン
トポイントＡＰ２とアライメントポイントＡＰ１との移
動のさせ方は、あらかじめ求められた露光中心ＥＰの位
置に応じて計算により決定することができる。
【００１５】なお、分割露光操作は、露光装置を片面基
板１０やマスク４に対し相対的に移動させて露光させれ
ばよい。また、分割数に応じた複数の露光装置を使用し
てもよい。
板１０やマスク４に対し相対的に移動させて露光させれ
ばよい。また、分割数に応じた複数の露光装置を使用し
てもよい。
【００１６】このように、アライメントポイントＡＰ２
とアライメントポイントＡＰ１とを移動可能とすること
により、特に、位置合わせ精度・露光精度を飛躍的に向
上させることが可能となる。
とアライメントポイントＡＰ１とを移動可能とすること
により、特に、位置合わせ精度・露光精度を飛躍的に向
上させることが可能となる。
【００１７】なお、マスク４のアライメントマーク６と
片面基板１０のアライメントマーク５とを観察したＣＣ
Ｄカメラ８により得られた画像は、別々の画像情報とし
て一つのＣＲＴ等の表示装置に表示させてもよい。この
場合、頻繁なスイッチングにより二つのアライメントマ
ーク６、５を残像として表示してもよいが、同一の画像
上に重ねて同時に表示させるようにすることが位置合わ
せ精度を向上させる点から好ましい。
片面基板１０のアライメントマーク５とを観察したＣＣ
Ｄカメラ８により得られた画像は、別々の画像情報とし
て一つのＣＲＴ等の表示装置に表示させてもよい。この
場合、頻繁なスイッチングにより二つのアライメントマ
ーク６、５を残像として表示してもよいが、同一の画像
上に重ねて同時に表示させるようにすることが位置合わ
せ精度を向上させる点から好ましい。
【００１８】本発明において、以上説明したような位置
合わせ操作に続く露光操作には、特に制限はなく、従来
公知の露光手段を使用し公知の露光操作に従って露光を
行うことができる。
合わせ操作に続く露光操作には、特に制限はなく、従来
公知の露光手段を使用し公知の露光操作に従って露光を
行うことができる。
【００１９】本発明の露光方法は、マスクを介して露光
が施される種々の材料（片面フレキシブル配線基板、両
面フレキシブル配線基板等）に適用することができる。
が施される種々の材料（片面フレキシブル配線基板、両
面フレキシブル配線基板等）に適用することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、マスクとワークのアラ
イメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで独立的
に確認でき、しかもマスクのアライメントポイントとワ
ークのアライメントポイントとをそれぞれ移動可能に設
定できる。従って、ワークの利用率を低下させることな
く、露光毎に位置合わせが可能となる。しかもプロキシ
ミティ露光も可能となる。
イメントマークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで独立的
に確認でき、しかもマスクのアライメントポイントとワ
ークのアライメントポイントとをそれぞれ移動可能に設
定できる。従って、ワークの利用率を低下させることな
く、露光毎に位置合わせが可能となる。しかもプロキシ
ミティ露光も可能となる。
【図１】本発明の露光方法の説明図である。
【図２】“roll to roll”で搬送されるワークに本発明
の露光方法を適用した例の説明図である。
の露光方法を適用した例の説明図である。
【図３】分割露光に本発明の露光方法を適用した説明図
である。
である。
【図４】従来の露光方法の説明図である。
１ 基材 ２ 導体層 ３ レジスト層 ４ マスク ５、６ アライメントマーク ７ 照明 ８ ＣＣＤカメラ １０ 片面基板 ＡＰ１、ＡＰ２ アライメントポイント ＥＰ 露光中心
Claims (5)
- 【請求項１】 マスクのアライメントマーク及びワーク
のアライメントマークをＣＣＤカメラで確認して位置合
わせを行い、マスク側から露光光線を照射することによ
り露光を行う露光方法において、マスクのアライメント
マークがワークの外縁の外側に位置するようにマスクと
ワークとを対向させ、マスクとワークのアライメントマ
ークをそれぞれ別々にＣＣＤカメラで確認して位置合わ
せを行うことを特徴とする露光方法。 - 【請求項２】 マスクのアライメントマークがワークの
外縁の幅方向の外側に位置するようにマスクとワークと
を対向させている請求項１記載の露光方法。 - 【請求項３】 ワークのアライメントマークが、ＣＣＤ
カメラ側のワーク表面に形成された凹部又は凸部である
請求項１又は２記載の露光方法。 - 【請求項４】 マスクのアライメントポイントとワーク
のアライメントポイントとをそれぞれ移動可能とし、ワ
ークを分割露光する際にマスクのアライメントポイント
とワークのアライメントポイントとを分割露光の中心と
重なり合うように位置合わせをする請求項１記載の露光
方法。 - 【請求項５】 マスクのアライメントマークとワークの
アライメントマークとを、ＣＣＤカメラ画像上に重ねて
同時に表示させるようにした請求項１記載の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000013973A JP2001235877A (ja) | 1999-12-14 | 2000-01-18 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35456999 | 1999-12-14 | ||
| JP11-354569 | 1999-12-14 | ||
| JP2000013973A JP2001235877A (ja) | 1999-12-14 | 2000-01-18 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001235877A true JP2001235877A (ja) | 2001-08-31 |
Family
ID=26580089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000013973A Pending JP2001235877A (ja) | 1999-12-14 | 2000-01-18 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001235877A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004294770A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光システム |
| KR20070046375A (ko) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | 주성엔지니어링(주) | 기판과 마스크 정렬 장치 및 정렬 방법 |
| JP2007200953A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-09 | Hitachi Ltd | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
| WO2011099563A1 (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | 株式会社ニコン | 基板処理装置 |
| WO2015029819A1 (ja) * | 2013-08-26 | 2015-03-05 | 株式会社村田製作所 | 露光装置 |
| KR20160037080A (ko) * | 2014-09-26 | 2016-04-05 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 다이렉트 노광 장치 |
| WO2016114178A1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-07-21 | 株式会社村田製作所 | 露光装置 |
-
2000
- 2000-01-18 JP JP2000013973A patent/JP2001235877A/ja active Pending
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| CN102741754A (zh) * | 2010-02-12 | 2012-10-17 | 株式会社尼康 | 基板处理装置 |
| TWI492326B (zh) * | 2010-02-12 | 2015-07-11 | 尼康股份有限公司 | Substrate processing device |
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| KR101948467B1 (ko) * | 2010-02-12 | 2019-02-14 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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| KR20160037080A (ko) * | 2014-09-26 | 2016-04-05 | 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 | 다이렉트 노광 장치 |
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