KR101074204B1 - 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법,및 마스크 블랭크 패키지 - Google Patents

마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법,및 마스크 블랭크 패키지 Download PDF

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Abstract

레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하도록 적용되고 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체 및 컨테이너 본체에 덮혀지는 캡을 포함하는 컨테이너가 개시된다. 컨테이너 본체는 폴리올레핀 탄성중합체로 제조되고 둘레 전체에 걸쳐 연장하는 고리형 탄성 부재가 제공되는 개구 엣지를 가진다. 캡이 컨테이너 본체에 덮혀질 때, 탄성 부재가 컨테이너를 밀봉하도록 캡과 컨테이너 본체 사이의 연결부에 삽입된다.
마스크 블랭크, 화학 증폭형 레지스트, 컨테이너

Description

마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법, 및 마스크 블랭크 패키지 {CONTAINER FOR HOUSING A MASK BLANK, METHOD OF HOUSING A MASK BLANK, AND MASK BLANK PACKAGE}
본 출원은 일본 출원 JP 2003-21924, 2003-279961, 2003-292317, 및 2003-299711호를 우선권으로서 주장하며, 이들은 본 명세서에서 참조된다.
본 발명은 전자 장치의 제조에 이용되는 포토 마스크 또는 포토 마스크의 제조에 이용되는 마스크 블랭크를 수납하기 위한 컨테이너 및 포토 마스크 또는 마스크 블랭크를 수납하기 위한 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 전자 장치의 제조에 이용되는 포토 마스크를 생산하기 위한, 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납하는 방법에 관한 것이다.
또, 본 발명은 전자 장치의 제조에 이용되는 포토 마스크를 생산하기 위한, 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납하는 수납 부재를 처리하는 방법에 관한 것이다.
IT(정보 기술) 산업의 급속한 발전에 따라, 최근의 전자 장치, 특히 반도체 장치, LCD(액정 디스플레이) 모니터용 컬러 필터 또는 TFT(박막 트랜지스터) 소자 등이 더 미세한 구조를 가질 것이 요구된다. 이 같은 보다 더 미세한 구조를 위한 미세한 가공 기술을 지원하는 기술 중 하나는 전사 마스크(transfer mask)라 지칭되는 포토 마스크를 이용하는 리쏘그래피 기술(lithography technique)이다. 리쏘그래피 기술에서, 레지스트 막을 구비한 실리콘 웨이퍼는 전사 마스크를 통하여 노광 광원으로부터의 전자기파에 노출되어 미세 패턴이 실리콘 웨이퍼에 형성된다. 일반적으로, 전사 마스크는, 투명 기판 및 투명 기판에 형성된 차광 막을 포함하는 마스크 블랭크를 준비하고, 리쏘그래피 기술을 이용하여 상기 마스크 블랭크에 원형 패턴을 형성함으로써 제조된다. 파티클과 같은 이물질이 마스크 블랭크의 표면에 존재하는 경우, 이는 실리콘 웨이퍼에 형성된 패턴의 결함을 발생시킬 수 있다. 따라서, 마스크 블랭크는 청정 상태로 보관되어, 이물질이 마스크 블랭크의 표면에 부착 또는 접착되지 않아야 한다.
실례를 들면, 마스크 블랭크를 수납, 보관, 및 운반하기 위한 종래의 컨테이너로서, 마스크 운반 케이스가 일본 특허 출원 공개 공보 (JP-A) 제 2001-154341호에 공개되어 있다.
특히, 마스크 블랭크를 수납 및 보관하기 위한 종래의 컨테이너는 캐리어로 지칭되는 내부 케이스, 외부 케이스(컨테이너 본체) 및 캡을 포함한다. 수 개 내지 수십 개의 마스크 블랭크가 서로에 대해 평행하게 내부 케이스에 고정된다. 마스크 블랭크가 고정된 내부 케이스가 외부 케이스에 수납된다. 그리고나서, 캡이 외부 케이스에 덮혀진다. 이러한 방식으로, 마스크 블랭크는 컨테이너에 수납된다. 접착 테이프는 외부 케이스와 캡 사이의 연결부에 부착되어 컨테이너를 밀봉 하여 주위 공기 및 이물질의 유입을 방지한다. 대부분의 경우, 컨테이너는 수지 재료로 제조된다.
최근, 전자 장치의 성능의 개선에 따라, 전사 마스크에 형성된 원형 패턴은 한층 더 미세화가 요구된다. 이 같은 미세 패턴을 형성하도록, 마스크 블랭크는 매우 높은 청정도(cleanliness)를 가져야 한다. 따라서, 특히 마스크 블랭크에 이물질이 접착되는 것을 최소화함으로써 마스크 블랭크의 보관동안 가능한 높은 청정도를 유지하는 것이 필요하다. 그 중에서도, 레지스트 막이 표면에 형성된 마스크 블랭크의 경우, 표면에 일단 부착된 이물질은 제거하기가 어렵다. 또한, 이 단계에서 세정은 불가능하다. 따라서, 패턴 형성 작업이 표면에 부착된 이물질과 함께 수행된다. 이는 패턴 결함을 초래한다.
한편, 최근에는 포토 마스크용 레지스트로서 화학 증폭형 레지스트가 부각된다. 실례를 들면, 화학 증폭형 레지스트에 관하여 일본 특허 출원 (JP-A) 제 2000-66380호 공보에 기재가 있다. 화학 증폭형 레지스트는 지금까지 사용되어 온 포토레지스트 보다 감도(sensitivity) 및 콘트라스트(contrast)와 같은 특징이 더 우수하여 미세 패턴을 형성하는데 유용하다. 그러나, 화학 증폭형 레지스트는 반응 메카니즘상 화학 성분의 오염물의 영향을 받기 쉽다. 특히, 소정의 화학 성분의 오염물이 존재하는 경우, 화학 증폭용 촉매로서 작용하는 물질의 기능이 억제되거나 저해(예를 들면, 비활성화)될 수 있어 소망하는(desired) 성능을 얻을 수 없다.
화학 증폭형 레지스트는 레지스트 작용을 가지는 고 분자 화합물(포지티브 타입) 또는 가교 결합 반응 등에 의해 고 분자 화합물을 생산하는 저분자 화합물(네가티브 타입) 및, 촉매 물질을 포함한다. 전자선 또는 전자파와 같은 에너지 방사선으로 화학 증폭형 레지스트를 조사함으로써, 함유된 촉매 물질이 노출되어 레지스트중에 산성 촉매 물질을 생성시킨다. 산성 촉매 물질이 고 분자 화합물을 액체 현상액에 가용화시키거나, 고 분자 화합물을 생성하여 액체 현상액에 불용화시키는 화학 반응(화학 증폭)을 위한 촉매 작용을 갖는다. 그러나, 화학 증폭형 레지스트는 반응 메카니즘 상 염기성 화학 물질의 오염물의 영향을 받을 수 있다. 특히, 소정의 염기성 화학 재료, 예를 들면, 암모니아 또는 아민의 오염물의 존재시, 화학 증폭을 위한 촉매로서 작용하는 산성 촉매 물질의 생성이 억제되거나, 상술된 바와 같이 생성된 산성 촉매 물질의 기능이 억제되거나 저해(예를 들면, 비활성화되어)되어 소망 성능을 얻을 수 없다.
상기 관점에서, 화학 증폭형 레지스트 막이 형성된 마스크 블랭크의 경우, 파티클과 같은 이물질의 제거 뿐만 아니라 화학 물질의 오염의 영향을 제거하는 것이 필요하다. 따라서, 화학 증폭형 레지스트 막을 구비한 마스크블랭크가 특히 청정 분위기에서 보관되어야 한다.
종래의 마스크 블랭크용 컨테이너에서, 외부 케이스와 캡 사이의 연결부는 접착 테이프에 의해 밀봉된다. 그러나, 이는 마스크 블랭크를 수납 및 포장할 때 접착 테이프를 부착하고 컨테이너를 개방할 때 테이프를 제거하는 이중 노력이 요구된다. 게다가, 밀봉 상태는 불완전하거나 불충분하였다. 특히, 일반적으로 사용된 접착 테이프는 약간의 통기성을 갖는다. 컨테이너가 보관되는 분위기의 온도 변화에 따라, 컨테이너 내의 내부 공기가 팽창 또는 수축된다. 이 경우, 주위 공기와 내부 공기 사이의 공기유동이 테이프가 부착되는 연결부를 통하여 발생한다. 예를 들면, 마스크 블랭크가 비행기로 운반되는 경우, 때때로 분위기의 기압이 변화할 수 있다. 항공기로 운반하는 경우, 기압의 변화가 상당히 크다. 이 경우 또한, 공기유동은 주위 공기와 내부 공기 사이에 발생된다. 따라서, 청정실과 같은 청정 분위기에서 마스크 블랭크가 컨테이너로 수납 및 포장되는 경우라도, 포장 후 보관 분위기에 따라 시간의 경과에 따라서 컨테이너로 주위 공기가 유입될 수 있다. 이 경우, 컨테이너의 내부는 주위 공기에 포함된 소정의 성분에 의해 오염될 수 있다.
또한, 컨테이너가 어떠한 화학 성분 등이 배출되지 않는 플라스틱과 같은 재료로 제조되는 경우라도, 접착 테이프 또는 접착제의 베이스 부재에 사용된 화학 성분이 시간의 경과에 따라서 컨테이너로 유입될 수 있어 오염이 발생된다. 특히, 상술된 온도 변화 또는 기압 변화와 같은 분위기에서의 변화의 발생 시, 테이프로부터 배출된 화학 성분에 의한 오염이 가속화될 수 있다.
특히, 상술된 화학 증폭형 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크의 경우, 화학 성분 등에 의한 오염물은 치명적인 결함을 일으키므로 완전히 배제되어야 한다.
일견하여, 청정실 등에서 컨테이너에 마스크 블랭크를 수납 및 패킹하고 접착 테이프에 의해 외부 케이스와 캡 사이의 연결부를 밀봉함으로써, 주위 공기의 유입을 방지하고 청정 분위기에 마스크 블랭크를 보관하는 것이 가능하게 보인다. 그러나, 실제로 주위 공기의 유입에 의한 오염 또는 접착 테이프의 화학 성분에 의 한 오염을 피하기가 어렵다.
본 출원의 발명가에 의한 연구에 따라, 염기성 화학 물질에 의한 오염을 피할 수 있는 경우라도, 안정된 레지스트 성능이 항상 얻어질 수 있는 것은 아니고 소망 레지스트 패턴이 항상 형성되는 것은 아니라는 것을 알 수 있다. 특히, 아민과 같은 염기성 물질이 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크의 제조 공정 동안 발생되는 원인을 철저히 연구하여 제거하더라도, 또한 마스크 블랭크의 수납 및 포장의 환경에 주의를 기울여도, 여전히 마스크 블랭크에 형성된 레지스트 패턴의 정밀도에서의 편차의 문제점이 발생한다.
염기성 화학 물질의 오염의 영향을 제거하기 위해, 화학 증폭형 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크가 화학 필터를 이용하여 세정된 분위기에서 수납 및 포장될 수 있다. 이 경우도, 컨테이너에 수납된 마스크 블랭크가 후속하는 보관 동안 컨테이너로부터 유출가스로 배출된 염기성 물질에 의해 오염될 수 있다. 특히, 보관동안 주위공기의 온도 변화나 압력 변화에 따라 유출가스 성분의 배출은 가속화된다. 이경우, 시간의 경과에 따라 작은 양의 유출가스 성분을 배출하는 물질을 사용하는 것이 제안된다. 그러나, 이러한 방식으로는 시간의 경과에 따른 오염이 완전히 제거될 수 없으며 컨테이너의 재료도 제한된다.
상술된 단점을 제거하기 위해, 본 발명의 목적은 화학 물질에 의한 오염을 피하기 위해 주위 공기의 유입을 억제함으로써 수납시 청정 분위기를 유지하면서 마스크 블랭크 등을 보관할 수 있는 수납 방법 및 컨테이너를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 화학 증폭형 레지스트 막이 있는, 특히 청정 분위기에 보관되는 것이 요구되는 마스크 블랭크에 적절한 수납 방법 및 컨테이너를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 화학 증폭형 레지스트 막을 형성한, 특히 청정 분위기에 보관될 필요가 있는 마스크 블랭크에 적절하고 소망 마스크 패턴을 형성하기 위해 안정된 레지스트 성능을 유지할 수 있는, 마스크 블랭크 수납 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 화학 증폭형 레지스트 막이 제공되고 특히 청정 분위기에서 보관되는 것이 요구되는 마스크 블랭크에 적절하고 소망 마스크 패턴을 형성하기 위해 안정된 레지스트 성능을 유지할 수 있는, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재 처리 방법을 제공하는 것이다.
일반적으로, 청정실과 같은 청정 분위기에서 컨테이너로 마스크 블랭크를 수납하고, 컨테이너를 밀봉하도록 컨테이너의 연결부에 접착 테이프를 부착함으로써, 마스크 블랭크가 청정 분위기에서 유지되면서 보관될 수 있다. 그러나, 본 출원의 발명가의 연구에 의해 공개된 바와 같이, 시간 경과에 따라서 마스크 블랭크가 수 납되는 컨테이너에 청정 분위기를 유지하는 것이 공지된 방법으로는 어렵다. 특히, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크의 경우, 공지된 수납 방법에 의해 보관하면 소망하는 미세 패턴이 마스크의 제조 동안 형성되지 않을 수 있으며, 안정된 레지스트 기능을 얻지 못할 수 있다는 것을 발견하였다.
본 출원의 발명가는 상술된 문제점을 제거하기 위해 성실하고 근면하게 연구하였다. 그 결과로서, 컨테이너의 주 본체의 개구 엣지 또는 캡부재의 하부 엣지 중 적어도 하나에 둘레 전체에 걸쳐 연장하도록 형성된 탄성부재를 주 본체와 캡 부재 사이의 연결부에 개재시킴으로써, 주위 공기의 유입이 방지될 수 있으며 컨테이너의 내부에 청정 분위기를 유지하면서 마스크 블랭크가 보관될 수 있다는 것을 발견하였다. 따라서, 본 발명이 완료되었다.
또한, 상술된 문제점을 제거하기 위해 본 출원의 발명가가 성실하고 근면하게 연구한 결과로서, 주위 공기가 보관 동안 컨테이너로 유입되더라도, 주위공기가 유입되는 경우 이물질이 컨테이너로 유입되지 않도록 주위 공기에 포함된 화학 물질과 같은 이물질을 제거함으로써, 컨테이너의 내부에 청정 분위기를 유지하면서 마스크 블랭크가 보관될 수 있다는 것을 발견하였다. 따라서, 본 발명이 완료되었다.
상술된 바와 같이, 화학 증폭형 레지스트에 대한 오염은 일반적으로 아민(amine)과 같은 염기성 화학 물질이라고 믿어진다. 그러나, 본 출원의 발명가에 의한 연구에 따르면, 마스크 블랭크가 염기성 화학 물질이 제거된 환경에 보관되어도, 안정된 레지스트 성능이 얻어질 수 없으며 소망 미세 패턴이 마스크의 제조 동 안 형성되지 않을 수 있다는 것이 공개되었다.
상술된 문제점을 제거하도록 본 출원의 발명가에 의한 성실하고 근면한 연구의 결과로서, 화학 증폭형 레지스트 막이 염기성 물질뿐만 아니라 산성 물질의 부착에 의해 오염될 수 있어, 안정된 미세 패턴의 형성이 저해된다는 것을 발견하였다. 또한 산성 물질은 주로 화학 증폭형 레지스트의 감도에 영향을 미치므로, 화학 증폭 효과를 과도하게 증진시키는 기능을 가진다는 것을 발견하였다. 일련의 상술된 발견을 기초로 하여, 본 발명이 완료되었다.
본 출원의 발명가는 컨테이너의 가열과 같은 예비 처리가 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 효과를 저해하는 컨테이너의 화학 물질 방출을 억제하는데 효과적이라는 것을 발견하였다.
상술된 발견을 기초로 하여, 본 발명이 완료되었다.
특히, 본 발명은 아래와 같은 구조를 갖는다.
구조 1
내부에 마스크 블랭크를 수납하고 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체와 상기 컨테이너 본체에 덮여지는 캡 부재를 가지는 컨테이너로서, 상기 컨테이너는 둘레 전체에 걸쳐 연장되도록 컨테이너 본체의 개구 엣지 및 캡 부재의 하부 엣지 중 적어도 하나에 형성되는 탄성 부재를 포함하여 캡 부재가 컨테이너 본체에 덮혀질 때 컨테이너가 밀봉된다.
구조 2
내부에 마스크 블랭크를 수납하고 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체와 상기 컨테이너 본체에 덮여지는 캡 부재를 가지는 컨테이너로서, 상기 컨테이너는 둘레 전체에 걸쳐 연장되도록 컨테이너 본체의 개구 엣지 및 캡 부재의 하부 엣지 중 적어도 하나에 형성되는 탄성 부재를 포함하여 캡 부재가 컨테이너 본체에 덮혀질 때 탄성 부재가 컨테이너 본체의 개구 엣지와 캡 부재의 하부 엣지 사이 연결부에 개재된다.
구조 3
구조 1 또는 구조 2에 따른 컨테이너로서, 컨테이너 본체와 캡 부재 사이의 연결부를 고정하기 위해 슬라이딩식 로킹 부재(sliding locking member)에 의해 연결부가 단단히 고정된다.
구조 4
마스크 블랭크를 수납하는 방법으로서, 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 구조 1 또는 구조 2에 따른 컨테이너에 수납된다.
구조 5
구조 4에 따른 방법으로서, 레지스트 막은 화학 증폭형 레지스트 막이다.
구조 6
마스크 블랭크 패키지가 구조 4에 따른 방법에 의해 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어진다.
본 발명에 따르면, 컨테이너는 마스크 블랭크 등을 수납하고 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체 및 컨테이너 본체에 덮혀지는 캡 부재를 포함하고, 탄성 부재 는 둘레 전체에 걸쳐 연장하도록 컨테이너 본체의 개구 엣지 및 캡 부재의 하부 엣지 중 적어도 하나에 형성된다. 이러한 구조로, 캡 부재가 컨테이너 본체에 덮혀질 때 컨테이너가 밀봉된다. 따라서, 보관하는 동안 주위 공기가 컨테이너의 내부로 유입되는 것을 방지하고, 주위 공기에 포함된 파티클 또는 소정의 화학 물질과 같은 주위 공기에 있는 이물질이 마스크 블랭크를 오염시키도록 컨테이너의 내부로 유입되는 것을 효과적으로 방지하는 것이 가능하다. 즉, 컨테이너의 내부에 청정 분위기를 유지하면서 긴 시간 동안 마스크 블랭크를 보관하는 것이 가능하다. 게다가, 접착 테이프가 사용되는 경우 화학 성분에 의한 오염을 방지하는 것이 가능하다.
본 발명에 따르면, 캡 부재가 컨테이너 본체에 덮혀질 때 그 사이의 연결부에서 컨테이너 본체의 개구 엣지와 캡 부재의 하부 엣지 사이에 탄성 부재가 삽입된다. 이 구조로, 컨테이너에 캡 부재를 놓는 것만으로 컨테이너가 밀봉된다. 따라서, 부가 작업의 필요없이 마스크 블랭크가 용이하게 수납된다.
본 발명은 특히 청정 분위기에서 수납되어 보관될 필요가 있는 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크, 보다 구체적으로는 화학 물질 등에 의해 오염을 절대적으로 방지하도록 요구되는 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납 및 보관하기에 특히 적절하다.
본 발명은 다음과 같은 구조를 갖는다.
구조 7
내부에 마스크 블랭크를 수납하고 적어도 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체 와 컨테이너 본체에 덮혀지는 캡 부재를 포함하는 컨테이너는, 컨테이너로 주위 공기에 포함된 이물질의 유입을 억제하기 위한 기구를 포함한다.
구조 8
구조 7에 따른 컨테이너로서, 컨테이너로 주위 공기에 있는 이물질의 유입을 억제하기 위한 기구는 주위 공기와 내부 공기 사이의 소통을 허용하도록 컨테이너에 형성된 통기 구멍, 및 주위 공기에 있는 이물질을 제거하도록 통기 구멍에 형성된 여과 부재를 갖는다.
구조 9
마스크 블랭크를 수납하는 방법으로서, 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 구조 7에 따르는 컨테이너에 수납된다.
구조 10
구조 9에 따른 방법으로서, 레지스트 막이 화학 증폭형 레지스트이다.
구조 11
구조 10에 따른 방법으로서, 주위 공기의 이물질은 화학 증폭형 레지스트에서 소망하는 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질이다.
구조 12
마스크 블랭크 패키지는 구조 9에 따른 방법에 의해 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어진다.
구조 13
구조 12에 따른 마스크 블랭크 패키지를 수송하는 방법으로서, 마스크 블랭 크 패키지는 교통 수단을 이용하여 수송된다.
본 발명에 따르면, 컨테이너는 마스크 블랭크를 수납하고 상부 개구를 가지는 컨테이너 본체 및 컨테이너 본체에 덮혀지는 캡 부재를 포함하고, 컨테이너로 주위 공기에 있는 이물질의 유입을 억제하는 수단이 제공된다. 이 구조로, 주위 공기가 컨테이너의 내부로 직접 유입되는 것을 방지하여, 결과적으로 주위 공기에 포함된 파티클 또는 소정의 화학 물질과 같은 주위 공기에 있는 이물질이 컨테이너 내부로 유입되어 마스크 블랭크를 오염시키는 것을 효과적으로 방지한다. 따라서, 보관하는 동안 주위 공기가 컨테이너의 내부로 유입되더라도, 컨테이너의 내부에 청정 분위기를 유지하면서 긴 시간 동안 마스크 블랭크를 보관하는 것은 주위 공기를 세정함으로써 가능하다. 따라서, 보관 동안 화학 물질과 같은 이물질에 의해 마스크 블랭크가 오염되는 것을 방지하고, 결과적으로 상술된 방식으로 수납되고 보관되는 마스크 블랭크의 이용에 의해 고 품질 전사 마스크를 얻는 것이 가능하다.
컨테이너로 주위 공기에 있는 이물질의 유입을 억제하는 수단은 주위 공기와 내부 공기 사이의 소통을 허용하도록 컨테이너에 형성된 통기 구멍과 주위 공기에있는 이물질을 제거하도록 통기 구멍에 형성된 여과 부재를 포함할 수 있다. 이 구조로, 주위 공기가 유입되더라도, 주위 공기에 포함되는 화학 물질과 같은 이물질이 주위 공기가 세정되도록 여과 부재에 의해 제거된다. 따라서, 이물질 또는 화학 물질의 유입에 의한 오염을 방지하고 컨테이너의 내부에 청정 분위기를 유지하는 것이 가능하다.
본 발명은 청정 분위기에 수납 및 보관되도록 요구되는 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크, 특히 화학 물질 등에 의한 오염이 절대적으로 방지되도록 요구되는 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납 및 보관하기에 특히 적절하다.
본 발명에 따르면, 컨테이너에 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어진 마스크 블랭크 패키지가 교통 수단의 사용에 의해 원격 장소로 수송될 때, 마스크 블랭크는 주위 공기의 온도 변화 또는 압력 변화의 발생 시조차 오염되지 않는다. 따라서, 원격 장소로 마스크 블랭크의 수송 시 높은 신뢰성을 보장하는 것이 가능하다.
본 발명은 또한 다음과 같은 구조를 갖는다.
구조 14
컨테이너에 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하는 방법으로서, 마스크 블랭크가 적어도 산성 물질이 제거된 분위기와 함께 컨테이너에 수납된다.
구조 15
컨테이너에 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하는 방법으로서, 마스크 블랭크가 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 컨테이너에 수납된다.
구조 16
구조 14 또는 구조 15에 따른 방법으로서, 컨테이너는 산성 물질의 흡수 수단 또는 흡착 수단을 갖는다.
구조 17
마스크 블랭크 패키지로서, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 적어도 산성 물질을 포함하지 않는 분위기를 가지는 컨테이너에 수납된다.
구조 18
레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 제조하는 방법으로서, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막이 기판에 증착되고 그 후 화학 증폭형 레지스트 막이 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 박막에 형성된다.
구조 19
레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 제조하는 방법으로서, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 기판에 증착함으로써 얻어진 마스크 블랭크 상에 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 레지스트 형성(resist forming) 단계, 선택적 단계로서 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 처리하는 후-처리(post-treating) 단계, 선택적 단계로서 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 검사하는 검사(inspection) 단계, 및 컨테이너에 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납 및 포장하는 수납/포장 단계를 포함하며, 상술된 단계의 적어도 하나가 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 수행된다.
본 발명에서, 제거되어야 하는 산성 물질은, 특히 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 기능에 영향을 미치도록 화학 증폭형 레지스트 막에 부착되는 산성 오염물과 같은 산성 물질이다. 예를 들면, 산성 물질은 염소 이온을 포함하는 물질, 황산 이온을 포함하는 물질, 인산 이온을 포함하는 물질, 또는 질산 이온을 포함하 는 물질일 수 있다. 이 같은 산성 물질은 화학 증폭형 레지스트의 감도에 주로 영향을 미치며 화학 증폭 효과를 과도하게 증진시키는 기능을 가져 안정된 레지스트 기능을 얻지 못할 수 있다. 그 결과로서, 안정된 레지스트 패턴의 형성이 억제되어 마스크의 제조 동안 소망 미세 패턴이 형성되지 않는다.
산성 물질의 제거 정도는 100%일 필요가 없다. 산성 물질이 분위기에 존재하더라도, 화학 증폭형 레지스트 막이 오염되지 않을 정도로 산성 물질을 제거하는 것으로 충분하다. 용이하게 이해할 수 있는 바와 같이, 산성 물질의 제거의 정도가 품질의 관점에서 가능한 높은 것이 바람직한데, 이는 청정도가 높아지기 때문이다. 그러나, 더 높은 제거율을 추구함에 따라 제조 비용이 증가될 수 있다. 따라서, 산성 물질은 수익성있는 범위 내에서 그리고 제조 결함이 발생되지 않는 정도로 분위기로부터 제거될 수 있다. 실례에 의해, 특정한 수치가 아래 주어진다. 염소 이온을 포함하는 물질의 경우, 염소 이온의 함유량은 분위기의 1 m3 당 0.05 ㎍ 이하인 것이 바람직하다. 황산 이온을 포함하는 물질의 경우, 황산 이온의 함유량은 0.1 ㎍ 이하인 것이 바람직하다. 질산 이온을 포함하는 물질의 경우, 질산 이온의 함유량이 0.7 ㎍ 이하인 것이 바람직하다.
분위기로부터 산성 물질을 제거하는 방법으로서, 산성 물질을 흡착하는 필터(화학 필터)가 사용될 수 있다. 산성 물질을 제거하는 화학 필터로서, 산중화 (acid-neutralizing) 물질이 혼합된 화학 필터를 사용하는 것이 바람직하다. 산중화 물질로서, 탄산염(carbonate)이 바람직하다. 탄산염으로서, 탄산칼 륨(potassium carbonate)이 바람직하다. 바람직하게는, 활성탄과 같은 흡착재를 포함하는 활성탄 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다. 바람직하게는, 산성 중화 물질이 혼합된, 활성탄과 같은 흡착재를 포함하는 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다.
본 발명에서, 구조 14에 설명된 바와 같이, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 적어도 산성 물질이 제거된 분위기와 함께 컨테이너에 수납된다. 특히, 마스크 블랭크를 컨테이너로 수납할 때, 적어도 산성 물질이 제거되는 분위기가 공급되어 마스크 블랭크가 그 분위기와 함께 수납 및 보관된다. 따라서, 실제 적용시 마스크 블랭크에 산성 오염물이 부착하는 것을 가장 바람직하게 방지하는 것이 가능하다.
산성 물질이 제거된 분위기를 공급하도록, 산성 물질이 상술된 화학 필터의 사용에 의해 제거된 분위기를 마스크 블랭크 수납 작업 환경에 공급하는 방법, 상술된 분위기를 컨테이너에 공급하여, 컨테이너의 내부를 치환하는 방법, 및 상술된 분위기에 의해 컨테이너를 퍼징(purging)하는 방법이 사용될 수 있다.
예를 들면, 구조 15에서 설명된 바와 같이, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크는 적어도 산성 물질이 제거된 분위기에서 컨테이너에 수납되는 것이 바람직하다. 일반적으로, 마스크 블랭크를 수납하는 작업은 청정실에서 수행된다. 따라서, 산성 물질이 화학 필터의 사용에 의해 제거된 분위기를 마스크 블랭크를 수납하는 작업 환경에 공급하는 것이 용이하다.
바람직하게는, 화학 증폭형 레지스트의 소망하는 화학 증폭 효과를 억제하 는, 암모니아 및 아민과 같은 염기성 화학 물질이 산성 물질과 함께 제거된다. 염기성 화학 물질을 제거하도록, 인산과 같은, 알칼리 중화 물질과 혼합된 화학 필터를 사용하는 방법을 이용할 수 있다. 바람직하게는, 활성탄과 같은 흡착재를 포함하는 활성탄 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다. 바람직하게는, 알칼리 중화 물질과 혼합된 활성탄과 같은, 흡착재를 포함하는 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다.
산성 물질 또는 염기성 물질을 제거하기 위해 화학 필터와 조합하여 공기 필터를 사용하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 이 같은 공기 필터는 HEPA 필터(high efficiency particulate air filter, 고 효율 미립자 공기 필터) 또는 ULPA 필터(ultra low penetration particulate air filter, 초 저투과 미립자 공기 필터)일 수 있다. HEPA 필터는 고 효율 공기 필터이고 일반적으로 유리 섬유 재료로 제조된다. ULPA 필터는 초 고성능 필터이고 일반적으로 유리 섬유 또는 불소계 수지 재료로 제조된다. 공기 필터의 성능으로서, 0.05 ㎛ 이상의 직경을 가지는 파티클을 포획하는 것이 바람직하다. HEPA 필터 또는 ULPA 필터와 같은 공기 필터는 비용 효율 등을 고려하여 적절하게 선택될 수 있다.
본 발명은 아래와 구조를 갖는다.
구조 20
화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재를 처리하는 방법으로서, 화학 증폭형 레지스트 막의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 수납 부재로부터 제거하기 위한 처리를 포함한다.
구조 21
구조 20에 따라, 화학 증폭형 레지스트 막의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하는 처리는 수납 부재를 가열하는 처리이다.
구조 22
구조 20에 따라, 수납 부재가 가열된 순수(pure water)와 접촉하는 처리는 화학 물질을 제거하기 위한 처리 전에 수행된다.
구조 23
구조 20에 따라, 화학 물질을 제거하는 처리는 수납 부재로 형성될 재료 및/또는 형성 이후의 수납 부재에 대하여 수행된다.
구조 24
마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재를 생산하는 방법으로서, 구조 20에 따라 수납 부재를 처리하는 방법을 포함한다.
구조 25
화학 증폭형 레지스트 막의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하는 처리를 받은 부재에 화학 증폭형 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어지는 마스크 블랭크 패키지이다.
본 발명에서, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재로부터 제거되는 화학 물질은 화학 증폭형 레지스트 막에 부착되고 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질이다. 이 같은 화학 물질이 존재함으로써 소망하는 화학 증폭 효과를 억제하거나 화학 증폭 효과를 과도하게 증진시킬 수 있어 안정된 레지스트 기능을 얻지 못한다. 그 결과로서, 소망하는 안정된 레지스트 패턴의 형성이 억제된다. 특히, 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 효과에 영향을 미치는 화학 물질은 산성 오염물로서의 산성 물질일 수 있다. 산성 물질은 염소 이온을 포함하는 물질, 황산 이온을 포함하는 물질, 인산 이온을 포함하는 물질, 또는 질산 이온을 포함하는 물질일 수 있다. 이 같은 산성 물질은 화학 증폭형 레지스트의 감도에 주로 영향을 미치며 화학 증폭형 효과를 과도하게 증진시키는 작용이 있어, 안정된 레지스트 기능을 얻지 못할 수 있다. 그 결과로서, 안정된 레지스트 패턴의 형성이 억제될 수 있어, 마스크의 제조동안 소망 미세 패턴이 형성되지 않는다.
또한, 화학 증폭형 레지스트의 소망하는 화학 증폭 효과를 억제하는, 암모니아 및 아민과 같은 염기성 물질이 또 제거되도록 수납부재를 처리하는 것이 바람직하다.
본 발명에서, 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하기 위한 처리로서, 열 처리 또는 감압 처리가 이용될 수 있다. 이중에서, 열 처리가 바람직하다. 수납 부재를 열 처리함으로써, 수납 부재에 포함되어 시간 경과에 따라 방출가스(outgas)로서 방출된 가능성이 있는 화학 물질을 사전에 배출하는 것이 가능하다. 따라서, 마스크 블랭크가 수납 부재에 포함된 화학 물질을 미리 배출하도록, 열 처리와 같은 본 발명에 따라 처리되는 수납 부재의 사용에 의해 수납되고 포장되는 경우, 화학 물질의 유출가스가 시간의 경과에 따라 배출되지 않는다. 따라서, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 화학 물 질에 의해 오염되는 것을 방지하고, 소망 마스크 패턴을 형성하기 위한 안정된 레지스트 기능을 유지하는 것이 가능하다.
열 처리를 수행할 때, 분위기가 적어도 실온을 초과하도록 수납 부재를 가열하는 것이 적절하다. 일반적으로, 마스크 블랭크가 실온 주위 온도 영역에서 수납 및 보관된다. 따라서, 상술된 열 처리에 의해, 마스크 블랭크가 본 발명에 따라 처리되는 수납 부재의 사용에 의해 수납 및 보관되는 온도 영역에서 화학 물질의 유출가스가 방출되는 것을 방지하는 것이 가능하다. 가열 온도 및 가열 시간이 화학 증폭형 레지스트의 특성에 따라 그리고 제품 결함을 일으키는 화학 증폭 효과상의 화학 물질의 영향 정도를 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 가열 온도는 본 발명의 효과가 달성되는 범위에서, 실제로 40 내지 90 ℃, 특히 40 내지 80 ℃가 되는 범위내에 있다. 가열 시간은 본 발명의 효과가 달성되는 범위에서, 실제로 5 분 내지 2 시간이다.
본 발명에서, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재는 화학 물질을 제거하기 위한 처리 전에 세정되어야 하는 것이 바람직하다. 세정에 의해 수납 부재의 표면에 부착되는 화학 물질을 미리 제거함으로써, 후속적으로 수행되는 본 발명의 처리에 의해 화학 물질을 제거하는 효과를 확실히 개선하는 것이 가능하다. 이러한 경우, 순수가 세정액으로서 사용되는 것이 바람직하다. 순수로서, 역 침투막 수(reverse osmotic membrane water)(앞으로, "RO 워터"라 칭함) 또는 초 여과막수(ultra filtration membrane water)(앞으로, "UF 워터"라 칭함)가 사용되는 것이 바람직하다. 이온 교환이 부가적으로 수행되어 이온 교환수(탈이온화수(de- ionized water)로 지칭될 수 있다. 앞으로 "DI 워터"라 칭함)을 얻는 경우, 수납 부재로부터 화학 물질을 제거하는 기능이 더 증진된다. RO 워터 및 DI 워터는 제거되어야 하는 주요 대상인 화학 물질에 대한 상보적 관계를 갖는다. 따라서, RO 처리되고 나서 DI 처리된 순수(앞으로, "RO/DI 워터"라 칭함)가 더 바람직한 효과를 달성한다. 이 같은 순수를 이용하여 상술된 부재를 세정함으로써, 화학 물질을 제거하고 세정액에 의해 오염을 방지하는 것이 가능하다. 따라서, 순수로의 세정은 수납되는 마스크 블랭크의 화학 증폭형 레지스트 막의 성능을 유지하기 위해 매우 바람직하다.
상술된 순수의 사용에 의해 세정되는 경우, 세정은 가열된 순수와 수납 부재를 접촉시켜 수행되는 것이 바람직하며, 이것은 바람직한 효과를 얻을 수 있게 한다. 이 경우, 순수의 온도가 실온 보다 더 높고 끓는점보다 낮은 온도 영역 내에서 선택된다. 실제로, 40 내지 90 ℃의 온도 영역, 특히 40 내지 80 ℃의 온도 영역이 사용될 수 있다.
본 발명에서, 화학 물질을 제거하는 효과를 개선하도록, 본 발명에 따른 상술된 세정 및 화학 물질의 제거 처리가 여러 번 반복될 수 있다.
본 발명에 따른 화학 물질을 제거하는 처리가 청정 환경에서 수행되는 것이 바람직하다. 특히, 화학 증폭형 레지스트 막을 오염시키는 산성 물질 또는 염기성 물질이 제거된 분위기를 사용하는 것이 바람직하다. 이는 분위기에서 포함된 화학 물질이 수납 부재의 처리동안 수납 부재에 부착되는 것을 방지하기 때문이다. 분위기로부터 산성 물질을 제거하기 위해, 화학 물질을 흡수하기 위한 필터(화학 필 터)가 사용될 수 있다. 산성 물질을 제거하기 위한 화학 필터로서, 산중화 물질과 혼합된 화학 필터를 사용하는 것이 바람직하다. 산중화 물질로서, 탄산염이 바람직하다. 탄산염으로서, 탄산칼륨이 바람직하다. 바람직하게는, 활성탄과 같은 흡착재를 포함하는 활성탄 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다. 바람직하게는, 산중화 물질과 혼합되는, 활성탄과 같은 흡착재를 포함하는 필터가 상술된 화학 필터로서 사용된다. 바람직하게는, 화학 증폭형 레지스트의 소망하는 화학 증폭 효과를 억제하는, 암모니아 및 아민과 같은 염기성 화학 물질이 산성 물질과 함께 제거된다. 염기성 화학 물질을 제거하기 위해, 인산(phosphoric acid)과 같은 알칼리 중화 물질과 혼합된 화학 필터를 이용하는 방법을 사용할 수 있다.
산성 물질 또는 염기성 물질을 제거하기 위한 화학 필터와 병용하여 공기 필터를 이용하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 이 같은 공기 필터는 HEPA 필터(고 효율 미립자 공기 필터) 또는 ULPA 필터(초 저 투과 미립자 공기 필터)일 수 있다. 공기 필터의 성능으로서, 0.05 ㎛ 이상의 직경을 가지는 파티클을 포획하는 것이 바람직하다.
본 발명에서, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재는 마스크 블랭크를 수납 및 유지하기 위한 부재(컨테이너의 내부 케이스와 같은), 마스크 블랭크를 수납 및 보관하기 위한 부재(컨테이너와 같은) 등일 수 있다.
본 발명에서, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재의 재료는 특별히 제한되지 않는다. 그러나, 바람직하게는, 수지 재료가 중량이 가볍고 사용시 다루기가 용이하다. 수지 재료는 주요 성분으로서 고 분자 화합물을 포함하고, 합성시 첨가 물질, 미반응 물질, 저 분자 화합물 등도 포함된다. 비교적 저온에서도, 많은 양의 유출가스가 시간의 경과에 따라 배출되는 경향이 있다. 이러한 환경에서, 본 발명은 매우 유용하다. 이 같은 수지 재료는 폴리프로필렌 수지, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리부틸렌 수지, 또는 폴리카보네이트 수지일 수 있다. 이중, 아크릴 수지, 특히 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 수지는 상대적으로 적은 양의 유출가스를 배출하는 재료이다. 따라서, 본 발명을 적용함으로써, 수납되고 보관되는 마스크 블랭크에 형성된 화학 증폭형 레지스트 막의 우수한 성능을 유지하는 것이 가능하다. 본 발명은 마스크 블랭크가 수직 방향으로 유지되는 경우뿐만 아니라 마스크 블랭크가 수평 또는 경사 방향으로 지지되는 경우에도 적용될 수 있다.
본 발명에 따르면, 화학 물질에 의한 오염을 피하기 위해 주위 공기의 유입을 억제함으로써 수납시 청정 분위기를 유지하면서 마스크 블랭크 등을 보관할 수 있는 수납 방법 및 컨테이너를 제공할 수 있다.
본 발명에 의하면, 화학 증폭형 레지스트 막이 있는, 특히 청정 분위기에 보관되는 것이 요구되는 마스크 블랭크에 적절한 수납 방법 및 컨테이너를 제공할 수 있다.
본원 발명에 따르면, 화학 증폭형 레지스트 막을 형성한, 특히 청정 분위기에 보관될 필요가 있는 마스크 블랭크에 적절하고 소망 마스크 패턴을 형성하기 위해 안정된 레지스트 성능을 유지할 수 있는, 마스크 블랭크 수납 방법을 제공할 수 있다.
본원 발명에 따르면, 화학 증폭형 레지스트 막이 제공되고 특히 청정 분위기에서 보관되는 것이 요구되는 마스크 블랭크에 적절하고 소망 마스크 패턴을 형성하기 위해 안정된 레지스트 성능을 유지할 수 있는, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재 처리 방법을 제공할 수 있다.
제 1 실시예
지금부터, 도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시예가 설명된다.
제 1 실시예에 따른 컨테이너는 사각형의 주표면을 가지는 유리 기판, 유리 기판의 하나의 주표면에 증착되는 크롬막과 같은 차광성 박막(light shielding thin film), 및 박막에 형성된 화학 증폭형 레지스트 막을 포함하는 마스크 블랭크(mask blank; 1)를 수납한다. 컨테이너는 마스크 블랭크(1)를 수납하기 위한 내부 케이스(2), 내부 케이스(2)를 수납하기 위한 컨테이너 본체(3), 및 컨테이너 본체(3)의 개구 측에서 컨테이너 본체(3)를 덮기 위한 캡(4)을 포함한다(도 4).
마스크 블랭크(1)는 내부 케이스(2)를 이용하지 않고 그루브(groove) 등이 제공된 컨테이너 본체(3)에 직접 수납될 수 있다. 그러나, 내부 케이스(2)에 유지된 수 개 내지 수 십개의 마스크 블랭크가 총괄적으로 처리될 수 있기 때문에, 이 실시예에서의 내부 케이스(2)의 이용은 편리하다.
본 실시예에서의 내부 케이스(2)에는 소정 간격을 두고 각각 서로에 대해 평행하고 제 1 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 대향 내부 측면에 형성되고 개구 (상부측)로부터 내부 케이스(2)의 바닥면(하부측)을 향하여 연장되는 다수 쌍의 그루브(21 및 22)가 제공된다. 그루브(21 및 22)에는 각각 내부 케이스(2)의 바닥면에 인접한 하부에 형성되는 개구 윈도우(23 및 24)가 제공된다. 내부 케이스(2)의 바닥면에는 개구부(27)가 제공된다. 또한, 내부 케이스(2)의 바닥면에는 마스크 블랭크(1)의 하부 단면을 지지하는 기판 지지부(26)가 제공된다(도 2 및 도 4). 컨테이너 본체(3)에 내부 케이스(2)를 수납 및 고정하기 위해, 한 쌍의 요면부(depressed portions; 28 및 29)가 각각 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 내부 케이스(2)의 한 쌍의 대향 외측면에 형성되고, 개구를 향하여 바닥면으로부터 중간 위치로 연장한다(도 2). 개구에 인접한 상부 단면(25)으로부터 기판 지지부(26)까지 내부케이스(2)의 높이는 내부 케이스(2)에 수납된 마스크 블랭크(1) 높이의 주요 부분에 상당한다. 마스크 블랭크(1)가 내부 케이스(2)에 수납될 때, 마스크 블랭크(1)의 상부가 내부 케이스(2)의 상단면(25)으로부터 돌출된다(도 4). 수 개의 마스크 블랭크(1)가 수 쌍의 그루브(21 및 22)를 따라 내부 케이스(2)로 삽입될 때, 마스크 블랭크(1)는 소정 간격으로 서로에 대해 평행하게 위치한다. 마스크 블랭크(1)가 본 실시예에서 수직 방향으로 위치할 수 있지만, 경사진 방향으로 위치할 수도 있다.
이러한 실시예에서의 컨테이너 본체(3)에는 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 한 쌍의 대향 내측면에 형성되고 내부 케이스(2)의 요면부(28 및 29)와 접촉되는 돌출부(31 및 32)가 제공된다. 돌출부(31 및 32)는 컨테이너 본체(3)의 바닥면으로 연결되는 바닥부를 가진다(도 3). 제 1 방향으로 서로 대향되는 한 쌍의 대향 외측면에, 돌출부(33 및 34)가 각각 개구 근처에 형성된다. 돌출부(33 및 34)는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지(35) 조금 아래 위치에 연속적으로 형성되는 외측 주변면(36)과 대략 동일한 면으로 되는 돌출면을 갖는다.
본 실시예에서의 캡(4)은 한 쌍의 대향 하부 엣지(47)(즉, 컨테이너 본체(3)에 조립되고 도 1에서 상방으로 향하는 개구 엣지)로부터 연장하고 각각 요부(recessed portion; 43 및 44)가 제공되는 결합부(41 및 42)를 갖는다. 이러한 구조로, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)를 덮을 때, 요부(43 및 44)가 각각 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합되어, 캡(4) 및 컨테이너 본체(3)가 서로 고정된다(도 4). 캡(4)에는 제 2 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 내측면에 형성되고 서로 직면하는 스토퍼(45 및 46)가 제공된다(도 1). 스토퍼(45 및 46)는 수직 방향으로 내부 케이스(2)를 지지 및 고정하도록 개구의 측부 상의 내부 케이스(2)의 상단면(25)에 충돌한다. 캡(4)은 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34) 및 캡(4)의 요부(43 및 44)를 형성하지 않고 컨테이너 본체(3)에 직접 덮혀질 수 있다. 결합 수단으로서 캡(4)의 요부(43 및 44)와 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)가 결합하는 경우, 이 같은 결합 수단은 한 쌍의 대향 측면뿐만 아니라 4개의 측면 모두에 형성될 수 있다.
각각의 내부 케이스(2), 컨테이너 본체(3), 및 캡(4)은 예를 들면, 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드 및 폴리에틸렌 황화물로부터 적절히 선택된 수지 재료로 제조될 수 있다. 이 중에서, 폴리카보네이트 또는 폴리에스테르가 바람직하다. 각각의 컨테이너 본 체(3) 및 캡(4)의 재료로서, 폴리카보네이트가 바람직하다. 내부 케이스(2)의 재료로서, 폴리에스테르가 바람직하다. 폴리에스테르로서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT)가 바람직하다. 마스크 블랭크의 보관 동안 전하가 축적되면, 마스크 제조 공정 동안 방전파괴가 일어나 패턴 결함을 일으킬 수 있다. 상술된 바와 같이, 예를 들면, 컨테이너 본체(3)를 구성하는 수지 재료에 탄소를 혼합함으로써 컨테이너 본체(3)에 전도성을 부여하는 것이 바람직하다. 컨테이너 본체(3)의 표면상으로 전도성 중합체 막을 도포함으로써 전도성을 부여하는 것이 바람직하다.
본 실시예에서, 고리형 탄성 부재(5)가 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지(35)로부터 연속하는 외주면(36)을 따라 조립된다(도 3). 캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮이고 캡(4)의 요부(43 및 44)가 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33, 34)와 결합되어 캡(4) 및 컨테이너 본체(3)가 서로 고정될 때, 캡(4)의 하부로부터 연속하는 외주면(48) 및 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36)이 전방 및 후방으로 서로 겹쳐 도 5에 도시된 바와 같이 서로 연결된다. 또한, 탄성 부재(5)가 그 사이의 연결부에 삽입되어 컨테이너의 내부가 밀봉될 수 있다.
탄성 부재(5)로서, 분위기의 온도 또는 압력에서의 변화의 발생시에도 작은 양의 화학 성분 가스만이 배출되는 재료를 이용하는 것이 바람직하다. 실례를 들면, 폴리올레핀 탄성중합체(elastomer) 및 폴리에스테르 탄성중합체와 같은 팩킹 재료가 특히 유용하다. 또한, 가스 성분의 방출이 작은 한 실리콘 고무가 사용될 수 있다.
탄성 부재(5)가 직사각형 섹션 또는 원형 섹션을 가질 수 있다. 탄성 부재(5)의 두께 또는 폭은 명확히 언급되지 않을 수 있다. 그러나, 두께 또는 폭이 과도하게 큰 경우, 캡(4)은 조립 및 제거하기가 어렵다. 한편, 두께 또는 폭이 과도하게 작은 경우, 탄성 부재(5)와, 캡(4)과 컨테이너 본체(3) 사이의 연결부 사이의 긴밀한 접촉이 불완전하여 컨테이너의 내부를 밀봉하는 기능을 얻기가 어렵다. 따라서, 탄성 부재(5)의 두께 또는 폭은 연결부의 형상 및 크기 및 컨테이너의 크기에 따라 적절하게 결정될 수 있다.
본 실시예에서, 고리형 형상 및 적절한 크기를 가지는 탄성 부재(5)가 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지에 조립된다. 이와 달리, 탄성 부재가 미리 부착될 수 도 있다.
상술된 바와 같이, 이러한 실시예에 따른 컨테이너에서, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮힐 때, 탄성 부재(5)가 연결부에서의 캡(4)과 컨테이너 본체(3) 사이에 삽입된다. 이리하여, 컨테이너가 밀봉될 수 있다. 따라서, 마스크 블랭크를 수납할 때 청정 분위기를 유지하면서 오랜 시간 동안 마스크 블랭크를 보관하고 주위 공기가 컨테이너 내부로 들어가 주위 공기에 포함되는 화학 성분 등에 의한 오염을 발생시키는 것을 방지하는 것이 가능하다. 따라서, 본 발명은 보관 환경의 영향을 받기 쉽고, 특히 청정 분위기에 보관되는 것이 요구되는 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하기에 적절하다.
도 6을 참조하면, 제 1 실시예의 변형예에 따른 컨테이너는 탄성 부재(5)가 컨테이너 본체(3)의 상이한 위치에 형성되는 것을 제외하고 제 1 실시예에 대한 구 조와 유사하다. 특히, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮혀질 때, 탄성 부재(5)는 캡(4)의 하부 엣지로부터 연속하는 외주면(48)과 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36) 사이의 연결면에 삽입된다.
도 7을 참조하면, 또 다른 변형예에 따른 컨테이너는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지에 플랜지(37)가 제공되면서 캡(4)의 하부 엣지에 플랜지(49)가 제공되는 것을 제외하고 제 1 실시예에 대한 구조와 유사하다. 캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮혀져 고정될 때, 플랜지(49 및 37)는 그 사이에 탄성 부재(5)를 삽입하도록 하여 서로 연결된다.
도 8을 참조하면, 또 다른 변형예에 따른 컨테이너는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지에서 플랜지(49)에 탄성 부재(5)의 일부분이 매설되는 요부가 제공된다는 것을 제외하고 도 7의 컨테이너와 유사하다.
플랜지가 겹쳐 연결되는 경우, 상부 및 하부측으로부터 연결부를 클램핑하기 위한 로킹 부재(6)(도 8 참조)가 이용될 수 있다. 플랜지를 따라 로킹 부재(6)를 단지 미끄러지도록 함으로써, 연결부가 고정 및 록킹될 수 있다. 따라서, 로킹 부재(6)를 이용함으로써, 예를 들면 로봇 조작에 의해 캡(4)이 용이하게 조립 및 제거되는 장점이 있다. 로킹 부재(6)가 미끄럼 방향으로부터 이탈되는 것을 피하기 위해, 연결부의 로킹부에서, 캡(4)의 플랜지에는 플랜지의 단부로부터 상방으로 연장하는 돌출부(49a)가 제공되는 반면, 컨테이너 본체(3)의 플랜지에는 플랜지의 단부로부터 하방으로 연장하는 돌출부(37a)가 제공되는 것이 바람직하다.
각각의 제 1 실시예 및 변형예에서, 탄성 부재가 컨테이너 본체에 형성된다. 여기에 제한되지 않고, 탄성 부재가 캡에 부착될 수 있다. 이와 달리, 탄성 부재가 컨테이너 본체 및 캡의 각각에 형성될 수 있다. 어떠한 경우라도, 본 발명의 효과가 유용하게 달성된다.
용이하게 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명은 사각형을 가지는 마스크 블랭크뿐만 아니라 디스크형과 같은 상이한 형상의 기판이 수납되는 경우에 적용가능하다.
앞으로, 본 발명은 특정 예와 관련하여 설명될 것이다.
실례(example)
하프 톤 막(half tone film)이 스퍼터링에 의해 석영 기판에 형성된다. 하프 톤 막 상에, 스핀 코팅(spin coating)에 의해 레지스트 막이 형성되어, 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크가 제조된다. 하프 톤 막으로서, MoSi 금속 막이 사용된다. 레지스트 막으로서, 포지티브 타입(positive type)의 화학 증폭형 레지스트 막이 사용된다.
10개의 마스크 블랭크가 상술한 방식으로 제조되어, 도 1 내지 도 5에 도시된 제 1 실시예에 따라 컨테이너 내에 수납된다. 각각의 캡 및 컨테이너 본체가 폴리카보네이트로 제조된다. 내부 케이스는 폴리부틸렌 테레프탈레이트로 제조된다. 탄성 부재로서, 폴리올레핀 탄성중합체의 고리형 팩킹 부재가 사용된다. 활성탄 필터 및 ULPA 필터에 의해 세정된 청정실에서 수납작업이 수행된다.
컨테이너는 포장 가방으로 포장되어 항공 화물에 의해 운반된다. 운반 후 컨테이너는 상술된 것과 유사한 청정실에서 개방되어, 마스크 블랭크를 꺼낸다. 각각의 마스크 블랭크는 위상 쉬프트 전사마스크(phase-shift transfer mask)를 생산하기 위해 소정 방식으로 전자 비임 기록(writing), 현상(development) 및 에칭된다. 이렇게 생산된 각각의 위상 쉬프트 전사 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 10개의 위상 쉬프트 마스크 중 어느 위상 쉬프트 마스크에서도 심각한 결함이 발견되지 않는다.
비교예
컨테이너(캡, 컨테이너 본체 및 내부 케이스는 상기 실례와 유사한 재료로 제조된다)의 연결부에서 탄성 부재를 이용하지 않는 공지된 컨테이너가 사용되고, 마스크 블랭크가 수납된 후 접착 테이프가 컨테이너를 밀봉하도록 컨테이너의 연결부에 부착된다는 점을 제외하고, 상기 실례와 유사한 방식으로 마스크 블랭크를 생산, 수납 및 이송하였다.
이송 후의 마스크 블랭크를 사용하여, 위상 쉬프트 마스크가 상기 실례와 유사한 방식으로 생산된다. 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 그 결과로서, 패턴의 라인 폭의 교란(disturbance)이 10개의 위상 쉬프트 마스크 각각에서 관측되었다. 이 이유는 아래와 같이 추측된다. 컨테이너의 밀봉이 불완전하기 때문에, 주위 공기가 운반 도중 컨테이너의 내부로 유입되었다. 주위 공기의 특정 화학 성분이 마스크 블랭크의 화학 증폭형 레지스트 막을 화학적으로 오염시켰다.
제 2 실시예
지금부터, 도 2 및 도 9 내지 도 11을 참조하여, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 마스크 블랭크용 컨테이너가 설명된다.
제 2 실시예에 따른 컨테이너가 사각형의 주표면을 가지는 유리 기판, 유리 기판의 하나의 주표면에 증착된 크롬 막과 같은 차광 박막, 및 차광 박막에 형성된 화학 증폭형 레지스트 막을 포함한다. 컨테이너는 마스크 블랭크(1)를 수납하기 위한 내부 케이스(2), 내부 케이스(2)를 수납하기 위한 컨테이너 본체(3), 및 컨테이너 본체(3)의 개구 측에 컨테이너 본체(3)를 덮는 캡(4)을 포함한다(도 11).
마스크 블랭크(1)는 내부 케이스(2)를 이용하지 않고 그루브 등이 제공되는 컨테이너 본체(3)에 직접 수납될 수 있다. 그러나, 내부 케이스(2)에 유지되는 수 개 내지 수십 개의 마스크 블랭크가 총괄적으로 처리될 수 있기 때문에 내부 케이스(2)의 이용이 편리하다.
이러한 실시예에서의 내부 케이스(2)에는 소정간격을 가지고 각각 서로에 대해 평행하게 제 1 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 대향 내부 측면에 형성되고, 내부케이스(2)의 개구(상부측)로부터 바닥면(하부측)을 향하여 연장되는 다수 쌍의 그루브(21 및 22)가 제공된다. 그루브(21 및 22)에는 각각 내부 케이스(2)의 바닥면에 인접한 하부에 형성되는 개구 윈도우(23 및 24)가 제공된다. 내부 케이스(2)의 바닥면에는 개구부(27)가 형성된다. 또한, 내부 케이스(2)의 바닥면에는 마스크 블랭크(1)의 하단면을 지지하는 기판 지지부(26)가 제공된다(도 2 및 도 11). 컨테이너 본체(3)에 내부 케이스(2)를 수납 및 고정하기 위해, 한 쌍의 요면부(depressed portions; 28 및 29)가 각각 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 내부 케이스(2)의 한 쌍의 대향 외측면에 형성되고, 개구를 향하여 바닥면으로부터 중간 위치로 연장한다(도 2). 개구에 인접한 상단면(25)에서 기판 지지부(26)까지의 내부 케이스(2)의 높이는 내부 케이스(2)에 수납된 마스크 블랭크(1) 높이의 주요부에 상당한다. 마스크 블랭크(1)가 내부 케이스(2)에 수납될 때, 마스크 블랭크(1)의 상부가 내부 케이스(2)의 상단면(25)으로부터 돌출된다(도 11). 수 개의 마스크 블랭크(1)가 수 쌍의 그루브(21 및 22)를 따라 내부 케이스(2)로 삽입될 때, 마스크 블랭크(1)는 예정된 간격으로 서로에 대해 평행하게 위치한다. 마스크 블랭크(1)가 본 실시예에서 수직 방향으로 위치할 수 있지만, 경사진 방향으로 위치할 수도 있다.
이러한 실시예에서의 컨테이너 본체(3)에는 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 한 쌍의 대향 내측면에 형성되고, 내부 케이스(2)의 요면부(28 및 29)와 접촉되는 돌출부(31 및 32)가 제공된다. 돌출부(31 및 32)는 컨테이너 본체(3)의 바닥면으로 연결되는 바닥부를 가진다(도 10). 제 1 방향으로 서로 대향되는 한 쌍의 대향 외측면에, 돌출부(33 및 34)가 각각 개구 근처에 형성된다. 돌출부(33 및 34)는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지(35) 조금 아래 위치에 연속적으로 형성되는 외주면(36)과 대략 동일면이 되는 돌출면을 갖는다.
본 실시예에서의 캡(4)은 한 쌍의 대향 하부 엣지(47)(즉, 컨테이너 본체(3)에 조립되고 도 9에서 상방으로 향하는 개구 엣지)로부터 연장하고 각각 요부(recessed portion; 43 및 44)가 제공되는 결합부(41 및 42)를 갖는다. 이러한 구조로, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)를 덮을 때, 요부(43 및 44)가 각각 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합되어, 캡(4) 및 컨테이너 본체(3)가 서로 고정된 다(도 11). 캡(4)에는 제 2 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 내측면에 형성되고, 서로 직면하는 스토퍼(45 및 46)가 제공된다(도 9). 스토퍼(45 및 46)는 수직 방향으로 내부 케이스(2)를 지지 및 고정하도록 개구의 측부 상의 내부 케이스(2)의 상단면(25)에 부딪히도록 되어 있다. 캡(4)은 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34) 및 캡(4)의 요부(43 및 44)를 형성하지 않고 컨테이너 본체(3)에 직접 덮혀질 수 있다. 결합 수단으로서 캡(4)의 요부(43 및 44)와 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)가 결합하는 경우, 이 같은 결합 수단은 한 쌍의 대향 측면뿐만 아니라 4개의 측면 모두에 형성될 수 있다.
각각의 내부 케이스(2), 컨테이너 본체(3) 및 캡(4)은, 예를 들면 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드 및 폴리에틸렌 황화물로부터 적절히 선택된 수지 재료로 제조될 수 있다. 이 중에서, 폴리카보네이트 또는 폴리에스테르가 바람직하다. 각각의 컨테이너 본체(3) 및 캡(4)의 재료로서, 폴리카보네이트가 바람직하다. 내부 케이스(2)의 재료로서, 폴리에스테르가 바람직하다. 폴리에스테르로서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT)가 바람직하다. 마스크 블랭크의 보관 동안 전하가 축적되는 경우, 마스크 제조 공정동안 방전파괴(discharge breakdown)가 일어나 패턴 결함을 일으킬 수 있다. 상술된 바와 같이, 실례를 들면 컨테이너 본체(3)를 구성하는 수지 재료에 탄소를 혼합함으로써 컨테이너 본체(3)에 전도성을 부여하는 것이 바람직하다.
캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮혀 캡(4)의 요부(43 및 44)가 컨테이너 본 체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합하여 캡(4)과 컨테이너 본체(3)가 서로 고정되면, 캡(4)의 하부 엣지로부터 연속하는 외주면(48) 및 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36)이 서로 전방 및 후방으로 겹쳐져 서로 연결된다.
본 실시예에서, 캡(4)에는 주위 공기와 내부 공기 사이의 소통을 허용하도록 하나의 코너에 형성된 통기 구멍(49)이 제공된다. 통기 구멍(49)에는 캡(4)의 내부에 직면하는 여과 부재(5')가 제공된다(도 9 및 도 11). 여과 부재(5')는 플랜지 형상을 가지고 내부 필터를 유지하는 필터 유지부(52)를 포함하고, 파이프(51 및 53)는 가스 유동 경로로서 작용하도록 대향 측부에서 필터 유지부(52)에 일체로 연결되어 있다. 본 실시예에서, 파이프(51)는 캡(4)의 통기 구멍(49)에 부착되는 반면, 파이프(53)는 캡(4)의 내부에 직면한다. 필터 유지부(52)가 분할되어 내부 필터를 장착 및 제거하도록 한다. 통기 구멍(49)이 제공되는 캡(4)의 코너가 내측으로 함몰되고 필터 유지부(52)가 상기 요부와 접촉된다.
마스크 블랭크가 본 실시예에 따라 컨테이너에 수납되어 보관되는 상태에서 주위 공기가 통기 구멍(49)을 통하여 유입되는 경우라도, 주위 공기에 포함되는 화학 물질과 같은 이물질이 여과 부재(5')에 의해 제거되어, 세정된 주위 공기만이 컨테이너의 내부로 유입될 수 있다. 따라서, 컨테이너 내의 청정이 유지된다.
여과 부재(5')의 필터로서, 실례를 들면 청정실에서 일반적으로 사용되는 공기 필터가 이용될 수 있다. 바람직하게는, 이 같은 필터는 HEPA 필터(고 효율 미립자 공기 필터) 또는 ULPA 필터(초 저 투과 미립자 공기 필터)일 수 있다. HEPA 필터는 청정실에서 공기 정화를 위해 주로 이용되는 고 효율 공기 필터이고 일반적 으로 유리 섬유 재료로 제조된다. ULPA 필터는 ULSI 제조의 미세 공정 기술의 개발에 따라 개발된 초고성능 필터이며, 일반적으로 불소계 수지 재료 또는 유리 섬유로 제조된다. 공기 필터의 성능으로서, 0.05㎛ 이상의 직경을 가지는 파티클을 거르는 것이 바람직하다. HEPA 필터 또는 ULPA 필터와 같은 공기 필터가 비용 효율성 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 실제로, HEPA 필터가 사용될 수 있다.
화학 물질에 의한 오염물을 제거하도록 특히 요구되는 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 수납 및 보관되는 경우, 화학 물질을 흡착하기 위한 필터(화학 필터) 홀로 또는 상술된 공기 필터와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 화학 필터로서, 예를 들면, 활성탄 필터 또는 이온 교환 필터가 사용되는 것이 바람직하다. 활성탄 필터 또는 이온 교환 필터와 같은 화학 필터가 비용 효율성 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 실제로, 활성탄 필터가 사용될 수 있다.
화학 증폭형 레지스트를 오염시키는, 즉 화학 증폭형 레지스트의 소망하는 화학 증폭 효과를 저해(화학 증폭 효과가 소망하는 정도와 비교하여 증진되거나 억제되며 예정된 레지스트 패턴이 형성될 수 없음)하는 화학 물질은 산성 화학 물질 및 염기성 화학 물질을 포함한다. 산성 화학 물질은 염소 이온을 포함하는 물질, 황산 이온을 포함하는 물질, 인산 이온을 포함하는 물질, 또는 질산 이온을 포함하는 물질일 수 있다. 염기성 화학 물질은 화학 증폭 반응용 촉매로서 산의 기능을 억제 또는 금지하는(예컨대, 불활성화) 암모니아, 아민, 아닐린, 또는 니트릴과 같 이 질소를 포함하는 화합물일 수 있다.
상술된 바와 같이, 본 실시예에 따른 컨테이너에서, 마스크 블랭크가 수납 및 보관되는 동안 주위 공기가 통기 구멍(49)을 통하여 유입된다고 해도, 주위 공기에 포함되는 화학 물질과 같은 이물질이 여과 부재(5')에 의해 컨테이너의 내부로 유입되는 것을 방지한다. 따라서, 오랜 기간 동안이라도 마스크 블랭크를 수납할 때 청정 분위기를 유지하면서 마스크 블랭크를 보관하고, 주위 공기에 포함되는 화학 물질과 같은 이물질에 의해 마스크 블랭크를 오염시키는 주위 공기가 컨테이너의 내부로 직접 유입되는 것을 방지하는 것이 가능하다. 따라서, 본 발명은 보관 환경의 영향을 받기 쉽고 특히 청정 분위기에서 보관되는 것이 요구되는, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납 및 보관하기에 적절하다.
일반적으로, 주위 공기가 캡(4)과 컨테이너 본체(3) 사이의 연결부, 즉 캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮혀질 때 캡(4)의 하부 엣지로부터 연속하는 외주면(48)과 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36)이 서로 겹치는 연결부를 통하여 유입될 수 있다. 그러나, 통기 구멍(49)을 구비한 컨테이너를 제공함으로써, 주위 공기가 통기 구멍(49)을 통하여 우선적으로 유입되어, 컨테이너의 내부의 오염을 충분히 방지한다.
본 실시예에서, 통기 구멍(49) 및 여과 부재(5')가 캡(4)의 일측 모서리에 형성된다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 통기 구멍(49) 및 여과 부재(5')는 컨테이너에 수납되는 마스크 블랭크가 접촉되지 않는 코너를 제외하는 어떠한 위치에도 형성될 수 있다. 통기 구멍(49) 및 여과 부재(5')가 하나의 위치가 아닌, 다수의 위치에 형성될 수 있다. 또한, 통기 구멍(49) 및 여과 부재(5')는 본 실시예에서 캡(4)의 상판이 아니라, 측벽판 또는 컨테이너 본체(3)상의 적절한 위치에 형성될 수 있다.
주위 공기에 포함된 이물질의 컨테이너로의 유입을 방지하는 수단은 본 실시예에의 수단으로 제한되지 않는다. 실례를 들면, 통기 구멍은 컨테이너 및 필터의 적절한 위치에 형성될 수 있으며, 여과 기능을 가지는 필터 또는 밀봉 부재가 컨테이너의 내부로부터 통기 구멍을 덮거나 폐쇄하도록 통기 구멍에 직접 부착된다. 또한, 통기 구멍을 형성하지 않고, 필터 또는 여과 기능을 가지는 부재가 캡(4)과 컨테이너 본체(3) 사이의 연결부에 부착될 수 있다.
본 발명이 적용가능한 마스크 블랭크는 유리 기판과 같은 투광성 기판 및 투광성 기판에 형성된 Cr과 같은 차광 막을 포함하는 마스크 블랭크, 위상 쉬프트 마스크를 생산하기 위해 사용되고 기판 및 기판에 형성된 하프 톤(반투광성) 막을 포함하는 마스크 블랭크, 및 반사성 마스크를 생산하기 위해 사용되고 기판, 노출 광을 반사하기 위한 Mo/Si 다중층 반사 막과 같은 반사 막, 및 노출 광을 흡수하기 위한 Ta계 흡수막과 같은 흡수막을 포함하는 마스크 블랭크를 포함한다. 용이하게 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명은 사각 형상의 마스크 블랭크가 수납되는 경우뿐만 아니라 디스크 형상과 같은 상이한 형상의 마스크 블랭크가 수납되는 경우에도 적용가능하다.
지금부터, 본 발명은 특정 실례와 관련하여 설명된다.
실례
하프톤 막은 스퍼터링에 의해 석영 기판(6인치 x 6인치)에 형성된다. 하프톤 막에, 레지스트 막이 스핀 코팅에 의해 형성되어 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 생산한다. 하프톤 막으로서, MoSi 금속 막이 사용되었다. 레지스트 막으로서, 포지티브 타입(positive type)의 화학 증폭형 레지스트 막이 사용된다.
100 개의 마스크 블랭크가 상술된 방식으로 생산되고 도 2 및 도 9 내지 도 11과 관련하여 설명된 제 2 실시예에 따른 10 개의 컨테이너에 수납된다. 각각의 캡 및 컨테이너 본체는 폴리카보네이트로 제조된다. 내부 케이스는 폴리부틸렌 테레프탈레이트로 제조된다. 컨테이너에 부착된 여과 부재의 필터로서, 활성탄 필터 및 HEPA 필터의 조합이 사용된다. 수납 작업은 활성탄 필터 및 ULPA 필터에 의해 세정된 청정실에서 수행되었다.
컨테이너는 포장 백으로 포장되어 항공 화물에 의해 운반된다. 운반 후 컨테이너를 상술된 청정실과 유사한 청정실에서 개방하여, 마스크 블랭크를 꺼낸다. 각각의 마스크 블랭크는 위상 쉬프트 전사 마스크를 생산하도록 예정된 방식으로 전자 비임 기록, 현상 및 에칭 처리된다. 따라서 각각의 위상 쉬프트 전사 마스크의 품질이 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 어떠한 것에서도 심각한 결함이 발견되지 않는다.
비교예
통기 구멍 및 여과 부재가 컨테이너(캡, 컨테이너 본체, 및 내부 케이스가 상기 실례에서와 유사한 재료로 제조됨)에 제공되지 않은 공지된 컨테이너가 사용되고 마스크 블랭크를 수납한 후 접착 테이프가 컨테이너를 밀봉하도록 컨테이너의 연결부에 부착되는 것을 제외하고 상기 실례와 유사한 방식으로 마스크 블랭크가 생산, 수납 및 이송되었다.
이송 후 마스크 블랭크의 사용에 의해, 위상 쉬프트 마스크가 상기 실례와 유사한 방식으로 생산되었다. 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 이용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 패턴의 라인 폭의 교란이 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 각각에서 관측되었다. 이 이유는 아래와 같이 예측된다. 주위 공기가 이송 동안 컨테이너의 내부로 유입되었다. 주위 공기의 특정 화학 성분이 마스크 블랭크의 화학 증폭형 레지스트 막을 화학적으로 오염시켰다.
제 3 실시예
지금부터, 도 1, 도 2, 도 4 및 도 10을 참조하여, 제 3 실시예에 따른 컨테이너가 설명된다.
본 실시예에서 사용되는 마스크 블랭크를 수납하기 위한 컨테이너는 특별히 제한되지 않는다.
제 3 실시예에 따른 컨테이너가 사각형의 주표면을 가지는 유리 기판, 유리 기판의 하나의 주표면에 증착되는 크롬 막과 같은 차광 박막, 및 차광 박막에 형성된 화학 증폭형 레지스트 막을 포함하는 마스크 블랭크(1)를 수용하도록 되어 있다. 컨테이너는 마스크 블랭크(1)를 수납하기 위한 내부 케이스(2), 내부 케이스(2)를 수납하기 위한 컨테이너 본체(3), 및 컨테이너 본체(3)의 개구 측에 컨테이너 본체(3)를 덮는 캡(4)을 포함한다(도 4).
마스크 블랭크(1)는 내부 케이스(2)를 이용하지 않고 그루브 등이 제공되는 컨테이너 본체(3)에 직접 수납될 수 있다. 그러나, 내부 케이스(2)에 유지되는 수 개 내지 수십 개의 마스크 블랭크가 총괄적으로 처리될 수 있기 때문에 본 실시예에서 내부 케이스(2)의 이용은 편리하다.
내부 케이스(2)에는 소정 간격을 가지고 서로에 대해 평행하고 제 1 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 대향 내부 측면에 각각 형성되고 내부 케이스(2)의 개구(상부측)로부터 바닥면(하부측)을 향하여 연장되는 다수 쌍의 그루브(21 및 22)가 제공된다. 그루브(21 및 22)에는 각각 내부 케이스(2)의 바닥면에 인접한 하부에 형성되는 개구 윈도우(23 및 24)가 제공된다. 내부 케이스(2)의 바닥면에는 개구부(27)가 설치되어 있다. 내부 케이스(2)의 바닥면에는 마스크 블랭크(1)의 하단면을 지지하는 기판 지지부(26)가 제공된다(도 2 및 도 4). 컨테이너 본체(3)에 내부 케이스(2)를 수납 및 고정하기 위해, 한 쌍의 요면부(depressed portions; 28 및 29)가 각각 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 내부 케이스(2)의 한 쌍의 대향 외측면에 형성되고, 개구를 향하여 바닥면으로부터 중간 위치로 연장한다(도 2). 개구에 인접한 하단면(25)에서 기판 지지부(26)까지의 내부 케이스(2)의 높이는 내부 케이스(2) 내에 수납된 마스크 블랭크(1) 높이의 주요부에 상당한다. 마스크 블랭크(1)가 내부 케이스(2)에 수납될 때, 마스크 블랭크(1)의 상부가 내부 케이스(2)의 상단면(25)으로부터 돌출된다(도 4). 수 개의 마스크 블랭크(1)가 수 쌍의 그루브(21 및 22)를 따라 내부 케이스(2)로 삽입될 때, 마스크 블랭크(1)는 예정된 간격으로 서로에 대해 평행하게 위치한다. 마스크 블랭크(1)가 본 실시예에서 수직 방향으로 위치할 수 있지만, 경사진 방향으로 위 치할 수도 있다.
컨테이너 본체(3)에는 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 한 쌍의 대향 내측면에 형성되고 내부 케이스(2)의 요면부(28 및 29)와 접촉하게 될 돌출부(31 및 32)가 제공된다. 돌출부(31 및 32)는 컨테이너 본체(3)의 바닥면으로 연결되는 바닥부를 가진다(도 10). 제 1 방향으로 서로 대향되는 한 쌍의 대향 외측면에, 돌출부(33 및 34)가 각각 개구 근처에 형성된다. 돌출부(33 및 34)는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지(35) 바로 아래 위치에 연속적으로 형성되는 외주면(36)과 실질적으로 동일한 면으로 되는 돌출면을 갖는다.
본 실시예에서의 캡(4)은 한 쌍의 대향 하부 엣지(47)(즉, 컨테이너 본체(3)에 조립되고 도 1에서 상방으로 향하는 개구 엣지)로부터 연장하고 각각 요부(recessed portion; 43 및 44)가 제공되는 결합부(41 및 42)를 갖는다. 이러한 구조로, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)를 덮을 때, 요부(43 및 44)가 각각 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합되어, 캡(4) 및 컨테이너 본체(3)가 서로 고정된다(도 4). 캡(4)에는 제 2 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 내측면에 형성되고 서로 직면하는 스토퍼(45 및 46)가 더 제공된다(도 1). 스토퍼(45 및 46)는 수직 방향으로 내부 케이스(2)를 지지 및 고정하도록 개구의 측부 상의 내부 케이스(2)의 상단면(25)에 맞닿게 된다. 캡(4)은 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34) 및 캡(4)의 요부(43 및 44)를 형성하지 않고 컨테이너 본체(3)에 직접 덮혀질 수 있다. 결합 수단으로서 캡(4)의 요부(43 및 44)와 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)가 서로 결합하는 경우, 이 같은 결합 수단은 한 쌍의 대향 측면뿐만 아니라 4 개의 측면 모두에 형성될 수 있다.
각각의 내부 케이스(2), 컨테이너 본체(3) 및 캡(4)은, 실례를 들면 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드 및 폴리에틸렌 황화물로부터 적절히 선택된 수지 재료로 제조될 수 있다. 이 중에서, 폴리카보네이트 또는 폴리에스테르가 바람직하다. 각각의 컨테이너 본체(3) 및 캡(4)의 재료로서, 폴리카보네이트가 바람직하다. 내부 케이스(2)의 재료로서, 폴리에스테르가 바람직하다. 폴리에스테르로서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT)가 바람직하다. 마스크 블랭크의 보관 동안 전하가 축적되는 경우, 마스크 제조 공정 동안 방전 파괴가 일어나 패턴 결함을 일으킬 수 있다. 상술된 바와 같이, 실례를 들면, 컨테이너 본체(3)를 구성하는 수지 재료에 탄소를 혼합함으로써 컨테이너 본체(3)에 전도성을 부여하는 것이 바람직하다.
캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮이고 캡(4)의 요부(43 및 44)가 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합하여, 캡(4)과 컨테이너 본체(3)가 서로 고정될 때, 캡(4)의 하부 엣지로부터 연속하는 외주면(48) 및 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36)이 서로 전방 및 후방으로 겹쳐져 서로 연결된다.
구조 16에서 설명된 바와 같이, 컨테이너가 산성 물질을 흡수 또는 흡착하는 수단을 가지는 것이 바람직하다. 마스크 블랭크가 산성 물질이 제거된 분위기와 함께 컨테이너에 수납되는 경우라도, 산성 물질은 컨테이너에 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어지는 마스크 블랭크 패키지의 운반 및 보관 동안 컨테이너의 컨테 이너 본체와 캡 사이의 연결부를 통하여 주위 공기와 함께 유입될 수 있다. 이 경우라도, 컨테이너가 산성 물질을 흡수 또는 흡착하는 수단을 갖는다면, 주위 공기에 포함된 산성 물질이 제거될 수 있어 컨테이너의 내부가 청정 분위기를 유지할 수 있다. 산성 물질을 흡수 또는 흡착하는 수단에 대해, 실례를 들면, 산성 물질을 흡수 또는 흡착하는 물질(산성 물질용 흡수기 또는 흡착기)을 컨테이너에 배치하는 간단한 방법이 있다. 산성 물질을 흡수 또는 흡착하기 위한 물질로서, 실례를 들면, 탄산칼륨과 같은 탄산염이 사용될 수 있다. 이와 달리, 산성 물질을 흡수 또는 흡착하기 위한 재료는 컨테이너를 구성하는 재료에 포함될 수 있다. 또한, 활성탄과 같은 흡착재가 조합되어 사용될 수 있다.
구조 17에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 블랭크 패키지는 적어도 산성 물질을 포함하지 않는 분위기를 가지는 컨테이너의 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어진다. "산성 물질을 포함하지 않는다"는 문구는 산성 물질이 분위기에 전혀 존재하지 않는 경우로 제한되는 것이 아니며, 화학 증폭형 레지스트가 오염되지 않는 한 분위기에 작은 양의 산성 물질이 포함되는 경우일 수도 있다. 산성 물질이 분위기에 포함되는 경우에서의 특정 허용 값은 상술된 산성 물질의 제거의 정도와 동등하다.
상술된 바와 같이, 산성 물질이 제거된 분위기는 마스크 블랭크를 수납할 때 사용될 수 있다. 또한, 상술된 분위기가 마스크 블랭크의 제조 공정에서도 사용되는 것이 바람직하다. 특히, 구조 18에서 설명된 바와 같이, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막이 유리 기판과 같은 기판에 증착되며, 그 후 화학 증폭형 레지스트 막이 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 박막에 형성된다. 따라서, 레지스트 막이 있는 마스크 블랭크의 제조 단계에서 산성 물질의 부착을 방지하는 것이 가능하다.
마스크 블랭크의 제조로부터 수납 및 포장까지 일련의 단계에서 상술된 분위기를 사용하는 것이 적절하다. 특히, 구조 19에서 설명된 바와 같이, 마스크 패턴을 형성하기 위해 박막을 기판상에 증착함으로써 얻어지는 마스크 블랭크 상의 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 레지스트 형성 단계, 선택적 단계로서 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 처리하기 위한 후-처리 단계, 선택적 단계로서 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 검사하기 위한 검사 단계, 및 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 컨테이너에 수납 및 포장하기 위한 수납 및 포장 단계를 포함하는 일련의 단계에서, 적어도 하나의 단계가 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 수행되는 것이 바람직하다. 실례를 들면, 선택적 단계로서 후-처리 단계는 레지스트 막의 접착성을 증가하기 위한 가열(베이킹) 단계 또는 건조 세정 단계이다.
특히, 마스크 블랭크상에 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 레지스트 형성 단계로부터 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납 및 포장하는 수납/포장 단계까지의 일련의 단계는 적어도 산성 물질이 제거된 분위기하에서 적절히 수행된다.
본 발명이 적용가능한 마스크 블랭크는 유리 기판과 같은 투광성 기판 및 상기 기판상에 형성된 Cr과 같은 차광 막을 포함하는 마스크 블랭크, 위상 쉬프트 마 스크를 생산하기 위해 사용되고 기판 및 상기 기판에 형성된 하프톤(반투광성) 막을 포함하는 마스크 블랭크, 및 반사 마스크를 생산하기 위해 사용되고 기판, 노출광반사용 Mo/Si 다중층 반사막과 같은 반사막, 및 상기 노출 광을 흡수하기 위한 Ta 계 흡수 막과 같은 흡수 막을 포함하는 마스크 블랭크를 포함한다.
본 발명에 따라, 적어도 산성 물질이 제거된 분위기가 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 컨테이너로 수납될 때 사용된다. 이러한 방식으로, 화학 증폭형 레지스트의 소망하는 화학 증폭 효과에 영향을 미치고 화학 증폭 효과를 과도하게 증진시키는 산성 물질의 접착에 의한 오염을 방지하는 것이 가능하다. 따라서, 안정적인 레지스트 성능이 마스크 블랭크의 보관후에도 보장된다. 결과적으로, 마스크의 제조시, 안정된 레지스트 패턴이 형성되고 고 품질 전사 마스크가 소망 마스크 패턴과 함께 얻어진다. 본 발명에 따라, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지고 컨테이너에 수납되는 마스크 블랭크와 컨테이너의 조합체로서 마스크 블랭크 패키지가 운반 수단의 이용에 의해 원격 위치로 운반되는 경우라도, 수납되는 마스크 블랭크의 레지스트 막의 오염이 억제될 수 있다. 따라서, 원격 위치로 마스크 블랭크의 운반 시 높은 신뢰성을 보장하는 것이 가능하다.
본 발명에 따라, 마스크 패턴을 형성하는 박막이 기판에 증착된 후, 화학 증폭형 레지스트 막이 적어도 산성 물질이 제거된 분위기 하에서 박막상에 형성된다. 이러한 방식으로, 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크의 제조 단계에서 산성 물질의 부착을 방지하는 것이 가능하다.
마스크 블랭크의 제조로부터 수납 및 포장으로의 일련 단계에서, 산성 물질 이 제거된 분위기가 사용된다. 이러한 방식으로, 산성 물질에 의한 오염을 유용하게 방지하는 것이 가능하다.
지금부터, 제 3 실시예가 특정한 예와 관련하여 설명된다.
실례
하프톤 막은 스퍼터링에 의해 석영 기판(6인치 x 6인치)에 형성되었다. 하프톤 막에, 레지스트 막이 스핀 코팅에 의해 형성되어 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 생산하였다. 하프톤 막으로서, MoSi 금속 막이 사용되었다. 레지스트 막으로서, 포지티브 타입(positive type)의 화학 증폭형 레지스트 막이 사용된다. 레지스트 막은 탄산칼륨을 포함하는 활성탄 필터 및 ULPA 필터에 의해 세정된 청정실에 형성된다.
100 개의 마스크 블랭크가 상술된 방식으로 제조되고 도 1 내지 도 4에 나타낸 구조를 가지는 10 개의 컨테이너에 수납된다. 각각의 캡 및 컨테이너 본체는 폴리카보네이트로 제조된다. 내부 케이스는 폴리부틸렌 테레프탈레이트로 제조된다. 수납작업은 활성탄 필터 및 ULPA 필터에 의해 세정된 청정실에서 수행되었다. 활성탄 필터로서, 탄산칼륨을 포함하는 활성탄 필터 및 인산을 포함하는 활성탄 필터의 조합체가 사용된다.
컨테이너는 포장 백으로 포장되어 항공 화물에 의해 이송된다. 운반 후 컨테이너를 상술된 청정실과 유사한 청정실에서 개방하여, 마스크 블랭크를 꺼낸다. 각각의 마스크 블랭크는 위상 쉬프트 전사 마스크를 생산하도록 예정된 방식으로 전자 비임 기록, 현상 및 에칭 처리된다. 이렇게 제조된 각각의 위상 쉬프트 전사 마스크의 품질이 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 어떠한 것에서도 심각한 결함은 발견되지 않는다.
비교예
마스크 블랭크는 탄산칼륨을 포함하는 활성탄 필터가 청정실에서 사용되지 않는 것을 제외하고, 상기 예와 유사한 방식으로 생산, 포장 및 운반된다.
운반 후 마스크 블랭크의 사용에 의해, 위상 쉬프트 마스크가 상기 실례와 유사한 방식으로 생산되었다. 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 이용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 패턴의 라인 폭의 교란이 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 각각에서 관측되었다. 이 이유는 아래와 같이 추측된다. 구체적으로, 특정 산성 물질이 청정실 내의 분위기에 존재하여 컨테이너 내에 포획되었다. 이러한 상태에서, 마스크 블랭크가 포장된다. 운반 동안, 마스크 블랭크의 화학 증폭형 레지스트 막은 산성 물질에 의해 화학적으로 오염되었다.
제 4 실시예
지금부터, 도 1, 도 2, 도 4 및 도 10을 참조하여, 본 발명의 제 4 실시예가 설명된다.
우선, 본 발명이 적용가능한 수납 부재로서, 마스크 블랭크를 수납하기 위한 컨테이너의 하나의 실례가 설명된다.
제 4 실시예에 따른 컨테이너는 사각형의 주표면을 가지는 유리 기판, 유리 기판의 하나의 주표면에 증착되는 크롬 막과 같은 차광 박막, 및 차광 박막에 형성 된 화학 증폭형 레지스트 막을 포함하는 마스크 블랭크(1)를 수용하게 되어 있다. 컨테이너는 마스크 블랭크(1)를 수납하기 위한 내부 케이스(2), 내부 케이스(2)를 수납하기 위한 컨테이너 본체(3), 및 컨테이너 본체(3)의 개구 측에 컨테이너 본체(3)를 덮는 캡(4)을 포함한다(도 4).
마스크 블랭크(1)는 내부 케이스(2)를 이용하지 않고 그루브 등이 제공되는 컨테이너 본체(3)에 직접 수납될 수 있다. 그러나, 내부 케이스(2)에 유지된 수 개 내지 수십 개의 마스크 블랭크가 총괄적으로 처리될 수 있기 때문에 본 실시예의 내부 케이스(2)의 이용은 편리하다.
내부 케이스(2)에는 소정 간격을 가지고 서로에 대해 평행하게 제 1 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 대향 내부 측면에 각각 형성되고 내부 케이스(2)의 개구(상부측)로부터 바닥면(하부측)을 향하여 연장되는 다수 쌍의 그루브(21 및 22)가 제공된다. 그루브(21 및 22)에는 각각 내부 케이스(2)의 바닥면에 인접한 하부에 형성되는 개구 윈도우(23 및 24)가 제공된다. 내부 케이스(2)의 바닥면에는 개구부(27)가 설치된다. 또한, 내부 케이스(2)의 바닥면에는 마스크 블랭크(1)의 하단면을 지지하는 기판 지지부(26)가 제공된다(도 2 및 도 4). 컨테이너 본체(3)에 내부 케이스(2)를 수납 및 고정하기 위해, 한 쌍의 요면부(depressed portions; 28 및 29)가 각각 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 내부 케이스(2)의 한 쌍의 대향 외측면에 형성되고, 개구를 향하여 바닥면으로부터 중간 위치로 연장한다(도 2). 개구에 인접한 상단면(25)에서 기판 지지부(26)까지의 내부 케이스(2)의 높이는 내부 케이스(2)에 수납된 마스크 블랭크(1) 높이의 주요부 에 상당한다. 마스크 블랭크(1)가 내부 케이스(2)에 수납될 때, 마스크 블랭크(1)의 상부가 내부 케이스(2)의 상단면(25)으로부터 돌출된다(도 4). 수 개의 마스크 블랭크(1)가 수 쌍의 그루브(21 및 22)를 따라 내부 케이스(2)로 삽입될 때, 마스크 블랭크(1)는 예정된 간격으로 서로에 대해 평행하게 위치한다. 마스크 블랭크(1)가 본 실시예에서 수직 방향으로 위치될 수 있지만, 경사진 방향으로 위치될 수도 있다.
컨테이너 본체(3)에는 제 2 방향으로 서로에 대해 대향되는 한 쌍의 대향 내측면에 형성되고 내부 케이스(2)의 요면부(28 및 29)와 접촉되는 돌출부(31 및 32)가 제공된다. 돌출부(31 및 32)는 컨테이너 본체(3)의 바닥면으로 연결되는 바닥부를 가진다(도 10). 제 1 방향으로 서로 대향되는 한 쌍의 대향 외측면에, 돌출부(33 및 34)가 각각 개구 근처에 형성된다. 돌출부(33 및 34)는 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지(35) 바로 아래 위치에 연속적으로 형성되는 외주면(36)과 실질적으로 동일면으로 되는 돌출면을 갖는다.
본 실시예에서의 캡(4)은 한 쌍의 대향 하부 엣지(47)(즉, 컨테이너 본체(3)에 조립되고 도 1에서 상방으로 향하는 개구 엣지)로부터 연장하고 각각 요부(recessed portion; 43 및 44)가 제공되는 결합부(41 및 42)를 갖는다. 이러한 구조로, 캡(4)이 컨테이너 본체(3)를 덮을 때, 요부(43 및 44)가 각각 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합되어, 캡(4) 및 컨테이너 본체(3)가 서로 고정된다(도 4). 캡(4)에는 제 2 방향으로 서로에 대향되는 한 쌍의 내측면에 형성되고 서로 직면하는 스토퍼(45 및 46)가 더 제공된다(도 1). 스토퍼(45 및 46)는 수직 방향으로 내부 케이스(2)를 지지 및 고정하도록 개구의 측부 상의 내부 케이스(2)의 상단면(25)에 맞닿게 되어 있다.
상술된 바와 같이, 각각의 내부 케이스(2), 컨테이너 본체(3), 및 캡(4)은 수지 재료로 제조되는 것이 바람직하다. 이 중에서, PMMA 수지가 바람직하다. 각각의 이러한 부재는 마스크 블랭크가 수납되기 전에 본 발명에 따라 열 처리와 같이 화학 물질을 제거하는 처리를 한다. 마스크 블랭크의 보관 동안 전하가 축적되는 경우, 마스크 제조 공정 동안 방전파괴가 일어나 패턴 결함을 일으킬 수 있다. 상술된 바와 같이, 실례를 들면, 컨테이너 본체(3)를 구성하는 수지 재료에 탄소를 혼합함으로써 컨테이너 본체(3)에 전도성을 부여하는 것이 가능하다.
캡(4)이 컨테이너 본체(3)에 덮이고 캡(4)의 요부(43 및 44)가 컨테이너 본체(3)의 돌출부(33 및 34)와 결합하여 캡(4)과 컨테이너 본체(3)가 서로 고정될 때, 캡(4)의 하부 엣지로부터 연속하는 외주면(48) 및 컨테이너 본체(3)의 개구 엣지로부터 연속하는 외주면(36)이 서로 전방 및 후방으로 겹쳐져 서로 연결된다.
구조 23에서 설명된 바와 같이, 수납 부재로 형성된 부재는 화학 물질을 제거하는 처리에 놓일 수 있으며, 또는 수납 부재로 형성되기 전의 재료가 화학 물질을 제거하는 처리를 받을 수 있다. 또한, 수납 부재로 형성되기 전에 재료 및 형성된 후의 수납 부재 둘다 화학 물질을 제거하는 처리를 받는 것이 가능하다.
구조 24에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 따른 처리 방법은 마스크 블랭크 수납 부재를 제조하는 방법에 적용가능하다. 이러한 경우, 본 발명은 본 발명의 방법에 의한 형성 제품으로서 수납 부재를 처리함으로써 수납 부재를 제조하는 방 법 또는 본 발명의 방법에 의해 사용된 수납 부재를 처리함으로써 재순환된(리사이클링된) 수납 부재를 제조하는 방법에 적용가능하다. 특히, 본 발명의 처리 방법은 수지 재료를 형성함으로써 마스크 블랭크 컨테이너를 제조하는 방법 및 한번 이상 사용된 마스크 블랭크 컨테이너를 본 발명의 방법으로 처리함으로써 재생된 마스크 블랭크 컨테이너를 제조하는 방법에 적용가능하다.
구조 25에 설명된 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 블랭크 패키지는 화학 증폭형 레지스트의 화학적 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하는 처리를 받는 부재 내의 화학 증폭형 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 수납함으로써 얻어진다.
본 발명이 적용가능한 마스크 블랭크는 특별히 제한되지 않지만 유리 기판과 같은 투광성 기판 및 상기 기판상에 형성된 Cr과 같은 차광 막을 포함하는 마스크 블랭크, 위상 쉬프트 마스크를 생산하기 위해 사용되고 기판 및 상기 기판상에 형성된 위상 쉬프트 막을 포함하는 마스크 블랭크, 및 반사성 마스크를 생산하기 위해 사용되고 기판, 노출 광을 반사하기 위한 Mo/Si 다중층 반사성 막과 같은 반사성 막, 및 노출 광을 흡수하기 위한 Ta 계 흡수 막과 같은 흡수 막을 포함하는 마스크 블랭크를 포함한다.
본 발명에 따라, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크를 수납하기 위한 수납 부재는 수납 부재로부터 화학 증폭 레지스트의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하는 처리를 받는다. 따라서, 수납 부재에 포함되어, 시간 경과에 따라서 유출될 가능성이 있는 화학 물질을 미리 배출시키는 것이 가능하 다. 그러므로, 마스크 블랭크가 본 발명에 따른 처리를 받은 마스크 블랭크 수납부재를 이용하여 수납 및 포장된다면, 화학물질의 유출가스는 시간경과에 따라서 배출되지 않는다. 따라서, 화학 증폭형 레지스트 막을 가지는 마스크 블랭크가 화학 물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 것이 가능하다. 따라서, 안정된 레지스트 성능은 마스크 블랭크의 보관 후에도 보장된다. 결과적으로, 마스크의 제조시, 안정된 레지스트 패턴이 형성되고 고 품질 전사 마스크가 소망 마스크 패턴으로 얻어진다.
또한, 화학 증폭형 레지스트의 화학 증폭 효과를 억제하는 화학 물질을 제거하기 위한 처리로서 수납 부재의 가열 처리의 이용에 의해, 본 발명의 효과가 간단한 방식으로 달성될 수 있다.
지금부터, 제 4 실시예가 특정 실례와 관련하여 설명된다.
실례 4-1
하프톤 막은 스퍼터링에 의해 석영 기판(6인치 x 6인치)에 형성된다. 하프톤 막에, 레지스트 막이 스핀 코팅에 의해 형성되어 레지스트 막을 구비한 마스크 블랭크를 생산한다. 하프톤 막으로서, MoSi 금속 막이 사용된다. 레지스트 막으로서, 포지티브 타입(positive type)의 화학 증폭형 레지스트 막이 사용된다. 레지스트 막은 탄산칼륨을 포함하는 활성탄 필터, 인산을 포함하는 활성탄 필터 및 ULPA 필터의 조합에 의해 세정된 청정실에 형성된다.
100 개의 마스크 블랭크가 상술된 방식으로 제조되고 도 1, 도 2, 도 4 및 도 10에 나타낸 구조를 가지는 10 개의 컨테이너에 수납된다. 각각의 캡, 컨테이 너 본체 및 컨테이너의 내부 케이스의 재료로서, PMMA 수지가 사용된다. PMMA 수지의 이용에 의해, 컨테이너는 도 1, 도 2, 도 4 및 도 10에 도시된 구조로 형성된다. 그 후, 컨테이너는 40℃의 온도로 RO/DI 워터로 세정된다. 세정 후, 컨테이너는 세정 오븐에서 열 처리된다. 열 처리는 30 분 동안 50℃로 수행된다. 각각의 세정 단계 및 열 처리 단계는 탄산칼륨을 포함하는 활성탄 필터, 인산을 포함하는 활성탄 필터 및 ULPA 필터의 병용사용에 의해 세정된 청정실에서 수행된다.
또한, 마스크 블랭크의 수납 작업은 상술된 활성탄 필터 및 ULPA 필터에 의해 세정된 청정실에서 수행된다.
컨테이너는 포장 백으로 포장되어 항공 화물에 의해 운반된다. 운반된 후 컨테이너는 포장된 상태로 약 한 달 동안 유지된다. 그 후, 컨테이너를 상술된 것과 유사한 청정실에서 개방하여, 마스크 블랭크를 꺼낸다. 각각의 마스크 블랭크는 위상 쉬프트 전사 마스크를 생산하도록 예정된 방식으로 전자 비임으로 기록, 현상 및 에칭 처리된다. 이렇게 생산된 각각의 위상 쉬프트 전사마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 어떠한 위상 쉬프트 마스크에서도 심각한 결함이 발생하지 않았다. 컨테이너의 개방 시, 컨테이너의 내부면의 산성 이온 및 염기성 이온이 이온 크로마토그래피에 의해 분석된다. 그 결과는 도 1에서 볼 수 있다.
실례 4-2
마스크 블랭크는 컨테이너가 70 ℃로 유지된 RO/DI 워터로 세척되는 것을 제외하고 실례 1에 유사한 방식으로 생산된 컨테이너의 이용에 의해 수납, 운반 및 보관된다.
실례 1에 유사한 방식으로, 위상 쉬프트 마스크는 보관 후 마스크 블랭크의 이용에 의해 생산된다. 이렇게 생산된 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 어떠한 위상 쉬프트 마스크에서도 심각한 결함이 발견되지 않았다. 컨테이너의 개방시 컨테이너의 내부면 상의 산성 이온 및 염기성 이온의 분석의 결과가 도 1에 도시되어 있다.
실례 4-3
마스크 블랭크는 컨테이너가 40 ℃로 유지된 RO 워터로 세척되는 것을 제외하고 실례 1에 유사한 방식으로 생산된 컨테이너의 이용에 의해 수납, 운반 및 보관된다.
실례 1에 유사한 방식으로, 위상 쉬프트 마스크는 보관 후 마스크 블랭크의 이용에 의해 생산된다. 따라서 생산된 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 100 개의 위상 쉬프트 마스크 중 어떠한 위상 쉬프트 마스크에서도 심각한 결함이 발견되지 않았다. 컨테이너의 개방시 컨테이너의 내부면상의 산성 이온 및 염기성 이온의 분석의 결과가 도 1에 도시되어 있다.
비교예
마스크 블랭크는 세정 후 컨테이너가 가열되지 않고 실온으로 남아 있다는 것을 제외하고 실례 1에 유사한 방식으로 생산된 컨테이너의 이용에 의해 수납, 운 반 및 보관된다.
실례 1에 유사한 방식으로, 위상 쉬프트 마스크는 보관 후 마스크 블랭크의 이용에 의해 생산된다. 따라서 생산된 각각의 위상 쉬프트 마스크의 품질은 주사 전자 현미경의 사용에 의해 상세하게 검사된다. 결과적으로, 패턴의 라인 폭의 교란이 100 개의 마스크 각각에서 관측되었다. 컨테이너의 개방시 컨테이너의 내부면상의 산성 이온 및 염기성 이온의 분석의 결과가 도 1에 도시되어 있다.
(ng/cm2)
수지
재료		 컨테이너 산성 이온 염기성 이온
세정 열 처리 Cl-1 SO4 2- HPO3 2-` NH4 +
실례 4-1 PMMA RO/DI 워터
(40℃)		 50℃
30분		 미검출 미검출 미검출 미검출
실례 4-2 PMMA RO/DI 워터
(70℃)		 50℃
30분		 미검출 미검출 미검출 미검출
실례 4-3 PMMA RO 워터
(40℃)		 50℃
30분		 0.8 0.9 미검출 0.9
비교예 PMMA RO/DI 워터
(40℃)		 처리되지않음
(실온에서 유지)		 4.7 4.5 36 4.5
그 이유는 아래와 같이 예측된다. 표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 상대적으로 적은 양의 유출가스가 배출되는 PMMA 수지가 사용되는 경우라도, 산성 물질 및 염기성 물질과 같은 화학 물질이 컨테이너로부터 마스크 블랭크가 수납 및 보관된 컨테이너의 내부로 유출된다. 마스크 블랭크의 화학 증폭형 레지스트 막은 컨테이너로부터 유출된 화학 물질에 의해 화학적으로 오염된다.
본 실시예의 실례 4-1 내지 실례 4-3에서, 컨테이너는 본 발명에 따른 열 처리의 이용에 의해 생산된다. 따라서, 마스크 블랭크가 수납 및 보관되는 동안, 화학 증폭형 레지스트 막을 오염시키는 화학 물질의 실질적 양이 컨테이너로부터 유출되지 않는다. 반대로, 본 발명의 열 처리없는 비교예에서, 화학 증폭형 레지스트 막을 오염시키는 화학 물질이 마스크 블랭크가 수납 및 보관되는 동안 컨테이너로부터 유출된다.
본 발명이 바람직한 실시예와 관련하여 설명되었지만, 본 기술분야의 기술자가 본 발명의 범위로부터 이탈하지 않고 본 발명을 다양한 다른 방식으로 실시하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 컨테이너의 캡의 사시도.
도 2는 마스크 블랭크가 내부 케이스에 수납되는 상태를 보여주는 사시도.
도 3은 컨테이너의 컨테이너 본체(외부 케이스)의 사시도.
도 4는 마스크 블랭크가 수납되는 컨테이너의 수직 단면도.
도 5는 캡과 컨테이너 본체 사이의 연결부를 보여주는 확대 수직 단면도.
도 6은 컨테이너의 변형예를 보여주는 도 5에 유사한 도면.
도 7은 컨테이너의 또 다른 변형예를 보여주는 도 5에 유사한 도면.
도 8은 컨테이너의 또 다른 변형예를 보여주는 도 5에 유사한 도면.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 컨테이너의 캡의 사시도.
도 10은 도 10에 있는 컨테이너의 컨테이너 본체(외부 케이스)의 사시도.
도 11은 마스크 블랭크가 수납되는 컨테이너의 수직 단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 마스크 블랭크 2 : 내부 케이스
3 : 컨테이너 본체 4 : 캡
5 : 탄성 부재 6 : 로킹 부재
21, 22 : 그루브 23, 24 : 개구 윈도우
25 : 상단면 26 : 기판 지지부
27 : 개구부 28, 29 : 요면부
31, 32, 33, 34 : 돌출부 35 : 개구 엣지
36, 48 : 외측 주변면 37, 49 : 플랜지
41, 42 : 결합부 43, 44 : 요부(recessed portion)
45, 46 : 스토퍼 47 : 하부 엣지

Claims (13)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 기판상에 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 성막하여 얻어지는 마스크 블랭크상에 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 공정과,
    상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 수납 용기 내에 수납 및 포장하는 공정을 포함하는 마스크 블랭크의 제조 방법으로서,
    상기 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 공정은 산성 물질을 제거하는 화학 필터에 의해 청정화 된 분위기에서 실시하는, 마스크 블랭크의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 공정으로부터 상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 수납 용기 내에 수납 및 포장하는 공정까지의 사이에, 산성 물질을 제거하는 화학 필터에 의해 청정화 된 분위기에서 실시하는, 마스크 블랭크의 제조 방법.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 화학 필터는 산중화 물질을 혼합한 화학 필터인, 마스크 블랭크의 제조 방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 화학 필터는 유리 섬유제의 공기 필터, 불소계 수지제의 공기 필터, 활성탄 필터 중 하나 이상의 필터를 조합한 것인, 마스크 블랭크의 제조 방법.
  9. 제5항에 있어서,
    상기 화학 증폭형 레지스트 막을 형성하는 공정으로부터 상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 수납 용기 내에 수납 및 포장하는 공정까지의 사이에, 산성 물질을 제거하는 화학 필터에 의해 청정화된 분위기에서 실시하는, 상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 후처리하는 공정과, 상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 검사하는 검사 공정 중 적어도 하나의 공정을 더 포함하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 레지스트 막이 부착된 마스크 블랭크를 후처리하는 공정은, 가열 공정 및 건조 세정 공정 중 적어도 하나의 공정인 마스크 블랭크의 제조 방법.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 산성 물질은, 상기 화학 증폭형 레지스트 막의 화학 증폭 효과를 증진시켜 레지스트 패턴의 형성을 저해하는 물질인 마스크 블랭크의 제조 방법.
  12. 제5항에 있어서,
    상기 산성 물질은, 염소 이온을 포함하는 물질, 황산 이온을 포함하는 물질, 질산 이온을 포함하는 물질 중 적어도 하나인 마스크 블랭크의 제조 방법.
  13. 제5항에 있어서,
    상기 산성 물질을 제거하는 화학 필터에 의해 청정화 된 분위기는,
    염소 이온의 함유량은 분위기의 1㎥당 0.05㎍ 이하,
    황산 이온의 함유량은 분위기의 1㎥당 0.1㎍ 이하,
    질산 이온의 함유량은 분위기의 1㎥당 0.7㎍ 이하 중 적어도 하나인 마스크 블랭크의 제조 방법.
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