JP4283067B2 - マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 - Google Patents
マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4283067B2 JP4283067B2 JP2003299711A JP2003299711A JP4283067B2 JP 4283067 B2 JP4283067 B2 JP 4283067B2 JP 2003299711 A JP2003299711 A JP 2003299711A JP 2003299711 A JP2003299711 A JP 2003299711A JP 4283067 B2 JP4283067 B2 JP 4283067B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask blank
- mask
- storage
- chemically amplified
- amplified resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 92
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 128
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 28
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 22
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 13
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 7
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Rigid Containers With Two Or More Constituent Elements (AREA)
Description
本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクを製造するためのレジスト膜付きマスクブランクス収納用の部材の処理方法等に関する。
近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはＴＦＴ素子等は、ＩＴ技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波を転写マスクを通じてレジスト膜付きシリコンウエハー等に露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写マスクは通常、透光性基板上に遮光性膜を形成したマスクブランクスにリソグラフィー技術を用いて原版となるパターンを形成して製造される。ところで、マスクブランクスの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクスの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。
このようなマスクブランクスを収納保管し運搬するための容器としては、従来では例えば下記特許文献１に記載されているようなマスク運搬用ケースが知られている。
すなわち、従来のマスクブランクスを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクスを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクスを保持した内ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクスを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。このような容器の材質としては従来は樹脂製のものが殆どである。
特開２００１−１５４３４１号公報
すなわち、従来のマスクブランクスを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクスを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクスを保持した内ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクスを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。このような容器の材質としては従来は樹脂製のものが殆どである。
近年の電子デバイスの高性能化に伴って、転写マスクに形成されるパターンも一段と微細化が要求されており、このような微細化パターンを形成するためにもマスクブランクスの清浄度は極めて高いものでないと許容できなくなってきている。従って、マスクブランクスに異物等が付着するのを出来るだけ抑制することにより、特にマスクブランクスの保管中は出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。中でも、表面にレジスト膜を有するマスクブランクスの場合、表面に異物等が一旦付着すると取れ難く、しかもこの段階で十分な洗浄はできないため、異物等が付着したままパターニングが行われて、パターン欠陥を生じることになる。
ところで、最近、フォトマスク用のレジストとして化学増幅型レジストが注目されている。この化学増幅型レジストに関しては例えば特開２０００−６６３８０号公報等に記載がある。この化学増幅型レジストは、感度やコントラストなどの特性が従来のフォトレジストに比べて優れているため、微細化パターンを形成するのに有利である。化学増幅型レジストには、レジスト作用を備える高分子化合物（ポジ型）、或いは、架橋反応等により高分子化合物を生成する低分子化合物（ネガ型）と触媒性物質とが含有されている。電子線或いは電磁波などのエネルギー線を化学増幅型レジストに照射することにより、含有されている触媒性物質を感光させてレジスト中に酸性触媒物質を生成せしめることができる。この酸性触媒物質が上記高分子化合物を現像液に可溶化させる或いは高分子化合物を生成して現像液に不溶化させる化学反応（化学増幅反応）に対する触媒作用を有する。
但し、この化学増幅型レジストは、その反応メカニズム上、塩基性化学物質のコンタミによる影響を受けやすいことが指摘されている。つまり、ある種の塩基性化学物質、例えばアンモニア類やアミン類などのコンタミがあると、化学増幅反応の触媒となる酸性触媒物質の生成を阻害したり、生成した酸性触媒物質の機能を抑制乃至阻害（例えば失活）し、所望の性能が得られなくなる場合が生じる。このため、化学増幅型レジスト膜が形成されたマスクブランクスの場合は、単にパーティクル等の異物を排除するだけでは足りず、塩基性化学物質のコンタミによる影響をも排除するため特に清浄な雰囲気で保管する必要がある。
但し、この化学増幅型レジストは、その反応メカニズム上、塩基性化学物質のコンタミによる影響を受けやすいことが指摘されている。つまり、ある種の塩基性化学物質、例えばアンモニア類やアミン類などのコンタミがあると、化学増幅反応の触媒となる酸性触媒物質の生成を阻害したり、生成した酸性触媒物質の機能を抑制乃至阻害（例えば失活）し、所望の性能が得られなくなる場合が生じる。このため、化学増幅型レジスト膜が形成されたマスクブランクスの場合は、単にパーティクル等の異物を排除するだけでは足りず、塩基性化学物質のコンタミによる影響をも排除するため特に清浄な雰囲気で保管する必要がある。
ところが、塩基性化学物質のコンタミによる影響を排除するため、ケミカルフィルターを用いて清浄化された雰囲気で、化学増幅型レジスト膜付きのマスクブランクスの収納梱包作業を行っても、その後の保管中に収納容器から塩基性物質がアウトガスとして放出され、収納されたマスクブランクスを汚染する場合がある。特に保管中の外気の温度変化や気圧変化によってはアウトガス成分の放出が加速される恐れもある。この場合、経時的なアウトガス成分の放出が少ない材料を使用する方法もあるが、経時的な汚染を完全に排除できるわけではなく、また収納容器の材質が制約されてしまうという問題がある。
従って、本発明は、上記従来の問題点を解消し、特に清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供することを目的とする。
従って、本発明は、上記従来の問題点を解消し、特に清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供することを目的とする。
上述したように、化学増幅型レジストの汚染物質は、アミン類などの塩基性化学物質であると従来は考えられていたが、本発明者の検討によれば、このような塩基性化学物質を排除した環境下でマスクブランクスを保管しても、安定したレジスト性能が得られないことがあり、マスク製造時に所望の微細パターンを形成できない場合があることを突き止めた。また、本発明者は更なる検討の結果、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスは、塩基性物質だけでなく、酸性物質の付着によっても汚染され、安定した微細パターン形成が阻害される場合があることを見い出した。そして、この酸性物質は、主に化学増幅型レジストの感度に影響を与えるもので、化学増幅効果を所望以上に増進させてしまう作用があることも見い出した。
また、本発明者は、収納容器から化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質が経時的に放出されるのを抑制するために、例えば収納容器に対して予め加熱等の処理を施すことが有効であることを突き止めた。
本発明は、得られたこれらの知見に基づいて完成するに至ったものである。
また、本発明者は、収納容器から化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質が経時的に放出されるのを抑制するために、例えば収納容器に対して予め加熱等の処理を施すことが有効であることを突き止めた。
本発明は、得られたこれらの知見に基づいて完成するに至ったものである。
すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
（構成１）化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材の処理方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を前記部材から除去する処理を施すことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成２）前記化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理は前記部材を加熱する処理であることを特徴とする構成１に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成３）前記化学物質を除去する処理の前に、前記部材を加熱された純水に接触させる処理を施すことを特徴とする構成１又は２に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成４）収納用の部材として成形される前の材料及び／又は成形された後の部材に対して前記化学物質を除去する処理を施すことを特徴とする構成１乃至３の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成５）構成１乃至４の何れかに記載の処理方法を含むことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の製造方法。
（構成６）化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理を施した部材に化学増幅型レジスト膜付きマスクブランクスが収納されていることを特徴とするマスクブランクス収納体。
（構成１）化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材の処理方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を前記部材から除去する処理を施すことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成２）前記化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理は前記部材を加熱する処理であることを特徴とする構成１に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成３）前記化学物質を除去する処理の前に、前記部材を加熱された純水に接触させる処理を施すことを特徴とする構成１又は２に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成４）収納用の部材として成形される前の材料及び／又は成形された後の部材に対して前記化学物質を除去する処理を施すことを特徴とする構成１乃至３の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
（構成５）構成１乃至４の何れかに記載の処理方法を含むことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の製造方法。
（構成６）化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理を施した部材に化学増幅型レジスト膜付きマスクブランクスが収納されていることを特徴とするマスクブランクス収納体。
本発明において、マスクブランクス収納用部材に対して除去処理を施す化学物質は、化学増幅型レジスト膜に付着等して化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質であり、このような化学物質の存在により、例えば、所望の化学増幅効果を抑制させてしまう、或いは、化学増幅効果を所望以上に増進させてしまうことにより、安定したレジスト性能が得られなくなり、その結果、所望の安定したレジストパターンの形成が阻害される。化学増幅型レジストの化学増幅効果に影響を及ぼす化学物質としては、酸性汚染物質が特に挙げられる。このような酸性物質としては、例えば、塩素イオンを含む物質、硫酸イオンを含む物質、リン酸イオンを含む物質、硝酸イオンを含む物質等を挙げることが出来る。これらの酸性物質は、主に化学増幅型レジストの感度に影響を与えるもので、化学増幅効果を所望以上に増進させてしまう作用があり、安定したレジスト性能が得られなくなり、その結果、安定したレジストパターンの形成が阻害され、マスク製造時に所望の微細パターンを形成できない場合がある。
また、上記酸性物質とともに、化学増幅型レジストの所望の化学増幅効果を阻害する塩基性化学物質、例えばアンモニア類、アミン類等の物質も除去されるように処理を施すことが好ましい。
また、上記酸性物質とともに、化学増幅型レジストの所望の化学増幅効果を阻害する塩基性化学物質、例えばアンモニア類、アミン類等の物質も除去されるように処理を施すことが好ましい。
本発明において、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質をマスクブランクス収納用部材から除去するための処理としては、例えば、加熱処理、減圧処理などが挙げられるが、特に加熱処理が好適である。マスクブランクス収納用の部材に対して加熱処理を施すことにより、該部材に含有されていて経時的にはアウトガスとして放出される可能性のある化学物質を予め放出せしめることができる。従って、マスクブランクス収納用部材に含まれる化学物質を予め放出せしめる例えば加熱処理を施すことにより、本発明による処理を施したマスクブランクス収納用の部材を使用してマスクブランクスの収納梱包を行うと、その後、経時的に化学物質のアウトガスが放出されることがないため、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスに対する化学物質による汚染を防止し、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できる。
上記加熱処理を行う場合、少なくとも室温を超える温度雰囲気となるように加熱することが適当である。マスクブランクスの収納及び保管は通常は室温程度の温度領域で行われる場合が殆どであり、本発明による処理を施した部材を使用してマスクブランクスの収納及び保管を行う温度領域では化学物質のアウトガスが放出されないようにすることが出来るからである。また、加熱温度や加熱時間については、使用する化学増幅型レジストの特性に応じて、製品不良に繋がる化学増幅効果への化学物質による影響の程度を考慮して、適宜設定することが出来る。加熱温度については、例えば、本発明の作用が得られる範囲内で実用上は４０℃〜９０℃、特に４０℃〜８０℃程度の温度領域を用いることが出来る。また、加熱時間については、例えば、本発明の作用が得られる範囲内で実用上は５分間〜２時間程度の時間とすることが出来る。
本発明においては、上記化学物質を除去する処理の前に、マスクブランクス収納用部材の洗浄処理を実施することが好ましい。上記部材の表面に付着している化学物質等を予め洗浄により除去しておくことにより、その後実施する本発明の処理による化学物質の除去効果を確実に高めることが出来るからである。この場合、洗浄液としては純水を用いることが好ましい。純水としては、例えば逆浸透膜水（reverse osmotic membrane water、以下「ＲＯ水」と称する）や、限外濾過膜水（ultra filtration membrane water、以下「ＵＦ水」と称する）を好ましく挙げることが出来る。このとき、合わせてイオン交換処理を行いイオン交換水（脱イオン化水（de-ionized water）とも言う、以下「ＤＩ水」と称する）とすると、上記部材から前記化学物質を除去する作用が更に高められる。ＲＯ水とＤＩ水とでは主たる除去対象の化学物質に補完関係があるので、ＲＯ処理してからＤＩ処理した純水（以下、ＲＯ水／ＤＩ水と称する）とすることにより一層好ましい作用を得ることが出来る。このような純水で上記部材を洗浄することにより、前記化学物質を除去するとともに洗浄液による汚染を防止することができるので、収納されるマスクブランクスの化学増幅型レジスト膜の性能を維持する上で特に好ましい。
なお、このような純水を用いて洗浄を行う場合、上記部材を加熱された純水に接触させながら洗浄を行うことが、より一層好ましい作用を得ることが出来るので特に好ましい。このときの純水の温度は、室温よりも高く沸点未満の温度領域を選択できるが、実用上は４０℃〜９０℃、特に４０℃〜８０℃程度の温度領域を用いることが出来る。
また、本発明においては、前記化学物質を除去する効果を高める観点から、上述の洗浄処理と本発明による化学物質を除去する処理を例えば複数回繰り返してもよい。
なお、このような純水を用いて洗浄を行う場合、上記部材を加熱された純水に接触させながら洗浄を行うことが、より一層好ましい作用を得ることが出来るので特に好ましい。このときの純水の温度は、室温よりも高く沸点未満の温度領域を選択できるが、実用上は４０℃〜９０℃、特に４０℃〜８０℃程度の温度領域を用いることが出来る。
また、本発明においては、前記化学物質を除去する効果を高める観点から、上述の洗浄処理と本発明による化学物質を除去する処理を例えば複数回繰り返してもよい。
本発明による化学物質を除去する処理は、清浄化された環境で実施することが好ましい。特に、化学増幅型レジスト膜を汚染する酸性物質や塩基性物質が除去された雰囲気を用いることが好ましい。上記部材の処理時に雰囲気中に含まれる化学物質が部材に付着してしまうのを防止できるからである。酸性物質を雰囲気中から除去する方法としては、化学物質を吸着させるフィルター（ケミカルフィルター）を用いることが挙げられる。酸性物質を除去するためのケミカルフィルターとしては、酸中和物質を混合したケミカルフィルターを用いることが好ましい。酸中和物質としては、炭酸塩物質を好ましく挙げることが出来る。このような炭酸塩物質としては、炭酸カリウムを好ましく挙げることが出来る。なお、このようなケミカルフィルターとしては、活性炭等の吸着材を含有する活性炭フィルターを好ましく用いることができ、この活性炭等の吸着材に上記酸中和物質を含有させたフィルターを好ましく用いることができる。また、上記酸性物質とともに、化学増幅型レジストの所望の化学増幅効果を阻害する塩基性化学物質、例えばアンモニア類、アミン類等の物質も除去することが好ましいが、このような塩基性化学物質を除去する方法としては、リン酸などのアルカリ中和物質を混合したケミカルフィルターを用いる方法が挙げられる。
また、上記酸性物質や塩基性物質を除去するためのケミカルフィルターにエアーフィルターを併用することが好ましい。このようなエアーフィルターとしては、ＨＥＰＡフィルター（high efficiency particulate air filter）やＵＬＰＡフィルター（ultra low penetration particulate air filter）を好ましく挙げることができる。フィルターの能力は、0.05μｍ以上のパーティクルを捕捉できるフィルターであることが好ましい。
本発明におけるマスクブランクス収納用部材としては、マスクブランクスを収納して保持する部材（例えば収納容器内の中ケースなど）、マスクブランクスを収納して保管する部材（例えば収納容器など）等が挙げられる。
本発明におけるマスクブランクス収納用部材の材料は特に限定されるものではないが、軽量且つ取扱いの容易な樹脂材料を好ましく挙げることが出来る。樹脂材料の場合、高分子化合物が主成分であるが、合成時の添加物質、未反応物、低分子化合物等も含まれており、比較的低温でも経時的にはアウトガスが多く放出されやすいという事情があるので、本発明の有用性は高い。このような樹脂材料としては、例えばポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリブチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を挙げることができる。これらの中でも、アクリル系樹脂、とりわけポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）系樹脂は比較的アウトガスの少ない材料であるので、本発明を適用することで、収納保管されるマスクブランクスに形成された化学増幅型レジスト膜の性能を良好に維持することができる。
本発明におけるマスクブランクス収納用部材の材料は特に限定されるものではないが、軽量且つ取扱いの容易な樹脂材料を好ましく挙げることが出来る。樹脂材料の場合、高分子化合物が主成分であるが、合成時の添加物質、未反応物、低分子化合物等も含まれており、比較的低温でも経時的にはアウトガスが多く放出されやすいという事情があるので、本発明の有用性は高い。このような樹脂材料としては、例えばポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリブチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を挙げることができる。これらの中でも、アクリル系樹脂、とりわけポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）系樹脂は比較的アウトガスの少ない材料であるので、本発明を適用することで、収納保管されるマスクブランクスに形成された化学増幅型レジスト膜の性能を良好に維持することができる。
次に、本発明を適用するマスクブランクス収納用部材として、マスクブランクスを収納するための収納容器の一例を説明する。図１乃至図４はマスクブランクスの収納容器の一例を示すもので、図１は収納容器の蓋を示す斜視図、図２はマスクブランクスを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図３は収納容器の容器本体（外ケース）を示す斜視図、図４は収納容器にマスクブランクスを収納した状態の縦方向の断面図である。
本例の収納容器は、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上に例えばクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上に前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクス１を中ケース２に収納し、この中ケース２を容器本体３に収納し、この容器本体３の開口部側に蓋４を被せる構造である（図４）。
なお、上記中ケース２を使用せずに、マスクブランクス１を容器本体３に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本例のように中ケース２を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクスをまとめて中ケース２に入れた状態で取り扱えるので便利である。
本例の収納容器は、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上に例えばクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上に前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクス１を中ケース２に収納し、この中ケース２を容器本体３に収納し、この容器本体３の開口部側に蓋４を被せる構造である（図４）。
なお、上記中ケース２を使用せずに、マスクブランクス１を容器本体３に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本例のように中ケース２を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクスをまとめて中ケース２に入れた状態で取り扱えるので便利である。
上記中ケース２は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝２１，２２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝２１，２２の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓２３，２４と開口部２７が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部２６が形成され、この基板支持部２６でマスクブランクス１の下方端面を支持している（図２、図４）。そして、この中ケース２を容器本体３に収納して固定するための凹面部２８，２９がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている（図２）。なお、中ケース２の開口部側の上端面２５から前記基板支持部２６までの高さ寸法は、収納するマスクブランクス１の高さ寸法の主要部分に相当し、マスクブランクス１を中ケース２に収納したとき、マスクブランクス１の上方部分が中ケース２の上端面２５からとび出る構造となっている（図４）。数枚のマスクブランクス１を中ケース２の一対の溝２１，２２に沿って入れると、これらのマスクブランクスは所定間隔をおいて互いに平行に林立する。本例の形態では垂直方向に林立するが、傾斜方向にしてもよい。
上記容器本体３は、前述した中ケース２の凹面部２８，２９と当接するに適合した突出部３１，３２を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部３１，３２の底部は容器本体３底面とも接合している（図３）。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部３３，３４が形成されている。そして、容器本体３の開口縁３５のやや下方の位置に続く外周面３６と上記凸部３３，３４の凸面とは略同一面に形成されている。
上記蓋４は、その一方の対向する下方縁（容器本体へ差し込む開口部側の縁であって、図１では上方へ向いている）４７から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋４を容器本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記容器本体３の凸部３３，３４とそれぞれ係合することで、蓋４と容器本体３とが固定される（図４）。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している（図１）。
上記蓋４は、その一方の対向する下方縁（容器本体へ差し込む開口部側の縁であって、図１では上方へ向いている）４７から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋４を容器本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記容器本体３の凸部３３，３４とそれぞれ係合することで、蓋４と容器本体３とが固定される（図４）。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している（図１）。
以上の中ケース２、容器本体３及び蓋４の材質は、前述したように好ましくは樹脂材料であり、中でもＰＭＭＡ系樹脂であることが好ましい。これらの各部材は、マスクブランクスを収納する前に、本発明による化学物質を除去する処理、例えば加熱処理を予め施している。なお、マスクブランクスの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえば容器本体３の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与することができる。
容器本体３の上から蓋４を被せて、蓋４の凹部４３，４４を容器本体３の凸部３３，３４と係合させて蓋４と容器本体３とを固定すると、蓋４の下方縁に続く外周面４８と容器本体３の開口縁に続く外周面３６とが前後に重なり合って接合される。
容器本体３の上から蓋４を被せて、蓋４の凹部４３，４４を容器本体３の凸部３３，３４と係合させて蓋４と容器本体３とを固定すると、蓋４の下方縁に続く外周面４８と容器本体３の開口縁に続く外周面３６とが前後に重なり合って接合される。
なお、構成４にあるように、収納用の部材として成形された部材に対して前記化学物質を除去する処理を施すことができるが、収納用の部材として成形される前の材料に対して前記化学物質を除去する処理を施すことも好適である。さらには、収納用の部材として成形される前の材料に対して前記化学物質を除去する処理を施すとともに、成形された後の部材に対しても前記化学物質を除去する処理を施すようにしてもよい。
また、構成５にあるように、本発明による処理方法は、マスクブランクス収納用部材の製造方法に適用することが出来る。この場合、例えば成形された部材を本発明の方法で処理して収納用部材を製造する方法に適用してもよいし、使用済みの収納用部材を本発明の方法で処理して再使用される収納用部材を製造する方法に適用してもよい。具体的には、例えば、樹脂材料を成形してマスクブランクス収納容器を製造する方法に本発明による処理方法を適用することができるし、一度又はそれ以上使用したマスクブランクス収納容器を本発明の方法で処理して再生されるマスクブランクス収納容器を製造する方法に適用することもできる。
また、構成５にあるように、本発明による処理方法は、マスクブランクス収納用部材の製造方法に適用することが出来る。この場合、例えば成形された部材を本発明の方法で処理して収納用部材を製造する方法に適用してもよいし、使用済みの収納用部材を本発明の方法で処理して再使用される収納用部材を製造する方法に適用してもよい。具体的には、例えば、樹脂材料を成形してマスクブランクス収納容器を製造する方法に本発明による処理方法を適用することができるし、一度又はそれ以上使用したマスクブランクス収納容器を本発明の方法で処理して再生されるマスクブランクス収納容器を製造する方法に適用することもできる。
また、構成６にあるように、本発明のマスクブランクス収納体は、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理を施した部材に化学増幅型レジスト膜付きマスクブランクスが収納されている。
なお、本発明が適用されるマスクブランクスは特に制約はなく、ガラス基板などの透光性基板上にＣｒ等の遮光性膜を形成したマスクブランクス、基板上に位相シフト膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランクス、基板上に、露光光を反射する例えばＭｏ／Ｓｉ多層反射膜と露光光を吸収する例えばＴａ系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランクス等が含まれる。
なお、本発明が適用されるマスクブランクスは特に制約はなく、ガラス基板などの透光性基板上にＣｒ等の遮光性膜を形成したマスクブランクス、基板上に位相シフト膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランクス、基板上に、露光光を反射する例えばＭｏ／Ｓｉ多層反射膜と露光光を吸収する例えばＴａ系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランクス等が含まれる。
本発明によれば、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材に対して、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を前記部材から除去する処理を施すことにより、該部材に含有されていて経時的には放出される可能性のある化学物質を予め放出せしめることができ、本発明による処理を施したマスクブランクス収納用の部材を使用してマスクブランクスの収納梱包を行うと、その後、経時的に化学物質のアウトガスが放出されることがないため、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスに対する化学物質による汚染を防止することが出来る。従って、マスクブランクス保管後に安定したレジスト性能が得られ、その結果、マスク製造時に安定したレジストパターンが形成され、所望のマスクパターンを形成した高品位の転写マスクを得ることができる。
また、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理として上記部材を加熱する処理を用いることにより、簡易な方法で本発明の作用効果を得ることが出来る。
また、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を除去する処理として上記部材を加熱する処理を用いることにより、簡易な方法で本発明の作用効果を得ることが出来る。
以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
（実施例１）
石英基板（６インチ×６インチ）上にスパッタ法でハーフトーン膜を形成し、その上にスピンコート法でレジスト膜を形成してレジスト膜付きマスクブランクスを製造した。このとき、ハーフトーン膜としてＭｏＳｉ系金属膜を用い、レジスト膜としてはポジ型の化学増幅型レジスト膜を用いた。なお、レジスト膜の形成は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びリン酸を含有させた活性炭フィルター並びにＵＬＰＡフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で行った。
このようにして製造した１００枚のマスクブランクスを前述の図１乃至図４に示す形態の収納容器１０箱に分けて収納した。なお、この収納容器の蓋と容器本体及び中ケースの材質はＰＭＭＡ系樹脂とし、ＰＭＭＡ系樹脂を用いて上記形態に成形した後、この収納容器を水温４０℃のＲＯ／ＤＩ水で洗浄した。この洗浄を終えた収納容器をクリーンオーブン内で加熱処理した。加熱処理条件は５０℃３０分とした。なお、上記洗浄工程及び加熱処理工程は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びリン酸を含有させた活性炭フィルター並びにＵＬＰＡフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で実施した。
（実施例１）
石英基板（６インチ×６インチ）上にスパッタ法でハーフトーン膜を形成し、その上にスピンコート法でレジスト膜を形成してレジスト膜付きマスクブランクスを製造した。このとき、ハーフトーン膜としてＭｏＳｉ系金属膜を用い、レジスト膜としてはポジ型の化学増幅型レジスト膜を用いた。なお、レジスト膜の形成は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びリン酸を含有させた活性炭フィルター並びにＵＬＰＡフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で行った。
このようにして製造した１００枚のマスクブランクスを前述の図１乃至図４に示す形態の収納容器１０箱に分けて収納した。なお、この収納容器の蓋と容器本体及び中ケースの材質はＰＭＭＡ系樹脂とし、ＰＭＭＡ系樹脂を用いて上記形態に成形した後、この収納容器を水温４０℃のＲＯ／ＤＩ水で洗浄した。この洗浄を終えた収納容器をクリーンオーブン内で加熱処理した。加熱処理条件は５０℃３０分とした。なお、上記洗浄工程及び加熱処理工程は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びリン酸を含有させた活性炭フィルター並びにＵＬＰＡフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で実施した。
マスクブランクスの収納作業についても上記活性炭フィルター及びＵＬＰＡフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行った。
この収納容器を更に梱包袋に梱包して、航空機でカーゴ輸送を行った。そして、輸送された収納容器を梱包した状態のまま約１月間保管した後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクスに所定の電子線描画を行い、続いて所定の現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際、収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンをイオンクロマトグラフィー法を用いて分析し、その結果を後記表１に示した。
この収納容器を更に梱包袋に梱包して、航空機でカーゴ輸送を行った。そして、輸送された収納容器を梱包した状態のまま約１月間保管した後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクスに所定の電子線描画を行い、続いて所定の現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際、収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンをイオンクロマトグラフィー法を用いて分析し、その結果を後記表１に示した。
（実施例２）
上述の実施例１において、収納容器の洗浄処理を水温７０℃のＲＯ／ＤＩ水で行った点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
（実施例３）
実施例１において、収納容器の洗浄処理を水温４０℃のＲＯ水で行った点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
上述の実施例１において、収納容器の洗浄処理を水温７０℃のＲＯ／ＤＩ水で行った点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
（実施例３）
実施例１において、収納容器の洗浄処理を水温４０℃のＲＯ水で行った点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
（比較例）
実施例１において、収納容器の洗浄処理後の加熱処理を行わずに室温放置した点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからもパターンの線幅に乱れが生じていることが発見された。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
これは、表１の結果からも分かるように、比較的アウトガスの少ないＰＭＭＡ系樹脂を用いているにも拘わらず、収納保管中に収納容器から酸性物質や塩基性物質が容器内に放出され、マスクブランクスの化学増幅型レジスト膜がこの放出された化学物質によって化学的に汚染されたことに起因しているものと考えられる。
実施例１において、収納容器の洗浄処理後の加熱処理を行わずに室温放置した点以外は実施例１と同様にして製造した収納容器を用いて、マスクブランクスを収納し、輸送、保管を行った。
保管後のマスクブランクスを用いて実施例１と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからもパターンの線幅に乱れが生じていることが発見された。なお、収納容器を開封した際の収納容器内面の酸性イオン及び塩基性イオンを分析した結果は後記表１に示した。
これは、表１の結果からも分かるように、比較的アウトガスの少ないＰＭＭＡ系樹脂を用いているにも拘わらず、収納保管中に収納容器から酸性物質や塩基性物質が容器内に放出され、マスクブランクスの化学増幅型レジスト膜がこの放出された化学物質によって化学的に汚染されたことに起因しているものと考えられる。
１ マスクブランクス
２ 中ケース
３ 容器本体
４ 蓋
２ 中ケース
３ 容器本体
４ 蓋
Claims (12)
- 化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材の処理方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する酸性物質を前記部材から除去する処理として、前記部材に対して加熱処理を施すことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記酸性物質は、塩素イオンを含む物質、硫酸イオンを含む物質、リン酸イオンを含む物質又は硝酸イオンを含む物質であることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記酸性物質を除去する処理の前に、前記部材を加熱された純水に接触させる処理を施すことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記加熱された純水は、逆浸透膜水処理後、イオン交換水処理が施されていることを特徴とする請求項３に記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 収納用の部材として成形される前の材料及び／又は成形された後の部材に対して前記酸性物質を除去する処理を施すことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 加熱温度は、４０℃〜９０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記酸性物質を除去する処理は、前記酸性物質が除去された雰囲気下で施されることを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記部材の材料は、アクリル系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリブチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂から選ばれる一種であることを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 前記部材は、前記マスクブランクスを収納保管する収納容器であることを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載のマスクブランクス収納用部材の処理方法。
- 請求項１乃至９の何れかに記載の処理方法を含むことを特徴とするマスクブランクス収納用部材の製造方法。
- 請求項１乃至９の何れかに記載の処理方法により、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する酸性物質を除去する処理を施した収納容器に化学増幅型レジスト膜付きマスクブランクスが収納されていることを特徴とするマスクブランクス収納体。
- 少なくとも容器本体と蓋とを備え、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するためのマスクブランクス収納容器の製造方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する酸性物質を前記収納容器から除去する処理として、前記容器本体及び蓋に対して加熱処理を施すことを特徴とするマスクブランクス収納容器の製造方法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003299711A JP4283067B2 (ja) | 2003-08-25 | 2003-08-25 | マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 |
| US10/886,039 US7463338B2 (en) | 2003-07-08 | 2004-07-08 | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package |
| KR1020040053011A KR20050006085A (ko) | 2003-07-08 | 2004-07-08 | 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납방법, 및 마스크 블랭크 패키지 |
| KR1020060094998A KR20060116180A (ko) | 2003-07-08 | 2006-09-28 | 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법,및 마스크 블랭크 패키지 |
| KR1020060094992A KR20060116179A (ko) | 2003-07-08 | 2006-09-28 | 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법,및 마스크 블랭크 패키지 |
| US12/242,116 US7838182B2 (en) | 2003-07-08 | 2008-09-30 | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package |
| US12/241,931 US20090029271A1 (en) | 2003-07-08 | 2008-09-30 | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package |
| KR1020090022369A KR101074204B1 (ko) | 2003-07-08 | 2009-03-16 | 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법,및 마스크 블랭크 패키지 |
| KR1020100075868A KR101080531B1 (ko) | 2003-07-08 | 2010-08-06 | 마스크 블랭크 수납용 컨테이너, 마스크 블랭크 수납 방법, 및 마스크 블랭크 패키지 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003299711A JP4283067B2 (ja) | 2003-08-25 | 2003-08-25 | マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005070390A JP2005070390A (ja) | 2005-03-17 |
| JP4283067B2 true JP4283067B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=34404847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003299711A Expired - Lifetime JP4283067B2 (ja) | 2003-07-08 | 2003-08-25 | マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4283067B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4729371B2 (ja) * | 2005-09-09 | 2011-07-20 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク収納ケースの製造方法及びマスクブランクの収納方法 |
| JP4909596B2 (ja) * | 2006-01-26 | 2012-04-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | ブランクス収納ケース、マスクブランクスの収納体およびマスクブランクスの搬送方法 |
| JP5268142B2 (ja) * | 2008-09-27 | 2013-08-21 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 |
| JP2017097242A (ja) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | アルバック成膜株式会社 | ケース、フォトマスクブランクスの輸送方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3214209B2 (ja) * | 1994-02-14 | 2001-10-02 | 富士通株式会社 | フォトプレートの保存方法 |
| US6284020B1 (en) * | 1997-12-02 | 2001-09-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of maintaining cleanliness of substrates and box for accommodating substrates |
| JP4056204B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2008-03-05 | 株式会社荏原製作所 | 半導体の製造方法と装置 |
| JP2002046793A (ja) * | 2000-04-26 | 2002-02-12 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部材用収納ケース |
| JP3939101B2 (ja) * | 2000-12-04 | 2007-07-04 | 株式会社荏原製作所 | 基板搬送方法および基板搬送容器 |
| JP3910397B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2007-04-25 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器用ガスケット部材及びこれを用いた基板収納容器 |
| JP2003140325A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク又はフォトマスクの保管方法並びに運搬方法 |
| JP3944699B2 (ja) * | 2001-11-06 | 2007-07-11 | 信越化学工業株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2004109557A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト膜付きマスクブランクスの収納方法 |
-
2003
- 2003-08-25 JP JP2003299711A patent/JP4283067B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005070390A (ja) | 2005-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7838182B2 (en) | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package | |
| US7400383B2 (en) | Environmental control in a reticle SMIF pod | |
| US6279249B1 (en) | Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles | |
| US7094505B2 (en) | Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process | |
| TWI336100B (en) | Method and apparatus for solving mask precipitated defect issue | |
| JP4283067B2 (ja) | マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 | |
| US20140255827A1 (en) | Pellicles with reduced particulates | |
| JP4688966B2 (ja) | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 | |
| JP4342863B2 (ja) | マスクブランクスの収納容器、マスクブランクスの収納方法及びマスクブランクス収納体並びにマスクブランクス収納体の輸送方法 | |
| JP4342872B2 (ja) | マスクブランクスの収納方法、マスクブランクス収納体及びマスクブランクスの製造方法 | |
| KR20130141025A (ko) | 펠리클 제조방법 | |
| JP4729371B2 (ja) | マスクブランク収納ケースの製造方法及びマスクブランクの収納方法 | |
| JP2007091296A (ja) | マスクブランク収納容器、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体 | |
| JP4566547B2 (ja) | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 | |
| EP1892046B1 (en) | Method of cleaning storage case | |
| JP2005031489A (ja) | マスクブランクス等の収納容器及びマスクブランクスの収納方法並びにマスクブランクス収納体 | |
| JP2006195149A (ja) | フォトマスクブランクの梱包方法、フォトマスクブランクの保管方法、フォトマスクブランクの輸送方法、並びにフォトマスクの製造方法 | |
| TWM523882U (zh) | 光罩保護組件 | |
| JP2006154020A (ja) | フォトマスクブランク収納容器、フォトマスクブランクの収納方法、フォトマスクブランクの保管方法、フォトマスクブランクの輸送方法、並びにフォトマスクの製造方法 | |
| TW201732414A (zh) | 光罩保護組件 | |
| JP2011059557A (ja) | フォトマスク用ブランク、フォトマスクの製造方法、およびフォトマスク | |
| JPH04206520A (ja) | 表面汚染除去方法 | |
| JPH0433337A (ja) | ドライ洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081104 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090310 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090318 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4283067 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |