JP2002122382A - 基板容器 - Google Patents

基板容器

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JP2002122382A
JP2002122382A JP2001017693A JP2001017693A JP2002122382A JP 2002122382 A JP2002122382 A JP 2002122382A JP 2001017693 A JP2001017693 A JP 2001017693A JP 2001017693 A JP2001017693 A JP 2001017693A JP 2002122382 A JP2002122382 A JP 2002122382A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンスフリーで、コンパクトで、省電
力で、到達湿度の制御が可能な除湿ユニットを搭載し
た、クリーンボックス、自動搬送用基板容器、基板収納
棚等の基板の搬送・保管容器を提供する。 【解決手段】 基板を収納するための開口部を有すると
共に、該開口部を密閉可能に覆う蓋体を備えた容器本体
1と、該容器本体内において前記基板に接触する気流の
循環流路を形成するファンモータ6と、前記基板に向か
って流れる気流の流路に配置された粒子除去フィルタ7
およびガス状不純物捕捉フィルタ8と、前記循環流の流
路に配置された固体高分子電解質膜と、該電解質膜が前
記気流中の水分を分解して除湿を行うための電圧供給手
段とからなる除湿手段10とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエーハ、
フォトマスク、又はハードディスク等の被処理物を極め
て清浄度の高い雰囲気下で、もしくは極めて水分の低い
環境下で、保管又は運搬するのに使用して好適な除湿機
能を有する、クリーンボックス、基板収納ボックス、基
板搬送容器(ポッド)、基板収納棚等の基板容器に関す
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体工場において製造工程中
における半導体ウェーハやフォトマスク等の基板を搬送
・保管する時に、雰囲気空気中に存在する微量の粒子状
汚染物質やガス状不純物が半導体ウェーハ等の対象物へ
付着すると製品歩留まりの低下につながり、この傾向
は、集積度の増加に伴って益々顕著になる。また、磁気
ディスクにおいても、磁気抵抗ヘッドの登場により、記
録の高密度化が一段と加速しており、粒子状汚染物質だ
けでなくガス状不純物に対する高い清浄度が求められつ
つある。更に半導体基板のコロージョン低減の観点か
ら、基板を収納する雰囲気の湿度を低く維持する簡便な
手段も求められている。
【0003】このような半導体ウエーハや磁気ディスク
等の基板の搬送・保管の場合に該基板を収容する清浄空
間を作るため、ファンモータとHEPA(high efficien
cy particle air)フィルタやULPA(ultra low penet
ration air)フィルタを搭載したクリーンボックス等が
開発されている。係るクリーンボックスにおいては、更
にガス状汚染物質の悪影響を避けるため、ケミカルフィ
ルタ等のガス状不純物の除去フィルタが配置されてい
る。また、湿度を低減するために乾燥剤等の湿度除去手
段が配置されている。
【0004】ところで、除湿を目的とした電気化学素子
について、固体高分子電解質膜からなる電気化学素子の
陽極を保管容器の内側に向け、陰極を保管容器の外側に
向けて取り付けることによる、コンパクト且つ経済的な
除湿保管装置が知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記クリーンボックス
等に搭載するケミカルフィルタ類及び乾燥剤は、使用す
る環境濃度と保管基板の汚染の程度により寿命が依存す
る。一般的にガス状不純物除去フィルタの寿命は、粒子
除去フィルタの寿命より短い。また、ガス状不純物除去
フィルタの負荷になる空気中のガス濃度は数十〜数百ng
/g−airであるのに対し、水分は20℃の場合5mg/g−a
irであり、乾燥剤の寿命は、ガス状不純物除去フィルタ
の寿命より更に短いのは明らかである。係る場合に、乾
燥剤に循環気流中の水分を吸着させ、性能が落ちたら交
換する方法ではなく、機械的に循環気流中の水分を追い
出すことができる除湿ユニットにすれば、消耗品の交換
不要なためメンテナンスが容易な上に、乾燥剤の有する
不純物による汚染の心配がない。また、ケミカルフィル
タのうち、イオン交換反応を吸着原理にしているフィル
タの除去性能は空気中の水分つまり湿度に依存すること
が知られており、ガス状不純物除去性能を維持できる最
低湿度以上に容器内環境を維持する必要がある。
【0006】クリーンボックス等の容器内に乾燥ガスを
充填することにより低湿度にする方法もあるが、乾燥ガ
スを供給し続けないと容器内湿度は上昇する。これは、
容器構成材料である樹脂が透湿性を有すること、及び開
口部を有する容器において、分子レベルの物質に対する
密封が困難なことによる。従って、容器内を低湿度に維
持するには、容器構成材料に不透湿材料を使用したり、
透過又は漏洩してくる水分子を除去する手段が必要とな
る。
【0007】本発明は上記課題に鑑みて為されたもの
で、メンテナンスフリーで、コンパクトで、省電力で、
且つ到達湿度が制御可能な除湿ユニットを搭載した、前
記クリーンボックス、自動搬送用基板容器、基板収納棚
等の基板の搬送・保管容器を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を収納す
るための開口部を有すると共に、該開口部を密閉可能に
覆う蓋体を備えた容器本体と、該容器本体内において前
記基板に接触する気流の循環流路を形成するファンモー
タと、前記基板に向かって流れる気流の流路に配置され
た粒子除去フィルタおよびガス状不純物捕捉フィルタ
と、前記循環流の流路に配置された固体高分子電解質膜
と、該電解質膜が前記気流中の水分を分解して除湿を行
うための電圧供給手段とからなる除湿手段とを備えたこ
とを特徴とする基板容器である。
【0009】前記循環流路に配置された固体高分子電解
質膜と、その一方の面に除湿反応を促進するための触媒
が添着された陽極と、他方の面に陰極を備え、固体高分
子電解質膜に所定の電圧を供給する前記除湿手段を備え
たので、両電極に直流電圧を印加すると、水の電気分解
の原理により除湿が行われる。即ち、陽極側に吸着した
水分が陽極触媒により水素イオンと酸素ガスへの分解を
促進されて、電解質膜を介して陰極側に移動した水素イ
オンは、陰極側の大気中酸素と結合して水になり陰極側
の大気空間に放湿される。従って、この除湿ユニットは
乾燥剤のように吸着した水分が蓄積されないので、繰り
返し使用しても除湿性能が劣化せず、消耗品の交換が不
要となり、メンテナンスが容易となる。また、汚染物質
を発生するものではないので、高清浄度環境下において
安心して使用することができる。更に、固体高分子電解
質膜は例えば数cm角の薄い膜で十分な除湿能力を有
し、且つ供給する直流電源も水の電気分解に必要な電力
のみを供給できればよいので、小型軽量で且つコンパク
トな除湿ユニットとすることができる。このように、容
器本体内に除湿した空気の循環流れを形成し、これを粒
子除去フィルタ及びガス状不純物捕捉フィルタで物理的
及び化学的に清浄化してから基板保持部に向けて流すの
で、容器内に、容器の内壁や基板自身に付着する粒子、
あるいは容器から発生するガス等の汚染源があったとし
ても、これが容器本体内にある基板を汚染することが防
止される。
【0010】イオン交換反応を吸着原理にしているフィ
ルタの除去性能は、空気中の水分つまり湿度に依存する
ことが知られており、イオン成分除去性能を維持できる
最低湿度以上に容器内循環境を維持する必要がある。従
来の乾燥剤では任意に湿度設定をすることが困難だった
ため、除湿機能を持たせるとイオン除去性能が低下して
しまう欠点があった。前記除湿手段は、これを一挙に解
決する有効な除湿手段である。即ち、前記固体高分子電
解質膜に所定の電圧を供給することで、前記基板容器内
の湿度は任意に制御可能になる。いいかえれば、供給電
圧に対応して循環気流の湿度を制御することが可能とな
り、循環気流の湿度を例えば10%等の一定値に制御す
ることができ、湿度をコントロールした気流を形成でき
る。また、電圧の印加パターンを与えることで、蓋開後
の湿度が高い状態では急速に除湿し、その後一定の湿度
に保つように制御することも可能である。
【0011】また、前記容器本体は、前記基板に向かっ
て流れる流路に配置されて基板をその主面を前記基板に
向かって流れる気流流路にほぼ平行に前記基板を保持す
る基板保持部を備えることが好ましい。これにより、基
板保持部に保持された基板に対して、前記除湿され、粒
子状汚染物質及びガス状汚染物質が除去された清浄気流
を供給することができる。
【0012】また、前記容器本体は、基板又は基板を保
持する容器を個別に出し入れ可能な複数の収容室と、前
記各収容室に連通する送気通路及び排気通路と、前記送
気通路及び排気通路を介して前記各収容室内に清浄空気
を循環させる共通の空気循環手段とを備えることが好ま
しい。これにより、複数の収納室に収納された基板又は
基板を保持する容器に対して、前記除湿され、粒子状汚
染物質及びガス状汚染物質が除去された清浄気流を供給
することができる。
【0013】また、本発明の基板容器の除湿方法は、基
板を収納する容器内に循環気流を形成し、該循環気流に
接触するように固体高分子電解質膜を配置し、該電解質
膜に電圧を供給することで、前記循環気流中の水分を分
解して除湿することを特徴とするものである。例えば半
導体ウエーハは保管環境中の水分及び酸素によって自然
酸化膜が成長する。半導体ウエーハ収納後に基板搬送装
置内の空気を脱湿した乾燥空気で充填し、水分を極低濃
度にすることにより、自然酸化膜の成長を抑制すること
ができる。それと同時に、低湿度の空気の供給でも除去
性能の劣化のない粒子状汚染物質及び有機物吸着を有効
に防止することができる。更に、除湿器の能力を十分発
揮させて容器内気体の除湿を行なう場合は、除湿ユニッ
トと、吸湿性を持つ材料を併せて搭載し、ファン等で容
器内ガスを積極的に除湿ユニットと吸湿性材料に接触さ
せる運用により、急速に低湿度まで除湿することが可能
になる。吸湿性を持つ材料としては、例えば活性炭、活
性炭素繊維、イオン交換樹脂、イオン交換不織布、織布
又は繊維、シリカゲル、ゼオライトのように他のガス状
不純物を吸着する材料を用いることが特に好ましく、予
め脱湿処理し、初期に保持している水を放出させて使用
するのが良い。特にイオン交換体のうちスルホン基を持
つものは特に吸湿しやすい性質を持っており、使用前に
脱湿処理を施すことにより、優れた除湿剤として作用す
る。また、15%RH程度の湿度環境であれば塩基性ガ
スも効率良く吸着することができる。実際の運用におい
ては、吸湿性の材料を除湿ユニットによって常に乾燥さ
せた状態にしておき、吸湿性材料の持つ最も吸湿速度が
大きい初期状態を維持する方法が特に有効である。
【0014】更に、容器内を乾燥ガスで充填する方法と
固体高分子電解質膜を併用することにより、除湿速度の
向上と、乾燥ガス供給停止後の低湿度維持を図ることが
できる。また、固体高分子電解質膜に必要な消費電流
は、除湿する環境湿度に比例するという特徴を持つ。従
って、固体高分子電解質膜による除湿は、環境湿度が低
いほど消費電流を少なくすることができる。乾燥ガスの
供給と、固体高分子電解質膜による除湿を併用すること
は、消費電流を抑える効果もある。特に、二次電池のよ
うに電池容量が限られている場合に有効である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態の基
板容器を示す縦断面図である。この基板容器(ポッド)
は、ボックス本体1とボックスカバー2とで密閉された
構造であり、この中に高清浄度雰囲気下で保管される例
えば半導体ウエーハ3が収納される。半導体ウエーハ3
はキャリア4及びウエーハ押さえ12により保持され、
キャリア4はボックス本体内に配置された隔壁5により
支持される。隔壁5の下方に設置された整流板13はウ
エーハ3とキャリア4の間の隙間に風が過剰に流れるこ
とを防ぐ。キャリア4の下部には、ファンモータ6が粒
子捕捉フィルタ7及びガス状不純物捕捉フィルタ8と共
に配置されている。
【0016】ここで粒子捕捉フィルタ7は、いわゆる粒
子汚染を防止するための粒子汚染物質を除去するHEP
A及びULPAフィルタである。ガス状不純物捕捉フィ
ルタ8はいわゆる分子汚染を防止するための化学汚染物
質を除去するケミカルフィルタ等のフィルタである。化
学汚染物質の除去に用いるイオン交換不織布や活性炭等
のケミカルフィルタは、製造直後の状態で水を吸着して
いるので、短時間に低湿度環境を要求される用途では、
予め脱水処理をして使用するのが好ましい。ボックス内
において循環気流を形成するファンモータ6により送風
される気流は、フィルタ7,8を通過して半導体ウエー
ハ3にほぼ平行に流通し、隔壁5により形成される図中
の矢印で示す循環流路を介してファンモータ6の吸い込
み部に戻る。尚、ボックス本体1の下部の容器の外側に
電源ユニット9が配置される。
【0017】基板容器は1ロット、例えば25枚の半導
体ウエーハを保管・搬送するための容器で、容積が数十
リットルと小さい。よって隔壁5により形成される循環
流路のファンモータ6の吸い込み部に戻るいわば排気流
路のボックス本体1の外周流路面に、固体高分子電解質
膜を備えた除湿ユニット10を配置する。ただし、固体
高分子電解質膜の位置と大きさは、希望到達湿度等によ
り変えることができる。そして、電源ユニット9から直
流電圧を電解質膜に供給する。
【0018】低湿度保持を目的にした場合、容器の材料
は、吸水率が小さい材料を使用するのが良い。これは、
クリーンルームの一般的な設定条件である25℃、50%RH
の環境で、基板容器内だけを湿度低下すると、容器を
構成する高分子材料中に含まれる水が、湿度勾配によっ
て低い方へ移動する、容器外環境空気に含まれる水が
容器内との湿度勾配で透過し、内側に水が移動する、
容器接合部からの容器外環境空気の漏れ込み、の3種類
の原因によって湿度の低い容器内に移動する。高い気密
性を持った基板容器の場合、これらの原因のうち、容器
内湿度の上昇に最も影響を与える原因は、の高分子材
料に吸水していた水が低湿度側に移動することである。
【0019】高分子材料の吸水率は一般的にASTM (Amer
ican Society for Testing and Materials) D570規格に
よって実施されており、文献または高分子材料製造メー
カのカタログなどに記載されている。基板容器の高分子
材料は、ポリカーボネートが良く用いられるが、ポリカ
ーボネートの吸水率は0.2〜0.3%であり、例えば容器本
体及びドア重量3kg中には6〜9gの水を含む計算にな
る。吸水率を少なくとも0.1%以下の材料で成型すること
により、容器内に持ち込まれる水の量を低減することが
可能であり、除湿器の性能向上にも寄与する。吸水率0.
1%以下の高分子材料は、ポリエチレン <0.01%、ポリプ
ロピレン 0.03%、ポリブチレンテレフタレート 0.06〜
0.08%、ポリフェニレンスルフィド 0.02%、ポリテトラ
フルオロエチレン <0.01%、カーボンを20%添加したポリ
カーボネート0.1%、カーボンを20%添加したポリブチレ
ンテレフタレート 0.05%などがある。このうち、基板容
器には、耐薬品性、高温特性に優れ、成型収縮率の低い
ポリフェニレンスルフィドやポリブチレンテレフタレー
トまたは前記材料にカーボンを添加した材料を用いるの
が好ましい。
【0020】この容器の構成材料の吸水率は、少なくと
も0.3%以下、好ましくは0.1%以下が良い。吸水率
0.1%以下の高分子材料としては、PE(ポリエチレ
ン)<0.01%、PP(ポリプロピレン)0.03
%、PBT(ポリブチレンテレフタレート)0.06〜
0.08%、PPS(ポリフェニレンスルフィド)0.
02%、PTFE<0.01%、PC(カーボン20%
添加ポリカーボネート)0.1%、PBT(カーボン2
0%添加ポリブチレンテレフタレート)0.05%など
がある。特にこの容器材料として好ましいものは、吸水
率が0.1%以下であり、耐薬品性が良好で、高温での
安定性が高く、且つ成型収縮率が1%以下好ましくは
0.5%以下のPPS(ポリフェニレンスルフィド)、
カーボン添加PPS、カーボン添加ポリブチレンテレフ
タレート(PBT)、カーボン添加ポリカーボネートが
特に好ましい。本材料は前記機能を満足するものであれ
ば異なる材料を混合したアロイ材料でも良い。
【0021】また、低湿度にすると、ウエハが帯電しや
すくなるので、少なくともウエハに接するウエハ支持部
材とウエハ支持部材から容器下部に接地するドアは、カ
ーボンまたは他の導電性材料を添加した導電性材料が特
に好ましい。高分子材料は一般的に、表面抵抗率が1×1
03〜1×108Ωの材料を静電気導電性材料、1×105〜1×1
012Ωの材料を静電気拡散性材料、1×1012Ω以上の材料
を絶縁性材料として分類する。また、体積抵抗率が1×1
02〜1×105Ω・cmの材料を静電気導電性材料、1×104
1×1011Ω・cmの材料を静電気拡散性材料、1×1011Ω・
cm以上の材料を絶縁性材料として分類する。本発明で
は、表面抵抗率が1×1010Ω以下、体積抵抗率が1×109
Ω・cm以下、更に好ましくは表面抵抗率が1×108Ω以
下、体積抵抗率が1×107Ω・cm以下が望ましい。
【0022】この固体高分子電解質膜は、例えば数cm
×数cmの面積を有し、厚さが数百μm程度のものであ
る。そして、固体高分子電解質膜の一方の面に除湿反応
を促進するための触媒が添着された陽極と、他方の面に
陰極を備え、固体高分子電解質膜に所定の電圧を供給す
る前記除湿手段を備えたので、両電極に直流電圧を印加
すると、水の電気分解の原理により除湿が行われる。
尚、触媒は陰極側に備えてもよく、また、陽極と陰極の
両側に備えるようにしてもよい。すなわち、陽極側に吸
着した水分が陽極触媒により水素イオンと酸素ガスへの
分解を促進されて、電解質膜を介して陰極側に移動した
水素イオンは、陰極側の大気中酸素と結合して水になり
陰極側の大気空間に放湿される。従って、従来の乾燥剤
とは全く動作原理が異なる方法で除湿が行われ、水分の
蓄積が無いので、半永久的に使用が可能であり、交換の
手間が省けるのでメンテナンス性に優れている。そし
て、寸法も上述したように比較的小さな面積で大きな吸
湿能力を有し、薄型でコンパクトな構造であり、ウエー
ハ収納ボックス等に容易に配置できる。更に、供給する
直流電圧制御により、除湿能力を調整することができ、
これにより到達湿度を制御することが可能である。ま
た、消費電力も水の電気分解に要するエネルギーのみで
あるので、微量であり、省電力型の装置とすることがで
きる。
【0023】除湿のメカニズムを図2に示す。この方法
は、除湿側空間120の水分子を触媒によって水素と酸
素に分解し、所定電圧を印加した固体高分子電解質膜1
21を介して除湿側空間120の外側、即ち、放湿側空
間122に水素を放出して除湿するものである。
【0024】固体高分子電解質膜による除湿ユニットの
最低構成部品例を図3に示す。陽極123、陰極12
4、固体高分子電解質膜121、触媒層125は必須の
構成部品である。また、各部品組立の特徴としては、陽
極123及び陰極124は触媒層125と多孔質な基材
とを備える。該基材が固体高分子電解質膜121に食い
こんでいると共にこの食いこみ部に上記触媒層が形成さ
れていることにより、固体高分子電解質膜121と多孔
性電極129(123,124)と触媒125の一体構
造をとること特徴としている。例えば菱彩テクニカ社製
のロサール等を用いることができる(図4参照)。
【0025】図5に固体高分子電解質膜を用いた除湿ユ
ニットの他の構成例を示す。固定フランジ部127を容
器本体401とモールド加工した形状の実施例である。
除湿ユニットの有効面積は、正方形、長方形、円形、楕
円形、多角形等、いずれの形状をとっても良いが、電極
面積に対する、有効面積(処理ガスの接する開口面積)
の割合が大きくなるように設計することが望ましく、具
体的には少なくとも処理ガスの接する開口面積が電極面
積の50%以上99%以下になるように、さらに好ましくは60
%以上90%以下になるように設計することが望ましい。ま
た処理ガスの接する開口面積と電極面積の比が同じであ
れば、円形よりも楕円形、正方形より長方形にすること
が望ましく、具体的には短軸が長軸の、短辺が長辺の10
%以上99%以下になるように設計することが望ましい。固
体高分子電解質膜としてはプロトンを伝達するものであ
ればよいが、例えばデュポン社製のナフィオン(Nafio
n)−117(登録商標)等の公称膜厚約170μmを
用いることができる。またナフィオン115、ダウケミ
カル社のXUS−13.204.10等を用いても良
い。触媒としては性能と耐久性の面から白金黒を用いる
のが望ましいが、白金担持カーボンや他の白金属金属触
媒を用いても良い。多孔性電極129に均一な電圧をか
けるために必要な電流端子128はアルミやステンレス
などが望ましい。またパッキンから有機物の脱ガスの少
ないPTFE等を用いるのが望ましい。固定フランジは
直接処理ガスに接するためプロセスガスによる腐食を受
ける可能性のある金属は避け、樹脂製の材質、例えばポ
リカーボネートを用いることが望ましいが、腐食性ガス
を使用しない場合はステンレスでも良い。また外部から
電極部を直接接触できない様に固定フランジ若しくは容
器本体にガイドを設けることが望ましい。
【0026】図6及び図7は本発明の第1の実施の形態
の変形例の基板容器(ポッド)であり、200mmウエ
ーハ自動化対応基板容器についてのものである。この場
合も図1に示したものと同様にボックス本体1と底部ウ
エーハ搬出入ドア11とで密閉された構造であり、この
中に高清浄度雰囲気下で保管される例えば半導体ウエー
ハ3が収納される。半導体ウエーハ3はキャリア4によ
り保持され、キャリア4はボックス本体内に配置された
支持部により支持される。ボックス内において循環気流
を形成するファンモータ6より送風される気流は、図中
の矢印で示されるように、フィルタ7,8を通過してウ
エーハ3にほぼ平行に流通し、ボックス内の循環流路を
介してファンモータ6の吸込み部に戻る。底部ウエーハ
搬出入ドア11には、2次電池を内蔵した電源ユニット
が配設されており、これにはファンモータ6の端子14
と接続する接点が設けられている。また、乾燥ガスの供
給と固体高分子電解質膜による除湿を併用する場合には
乾燥ガスパージポート15も底部ウエーハ搬出入ドアに
内蔵される。
【0027】基板容器は1ロット、例えば25枚の半導
体ウエハを保管・搬送するための容器で、容積が数十リ
ットルと小さい。よってボックス内に形成される気流循
環流路のファンモータ6の吸込み部に戻るいわば排気流
路のボックス本体1の外周流路面に、固体高分子電解質
膜を備えた除湿ユニット10を配置する。但し、固体高
分子電解質膜の位置、大きさ、個数、及び乾燥ガスパー
ジポート15は、希望除湿スピード及び希望到達湿度に
よって変えることが出来、本発明の実施例・図面に限ら
ない。そして、底部ウエーハ搬出入ドア11に内蔵され
た電源ユニットから端子14を介して、直流電圧を電解
質膜に供給する。
【0028】次に、前記固体高分子電解質膜を用いた除
湿ユニット10を前記基板容器に搭載した場合の、ボッ
クス内湿度の推移について、図21を参照して説明す
る。温度22℃で相対湿度40%のクリーンルームで前
記基板容器を3分間蓋開し、蓋閉してからのボックス内
湿度を測定した。ケミカルフィルタ8を搭載する前記基
板容器においては到達湿度を10%に設定し、ケミカル
フィルタによるガス状汚染物質の除去性能を維持する必
要がある。そこで、前記固体高分子電解質膜を用いた除
湿ユニットの設定は相対湿度10%とした。測定データ
を図中に△印で示す。比較のためボックス内に乾燥剤を
入れた場合の湿度変化データを○印で併記した。新品の
乾燥剤を設置した前記基板容器は、蓋閉15分後には湿
度20%に、1時間後には10%になったが、その後も
湿度は低下し約5%で平衡状態に達した。一方、固体高
分子電解質膜除湿ユニット10を搭載した前記基板容器
は蓋閉18分後には湿度20%に、1時間後には10%
になったが、その後も10%を維持し続けた。以上よ
り、従来の乾燥剤を用いた除湿と固体高分子電解質膜を
用いた除湿は、湿度40%から10%の除湿速度はほぼ
同じであり、固体高分子電解質膜を用いた除湿は到達湿
度を性能下限湿度以上の範囲内で、任意に設定可能であ
ることが判る。
【0029】図8及び図9は本発明の200mmウエー
ハ自動化対応基板容器について、図6、図7と異なる位
置に固体高分子電解質膜を装着したものである。この場
合は、固体高分子電解質膜自体も底部ウエーハ搬出入ド
ア11に内蔵されているので、端子14を介さず直接電
源ユニットから直流電圧を供給できる。自動化対応基板
容器に本発明の除湿ユニットを搭載する場合、扉開閉時
のファン、除湿ユニットの運転管理がその除湿性能に大
きく影響する。その原因は扉閉中、ケミカルフィルタ等
の吸湿性材料を除湿ユニットにて乾燥状態にしておくこ
とにより、急速に低湿度まで除湿することができたのと
は反対に、扉開中にファンを稼動させると、吸湿性材料
にクリーンルームの高湿度エアを積極的に供給させるこ
とになり、再び扉閉した時に除湿性能が悪くなる。各工
程に適した湿度環境を容器内に構築することが重要であ
るが、実際の工場の各装置(装置前棚を含む)間を稼動す
るすべての基板容器の環境制御を行う際は、ファンや除
湿ユニット等の電気駆動部の運転条件を送受信できる通
信手段を容器に搭載してもよい。またこの<環境制御を
行う基板容器>は半導体製造プロセスの工程内、工程
間、工場内階間、工場間いずれの間の搬送に用いてもよ
く、また搬送だけでなく保管の用途に用いてもよい。フ
ァンと除湿ユニットの運転条件をコントロールすること
により所定の湿度環境を構築できることを図26、図2
7に示す。ファンの運転パターンによる湿度コントロー
ル方法の一例を図26に示す。いずれも、除湿ユニッ
トを2台搭載し、双方連続運転する、補助的な吸湿剤
との併用を行わない、の共通条件下でファンの運転条件
を比較した。その結果,ファンを停止した条件(図中○
印で示す)では20分で到達湿度は約30%、60分で約20%に
なり、その状態を維持した。また、ファンの間欠運転を
行う条件(30秒稼動120秒停止;図中*印で示す)では2
5分で到達湿度は約20%、90分で約10%になり、その状
態を維持した。また、ファン連続運転(図中◆印で示
す)では10分で到達湿度は約20%、20分で10%以下に
なった。以上よりイオン除去を優先的に行いたい工程に
おいて、例えばイオン除去のみ行う場合は除湿ユニット
を停止すればよいがイオン除去を行いながら緩やかに除湿
をしたい場合はファンの運転パターンを間欠運転にする
のが有効であることが分かる。固体高分子電解質膜除湿
ユニットを2台搭載し、2台の運転パターンによる湿度コ
ントロール方法の一例を図27に示す。いずれも、フ
ァンモータ連続運転、吸湿剤との併用を行う、の共通
条件下で、除湿ユニットの運転条件を変えた。その結
果,除湿ユニットを1台のみ連続運転した条件(図中◆印
で示す)では20分で到達湿度は約20%、40分で約15%に
なり、その状態を維持した。最初の30分間は2台稼動さ
せ、その後一台稼動に切り換えた条件(図中*印で示
す)では5分程度で湿度10%に到達し、到達湿度は8%を
維持した。除湿ユニットを2台連続運転した条件(図中
○印で示す)も,同様に5分程度で湿度10%になったが、
到達湿度は5%以下を維持した。このように除湿ユニッ
トの膜面積により容器内の到達湿度は制限されるので、
本発明の基板容器に用いる固体高分子電解質膜除湿ユニ
ットとしては基板容器の単位容積当たり少なくとも0.3c
m2/L以上10cm2/L以下,好ましくは0.6cm2/L以上5cm2/L
以下の仕様にすることが望ましい。いずれにせよ急速な
湿度低減が望ましい工程においてはファンの運転パター
ンを連続に設定し、補助的な吸湿剤と組み合わせるのが
有効であることが分かる。尚ここで除湿ユニットと組み
合わせる吸湿剤としては、除湿ユニットにより吸湿性材
料の持つ最も吸湿速度が大きい初期状態にしたケミカル
フィルタ(活性炭、イオン交換体等)でも十分効果を発
揮する。また、除湿ユニットを1台だけ運転させること
により比較的急速に除湿しつつ, 到達湿度はイオン除去
も十分可能な範囲になるように運転することも可能であ
る。実際は前記記載の通信手段を介しファン及び除湿ユ
ニット等の電気駆動部の運転パターンを各工程ごとに書
き込むことにより適切な各工程における湿度調節を行う
ことが望ましい。さらに、容器内に湿度センサーを配置
して、その湿度情報に基いて除湿ユニットの運転を自動
制御することもできる。
【0030】図10(a)(b)(c)は、基板容器の
(a)搬送状態、(b)装置着座、(c)ドア下降状態
をそれぞれ示す。容器本体401と、反応板又は反応シ
ール455、ドア開閉検知センサ469を内蔵又は取り付
けたドア402と、粒子除去フィルタ405、ガス状汚
染物捕捉フィルタ406、除湿器408、送風装置40
7、整流板423、二次電池409、運転制御基板45
3、受電端子454、ドア開閉検知センサで構成された空
気清浄器を搭載した基板容器である。前記ドア開閉検知
センサ469は、ドアの開閉を検知してファンモータ及
び/又は除湿器の運転を調整するために取り付けられて
いる。例えばドアが開放状態の時は基板容器外の粒子、
イオン、有機、水分等汚染物質の多い空気を吸い込むの
を防止するため、運転を停止したり、ファンモータの回
転数を調整したりする。ドアの開閉ではなく、カセット
及び/又はウエハの有無を検知して空気清浄器の運転を
調整しても良い。
【0031】ドア開閉検知センサの代わりに、カセット
の有無を検知するセンサを取り付けても良い。検知セン
サの取り付け位置は例えばカセット下部、側面、上面、
前面が可能であり、どこに取り付けても構わない。カセ
ットの検知方法は機械的センサ、光電式センサ、磁気セ
ンサ、近接センサなどがあるが、カセットに直接接触し
ない、非接触式センサが好ましい。
【0032】扉閉時の循環系から開放されるのは主に装
置内のインタフェース部であることが想定されるのでそ
こでの運用も性能に大きく寄与する。そこでたとえば銅
めっき装置内部に搬入した時の200mm用基板容器の
動作を、図11を参照して説明する。インターフェイス
内のファンフィルタユニット435はファンモータ40
7とケミカルフィルタ406とULPAフィルタ405
すべてもしくは組み合わせからなる。また本発明の除湿
ユニット408は除湿側(インターフェイス内)と放湿側
(クリーンルーム)の境界壁であればいずれの場所に設
置しても良い。基板搬出入ドア402とキャリア404
は、昇降装置によって基板容器本体401から分離され
る。キャリア404ごとロット内のウエハをインターフ
ェイス側に移載した後、昇降装置420は上昇し、基板
搬出入ドア402は容器本体401に戻され、基板容器
(ポッド)は空のままロット処理が済むまで待機しても
よい。また、図12に示す様に、ロット処理中、基板搬
出入ドア402はキャリア及び処理してないウエハと共
に待機し、容器本体401が開いたまま放置される場
合、ファンフィルタユニット435の気流はドア40
2、キャリア404、及びウエハだけでなく、容器本体
401の内部にも供給されるようにすることが望まし
い。
【0033】図13乃至図15は本発明の更に他の変形
例の基板容器であり、300mmウエーハ自動化対応基
板容器についてのものである。この実施の形態は、前記
200mmウエーハ自動化対応基板容器と同様の空気清
浄方法であるが、ファンモータ6及び固体高分子電解質
膜除湿ユニットの制御回路及び駆動用2次電池は電源ユ
ニット9に内蔵される点が、ウエーハ搬出入ドア16に
内蔵される200mmウエーハ自動化対応基板容器と異
なる。蓋体17底部に内蔵された電源ユニット9はファ
ンモータ6の端子14と接続する接点が設けられてい
る。電源ユニット9の底部には充電端子19が設けてあ
り、ウエーハ搬出入ドア16自動開閉装置上や充電ステ
ーションに着座した時、装置側の端子と接続されて、自
動的に2次電池を充電できる構造になっている。また、
乾燥ガスの供給と、固体高分子電解質膜による除湿を併
用する場合には、乾燥ガスパージポート15は本体1底
部に内蔵される。但し、固体高分子電解質膜10の位
置、大きさ、個数及び乾燥ガスパージポート15は、希
望除湿スピード及び希望到達湿度によって変えることが
出来、本発明の実施例・図面に限らない。
【0034】図16乃至図18は本発明の自動化対応基
板容器についての図13乃至図15とは異なる位置に固
体高分子電解質膜を装着したものである。この場合は固
体高分子電解質膜自体は本体1底部に内蔵されるので、
端子14を介さず本体1から連なる蓋体17に内蔵され
た電源ユニット9から直流電圧を供給できる。扉閉時の
循環系から開放されるのは主に装置内のインタフェース
部であることが想定されるのでそこでの運用も性能に大
きく寄与する。そこでこの基板容器401を、内部に複
数の基板を収納した状態で、例えば銅めっき装置434
の内部に搬入した時の動作を図19を参照して説明す
る。
【0035】この銅めっき装置434には、基板搬出入
ドア自動開閉装置が備えられている。銅めっき装置43
4内は、ファンモータ407とULPAフィルタ405
で構成されたファンフィルタユニットにより粒子状汚染
物を低減している。基板容器401が銅めっき装置43
4の内部に搬送されて所定の位置に載置され、ゲートバ
ルブ等を介してクリーンルームと遮断されると、基板搬
出入ドア自動開閉装置は、基板搬出入ドア602を開放
する。その後、ウエハマッピング装置603により、ウ
エハ収納スロットと枚数がソートされる。その後、めっ
き装置434内の基板・ハンドリングロボット621に
より基板を取出して処理し、処理の終了した基板は、基
板容器401に戻される。そして、全ての基板の処理が
終了すると、基板搬出入ドア自動開閉装置により基板搬
出入ドア602が閉じられて密閉され、この時点から給
電端子608を通じてファンモータ407の運転を開始
し、基板搬送基板容器内の空気を清浄化する。
【0036】図19に示すように、処理するウエハが取
り出されると基板搬出入ドア602が閉じられ、処理待
ちのウエハが基板容器(ポッド)の閉空間内で保管され
るようにしてもよい。また、1ロット処理中基板搬出入
ドアの開閉をしない場合は、処理待ちウエハが水分や有
機物等の汚染を受けないようにインターフェイス部には
ULPAだけでなく、ケミカルフィルタ406と除湿剤
もしくは除湿器408を備えたファンフィルタユニット
を搭載することが望ましい。更に、該ファンフィルタユ
ニットは、インターフェイス内を循環させてもよい。ま
た、ドライエアやNガスによる除湿を行ってもよい。
【0037】図20に示すように、インターフェイス内
のクリーン度と、基板容器(ポッド)内のクリーン度で
は、狭空間である基板容器(ポッド)内の方が高度であ
る。よって、基板容器(ポッド)がインターフェイス入
口にセットされると、中のウエハは1ロットを一度にイ
ンターフェイス本体の仮置きカセット604に移載さ
れ、ロット処理が済むまで、空基板容器(ポッド)は扉
を閉めた状態で給電端子を通じて給電しながら空運転す
ることにより内部のクリーン度をキープしたまま待機す
るようにしてもよい。この場合も、図19に示したシス
テムと同様に、インターフェイス部にはULPAフィル
タだけでなくケミカルフィルタと除湿剤もしくは除湿器
を備えたファンフィルタユニットを搭載することが望ま
しい。更に、該ファンフィルタユニットはインターフェ
イス内を循環させてもよい。また、ドライエアやN
スによる除湿を行ってもよい。基板搬出入ドア602が
閉じられると、次プロセス装置又は保管庫に天井軌道走
行型搬送車(OHT)や自走型搬送車(AGV)等の自
動搬送設備によって搬送される。なお、ここでいう搬送
とは工程間、工場内階間、工場間、いずれの間の搬送に
用いてもよく、また搬送だけでなく保管の用途に用いて
もよい。
【0038】次に、前記固体高分子電解質膜を用いた除
湿ユニット10を搭載した前記基板容器における反復使
用時の除湿能力について、図22を参照して説明する。
温度22℃で相対湿度40%のクリーンルームで前記基
板容器に洗浄した20枚の半導体ウエーハの入ったキャ
リア4を入れ、蓋閉6時間後の到達湿度を測定した。こ
の結果を図中に△印で示す。尚、図の横軸は操作回数で
あり、縦軸は到達湿度である。比較のためボックス内に
乾燥剤を入れた場合の到達湿度のデータも○印で併記し
た。乾燥剤を入れた基板容器では、15回までは初期の
性能つまり(相対湿度40%から5%の除湿)を維持し
たが、その後徐々に到達湿度が上昇し、50回以上では
20%以下に下がらなかった。一方、固体電解質膜除湿
ユニット10を搭載した基板容器は初期の性能(相対湿
度40%から10%への除湿)を維持し続けた。
【0039】次に、乾燥ガスの供給と、固体高分子電解
質膜による除湿を併用したときの効果について、図23
を参照して説明する。固体高分子電解質膜を設置した基
板容器を使用して、温度22℃、湿度45%RHのクリ
ーンルームにおいて、乾燥空気を10L/minで1時
間供給した後、乾燥空気の供給を停止した。固体高分子
電解質膜は乾燥空気供給時から運転を開始し、測定完了
まで連続的に運転した。一方、同一クリーンルームにお
いて、同一材料、ほぼ同一容積を持った密閉容器内に乾
燥空気を10L/minで1時間供給した後、乾燥空気
の供給を停止した。固体高分子電解質膜を設置した基板
容器内湿度は、5時間後も10%RHを維持したが、密
閉容器内の湿度は、乾燥空気供給停止後、4時間で30
%RHに上昇した。
【0040】気密性の高い容器内を乾燥ガス、即ち乾燥
空気または水分を含まない不活性ガスと置換すると、置
換直後は湿度は略0%の限界湿度まで低下する。しかし
ながら、この状態で乾燥ガスの供給を停止して放置して
おくと、容器内壁面の高分子材料が保持している水分が
湿度勾配によって容器内部に拡散する。従って、乾燥ガ
スにより置換した容器内部の湿度は、時間の経過と共に
増大する。
【0041】容器本体材料を不透湿材料でコーティング
することによる除湿効果について、図24を参照して説
明する。固体高分子電解質膜を設置した基板容器と、同
一形状で本体材料を不透湿コーティングした基板容器
を、温度22℃、湿度45%RHのクリーンルームに置
き、図23と同じ操作を行った。不透湿コーティング容
器は透湿ボックスよりも除湿速度、到達湿度共に透湿容
器より優れ、10分程度で10%RHまで低下した。ま
た、不透湿コーティングをした基板容器は、乾燥ガスの
供給を停止した後も低い湿度を保った。
【0042】図25は、本発明の第2の実施の形態の基
板容器を示すもので、これは、複数の半導体ウエーハ
(被処理基板)を縦に並列配置して収納するキャリア
(保持容器)4を最大で5個収容して保管又は搬送を行
なうものである。この基板保管装置は、細長い気密なケ
ーシング20を備えている。このケーシング20の内部
には、ファン室25と合計5個の気密な収容室26が隔
壁5で仕切られて横方向に並列に区画形成されている。
各収容室26の前面には、扉24がヒンジを介して取付
けられ、個別に開閉自在になっている。ケーシング20
には、ファン室25と収容室26の下側に送気通路27
が、上側に排気通路28がそれぞれ設けられ、ファン室
25と収容室26は、送気通路27と排気通路28にそ
れぞれ連通している。
【0043】ファン室25の内部には、ファンモータ6
が空気を下向きに送り出すように配置され、このファン
モータ6の上流側には、逆流防止用ケミカルフィルタ2
1が、下流側には、主に不純物ガスを除去することを目
的とするケミカルフィルタ22と粒子を除去する粒子除
去フィルタ23が、それぞれ着脱自在に取り付けられて
いる。ファン室25の外部側方には、電源ユニット9を
が設けられている。この電源ユニット9の内部には制御
装置が内蔵されており、制御装置に予め入力された制御
プログラムに沿ってファンモータ6の運転・停止のタイ
ミングや回転数を制御するようになっている。
【0044】ケミカルフィルタ22は、この実施の形態
においては、イオン交換繊維と活性炭素繊維を同時に織
り込んで構成されている。なお、この実施の形態におい
ては、イオン交換繊維と活性炭素繊維を同時に織り込ん
でケミカルフィルタ22を構成した例を示しているが、
イオン交換繊維と活性炭素繊維とを単独又は組合せてケ
ミカルフィルタを構成するようにしても良い。また、活
性炭素繊維に限らず、粒状活性炭や活性炭ハニカムフィ
ルタを用いてもよい。粒子除去フィルタ23はHEPA
フィルタとULPAフィルタとから構成されている。H
EPAフィルタは、定格風量で粒径0.3μmの粒子に
対して99.97%以上の粒子捕集効率を持つエアフィ
ルタである。ULPAフィルタは、粒径0.1μmの粒
子に対して、99.9995%以上の粒子捕集効率を持
つエアフィルタである。
【0045】この実施の形態においても、固体高分子電
解質膜を用いた除湿ユニット10をファン室25の近傍
の送気流路27に配置する。尚、図示の例では送気流路
27に配置したが排気流路28に配置するようにしても
良い。上述したように、固体高分子電解質膜は、数cm
角で厚さが数百μm程度のもので、十分な除湿能力を有
する。電解質膜の陽極及び陰極には、電源ユニット9か
ら直流電圧が供給される。尚、電源ユニット9には直流
電圧の可変機構を備え、供給電圧を任意に調整できるよ
うにしておくことが好ましい。また、直流電圧の供給パ
ターンを予め設定しておき、例えば開扉後には直流電圧
を高くして除湿能力を高め、その後直流電圧を下げて目
標値の湿度に到達するように調整しても良い。
【0046】なお、上述の実施の形態では、基板容器及
び複数の収容部を有する基板保管装置の例について説明
したが、本発明の趣旨を各種基板を清浄雰囲気下で保管
・搬送するクリーンボックス、基板容器、基板収納棚等
に同様に適用できることは勿論である。また、固体高分
子電解質膜を用いた除湿ユニットについての実施例を説
明したが、これらの組み合わせも可能であり、各種の変
形実施例が可能なことも勿論である。さらにまた、本発
明の基板容器及び複数の収容部を有する基板保管装置は
上記に記載の実施例で説明されるシステム間の搬送に利
用されるだけでなく、工程間、工程内、異なるフロアの
階間や工場間の搬送という変形実施例が可能である。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板容器内に、循環気流を形成し、固体高分子電解質膜を
用いた除湿ユニットを搭載することにより、到達湿度を
任意に設定可能で且つ、半永久的な除湿機能を持った、
極めて清浄度の高い環境を提供することが可能となる。
これにより、良好な環境下で各種基板の保管・搬送を行
うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の基板容器の縦断面
図である。
【図2】固体高分子電解質膜による除湿原理を示す図で
ある。
【図3】固体高分子電解質膜による除湿器の分解図であ
る。
【図4】固体高分子電解質膜による他の除湿器の分解図
である。
【図5】固体高分子電解質膜による更に他の除湿器の分
解図である。
【図6】図1の変形例の200mmウエーハ自動化対応
基板容器の縦断面図である。
【図7】図6のAA線に沿った断面図である。
【図8】図6の固体高分子電解質膜の位置の異なる例の
縦断面図である。
【図9】図8のBB線に沿った断面図である。
【図10】基板容器の(a)搬送状態、(b)装置着
座、(c)ドア下降を示す図である。
【図11】基板容器を装置に装着した状態を示す図であ
る。
【図12】図11の動作例を示す図である。
【図13】図1の変形例の300mmウエーハ自動化対
応基板容器の縦断面図である。
【図14】図13のCC線に沿った断面図である。
【図15】図13の裏面図である。
【図16】図13の固体高分子電解質膜の位置の異なる
例の縦断面図である。
【図17】図16のDD線に沿った断面図である。
【図18】図16の裏面図である。
【図19】基板容器を装置に装着した状態を示す図であ
る。
【図20】基板容器を装置に装着して基板を移送する状
態を示す図である。
【図21】本発明の固体高分子電解質膜を用いた除湿ユ
ニットと、従来使用してきた乾燥剤の除湿性能(初期性
能)を比較した図であり、図中の△印は本発明の例を示
し、○印は従来例を示す。
【図22】本発明の固体高分子電解質膜を用いた除湿ユ
ニットと、従来使用してきた乾燥剤の除湿性能(寿命)
を比較した図であり、図中の△印は本発明の例を示し、
○印は従来例を示す。
【図23】乾燥空気の供給と、本発明の固体高分子電解
質膜を用いた除湿ユニットを併用した時の容器内湿度低
下速度と、乾燥空気停止後の湿度上昇速度を示す図であ
る。
【図24】容器本体材料を不透湿材料でコーティングし
た場合とコーティングしない場合の、容器内湿度低下速
度と、乾燥空気停止後の湿度上昇速度を比較した図であ
る。
【図25】本発明の第2の実施の形態の基板保管装置
の、(a)正面図、(b)縦断面図である。
【図26】ファンと除湿ユニットの運転条件による湿度
の制御特性を示す図である。
【図27】ファンと除湿ユニットの他の運転条件による
湿度の制御特性を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F26B 5/16 H01L 21/02 D H01L 21/02 21/68 T 21/68 B65D 85/38 R (72)発明者 大久保 和雄 東京都大田区羽田旭町11番1号 株式会社 荏原製作所内 Fターム(参考) 3E067 AA12 AB41 AB94 AC03 BA01A EE60 FA01 GB20 3E096 AA06 BA15 CA01 DA30 FA02 FA03 3L113 AA01 AC20 AC25 AC51 AC67 AC83 BA34 CB17 CB24 CB36 CB39 DA02 DA07 DA12 DA14 DA22 4D052 AA09 EA06 FA01 GA03 GB00 5F031 CA01 CA02 CA05 CA07 DA09 EA12 EA14 NA02 NA03 NA04 NA15 NA16 NA18 NA20 PA26

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を収納するための開口部を有すると
    共に、該開口部を密閉可能に覆う蓋体を備えた容器本体
    と、 該容器本体内において前記基板に接触する気流の循環流
    路を形成するファンモータと、前記基板に向かって流れ
    る気流の流路に配置された粒子除去フィルタおよびガス
    状不純物捕捉フィルタと、 前記循環流の流路に配置された固体高分子電解質膜と、
    該電解質膜が前記気流中の水分を分解して除湿を行うた
    めの電圧供給手段とからなる除湿手段とを備えたことを
    特徴とする基板容器。
  2. 【請求項2】 前記気流流路にほぼ平行に前記基板を保
    持する基板保持部を備えたことを特徴とする請求項1に
    記載の基板容器。
  3. 【請求項3】 基板又は基板を保持する容器を個別に出
    し入れ可能な複数の収容室と、 前記各収容室に連通する送気通路及び排気通路を介して
    前記各収容室内に清浄空気を循環させる共通の空気循環
    手段とを、更に備えたことを特徴とする請求項1に記載
    の基板容器。
  4. 【請求項4】 前記請求項1乃至3のいずれかに記載の
    基板容器において、前記除湿手段は、前記固体高分子電
    解質膜の一方の面に除湿反応を促進するための触媒が添
    着された陽極と、他方の面に陰極を備え、前記固体高分
    子電解質膜に所定の電圧を供給することで、前記基板容
    器内の湿度を任意に制御可能としたことを特徴とする基
    板容器。
  5. 【請求項5】 前記容器本体内に、乾燥ガスを充填中又
    は充填後に、前記固体高分子電解質膜による除湿を行う
    ことにより低湿度を維持することを特徴とする請求項1
    乃至4のいずれかに記載の基板容器。
  6. 【請求項6】 前記容器本体の外壁に不透湿材料又は透
    湿材料に不透湿材料を被覆した材料を用いたことを特徴
    とする請求項1乃至4のいずれかに記載の基板容器。
  7. 【請求項7】 基板を収納する容器内に循環気流を形成
    し、該循環気流に接触するように固体高分子電解質膜を
    配置し、該電解質膜に電圧を供給することで、前記循環
    気流中の水分を分解して除湿することを特徴とする基板
    容器の除湿方法。
  8. 【請求項8】 前記基板容器内に、乾燥ガスを充填中、
    又は充填後に、前記固体高分子電解質膜による除湿を行
    うことにより、低湿度を維持することを特徴とする請求
    項7記載の基板容器の除湿方法。
JP2001017693A 2000-01-28 2001-01-25 基板容器 Pending JP2002122382A (ja)

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