JP4052947B2 - 基板搬送容器 - Google Patents

Description

本発明は、半導体ウエハ、フォトマスクまたはハードディスク等の被処理物を極めて清浄度の高い雰囲気下で保管または搬送するのに使用して好適な基板搬送容器の構造、性能及びその運用方法に関する。

半導体素子の微細化が進むにつれて、より高度な清浄空間が必要になることが予測されている。例えば、パターン欠陥や配線短絡の原因になる粒子状汚染物質の管理対象粒径は、０．１μｍ以下になることが予測されている。更に、粒子状汚染物質に加えてガス状汚染物質の低減も必要になってくる。各種炭化水素分子は、半導体ウエハに吸着することにより、ゲート酸化膜の耐圧不良や成膜後の膜厚のバラツキを引き起こし、塩基性ガスは化学増幅型レジストと反応して解像度劣化になり、酸性ガスは配線コロージョンの原因になる。

それに加えて近年では水分（湿気）も低減対象物質になってきた。これは、微細化に伴い配線材料や成膜材料が多様化して、環境中の水分が上記材料と結合して不具合を引き起こす場合があるからである。一方、微細化とは別に、半導体ウエハの大口径化と処理の自動化も進んでいく。半導体製造ラインの自動化は、汚染源である人と基板を隔離する必要があることと、半導体ウエハの大口径化によって搬送容器の重量が１０ｋｇ程度になり、人による取り扱いが困難になるためである。更に、自動化製造ラインの必須要件として、製造装置や搬送装置との共通した構造、寸法等の規格値を満足することが重要になる。

従来、半導体チップの高集積化・高速化に伴い、半導体チップ内の素子を結ぶ配線の材料は、アルミ配線が使われていた。しかしながら、線幅が０．１３μｍ以下になると、従来のアルミを用いた場合、発熱の問題、信号遅延の問題が顕著となるため、アルミ配線の代りに、アルミよりも電気抵抗の低い銅配線が使われようとしている。

また、配線間を絶縁する絶縁材料として従来ＳｉＯ_２が使われていた。しかしながら、ＳｉＯ_２は比誘電率が約４と高く、単に配線材料をアルミから銅に代えても、信号遅延の問題は２０％位の改善にしかならないため、絶縁膜の材料として、比誘電率が３以下の低誘電率材料を使う必要性がでてきている。

これに先立ち線幅０．１８μｍレベルのプロセス検討段階から銅配線及び低誘電率材料の検討が始まっている。低誘電率絶縁膜の材料としては、有機材料や多孔質材料を使うため、空気中の水分を吸湿して、誘電率が上昇してしまうなど、その取り扱いは従来の絶縁膜とは異なり、とても難しい。

また、配線材料の銅も、従来使われてきたアルミと異なり、空気中の水や酸素と結合して、酸化膜を発生しやすい。また、銅分子がアルミ分子と比べて非常に活性なため、銅を含んだ粒子や蒸気自体がクリーンルーム内に放出されると、クリーンルームを汚染し、半導体チップの歩留まりを著しく低下させてしまう。また、シリコン表面の有機汚染は、ゲート酸化膜の信頼性低下、減圧ＣＶＤにおけるインキュベーションタイムの長期化や異常膜成長を引き起こすことは以前から知られている。今後新たに低誘電率絶縁膜として優れた材料が発見されてもその材料表面が環境の有機物、イオン等の不純物の影響を受けやすいために採用できない場合もでてくるであろう。逆に環境を制御してやることにより、今まで使えなかった材料までも絶縁膜として使える可能性も出てくる。また、半導体ウエハ上に塗布されたレジストは、アンモニアが存在すると、現像後のレジストの頂部がその底部と比べ幅が広がる、いわゆる“Ｔ−トップ”現象が発生する。

本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、線幅０．１３μｍ以下のＩＣ製造プロセスにおいて、少なくとも微粒子、酸性ガス、塩基性ガス、有機系ガスの濃度、および湿度等の環境を任意に制御することが可能で、更に半導体製造工場の自動化に対応した寸法、構造を満足した基板搬送容器を提供することを目的とする。

本発明は、上記問題を解決するために、ＳＥＭＩ（Semiconductor Equipment and Materials International）規格で規定した寸法を満足した構造を有し、容器内の気体を換気するための送気手段と、各種不純物を捕捉／吸着する手段と、除湿手段等を備え、容器内の環境を任意に制御可能な基板搬送容器を提供する。本発明の基板搬送容器は、容器本体の一側面に基板搬出入用のドアを備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で水平に保持するようにした、自動化設備に対応する基板搬送容器において、前記容器本体の側面が四面からなり、その前面に前記ドアを備え、後面に電源ユニットを備え、その他の２面に外部環境と隔離するカバーを取付け、該カバー内に空気調整装置を備え、該空気調整装置は、送風装置と、粒子除去フィルタと、ガス状汚染物質除去フィルタとからなり、前記カバー内の前記容器本体の四面からなる側面の前面及び後面を除く残りの２面に、前記容器本体内部の前記ドア付近に連通する開口と、前記容器本体内部の後面側に連通する開口とを設け、前記空気調整装置で調整した空気が前記容器本体の四面からなる側面の前面及び後面を除く残りの２面の後面側の開口から前記容器本体内部の前記基板の中心に向かって流れ、続いて前記ドア付近に設けられた開口から前記カバー内に循環させるようにしたことを特徴とする。

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照しながら説明する。
先ず、自動化対応Ｐｏｄの必要性について説明する。作業者による人為的なミスや、作業者から発生する微量のアンモニアや有機物による基板の汚染を防止するには、基板の取り扱い空間から作業者を遠ざけることが有効であり、その手段として自動化設備の導入がある。この自動化設備に対応した基板搬送容器は、例えばＳＭＩＦ（Standard Mechanical InterFace）ＰｏｄやＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）があり、このＰｏｄを所定の位置に位置決めし、外部からドアを開閉するためのロードポートや、自動搬送するための搬送装置と合わせて使用する。半導体製造工場における自動化設備は、ＳＥＭＩ標準によって構造、寸法、仕様、試験方法等について規格化されている。ＳＥＭＩ標準の目的は、半導体製造装置及び付帯機器、電気、通信、材料、安全性について共通した基準を設定することである。これにより、最終ユーザは、製造元が異なる装置等を自由に組み合わせて使用することが可能になる。また、製造元は設計時に、適切な安全余裕を設定することが可能になり、過剰仕様を避け、コストダウンを計ることができる。例えば、３００ｍｍウエハ用基板搬送容器（FOUP）の場合は、容器の外形寸法、位置決めピン受容部やハンドリングフランジ形状、寸法等について規定値がある。従って、この規定値から外れた場合、搬送装置で運べない、保管庫に収納できないといった問題が生じることになる。

基板搬送容器内における低減対象物質の濃度は、例えば０．１μｍ以上の微粒子濃度が１０００個／ｍ^３以下、好ましくは１００個／ｍ^３以下、酸性ガス濃度が１μｇ／ｍ^３以下、好ましくは０．１μｇ／ｍ^３以下、塩基性ガス濃度が１μｇ／ｍ^３以下、好ましくは０．５μｇ／ｍ^３以下、沸点８０℃以上の有機物濃度が１μｇ／ｍ^３以下、好ましくは０．５μｇ／ｍ^３以下、絶対湿度は４×１０^−３ｇ／ｇ（２５℃での相対湿度で２０％）以下、好ましくは１×１０^−３ｇ／ｇ（２５℃での相対湿度で５％）以下が望ましい。また、湿度を低くした場合、収納する基板が帯電しやすくなり、その静電気によりＦＥＴ、コンデンサ等の素子が破壊されるおそれがあるので、収納基板に、アースをとるのが望ましい。アースのとり方としては、導電性のウエハキャリアを用いるか、またはウエハキャリアに金属端子を用い各半導体ウエハにアースをとるか、またはウエハキャリア自身に導電性の材料を用いてもよい。

本発明の第一の実施の形態は、複数枚の基板を気密性の高い容器に収納するためのもので、基板の搬出入ドアが側面に配設された構造であり、自動化設備に対応する。自動化に対応するための容器の最低要件としては、（１）外部からドア開閉手段により開閉可能な機構を有したドア、（２）前記ドアと係合し、気密性を保持するための容器本体、（３）前記容器本体内に配設され、基板を一定間隔で保持するための基板保持手段、（４）容器上部に配設され、容器外部からロボットで把持可能な把持手段、（５）容器底部に配設され、装置側の位置決め手段と係合する受容部がある。オプションとして、（６）容器内外の圧力差を無くすための差圧緩和手段、（７）容器を作業者が取り扱うための把持手段、（８）容器側面に配設され、容器外部からロボットで把持可能な把持手段、（９）基板のロット情報などを記憶・通信するための情報通信手段がある。第一の実施の形態は、少なくとも（１）〜（５）までの要件を満足し、更に、容器内の粒子除去手段、ガス状不純物除去手段、除湿手段といった空気調整手段と、電源部品を含んだ運転制御手段を備える。

次に、本発明の第一の実施の形態の具体的な構造について図１〜７を用いて説明する。ラッチ機構を有し、容器外部から施解錠手段により開閉可能なドア１、前記ドア１と係合し、容器本体内気体が空気調整手段に出入りするための開口部２，３を有し、基板４を一定間隔で保持するための保持手段５と一体成型された容器本体６、装置側位置決め手段と係合し、容器を所定の位置に着座させるための受容部７を有した底面受容部８、容器本体６の外側側面に配設された第一の空気調整手段９、第一の空気調整手段９と開口部２，３を覆い容器外環境との隔壁としての機能を持ち、且つ循環流路を形成するためのカバー１０、カバー１０に配設された第２の空気調整手段１１、容器本体６上部に配設されてロボットにより把持可能な第一の把持手段１２、容器本体側面に配設され、人が取り扱うための第二の把持手段１３、容器本体側面に配設され、ロボットが取り扱うための第三の把持手段１４、ドア内面に配設され、基板を固定するための基板固定手段１５、容器本体６の後部、即ちドア１と反対側に配設された電源部１６、ドア１及び／又は容器本体６に配設されるドア開閉検知手段１７が主要な部品であり、本部品が相互に組立てられて基板搬送容器１８が構成されている。

この基板搬送容器１８は、容器本体６の正面に基板搬出入用のドア１を備え、容器本体６の内部に基板４を一定間隔で保持するようになっている。基板４は、容器本体６内に設けられた櫛の歯状の保持部５により一定間隔で保持される（図３参照）。また、基板４はドア１に設けられたばね部材である基板固定手段１５により容器本体６の後面側に向けて押圧されて保持される。

容器本体６の両側面には、容器外環境との隔壁として機能するカバー１０が配置され、カバー１０と容器本体６の側面との間に形成される空間に空気調整手段が配置されている。容器本体６にはカバー１０内の空間と連通する開口２，３を備え、カバー１０内の空気調整手段で調整された空気が容器本体６内の空間を循環するようになっている。カバー１０内の空間には、モータファン１９、有機物濃度を低減するためのケミカルフィルタ２０、微粒子濃度を低減するためのフィルタ２１とからなる空気調整手段９が配置されている。また、固体高分子電解質膜からなる除湿手段１１を備え、容器内部の湿度を制御できるようになっている。このようにして清浄化された空気が基板４の収納部に供給される。

この基板搬送容器１８においては、比較的重量があるカバー１０内の空気調整機構が容器本体６に対して左右対称に配置されており、電源部１６とドア１とが略前後対称に配置されている。従って、ＳＥＭＩ規格で規定したコンパクトな寸法でありながら上述した空気調整機構を備えることが可能となる。また、比較的重量の大きな部分が左右および前後対称に配置されているので、重心がほぼ基板搬送容器の中心と一致し、容器本体６の上面に設けられた把持手段１２により容器を吊り上げた時にも重心が一致するので安定に取り扱うことができる。また、カバー１０には、人が取り扱うための把持手段１３を備え（図７参照）、人手による取り扱いも容易となるようになっている。

電源部１６は、運用方法によって二種類に分けられる。一種類目は、少なくとも二次電池と、電気駆動部品の運転を制御する基板を内蔵し、外部から給電するための給電端子を備えたものである。この電源部は、外部から受電できない場合には二次電池で駆動する。電気駆動部品の運転設定は、内蔵された制御基板により、運転パターンの設定や送風手段の回転数を制御できる。二種類目は、少なくとも外部から給電するための給電端子を備えたものである。この電源部品は、外部から受電可能な場所にあるときだけ送風手段などの電気駆動部品を運転するものである。従って、運転制御基板は、容器又は外部の給電器に配置することができる。必要に応じて、給電端子近傍に情報通信手段を配置しても良い。

空気調整手段は、二つに分類される。第一の空気調整手段は、粒子除去手段、ガス状不純物除去手段、前記除去手段を固定するための保持器と送風手段から構成される。第二の空気調整手段は、除湿手段である。第一の空気調整手段は、容器本体６の側面または、カバー１０の内側に接合される。第二の空気調整手段は、本実施の形態ではカバー１０に接合される。第二の空気調整手段の位置はカバー１０に限定するものではなく、容器本体でもドアでも任意の場所に配置可能である。また、図示しないが、必要に応じて送風手段の上流側に第三の空気調整手段を設けても良い。この第三の空気調整手段は、粒子除去手段、またはガス状不純物除去手段、あるいはこれらの手段の両方と、前記除去手段を固定するための保持器から構成される。第一、二、三の空気調整手段は、左右対称に配置されることが望ましいが、片側に配置しても良い。例えば、第一、二、三の空気調整手段を複数組配置した場合の運転方法として、片方の送風手段及び／又は除湿手段を運転し、もう片方の送風手段及び／又は除湿手段の運転を停止する。これにより、容器内の粒子濃度、ガス状不純物濃度、湿度を調整することができ、更に電池駆動時の運転時間を延長することもできる。

次に、容器内の気体の流れについて説明する。送風手段（ファンモータ）１９によって送られた気体は、ガス状不純物除去手段２０、粒子除去手段２１、第一の流路２２を通り、容器本体６に設けられた開口部３から容器本体６内部に流入する。容器本体６内部に流入した清浄気体は、基板４の中心付近に向かって流れ、続いてドア１付近に設けられた開口部２に流れる。その後、第二の流路２３で近傍に配置された除湿手段（第二の空気調整手段）１１により除湿され、送風手段１９に戻る循環系を形成する。なお、粒子除去フィルタの下流側に、流速の均一化と濾材保護を目的とした多孔板又は網状材料を配置してもよい。

この流路構成の場合、基板４が容器への出し入れのためにドア１が開放しても、ドア１付近に空気調整手段に向かう気流が形成されているため、基板を汚染し難い。送風手段の運転は、光学式、磁気式、または機械式検知手段１７によってドアの開閉を検知し、ドア閉止状態時だけ運転することができる。ドア開放状態時にファンモータを運転すると、各種汚染物を含んだ容器外空気を吸い込むことによってケミカルフィルタの寿命が短くなるのを防止する目的である。また別の目的として、容器内面が容器外空気の流入によって汚染するのを防止する。

検知手段としては、メカニカルスイッチ、近接スイッチ、光電センサ等がある。メカニカルスイッチは、最も一般的な検知手段であり、押しボタン型、ロータリー型、スライド型、ジョイスティック型、トルク型など多種類あり、小型スイッチも市販されている。近接スイッチは、磁界や電界を利用して物体の接近を検知するものである。非接触の検知手段であり、検出物体が金属や非金属である場合に有効である。光電センサは、拡散反射式、ミラー反射式、透過式などがある。拡散反射式は、投光部から出た光が検出物体に当たり、拡散・反射し、反射光の一部が受光部に戻り、動作するものである。ミラー反射式は、投光部から出た光がミラーに反射し、受光部に戻るもので、光を遮る検出物体があると動作するものである。透過式は、投光部と受光部を別々の場所に配置し、投光部と受光部の間を検出物体が遮ることにより検出するものである。上記実施形態では、寸法、形状、価格、信頼性を考慮して、これらの内のいずれかを選択することができる。なお、ドア開閉検知手段１７は、配設を省略することもできる。

次に、各除去手段について説明する。
粒子除去手段としてはエアフィルタを使用する方法が一般的である。ＪＩＳ規格では、対象粒径と捕集効率等によって以下の４種類に大別している。
（１）粗塵用エアフィルタ：主として５μｍより大きい粒子の除去に用いるエアフィルタ。
（２）中性能フィルタ：主として５μｍより小さい粒子に対して中程度の粒子捕集効率を持つエアフィルタ。
（３）ＨＥＰＡフィルタ：定格風量で粒径が０．３μｍの粒子に対して９９．９７％以上の粒子捕集効率を持ち、かつ圧力損失が２４５Ｐａ以下の性能を持つエアフィルタ。
（４）ＵＬＰＡフィルタ：定格風量で粒径が０．１μｍの粒子に対して９９．９９９５％以上の粒子捕集効率を持ち、かつ圧力損失が２４５Ｐａ以下の性能を持つエアフィルタ。

粒子除去手段２１は、ＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタを用いるのが良い。ＵＬＰＡフィルタは一般的にひだ折りした濾材に流路を確保するためのスペーサを設けた構造である。このＵＬＰＡフィルタの圧力損失は、濾材の通気抵抗や濾材の折り込み量、流路の均一性等によって変わる。構造的にフィルタの開口面積が小さくなる場合は、奥行き寸法を大きくし、より多くの濾材を充填してやることにより極力圧力損失が小さいフィルタを用いることが好ましい。濾材もガラス繊維、弗素樹脂等、種々製品化されており、どの濾材を用いても良いが、耐薬品性に優れ、発ガスが少なく、通気抵抗の小さい弗素系樹脂が好ましい。開口面積が大きくできる場合は、奥行き寸法を小さくし、限られた空間を有効に使用するのが良い。

アルミニウム又はステンレス鋼（ＳＵＳ）又は高分子材料で出来た枠材の内側にひだ折りしたＨＥＰＡ又はＵＬＰＡ濾材を充填する。このひだ折り濾材は、濾材の山部にリボンと呼ばれる仕切り材を持つ。リボンにより、一定間隔でひだ折りした濾材を配置でき、濾材を均一に通る空気の流路を確保する。このひだ折りした濾材を枠材に固定する。リボンの代わりに、濾材にエンボス加工して流路を確保したり、リボンを無くしても良い。また、枠材が高分子材料の場合は、接着剤を用いずに、熱融着によって固定しても良い。リボンの変わりに略波型断面形状のセパレータを入れて製作しても良い。また、通気抵抗が許されるならば、濾材をひだ折りせずに、平膜で製作する構造にしてもよい。

粒子除去フィルタ濾材として、ＰＴＦＥ濾材、ガラス繊維、エレクトレット不織布、再生処理品がある。フィルタ構造としてはひだ折り構造(プリーツ、ミニプリーツ)、メンブレン(平膜状)、コルゲート、中空糸膜がある。粒子除去フィルタの使用構造は、濾材を枠材で囲みユニット化する。捕捉した微粒子がフィルタから放出されないように粒子除去フィルタと枠材の間をシールしなければならない。シール材は接着剤を用いる方法が一般的であるが、濾材を枠材に圧接することも可能である。接着剤にはウレタン系、エポキシ系などを使用するが、更に外枠材料が高分子材料の場合は、フィルタ濾材を熱融着する方法もある。

ガス状不純物除去手段２０としては、除去対象物質に応じて種々選択することができる。塩基性ガス除去手段としては、強酸性、弱酸性カチオン交換不織布または繊維、あるいは強酸性、弱酸性カチオン交換ビーズで効率良く除去することができる。また、酸性薬液を添着した活性炭やセラミックでも除去できる。酸性ガスやボロン、リンの除去手段としては、強塩基性、弱塩基性アニオン交換不織布または繊維、あるいは強塩基性、弱塩基性カチオン交換ビーズで効率良く除去することができる。また、塩基性薬液を添着した活性炭やセラミックでも除去できる。有機物は、活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、モレキュラーシーブ、シリカゲル、多孔質セラミックで除去できる。オゾンは、粒状またはシート状の二酸化マンガンを担持または添着したメディアや活性炭などで除去できる。また、ベーパー状でイオン化したメタル、例えば硫酸銅などは、イオン交換不織布やイオン交換ビーズで除去できる。吸着素材構成は除去対象物質とフィルタの許容寸法、形状、圧力損失、寿命などを考慮して適宜選択することができる。

イオン交換不織布や繊維は、例えば、放射線グラフト重合反応によりイオン交換基を導入することによって得ることができる。すなわち、有機高分子で構成される基材、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリマーや綿、羊毛等の天然高分子繊維や織布に、まず電子線やガンマ線等の放射線を照射して多くの活性点を発生させる。この活性点は、非常に反応性が高くラジカルといわれるが、このラジカルに単量体を化学結合させることによって、基材の性質とは別の単量体の持つ性質を付与することができる。

この技術は、基材に単量体を接ぎ足すようになるため、グラフト（接ぎ木）重合と呼ばれる。放射線グラフト重合によって、ポリエチレン不織布基材にイオン交換基であるスルホン基、カルボキシル基、アミノ基等を持つ単量体、例えばスチレンスルホン酸ナトリウム、アクリル酸、アリールアミンなどを結合させると、通常イオン交換樹脂と呼ばれるイオン交換ビーズよりも格段にイオン交換速度の速い不織布のイオン交換体を得ることができる。同様にイオン交換基を導入可能な単量体であるスチレン、クロルメチルスチレン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、アクロレイン等を基材に放射線グラフト重合させた後、イオン交換基を導入しても同様に基材の形状のままでイオン交換体とすることができる。

フィルタ構造としては材料単体、または複数の材料を併用する事が出来る。複数の材料を使用する場合、例えば粒状活性炭とイオン交換不織布がある。イオン交換不織布が粒状または粉状活性炭をはさむようになる。イオン交換不織布はシート状、ひだおり状がある。またウレタン、発泡体、プラスチック、高分子材、金属などに担持させることもある。例えば、ウレタン担持粒状活性炭とウレタン担持イオン交換樹脂、ウレタン担持粒状活性炭とウレタン担持粒状添着活性炭などである。
更に、平板形、ロールコア形、Ｗ字形、円筒形、プレートフィン形、バイパス形、３次元骨格形がある。

次に、除湿剤及び除湿器１１について説明する。本発明では、固体高分子電解質膜を使用した除湿ユニットを配置している。この方法は、除湿側空間の水分子を触媒によって水素と酸素に分解し、所定電圧を印加した固体高分子電解質膜を介して除湿側空間の外側、即ち、放湿側空間に水素を放出して除湿するものである。

固体高分子電解質膜による除湿ユニットの一例を図８に示す。固体高分子電解質膜による除湿ユニットの必須の構成部品は、フランジ電極３１、固体高分子電解質膜３２、触媒層３３である。除湿ユニットは前記部品の他に、フランジ電極３１を固定するための固定フランジ３４とパッキン材３５を含む。本除湿ユニットの特徴は、触媒層３３と固体高分子電解質膜３２が別々に分離されて形成されていることである。固体高分子電解質膜による除湿ユニットの他の一例を図９に示す。この除湿ユニットの特徴は、固体高分子電解質膜３２と多孔性電極３６と触媒３３が一体構造をとることである。具体的な製品例としては、菱彩テクニカ社製のロサール等を用いることができる。

除湿ユニットの形状は、正方形、長方形、円形、楕円形、多角形等どれでも良いが、固体高分子電解質膜Ｓ_ＳＰＥの面積に対するフランジ電極面積Ｓ_Ｆの割合を小さくするように設計することが望ましい。具体的には少なくともＳ_Ｆ／Ｓ_ＳＰＥの値が、０．１以上０．５以下になるように、更に好ましくは０．０１以上、０．３以下になるように設計することが好ましい。また処理ガスが接する除湿面積とフランジ電極面積の比が同じであれば、円形よりも楕円形、正方形より長方形にすることが望ましく、具体的には短軸が長軸の、短辺が長辺の１０％以上９０％以下になるように設計することが望ましい。固体高分子電解質膜としてはプロトンを伝達するものであればよいが、例えばデュポン社製のナフィオン（Nafion）−１１７（登録商標）等の公称膜厚約１７０μｍのものを用いることができる。またナフィオン１１５、ダウケミカル社のＸＵＳ−１３．２０４．１０等を用いても良い。触媒は、性能と耐久性の面から白金属を用いるのが望ましいが、白金担持カーボンや他の白金属金属触媒を用いても良い。多孔性電極に均一な電圧をかけるために必要な電流端子はアルミ、チタン、ステンレスなどが望ましい。またパッキンは、有機物の脱ガスの少ないＰＴＦＥ等を用いるのが望ましい。固定フランジは直接処理ガスに接するため、プロセスガスによる腐食を受ける可能性がある金属は避け、高分子材料を用いることが望ましい。除湿ユニットが腐食性ガスに曝されない場合は、アルミ、チタン、ステンレスでも良い。また外部から触媒や多孔性電極を含む固体高分子電解質膜を直接接触できない様に、開口部を含んだ接触防止ガード等を設けることが望ましい。

空気中の水分を除去する別な方法として、例えばシリカゲル、ゼオライト（合成ゼオライトを含む）、モレキュラーシーブ、炭酸カルシウム、塩化マグネシウムを主成分とした除湿材で除湿することもできる。除湿材を使う場合は、シリカゲルのように再利用できる除湿材で、カートリッジタイプで簡便に交換ができ、自動交換が可能な構造が好ましい。容器を冷却したり、冷却した棒を一定時間容器内に挿入して湿気分を結露水にして回収する方法も考えられる。

いずれの方法も、送風手段によって容器内の気体が流動することにより、より短時間で除湿が可能になる。本発明の実施に当たっては、機器類を配置可能な手段であればどの除湿手段を用いても良い。また、容器本体またはドアに高純度窒素や不活性ガスあるいは乾燥空気の給気、排気ポートを配置し、容器内空気の置換を除湿器と併用すれば、容器内を低湿度にする時間を削減することが可能になる。

また水分を除去する除湿ユニットとして、電気式除湿器と吸湿性の材料(活性炭、イオン交換体、シリカゲルなど)を併せて使用しても良い。これは吸湿性の材料を除湿器により常に乾燥させた状態にしておき、吸湿性材料の持つ最も吸湿速度が大きい初期状態を常に保つためである。更に強制的に不活性ガスを供給する手段を持つ容器の運用がもっとも短時間で急速に除湿する。気体の流れを発生させる手段がファンであっても、ガスパージであっても、基板搬送容器内に基板を収納後、再度取り出すまでの間、少なくとも１回以上好ましくは３回以上循環することが望ましく、収納する基板の要求する環境と基板を収納する前後の容器外環境の汚染度に応じて循環回数を増やせば良い。ファンの消費電力量に制限がない場合は気体の流れは常に循環するようにすることが最も望ましい。尚ここでいう「収納する基板の要求する環境」とは各工程間の搬送環境として歩留まり悪化原因になる汚染物質，具体的には粒子状物質、イオン、ドーパント、有機物、水分をすべてもしくはいずれかを管理濃度以下に低減した環境を容器内に構築することを意味する。

なお、低湿度保持を目的にした場合、容器の材料は、吸水率が小さい材料を使用するのが良い。これは、クリーンルームの一般的な設定条件である２５℃、５０％ＲＨの環境で、基板搬送容器内だけを湿度低下すると、（１）容器を構成する高分子材料中に含まれる水が、湿度勾配によって低い方へ移動する、（２）容器外環境空気に含まれる水が容器内との湿度勾配で透過し、内側に水が移動する、（３）容器接合部からの容器外環境空気の漏れ込み、の３種類の原因によって湿度の低い容器内に移動する。高い気密性を持った基板搬送容器の場合、これらの原因のうち、容器内湿度の上昇に最も影響を与える原因は、（１）の高分子材料に吸水していた水が低湿度側に移動することである。

高分子材料の吸水率測定は一般的にＡＳＴＭ（American Society for
Testing and Materials）Ｄ５７０規格によって実施されており、文献または高分子材料製造メーカのカタログなどに記載されている。基板搬送容器の高分子材料は、ポリカーボネートが良く用いられるが、ポリカーボネートの吸水率は０．２〜０．３％であり、例えば容器本体及びドア重量３ｋｇ中には６〜９ｇの水を含む計算になる。吸水率を少なくとも０．１％以下の材料で成型することにより、容器内に持ち込まれる水の量を低減することが可能であり、除湿器の性能向上にも寄与する。吸水率０．１％以下の高分子材料は、ポリエチレン＜０．０１％、ポリプロピレン０．０３％、ポリブチレンテレフタレート０．０６〜０．０８％、ポリフェニレンスルフィド０．０２％、ポリテトラフルオロエチレン＜０．０１％、カーボンを２０％添加したポリカーボネート０．１％、カーボンを２０％添加したポリブチレンテレフタレート０．０５％などがある。このうち、基板搬送容器には、耐薬品性、高温特性に優れ、成型収縮率の低いポリフェニレンスルフィドやポリブチレンテレフタレートまたは前記材料にカーボンを添加した材料を用いるのが好ましい。本材料は前記機能を満足するものであれば異なる材料を混合したアロイ材料でも良い。

また、低湿度にすると、ウエハが帯電しやすくなるので、少なくともウエハに接するウエハ支持部材とウエハ支持部材から容器下部の接地部に接続する部分は、カーボンまたは他の導電性材料を添加した導電性材料が特に好ましい。高分子材料は一般的に、表面抵抗率が１×１０^３〜１×１０^８Ωの材料を静電気導電性材料、１×１０^５〜１×１０^１２Ωの材料を静電気拡散性材料、１×１０^１２Ω以上の材料を絶縁性材料として分類する。また、体積抵抗率が１×１０^２〜１×１０^５Ω・cｍの材料を静電気導電性材料、１×１０^４〜１×１０^１１Ω・cｍの材料を静電気拡散性材料、１×１０^１１Ω・cｍ以上の材料を絶縁性材料として分類する。本発明では、表面抵抗率が１×１０^１０Ω以下、体積抵抗率が１×１０^９Ω・cｍ以下、更に好ましくは表面抵抗率が１×１０^８Ω以下、体積抵抗率が１×１０^７Ω・cｍ以下が望ましい。更に、ガス状不純物捕捉素子として用いるイオン交換不織布や活性炭は、製造直後の状態で水を吸着しているので、予め脱水処理をして使用するのが好ましい。

上記のように、容器に各種除去手段や電源部１６等を搭載すると、基板搬送容器の重心位置がフィルタ側に移動する。重心位置が一方に片寄った状態で、例えばロボット把持手段１２を掴んでＯＨＴなどで搬送しようとすると、ＯＨＴのホイストなどに悪影響を及ぼす恐れがある。このような問題が起こらないように、除去手段や電源部１６等の部品は軽量化することが望ましい。更に、電源部の反対に位置するドア１及び／又は容器本体６の開口部付近にバランスウエイトを配置しても良い。別の方法として、例えばドア１に内蔵されるラッチ機構の材料を例えば金属製にしてドア１を重くし、重心位置を修正しても良い。このような対策により、基板搬送容器の水平方向の重心位置は、収納する基板の中心から少なくとも基板半径の９０％の半径を持つ円の内側に収まるように、更に望ましくは基板半径の７０％の半径を持つ円の内側に収まるように調整することが望ましい。

電源部の側面には、電気を給電するための端子を有する。電源部には、少なくとも二次電池を充電する機能が必要である。望ましくは、送風手段や除湿器を運転するための給電を同時に、別系統で行うのが好ましい。一般的に二次電池は、充放電を繰り返すと電池容量が徐々に低下する。外部電源接続時に、電池を放電することなく電気駆動部品を運転することにより、電池の容量低下を遅らせることができる。これにより、二次電池の交換頻度を少なくすることができる。一方、別な運転方法として電池を搭載せずに、外部電源接続時だけ運転するようにしても良い。二次電池及び運転制御基板を削減することができ、製品コストの低減に繋がる。外部電源からの給電端子の位置は、本実施例に限定するものではなく、どこに配置しても良い。送風手段の運転設定としては、容器の使用状況に応じて適宜の態様が考えられる。一般に、初期には連続的にあるいは１０分間に１回以上、望ましくは１分間に１回以上１０回以下循環するような運転にすることが望ましい。こうすることにより積極的に容器内部に持ち込まれた汚染を除去する運転を行なう。ある程度の時間が経過した後には、流速を小さくしたり、運転を間欠的に行なったりして、収容された基板Ｗや基板搬送容器内の構成部品から生成する汚染を防止する運転を行なう。これにより、送風手段の消費電力が節約でき、結果として二次電池の充電頻度を少なくすることができる。

本発明の第二の実施の形態を図１０〜図１３に示す。第一の実施の形態との主な相違点は、人が取り扱うための第二の把持手段１３が独立して配設されていることである（図１０、１１参照）。その他、空気調整手段、流路構成については第一の実施の形態と基本的に同じである。

次に、本発明の第三の実施の形態を図１４〜図１７に示す。第一の実施の形態との主な相違点は、基板４を一定間隔で保持するための保持手段５と容器本体６が独立した部品になっていることと、粒子除去手段２１とガス状不純物除去手段２０と送風手段１９が独立して配置されていることである（図１７参照）。このようにしても、コンパクトな構造で、且つ空気調整機構を備えた構造とすることができる。

次に、本発明の第一〜第三の実施の形態に示した容器の給電方法について図１８〜図２２を用いて説明する。半導体製造装置へ基板を搬入・搬出することは、専用のロードポートから実施される。基板搬送容器１８がロードポート５１に着座した状態を図１８に示す。図１８には、基板搬送ロボット５２、ドアオープナ５３、ＵＬＰＡフィルタ５４、ガス除去フィルタ５５、送風機５６を含んだエンクロージャ５７も記載している。基板搬送容器１８は、可動台５８に配設された位置決めピン５９により所定の位置に載置される。その後、可動台５８上に配設されたクランプ手段により基板搬送容器は固定され、可動台と一緒にドアオープナ５３の方向に前進し、ドア開放が可能な状態になる（図１８はこの状態である）。ロードポートには充電器６０を配置する。図１９に給電部６１周辺の拡大図を示す。基板搬送容器１８がロードポート５１上の所定の位置に着座すると、可動台５８に配設された給電部６１から給電端子６３が駆動手段６４によって移動し、受電部６２と接触することにより給電を行う。給電端子６３が移動する前に、基板搬送容器１８が給電を必要とするかどうかを識別するための識別手段を給電部６１に配設することが望ましい。このように、給電端子が給電時以外には格納され、給電時のみ進出することにより、給電端子６３が破損するのを防止することが可能になる。さらに安全対策として、前記識別手段により、給電端子６３への通電を制御しても良い。ただし、ロードポートと基板搬送容器との位置関係によっては、図１９，２０のように給電端子が側面にあるのではなく下部にあっても良い。さらに、給電端子が下部にある場合は、給電端子を格納せずに突出したままであっても良い。給電端子は、少なくとも、装置側又は基板搬送容器側で、スプリングで押し付けるか、または、金属端子自身がバネ作用を持つものが望ましい。

図２０に別な給電方法例を示す。図１９に示す方法との違いは、非接触状態で給電することである。非接触給電の原理を図２１に示す。導線（コイル）のまわりで、磁界が変化すると、電圧が生じ電流が流れる。これが電磁誘導の原理である。一次側コア７１に一次側コイル７２を巻きつけ、交流電流を流す。交流電流は一定の周期で流れる方向が変わるため、この変化により一次側コア７１周辺の磁束が変化し、二次側コア７３周辺の磁束も変化する。この結果、二次側コイル７４に電流が発生する。原理的に磁束変化により電流が誘導されるので、一次側コア７１と二次側コア７３は非接触で給電できる。電気カミソリ、電動歯ブラシ、電気自動車の給電方法として実績がある。電磁誘導式給電の特徴は、非接触構造にできるため端子が磨耗しないこと、スパークが発生しないこと、感電の心配がないこと、及び水気の多い所でも、ショートしないことが挙げられる。また、スパーク等による発塵によってクリーンルーム内が汚染されることを防止できる。

図２２に別な給電方法例を示す。図２０と同様に非接触給電であるが、受電端子６２が容器底部に配置されていることである。なお、給電端子の場所や構造は前記例に限定するものではない。例えば無人搬送車の上に基板搬送容器１８が置かれてプロセス装置間を基板搬送容器が搬送されている間、無人搬送車に搭載されたバッテリー又は外部電源から基板搬送容器内部のファンモータに給電されて、基板搬送容器内部の空気が循環される。また、更にプロセス装置に基板搬送容器が置かれて待機している場合はプロセス装置のバッテリー又は外部電源から給電してもよい。充電においても同様である。また、ここでいう給電装置は、単に充電や受電する充電器だけではなく、充電機能を備えたロードポート、一時保管装置、半導体製造装置、自動搬送装置、手動搬送装置、性能検査装置などを含むものである。

次に、可動式給電機構について、図２３Ａ、Ｂ乃至図２６を用いて具体的に説明する。
図２３Ａ、Ｂは、モータとギアと直動式スライドウェイを用いた可動式給電機構である。図２３Ａは端子格納時を示し、図２３Ｂは給電時を示す。給電部６１の上方に基板搬送容器１８が位置し、その受電端子６２と給電端子６３とが対面する位置に置かれる。図２３Ａに示す端子格納時には給電端子６３は給電部６１内に収容されているが、モータ７５が回転するとギア７６を介して可動側のスライドウェイ７７ｂが固定側のスライドウェイ７７ａに沿って移動し、給電端子６３が受電端子６２に接触する（図２３Ｂ参照）。これにより、基板搬送容器１８への給電が行われ、給電が終了した場合には再びモータ７５の回転により給電端子６３が給電部６１内に収容され、その表面から突出しないようになっている。制御基板７８はこの給電動作の制御を行い、また運転状態の表示等を行うためのものである。

図２４Ａ、Ｂは、モータとウォームギアとウォームホイールとを用いた直動式可動給電機構である。図２４Ａは端子格納時を示し、図２４Ｂは給電時を示す。図２４Ａに示すように、給電端子６３は端子部６１内に収容されている。そして、モータ７５が回転すると、ウォームギア７９ａが回転し、これに伴いウォームホイール７９ｂが回転する。ウォームホイール７９ｂはストッパ７９ｃを備えており、ウォームホイール７９ｂの回転によりストッパ７９ｃが可動台８０ａを可動台ガイド８０ｂに沿って移動させ、給電端子６３が受電端子６２に接触する（図２４Ｂ参照）。この時、リターンスプリング８０ｃが伸びた状態にあり、給電が終了するとこのばね力により図２４Ａに示すようにもとの位置に戻される。

図２５Ａ、Ｂは、エア駆動方式の可動式給電機構である。給電端子部６１には、エアシリンダ８１と、給排気チューブ８２ａ，８２ｂとを備え、給電端子６３が上下に移動可能となっている。図２５Ａは端子格納時を示し、図２５Ｂは給電時を示す。エアシリンダ８１の動作は図２６に示すようにシリンダ室８１Ａにソレノイド弁８２ａおよびニードル弁８３ａを介してエア圧が与えられることにより、ピストン８１ｐが図の左方向に移動し、これによりロット８１ｄに固定された給電端子６３が移動する。この時、シリンダ室８１Ｂのエアはニードル弁８３ｂおよびソレノイド弁８２ｂを介して排気される。逆に、シリンダ室８１Ｂにソレノイド弁８２ｂおよびニードル弁８３ｂを介してエア圧が与えられると、これによりピストン８１ｐが図中の右方向に移動し、これに伴い給電端子６３も右方向に移動する。この方式によれば、シリンダ・コントロール・ユニット８３が必要である。

いずれの方式も、端子破損防止及び擦れや接触による発塵低減の観点から、装置側給電端子の平均移動速度を０．１ｃｍ／ｓｅｃから５ｃｍ／ｓｅｃの範囲内に調整するのが良い。従って、いずれの方式においても、給電時以外は給電端子を給電端子部（ハウジング）６１内に収容することができるので、安全な操業が可能となる。なお、給電端子表面は、クリーンルームの金属汚染を防ぐために、表面を金メッキ、ニッケル下地金メッキ、ロジウムメッキされているものが望ましい。

更に外部から給電する場合、基板搬送容器の存在と給電の要否を確認し、または外部電源コネクタと、基板搬送容器の電源受電端子が接続されていることを確認してから電源を供給することが望ましい。クリーンルームで使用されるので、電気端子間でスパークすると、金属微粒子が発生してクリーンルームを汚染するからである。

図２７は、本発明の第４の実施形態の基板搬送容器の底面を示す。この基板搬送容器の基本的な構成は図１乃至図７に示す第１の実施形態の基板搬送容器と同様である。この基板搬送容器は、その底面に給気ポート９０ａと排気ポート９０ｂとを備え、容器内部に不活性ガスを給排気することが可能となっている。すなわち、給気ポート９０ａおよび排気ポート９０ｂは、例えばパージポートに接続され、不活性ガス（例えばＮ_２ガス）によるガスパージが可能となっている。給気ポート９０ａおよび排気ポート９０ｂには、いずれも逆止弁を備え、ガスが一方向にのみ流れ、逆流しないようになっている。なお、仕様によっては逆止弁を設けず、粒子除去フィルターのみあるいは粒子除去とガス状不純物除去フィルターとを組み合わせたフィルターが付いただけの給排気ポートの場合もありうる。

図２８Ａは、給気ポート９０ａの逆止弁９５がスプリング９７のばね力により閉じている状態を示し、容器外側９２から容器内側９１へのガス流は存在しない。図２８Ｂは逆止弁９５が開いている状態を示し、この時は容器外側９２の圧力が容器内側９１の圧力よりも高く、スプリング９７のばね力に抗して逆止弁９５が開かれ、ガス流が図中矢印で示すように形成される。このガス流は粒子除去フィルタ９４を通して容器内側９１に供給される。

図２９Ａは排気ポート９０ｂの逆止弁が閉じている状態を示し、図２９Ｂは逆止弁が開いている状態を示す。排気ポート９０ｂにおいては、容器内側９１の圧力が容器外側９２の圧力とスプリング９７のばね力との合計よりも高くなるとスプリング９７のばね力に抗して逆止弁９５が開かれ、図中矢印で示すように容器内側９１のガスが容器外側９２に流れる。容器内側の圧力がスプリング９７のばね力よりも低いときには、逆止弁９５は容器隔壁９３の受け部との間にＯリング９６によりシールされて、容器外側から容器内側へのガスの逆流が防止される。なお、ここでは給気ポートと排気ポートを各１個取付ける例について説明したが、各２個以上取付けるようにしてもよい。また、底面以外にも取付けることが可能である。

気密性の高い容器内を乾燥ガス、即ち乾燥空気または水分を含まない不活性ガスと置換すると、置換直後は湿度は略０％の限界湿度まで低下する。しかしながら、この状態で乾燥ガスの供給を停止して放置しておくと、容器内壁面の高分子材料が保持している水分が湿度勾配によって容器内部に拡散する。従って、乾燥ガスにより置換した容器内部の湿度は、時間の経過と共に増大する。一例として、乾燥ガスによる置換後に略０％の相対湿度が従来の市販ＰＣ（ポリカーボネート）容器を使用した場合には、数時間後には３０％以上に上昇することを示している。吸水率０．０２％のポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）を使用することで、乾燥ガスにより置換直後の略０％の相対湿度は数時間以上経過しても略１２％程度に留まり、顕著な湿度上昇抑制効果が確認された。これにより保管搬送時の容器内湿度が上昇することが防止できることは明らかである。尚、自然酸化膜の成長は暗所で保管することにより抑制効果があることが知られている。このため、容器本体を構成する材料は、光透過性材料よりも光遮断性材料を用いることが好ましい。

また、基板搬送容器の内部は、通常空気で満たされるが、酸素量を制限した不活性ガス等を使用することで、銅の酸化を防止することができる。その酸素量としては、１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。

次に、本発明の基板搬送容器の使用に好適な工程例を示す。
図３０は、銅配線と低誘電率絶縁膜を用いた半導体チップの配線形成工程例を示す。図３０に示すように、半導体素子を形成した半導体基板１０１上の導電層の上に有機膜あるいは多孔質膜からなる絶縁膜１０２をＣＶＤ（化学蒸着装置）あるいはコータにより堆積する（ステップＡ）。次に、プラグ膜等を必要に応じて形成した後に、コータによりその上にレジスト１０３を塗布し、乾燥させる（ステップＢ）。その次に、ステッパにより露光させた後（ステップＣ）、現像してレジストのパターン１０４を絶縁膜１０２上に形成させる（ステップＤ）。次に、エッチングにより絶縁膜１０２に、コンタクトホールと配線用の溝１０５を形成し（ステップＥ）、レジストを除去した後に、その上にＴａＮ等からなるバリア層、更にその上に電解めっきの給電層として銅シード層１０６を形成する（ステップＦ）。

そして、半導体基板１０１の表面に銅めっきを施すことで、絶縁膜１０２のコンタクトホール及び溝の内部に銅を充填させるとともに、絶縁膜上に銅層１０７を堆積させる（ステップＧ）。その後アニールを行った後に（ステップＨ）、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）により、絶縁膜上の銅層を除去して、コンタクトホールおよび配線用の溝に充填させた銅層１０７の表面と絶縁膜の表面とをほぼ同一平面にする（ステップＩ）。この工程を配線層分繰り返すことで、６〜８層といった多層配線が形成される。

低誘電率絶縁膜が空気に曝露している場合、空気中の絶対湿度は４×１０^−３ｇ／ｇ
（２５℃での相対湿度で２０％）以下、更に好ましくは１×１０^−３ｇ／ｇ（２５℃での相対湿度で５％）以下が望ましい。
銅膜が空気に曝露している場合、空気中の絶対湿度は４×１０^−３ｇ／ｇ（２５℃での相対湿度で２０％）以下、更に好ましくは１×１０^−３ｇ／ｇ（２５℃での相対湿度で５％）以下が望ましい。さらに沸点８０℃以上の有機物濃度は、１μｇ／ｍ^３以下、望ましくは０．５μｇ／ｍ^３以下が望ましい。酸素濃度は、１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。
レジスト膜が空気に曝露している場合、少なくとも塩基性ガス濃度は、１μｇ／ｍ^３以下、好ましくは０．５μｇ／ｍ^３以下が望ましい。

また、湿度が低い場合、静電気が発生しやすくなり、その静電気によりＦＥＴ、コンデンサ等の素子が破壊されるおそれがあるので、各半導体ウエハに、アースをとるのが望ましい。アースのとり方としては、導電性のウエハキャリアを用いるか、またはウエハキャリアに金属端子を用い各半導体ウエハにアースをとるか、またはウエハキャリア自身に導電性の材料を用いてもよい。
更に、ウエハのＩＤ、履歴、ステータスを各バッチごとに管理するために基板搬送容器にメモリチップを搭載させて、プロセスデータを管理させてもよい。

次に、基板搬送容器内における半導体ウエハの各種の除電方式について説明する。図３１Ａに示すように、Ｐｏｄにおいてのウエハ除電は容器内でウエハを支える保持部５０４を介して装置側ヘアースする。保持部５０４は、基板搬送容器本体５０１を含む一体構造のため、該保持部を含めて一体を導電性材料により構成する。また、保持部５０４と、基板搬送容器本体５０１が別部材の場合には、図３１Ｂに示すように、保持部５０４と基板搬送容器本体５０１とをそれぞれ導電性部材で構成し、更にこれらを導電性材料５２３を用いて電気的に接続する構造にすることが好ましい。更に、図３１Ｃに示すように、容器本体５０１はその底部５０１ａのみを導電性材料にしてもよい。また、図３１Ｄに示すように、保持部５０４が接している基板搬送容器部分５０１ｂのみ、導電性材料にしてもよい。

他の基板搬送容器の除電方法は、図３１Ｅに示すように、基板位置ずれ防止用の固定具５１５とドア５０２を導電性材料にして、ドアから容器を載置した装置にアースするものである。また、図３１Ｆに示すように、固定具５１５のみを導電性材料で形成し、固定具５１５からアース端子５２４に接続し、これを容器底部から外部へつながるアースとしてもよい。

さらに他の除電方法は、図３１Ｇに示すように、ＯＨＴ搬送する際の取手であるロボティックハンドリングフランジ５１２を介してである。保持部５０４と、フランジ５１２が導電性材料で一体成形されており、ウエハの電荷は、保持部５０４−フランジ５１２を介してＯＨＴにアースされる。また、図３１Ｈに示すように、フランジ５１２と保持部５０４を別部材とし、それらを電気的に接続するため、容器５０１の一部５０１ｃを導電性材料にしてもよい。更に、フランジ、保持部に接する容器本体の一部５０１ｃのみを導電性材料にしてもよい。

以上説明したように本発明によれば、自動化された半導体製造工場において集積回路の製造等に用いて好適な基板搬送容器およびその運用方法が提供される。従って、半導体基板等の搬送や保管を良好な状態で行える。また、本発明によれば、半導体ウエハのみならず、フォトマスクやハードディスク等の被処理物を、極めて清浄度の高い雰囲気下で、保管または搬送するのに好適な基板搬送容器が提供される。

本発明は、半導体ウエハ、フォトマスクまたはハードディスク等の被処理物を極めて清浄度の高い雰囲気下で保管または搬送するのに使用して好適な基板搬送容器の構造、性能及びその運用方法に関する。

図１は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示す平面図である。 図２は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示す側面図である。 図３は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示すＡ−Ａ断面図である。 図４は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示すＢ−Ｂ側面図である。 図５は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示す背面図である。 図６は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示す底面図である。 図７は、本発明の第一の実施の形態の基板搬送容器を示すＣ−Ｃ断面図である。 図８は、固体高分子電解質膜による除湿器の分解図である。 図９は、固体高分子電解質膜による他の除湿器の分解図である。 図１０は、本発明の第二の実施の形態の基板搬送容器を示す平面図である。 図１１は、本発明の第二の実施の形態の基板搬送容器を示す側面図である。 図１２は、本発明の第二の実施の形態の基板搬送容器を示すＤ−Ｄ側面図である。 図１３は、本発明の第二の実施の形態の基板搬送容器を示すＥ−Ｅ断面図である。 図１４は、本発明の第三の実施の形態の基板搬送容器を示す平面図である。 図１５は、本発明の第三の実施の形態の基板搬送容器を示す側面図である。 図１６は、本発明の第三の実施の形態の基板搬送容器を示すＦ−Ｆ側面図である。 図１７は、本発明の第三の実施の形態の基板搬送容器を示すＧ−Ｇ断面図である。 図１８は、本発明の基板搬送容器がロードポートに着座した状態を示す側面図である。 図１９は、本発明の基板搬送容器の給電方法を示す側面図である。 図２０は、本発明の基板搬送容器の他の給電方法を示す側面図である。 図２１は、非接触給電の原理を示す概念図である。 図２２は、本発明の基板搬送容器の更に他の給電方法を示す側面図である。 図２３Ａ、２３Ｂは、モータとギアと直動式スライドウェイを用いた可動式給電機構を示す図である。 図２４Ａ、２４Ｂは、モータとウォームギアとウォームホイールとを用いた可動給電機構を示す図である。 図２５Ａ、２５Ｂは、エア駆動方式の可動式給電機構を示す図である。 図２６は、エアシリンダの給排気機構を示す図である。 図２７は、本発明の第四の実施の形態の基板搬送容器を示す底面図である。 図２８Ａは、給気ポートにおける逆止弁が閉じた状態を示し、図２８Ｂは、開いた状態を示す。 図２９Ａは、排気ポートにおける逆止弁が閉じた状態を示し、図２９Ｂは、開いた状態を示す。 図３０は、銅配線と低誘電率絶縁膜を用いた半導体チップの配線形成工程例を示す図である。 図３１Ａ乃至図３１Ｈは、基板搬送容器の各種除電方法を示す図である。

Claims (10)

1. 容器本体の一側面に基板搬出入用のドアを備え、基板を前記容器本体内に一定間隔で水平に保持するようにした、自動化設備に対応する基板搬送容器において、
   前記容器本体の側面が四面からなり、その前面に前記ドアを備え、後面に電源ユニットを備え、その他の２面に外部環境と隔離するカバーを取付け、該カバー内に空気調整装置を備え、該空気調整装置は、送風装置と、粒子除去フィルタと、ガス状汚染物質除去フィルタとからなり、
   前記カバー内の前記容器本体の四面からなる側面の前面及び後面を除く残りの２面に、前記容器本体内部の前記ドア付近に連通する開口と、前記容器本体内部の後面側に連通する開口とを設け、前記空気調整装置で調整した空気が前記容器本体の四面からなる側面の前面及び後面を除く残りの２面の後面側の開口から前記容器本体内部の前記基板の中心に向かって流れ、続いて前記ドア付近に設けられた開口から前記カバー内に循環させるようにしたことを特徴とする基板搬送容器。
2. 前記容器内の湿度を調整する手段をさらに前記カバー内に備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
3. 前記基板を保持する保持部材と前記容器本体とが一体成形されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
4. 前記基板を保持する保持部材と前記容器本体とが静電気導電性材料又は静電気拡散性材料で形成されたことを特徴とする請求項３に記載の基板搬送容器。
5. 前記基板を保持する保持部材と前記容器本体とが別部材として構成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
6. 前記容器本体が吸水率０．１％以下の材料で形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
7. 前記湿度を調整する手段として、固体高分子電解質膜を用いたことを特徴とする請求項２に記載の基板搬送容器。
8. 前記容器本体に、逆止弁を有する給気ポートと排気ポートとを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
9. 把持手段が、人手による取扱いのために、前記カバーに設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。
10. 前記電源への給電が、非接触の電磁誘導により行われることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送容器。

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