KR101004812B1 - 반도체 소자의 실리사이드 형성 방법 - Google Patents
반도체 소자의 실리사이드 형성 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
상기 질소를 이용한 2차 PAI 공정은 0~90°의 틸트를 주어 실시할 수 있다.
상기 질소를 이용한 2차 PAI 공정은 포토레지스트 패턴을 이용하여 STI 코너부에만 선택적으로 이온주입되도록 할 수 있다.
상기 확산방지용 이온으로 질소이온을 사용할 수 있다.
상기 확산방지용 이온을 주입하는 단계에서, 상기 확산방지용 이온이 상기 필드산화막의 코너부에 주입되도록 4회에 걸쳐 방향을 전환하면서 실시할 수 있다.
Claims (7)
- 반도체기판의 비활성영역에 필드산화막을 형성하는 단계;상기 반도체기판의 활성영역에 게이트 및 소오스/드레인을 형성하는 단계;상기 게이트 및 소오스/드레인이 형성된 반도체기판 상에, 실리사이드 형성 영역을 오픈시키는 블로킹막을 형성하는 단계;상기 블로킹막을 마스크로 하여, 상기 실리사이드 형성 영역을 비정질화시키기 위한 이온을 주입하는 단계;상기 반도체기판에 실리사이드용 금속의 확산을 방지하기 위한 확산방지용 이온을 주입하는 단계;상기 반도체기판을 세정하는 단계;세정을 실시한 반도체기판의 결과물 상에 실리사이드용 금속막을 형성하는 단계; 및상기 실리사이드용 금속막이 형성된 반도체기판을 열처리하여 실리사이드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 실리사이드 형성 방법.
- 제1항에 있어서,상기 확산방지용 이온을 주입하는 단계에서,0 ~ 90°의 틸트를 주어 실시하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 실리사이드 형성 방법.
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- 제1항에 있어서,상기 확산방지용 이온을 주입하는 단계에서,포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 필드산화막의 코너부에만 선택적으로 이온주입되도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 실리사이드 형성 방법.
- 제1항에 있어서,상기 확산방지용 이온으로 질소이온을 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 실리사이드 형성방법.
- 제1항에 있어서,상기 확산방지용 이온을 주입하는 단계에서,상기 확산방지용 이온이 상기 필드산화막의 코너부에 주입되도록 4회에 걸쳐 방향을 전환하면서 실시하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 실리사이드 형성방법.
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