KR101002677B1 - 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법 - Google Patents

간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101002677B1
KR101002677B1 KR1020080115235A KR20080115235A KR101002677B1 KR 101002677 B1 KR101002677 B1 KR 101002677B1 KR 1020080115235 A KR1020080115235 A KR 1020080115235A KR 20080115235 A KR20080115235 A KR 20080115235A KR 101002677 B1 KR101002677 B1 KR 101002677B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
aberration
function
astigmatism
coma aberration
coma
Prior art date
Application number
KR1020080115235A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090058448A (ko
Inventor
타카유키 사이토
종타오 게
Original Assignee
후지논 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지논 가부시키가이샤 filed Critical 후지논 가부시키가이샤
Publication of KR20090058448A publication Critical patent/KR20090058448A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101002677B1 publication Critical patent/KR101002677B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
    • G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
    • G11B7/1372—Lenses
    • G11B7/1378—Separate aberration correction lenses; Cylindrical lenses to generate astigmatism; Beam expanders
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02—Testing optical properties
    • G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G01M11/0271—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by using interferometric methods
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
    • G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
    • G11B7/1372—Lenses

Abstract

간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 해석적으로 구하여 피검 렌즈의 파면 수차의 측정 결과를 보정할 수 있도록 한다.
피검 렌즈(5)를 측정 광축(C)에 대해서 서로 90°만큼 이격된 2개의 회전 위치에 유지해서 각각의 측정을 행하고, 획득된 제 1 및 제 2 수차 함수를 자이델 수차에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 제 1 및 제 2 비점 수차 함수를 구한다. 제 1 비점 수차 함수와 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 제 3 비점 수차 함수를 구하고, 그 2분의 1에 대응한 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구한다.
간섭계 장치, 시스템 오차, 파면 수차, 코마 수차, 비점 수차

Description

간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법{SYSTEM ERROR CALIBRATION METHOD OF INTERFEROMETER}
본 발명은 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치의 시스템 오차를 교정하는 방법에 관한 것으로서, 특히, 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차(Astigmatism) 성분 및 코마 수차 성분과, 피검 렌즈에 고유한 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분을 분리해서 구하는데 적합한 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법에 관한 것이다.
종래, CD나 DVD 등의 광 디스크용 대물 렌즈의 광학 성능을 조사하기 위해서 간섭계 장치를 이용한 투과 파면 측정이 행해지고 있다. 예를 들면, 평면파를 구면파로 변환하도록 설계된 피검 렌즈를 측정하는 경우에는 평행 광속 중에 피검 렌즈를 배치하고, 피검 렌즈를 투과해 참조 구면에서 반사된 피검광(투과 파면)을 참조 기준면으로부터의 참조광(참조 파면)과 간섭시켜 획득된 간섭 무늬 화상에 의거하여 피검 렌즈의 파면 수차를 측정한다.
이러한 투과 파면 측정에 있어서는 간섭계 장치의 시스템 오차(참조 기준 평면이나 참조 구면의 형상 오차 등)에 기인하는 수차 성분이 측정 결과에 중첩되게 되므로 고정밀한 측정 결과를 획득하기 위해서는 시스템 오차를 가능한 한 억제하는 것이 기대되지만 가공 정밀도상 시스템 오차를 완전하게 없애는 것은 매우 곤란하다.
종래, 이러한 시스템 오차의 영향을 저감하고 피검 렌즈의 파면 수차를 고정밀도로 측정할 수 있는 방법으로서 하기 특허 문헌 1에 기재된 방법이 알려져 있다. 이 방법에 의하면, 피검 렌즈를 광축 둘레로 소정 각도(비점 수차 성분을 구하는 경우에는 90°, 코마 수차 성분을 구하는 경우에는 180°) 회전시켜 회전 전후의 2위치에 있어서 획득된 각각의 측정 파면의 차의 2분의 1을 구하고, 그것을 체르니케(Zernike) 다항식으로 전개했을 때의 비점 수차 계수 및 코마 수차 계수에 의해 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 구할 수 있게 되어 있다.
상기 특허 문헌 1에 기재된 방법에 의하면 획득된 측정 파면 데이터로부터 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분의 영향을 결과적으로 제거는 할 수 있지만 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 구하는 것에 대해서는 고려되지 않고 있다.
이 때문에, 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 고정밀도로 구하기 위해서는 측정 대상이 되는 피검 렌즈마다 그 때마다 2개의 회전 위치에 있어서의 투과 파면 측정을 행할 필요가 있다.
한편, 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 구할 수 있으면 임의의 회전 위치에 있어서의 1회의 투과 파면 측정에 의해서 획득된 파면 수차 결과를 보정함으로써 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 고정밀도로 구하는 것이 가능하게 되므로 측정이나 연산에 필요한 시간을 대폭 단축하는 것이 가능하게 된다.
본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 해석적으로 구해서 피검 렌즈의 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것이 가능한 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 제 1 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법은 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시 스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분을 해석적으로 구해서 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것으로서,
상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고,
상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 90°만큼 회전시킨 비교용 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고,
상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 비점 수차 함수로서 구하고,
상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 비점 수차 함수로서 구하고,
상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 비점 수차 함수로서 구하고,
상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 제 2 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법은 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 코마 수차 성분을 해석적으로 구해서 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것으로서,
상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고,
상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 180°만큼 회전시킨 비교용 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고,
상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 제 3 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법은 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분을 해석적으로 구해서 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것으로서,
상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고,
상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 90°만큼 회전시킨 비교용 제 1 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 1 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 제 1 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고,
상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 180°만큼 회전시킨 비교용 제 2 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 2 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용의 제 2 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 3 수차 함수를 구하고,
상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 비점 수차 함수, 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 코마 수차 함수로서 각각 구하고,
상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 비점 수차 함수로서 구하고,
상기 제 3 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 비점 수차 함수로서 구하고,
상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하고, 상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수로 해서 상기 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거 하여 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 제 1 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법에 있어서, 상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 비점 수차 함수로서 구하고, 그 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수로 해서 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 구하는 것에 의해서도 좋다.
본 발명에 따른 제 2 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법에 있어서, 상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 코마 수차 함수로서 구하고, 그 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수로 해서 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 구하도록 해도 좋다.
본 발명에 따른 제 3 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법에 있어서, 상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 비점 수차 함수로서 구하고, 상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 코마 수차 함수로서 구하고,
상기 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수로 해서 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 구하고, 상기 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수로 해서 그 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 구하도록 해도 좋다.
<발명의 효과>
본 발명에 따른 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법에 의하면, 상술한 구성을 구비함으로써 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 해석적으로 구할 수 있으며, 구해진 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분에 의거하여 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것이 가능해진다.
구해진 시스템 고유의 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분의 값은 정기적으로 재검토할 필요가 있지만 복수회의 피검 렌즈에 따른 투과 파면 측정에 있어서 획득된 파면 수차에 측정 결과의 보정에 이용하는 것이 가능하다.
따라서, 종래 방법과 같이 상정 대상이 되는 피검 렌즈마다 다른 2개의 회전 위치에 있어서의 투과 파면 측정을 행함이 없이 피검 렌즈에 고유한 비점 수차 성분이나 코마 수차 성분을 고정밀도로 구하는 것이 가능해진다.
이하, 본 발명에 따른 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시형태를 적용한 간섭계 장치의 개략 구성도이다.
도 1에 도시하는 간섭계 장치(1)는 평면파를 구면파로 변환하도록 설계된 피검 렌즈(5)의 투과 파면 측정을 행하는 피조(fizeau) 타입의 것이며 광간섭부(10)와 촬영부(20)와 해석부(30)를 구비하여 이루어진다.
상기 광간섭부(10)는 레이저 광원 등으로 이루어지는 광원부(11)와, 빔 지름 확대용 렌즈(12)와, 광속 분할면(13a)을 갖는 빔 스플리터(13)와, 발산 광속을 콜리메이팅하는 콜리메이터 렌즈(14)와, 참조 기준 평면(15a)을 갖는 투과형 기준판(15)과, 피검 렌즈(5)를 유지하는 탑재대(16)와, 피검 렌즈(5)로부터의 투과 파면을 재귀(再歸) 반사시키는 참조 기준 구면(17a)을 갖는 구면 반사경(17)을 구비하고, 투과형 기준판(15) 및 피검 렌즈(5)를 투과해서 참조 기준 구면(17a)에서 반사되어 다시 피검 렌즈(5)를 투과해서 도면 중 하방으로 진행하는 투과 파면과, 참조 기준면(15a)에서 반사되어서 도면 중 하방으로 진행하는 참조 파면의 간섭 광을 콜리메이터 렌즈(14) 및 빔 스플리터(13)를 통해서 상기 촬영부(20)에 입사되도록 되어 있다.
또한, 상기 탑재대(16)에는 간섭계 장치(1)의 측정 광축(C)에 대한 피검 렌즈(5)의 경사를 조정하기 위한 2축 경사 조정 스테이지, 간섭계 장치(1)의 측정 광축(C) 및 참조 기준 구면(17a)에 대한 피검 렌즈(5)의 위치를 조정하는 3축 위치 조정 스테이지, 및 간섭계 장치(1)의 측정 광축(C)에 대한 피검 렌즈(5)의 회전 위치를 조정하는 회전 스테이지(모두 도시 생략)가 설치되어져 있다. 또한, 상기 기준판(15)은 도시되지 않은 프린지 스캔 어댑터에 의해 지지되어 있고, 그 프린지 스캔 어댑터에 의해 간섭계(1)의 광축(C)의 방향으로 미동시킴으로써 광로 상에서의 참조 기준면(15a)의 위치를 미소 변화시킬 수 있도록 구성되어 있다.
상기 촬상부(20)는 결상 렌즈(21) 및 촬상 카메라(22)를 구비하고, 상기 광 간섭부(10)로부터 입사된 간섭 광을 입력받고, 피검 렌즈(5)의 투과 파면 정보를 운반한 간섭 무늬 화상을 촬상하고, 상기 해석부(30)에 출력하도록 되어 있다.
상기 해석부(30)는 상기 촬상부(20)로부터 입력된 간섭 무늬 화상을 해석하는 해석 장치(31)와, 촬상된 간섭 무늬 화상이나 해석 결과 등을 표시하는 화상 표시 장치(32)와, 해석 장치(31)에 대한 각종 입력을 행하기 위한 입력 장치(33)를 구비하고 있다. 또한, 상기 해석 장치(31)는 컴퓨터 등에 의해 구성되어 있고, 각종 프로그램을 격납한 하드디스크 등의 기억 수단이나 각종 연산 처리를 행하는 CPU 등을 구비하고 있다.
이하, 본 발명의 일실시형태에 따른 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법(이하 「본 실시형태 방법」이라고 칭함)의 순서에 대해서 설명한다. 본 실시형태 방법은 상술한 간섭계 장치(1)에 적용되고, 그 간섭계 장치(1)의 참조 기준 평면(15a)이나 참조 기준 구면(17a)의 형상 오차 등의 간섭계 장치(1)의 시스템 오차에 기인하는 비점 수차 및 코마 수차를 해석적으로 구하고, 간섭계 장치(1)에 의해 획득된 피검 렌즈(5)의 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 것이다. 또한, 이하의 각 순서에 있어서의 연산 처리는 상기 해석 장치(31)에 있어서 실시되는 것으로 하는 것이 가능하다. 또한, 간섭계 장치(1)의 얼라인먼트 조정이나 피검체(5)의 경사나 위치 조정은 완료하고 있는 것으로 한다.
<1> 도 1에 도시한 바와 같이, 간섭계 장치(1)의 측정 광축(C)에 대하여 피검 렌즈(5)를 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 피검 렌즈(5)의 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구한다.
<2> 피검 렌즈(5)를 상기 임의의 회전 위치로부터 측정 광축(C) 둘레로 90°만큼 회전시킨 비교용 제 1 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 1 회전 위치에 있어서 획득된 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 제 1 회전 위치에 있어서의 피검 렌즈(5)의 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구한다.
<3> 피검 렌즈(5)를 상기 임의의 회전 위치로부터 측정 광축 둘레로 180°만큼 회전시킨 비교용 제 2 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 2 회전 위치에 있어서 획득된 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 제 2 회전 위치에 있어서의 피검 렌즈(5)의 파면 수차에 대응한 제 3 수차 함수를 구한다.
또한, 상기 제 1∼제 3 수차 함수는, 예를 들면 위상 쉬프트법을 이용하여 파면 형상을 구하고, 그것을 체르니케 다항식(4차, 6차, 8차, 10차 등의 체르니케 다항식)에 전개시켜서 구할 수 있다.(이하의 다른 수차 함수에 있어서도 같음).
<4> 상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각(예를 들면, 3차 수차로서의 틸트(왜곡 수차), 파워(디포커스, 상면 만곡), 비점 수차, 코마 수차, 구면 수차. 이 하 동일)에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 비점 수차 함수, 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 코마 수차 함수로서 각각 구한다.
<5> 상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 비점 수차 함수로서 구한다.
<6> 상기 제 3 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 코마 수차 함수로서 구한다.
<7> 상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 비점 수차 함수로서 구한다.
<8> 상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 코마 수차 함수로서 구한다.
<9> 상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배 한 것을 상기 간섭계 장치(1)의 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구한다.
<10> 상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배 한 것을 상기 간섭계 장치(1)의 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수로 하고 그 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구한다.
<11> 상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 비점 수차 함수로서 구하고, 상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 코마 수차 함수로서 구한다.
<12> 상기 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 피검 렌즈(5)에 고유한 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수로 하고 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈(5)에 고유한 비점 수차 성분을 구하고, 상기 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배 한 것을 상기 피검 렌즈(5)에 고유한 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수로 하고, 그 피검 렌즈 고유의 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 구한다.
이하, 본 실시형태 방법의 작용에 대해서 수식을 이용하여 검증한다.
상기 간섭계 장치(1)에 의한 파면 수차의 측정치에 따른 수차 함수를 MΨ(ρ, θ), 피검체(5)에 고유한 파면 수차 성분에 따른 수차 함수를 WΨ(ρ, θ), 간 섭계 장치(1)의 시스템 고유의 파면 수차 성분에 따른 수차 함수를 SΨ(ρ, θ)로 하면 하기 식(1)의 관계가 있다. 또한, 첨자의 Ψ은 간섭계 장치(1)의 측정 광축(C)에 대한 피검 렌즈(5)의 회전 위치의 각도(예를 들면, Ψ=O°, 90°, 180°, 27O° 등)을 나타내고, 파라미터의 ρ 및 θ는 극좌표에 있어서의 중심으로부터의 거리와 각도를 나타낸다. 또한, 이하에서는 상기 수차 함수 MΨ(ρ, θ)에 있어서 Ψ=0°, 90° 및 180°일 때가 상기 제 1, 제 2 및 제 3 수차 함수에 각각 상당하는 것으로서 취급한다.
Figure 112008079818601-pat00001
또한, 상기 수차 함수 MΨ(ρ, θ), WΨ(ρ, θ) 및 SΨ(ρ, θ)을 자이델 수차 각각으로 각각 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 각각 Aam(ρ, θ), Aaw(ρ, θ) 및 Aas(ρ, θ)로 하면 이것들은 통상 하기 식 (2)∼(4)로 나타내어진다.
Figure 112008079818601-pat00002
Figure 112008079818601-pat00003
Figure 112008079818601-pat00004
여기에서, Ø am, Ø aw, Ø as는 각각의 비점 수차의 방향을 나타내는 각도(비점 각도)이다.
상기 식 (1)의 관계로부터 하기 식 (5), (6)의 관계가 성립된다. 또한, 첨자 의 () 내의 수치는 상기 Ψ의 값이다(이하, 동일). 또한, Aam(0)(ρ, θ) 및 Aam(90)(ρ, θ)은 상기 제 1 비점 수차 함수 및 제 2 비점 수차 함수에 각각 상당하다.
Figure 112008079818601-pat00005
Figure 112008079818601-pat00006
상기 식 (5), (6)을 변끼리 더해 상기 식 (2)∼(4)를 이용하여 연산 처리하면 하기 식 (7), (8)의 관계를 획득할 수 있다. 또한, 하기 식 (7)은 제 1 비점 수차 함수 및 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것에 상당하고, 하기 식 (8)은 상기 제 1 비점 수차 함수로부터 제 2 비점 수차 함수를 뺀 것에 상당하다.
Figure 112008079818601-pat00007
Figure 112008079818601-pat00008
상기 식 (7), (8)에 있어서 Aaw(o)ρ2은 자이델 수차 중의 파워 수차 성분을 나타낸다. 따라서, 상기 식 (7), (8)에서 나타낸 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 구하면({ }s는 이 조작을 행하는 것을 나타냄) 이 파워 수차 성분이 제거됨으로써 하기 식 (9) 및 (10)의 관계가 성립된다. 또한, 하기 식 (9)의 좌변 및 하기 식 (10)의 좌변은 상기 제 3 비점 수차 함수 및 제 4 비점 수차 함수에 상당하다.
Figure 112008079818601-pat00009
Figure 112008079818601-pat00010
상기 식 (9)에 의해 상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것이 간섭계 장치(1)의 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수가 되며, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 시스템 고유의 비점 수차 성분이 구해지는 것이 나타내어졌다.
또한, 상기 식 (10)에 의해 상기 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배 한 것이 피검 렌즈(5)에 고유한 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수가 되며, 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 피검 렌즈(5)에 고유한 비점 수차 성분이 구해지는 것이 나타내졌다.
코마 수차에 관해서도 마찬가지로 하기 식 (11), (12)의 관계가 도출되었다. 또한, 하기 식 (11)의 좌변 및 하기 식 (12)의 좌변은 상기 제 3 코마 수차 함수 및 제 4 코마 수차 함수에 상당하다. 또한, 이하의 { }c는 코마 수차에 대응한 수차 함수를 구하는 조작을 행하는 것을 나타낸다.
Figure 112008079818601-pat00011
Figure 112008079818601-pat00012
단, 일반적으로 하기 식 (13)의 관계가 성립하는 것을 이용하고 있다.
Figure 112008079818601-pat00013
여기에서, Acm(ρ, θ), Acw(ρ, θ) 및 Acs(ρ, θ)은 상기 수차 함수 M￥(ρ, θ), W￥(ρ, θ), 및 S￥(ρ, θ)을 자이델 수차 각각에 각각 분류했을 때의 코마 수차에 대응한 수차 함수를 나타내고,
Figure 112008079818601-pat00014
cm,
Figure 112008079818601-pat00015
cw,
Figure 112008079818601-pat00016
cs는 각각의 코마 수차의 방향을 나타내는 각도(코마 각도)이다.
상기 식 (11)에 의해 상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배 한 것이 간섭계 장치(1)의 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수가 되며, 그 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 시스템 고유의 코마 수차 성분이 구해지는 것이 나타내어졌다.
또한, 상기 식 (12)에 의해 상기 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배 한 것이 피검 렌즈(5)에 고유한 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수가 되며, 그 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 피검 렌즈(5)에 고유한 코마 수차 성분이 구해지는 것이 나타내어졌다.
또한, 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하면, 우선 상기 식(9)의 관계로부터 하기 식 (14)의 관계가 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00017
상기 식 (14)의 제 2행 제 1항은 파워 수차 성분을 나타내고, 상기 식 (9)에 있어서는 제거되기 때문에 하기 식 (15)가 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00018
여기에서 M, N, α는 하기 식 (16)으로 나타내어진다.
Figure 112008079818601-pat00019
마찬가지로, 상기 피검체 고유의 비점 수차 성분을 구하면, 우선 상기 식 (10)의 관계로부터 하기 식 (17)의 관계가 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00020
상기 식 (17)의 제 2행 제 1항은 파워 수차 성분을 나타내고, 상기 식 (10)에 있어서는 제거되기 때문에 하기 식 (18)이 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00021
여기에서 K, β는 하기 식 (19)로 나타내어진다.
Figure 112008079818601-pat00022
또한, 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구하면, 우선 상기 식 (11)의 관계로부터 하기 식 (20)의 관계가 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00023
여기에서, P, Q, γ는, 하기 식 (21)로 나타내어진다.
Figure 112008079818601-pat00024
마찬가지로, 상기 피검체 고유의 코마 수차 성분을 구하면, 우선, 상기 식 (12)의 관계로부터 하기 식 (22)의 관계가 성립된다.
Figure 112008079818601-pat00025
여기에서, T, ε는 하기 식 (23)으로 나타내어진다.
Figure 112008079818601-pat00026
이상, 본 발명의 일실시형태에 대해서 설명했지만 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니고 여러가지로 실시형태를 변경하는 것이 가능하다.
예를 들면, 상기 실시형태에 있어서는 시스템 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분과 함께 피검체 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분에 대해서도 소정의 연산 처리에 의해 해석적으로 구해지고 있지만, 구해진 시스템 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분을 측정치로부터 차감함으로써 그 측정치를 보정하여 피검체 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분을 구하도록 해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는 피검체(5)를 소정의 2개의 회전 위치(비점 수차의 경우, 예를 들면, 0°와 90°)에 있어서 측정하고 그 2개의 측정 결과에 의거하여 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하고 있지만, 소정의 2개의 회전 위치의 조합을 복수 설정하고(비점 수차의 경우, 예를 들면, 0°와 90°, 90°와 180°, 180°와 270°, 270°와 0°(360°)로 하는 조합으로 한다), 각각의 조합에 있어서의 2개의 회전 위치의 측정 결과에 의거하여 각 조합에 있어서의 시스템 고유의 비점 수차 성분의 값을 각각 구하고, 그것들의 평균값을 시스템 고유의 비점 수차 성분의 값으로 해도 된다. 이것은 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구할 경우에 대해서도 같다(코마 수차의 경우, 예를 들면, 0°와 180°, 90°와 270°라는 조합으로 함).
또한, 상기 실시형태는 무한계의 피검 렌즈(5)의 투과 파면 측정을 피조 타입의 간섭계 장치(1)를 이용하여 행할 경우의 적용예를 나타내고 있지만, 본 발명은 적용되는 간섭계 장치의 대응이나 피검 렌즈의 타입이 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 유한계의 피검 렌즈를 다른 타입(예를 들면, 마이켈손 타입이나 마흐젠더 타입)의 간섭계 장치에 의해 측정할 경우에도 적용하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일실시형태를 적용한 간섭계 장치의 개략 구성도이다.
(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)
1 - 간섭계 장치 5 - 피검 렌즈
10 - 광 간섭부 11 - 광원부
12 - 빔 지름 확대용 렌즈 13 - 빔 스플리터
13a - 광속 분할면 14 - 콜리메이터 렌즈
15 - 기준판 15a - 참조 기판 평면
16 - 탑재대 17 - 구면 반사경
17a - 참조 기준 구면 20 - 촬상부
21 - 결상 렌즈 22 - 촬상 카메라
30 - 해석부 31 - 해석 장치
32 - 입력 장치 33 - 화상 표시 장치
C - 측정 광축

Claims (6)

  1. 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분을 해석적으로 구해서 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법으로서:
    상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고;
    상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 90°만큼 회전시킨 비교용 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고;
    상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다 시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
  2. 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 코마 수차 성분을 해석적으로 구해서 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법으로서:
    상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고;
    상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 180°만큼 회전시킨 비교용 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고;
    상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수로 해서 그 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
  3. 피검 렌즈의 투과 파면과 참조 파면의 광 간섭에 의해 획득되는 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 피검 렌즈의 파면 수차를 측정하는 간섭계 장치에 있어서, 그 간섭계 장치의 시스템 오차에 기인하는 시스템 고유의 비점 수차 성분 및 코마 수차 성분을 해석적으로 구하여 상기 파면 수차의 측정 결과를 보정하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법으로서:
    상기 피검 렌즈를 상기 간섭계 장치의 측정 광축에 대하여 임의의 회전 위치에 유지하고, 그 임의의 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 임의의 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 1 수차 함수를 구하고;
    상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 90°만큼 회전시킨 비교용 제 1 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 1 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 제 1 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 2 수차 함수를 구하고;
    상기 피검 렌즈를 상기 임의의 회전 위치로부터 상기 측정 광축 둘레로 180°만큼 회전시킨 비교용 제 2 회전 위치에 유지하고, 그 비교용 제 2 회전 위치에 있어서 획득된 상기 간섭 무늬 화상에 의거하여 상기 비교용 제 2 회전 위치에 있어서의 상기 파면 수차에 대응한 제 3 수차 함수를 구하고;
    상기 제 1 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 비점 수차 함수, 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 1 코마 수차 함수로서 각각 구하고;
    상기 제 2 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 3 수차 함수를 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 2 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수를 서로 더한 것을 다시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수를 서로 더한 것을 다 시 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 3 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 3 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 시스템 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 비점 수차 성분을 구하고, 상기 제 3 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 시스템 고유의 코마 수차 함수로 해서 상기 시스템 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 시스템 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 비점 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수로 하고, 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수로 하고, 그 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 비점 수차 함수와 상기 제 2 비점 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 비점 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 비점 수차 함수로서 구하고, 상기 제 1 코마 수차 함수와 상기 제 2 코마 수차 함수의 차를 가진 것을 자이델 수차 각각에 대응한 각 수차 함수로 분류하고, 그 중에서 코마 수차에 대응한 수차 함수를 제 4 코마 수차 함수로서 구하고;
    상기 제 4 비점 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수로 해서 그 피검 렌즈 고유의 비점 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 비점 수차 성분을 구하고, 상기 제 4 코마 수차 함수를 2분의 1배한 것을 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 나타내는 피검 렌즈 고유의 코마 수차 함수로 해서 그 피검 렌즈 고유의 코 마 수차 함수에 의거하여 상기 피검 렌즈 고유의 코마 수차 성분을 구하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법.
KR1020080115235A 2007-12-04 2008-11-19 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법 KR101002677B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007314005A JP2009139151A (ja) 2007-12-04 2007-12-04 干渉計装置のシステム誤差較正方法
JPJP-P-2007-314005 2007-12-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090058448A KR20090058448A (ko) 2009-06-09
KR101002677B1 true KR101002677B1 (ko) 2010-12-20

Family

ID=40734256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080115235A KR101002677B1 (ko) 2007-12-04 2008-11-19 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2009139151A (ko)
KR (1) KR101002677B1 (ko)
CN (1) CN101451889B (ko)
TW (1) TW200925549A (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013226668A1 (de) * 2013-12-19 2015-06-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Kalibrieren einer Wellenfronterzeugungseinrichtung
CN106017306B (zh) * 2016-05-09 2018-07-06 南京理工大学 基于最小二乘旋转匹配的干涉标准件误差分离方法
CN109059802B (zh) * 2018-08-03 2019-08-13 南京理工大学 基于Tip\Tilt镜的动态角度调制干涉系统的误差标定方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002062409A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Konica Corp カップリングレンズ、光ピックアップ装置用の光学系及び光ピックアップ装置
JP2002357508A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Olympus Optical Co Ltd レンズ検査方法
JP2004257854A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Konica Minolta Holdings Inc 干渉計装置及び収差計測方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03230536A (ja) * 1990-02-06 1991-10-14 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体素子
DE10125785A1 (de) * 2001-05-26 2002-11-28 Zeiss Carl Verfahren zur Absolutkalibrierung eines Interferometers
JP4343559B2 (ja) * 2003-03-07 2009-10-14 キヤノン株式会社 収差測定装置
JP4229782B2 (ja) * 2003-09-05 2009-02-25 オリンパス株式会社 波面収差測定装置
TW200630604A (en) * 2005-01-06 2006-09-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for inspection of optical component
JP2007281003A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Canon Inc 測定方法及び装置、並びに、露光装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002062409A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Konica Corp カップリングレンズ、光ピックアップ装置用の光学系及び光ピックアップ装置
JP2002357508A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Olympus Optical Co Ltd レンズ検査方法
JP2004257854A (ja) * 2003-02-26 2004-09-16 Konica Minolta Holdings Inc 干渉計装置及び収差計測方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090058448A (ko) 2009-06-09
TW200925549A (en) 2009-06-16
CN101451889B (zh) 2010-09-29
JP2009139151A (ja) 2009-06-25
CN101451889A (zh) 2009-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1869401B1 (en) Method for accurate high-resolution measurements of aspheric surfaces
KR100972571B1 (ko) 비구면 렌즈의 면 어긋남 측정 방법 및 장치
JP5971965B2 (ja) 面形状計測方法、面形状計測装置、プログラム、および、光学素子の製造方法
TWI645248B (zh) 用於決定基材上第一結構元件與第二結構元件之間距離的顯微鏡與方法
EP2261629A2 (en) Asphere measurement method and apparatus
JP2020060469A (ja) 収差推定方法、収差推定装置、プログラムおよび記憶媒体
KR101002677B1 (ko) 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법
JP2004286561A (ja) ３次元形状測定方法及び装置
US7869058B2 (en) Apparatuses and methods for evaluating performance of optical systems
JP2011247875A (ja) 光学素子形状評価方法、光学素子形状評価プログラム、及び光学素子形状評価装置
JP2009145081A (ja) 回転非対称収差の発生要因誤差量測定方法および装置
KR20110065365A (ko) 비구면체 측정 방법 및 장치
JP5627495B2 (ja) 光学調整装置及び光学調整方法
JP2021051038A (ja) 収差推定方法、収差推定装置、プログラムおよび記録媒体
JP7293078B2 (ja) 解析装置、解析方法、干渉測定システム、およびプログラム
Neal et al. Application of Shack-Hartmann wavefront sensors to optical system calibration and alignment
JP5904896B2 (ja) レンズ検査装置およびレンズ検査方法
WO2016098469A1 (ja) 形状測定装置及び形状測定方法
JP2016211933A (ja) 面形状計測装置、面形状計測方法、及び加工装置、並びにそれによって加工された光学素子
JP2010151591A (ja) 波面評価方法及び波面評価用プログラム
JP4802134B2 (ja) 姿勢変化測定方法および装置
JP2001227929A (ja) 角度測定方法及び角度測定装置
JP5317619B2 (ja) 偏芯量測定方法
JP2005315683A (ja) シヤリング干渉計及び干渉計測装置
JP2016017744A (ja) 非球面計測方法、非球面計測装置、プログラム、光学素子の加工装置、および、光学素子

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee