JP5317619B2 - 偏芯量測定方法 - Google Patents

偏芯量測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5317619B2
JP5317619B2 JP2008260078A JP2008260078A JP5317619B2 JP 5317619 B2 JP5317619 B2 JP 5317619B2 JP 2008260078 A JP2008260078 A JP 2008260078A JP 2008260078 A JP2008260078 A JP 2008260078A JP 5317619 B2 JP5317619 B2 JP 5317619B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
center
point
points
image
candidate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008260078A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010091347A (ja
Inventor
萍 孫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008260078A priority Critical patent/JP5317619B2/ja
Publication of JP2010091347A publication Critical patent/JP2010091347A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5317619B2 publication Critical patent/JP5317619B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Description

本発明は、レンズ等の被検光学素子の被検面に対し測定光を照射して形成される指標像の座標データに基づき、被検面の偏芯量を測定する偏芯量測定方法に関し、特に、被検面を回転させて互いに異なる回転位置毎に撮像された各指標像の座標データに基づき、被検面の偏芯量を測定する偏芯量測定方法に関する。
従来、この種の偏芯量測定方法としては、オートコリメーション法と称される測定手法を適用したものが知られている(下記特許文献1〜3参照)。
これらの偏芯量測定方法では、被検光学素子を所定の軸回りに回転させながら、所定形状の指標パターンを投影する測定光を被検面に照射し、被検面からの反射光または透過光により形成される指標像を撮像面上に結像させる。この指標像は、被検面の回転位置毎に撮像されて、その像中心点の座標が回転位置毎に求められる。この回転位置毎に撮像された指標像の各像中心点は、被検面が偏芯していると、撮像面に対し設定された座標系において1つの円に沿うように分布するので、その分布状況から被検面の偏芯量を求めることができる。
具体的には、各像中心点にフィッティングする円(以下「近似円」と称する)を求めてその中心を測定基準点として設定し、この測定基準点から任意の像中心点までの距離や近似円の半径を、被検面の偏芯量として求めることができる。
従来の偏芯量測定方法では、指標としてピンホールを用いているものが多いが、この場合、画像上においてピンホール像の像中心点の座標を特定することが難しいという問題があった。そこで、本願出願人は、十字形状のレチクルを指標として用いることにより、指標像の像中心の座標を画像上において容易に特定し得るようにした測定手法を提案している(下記特許文献3参照)。
特開2005−55202号公報 特開2007−17431号公報 特開2007−327771号公報
上述の偏芯量測定方法は、各像中心点が1つの円に沿うように分布することを前提としており、このような前提が成立する場合には、求めた近似円に対する各像中心点の偏差が少なくなるので、設定した近似円や測定基準点の信頼性も高くなり、偏芯量の測定精度も高くなる。
しかしながら、像中心点の中には、想定される位置から大きく外れた位置に座標が特定されるもの(以下「特異座標点」と称する)が含まれる場合がある。その原因としては、被検光学素子を回転させる際に被検光学素子の外周と接触するガイド部材と被検光学素子との間に塵埃等が介在することにより、所定の角度位置で回転軸の位置がずれることなどが考えられるが、測定中にこのような事態が生じたことを把握することは困難である。また、各像中心点の座標データから、上述のような特異座標点の有無を判別することも困難である。
このため、このような特異座標点が存在しても、特別な処理が行われずに近似円や測定基準点が設定され、これらに基づいて偏芯量が求められてしまうために、測定精度が低下するという問題が生じる。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、撮像された各指標像の像中心点の中に、測定に悪影響を及ぼすような特異座標点が含まれるような場合でも、信頼性の高い測定基準点を設定することができ、この測定基準点に基づき被検面の偏芯量を高精度に測定することが可能な偏芯量測定方法を提供することを目的とする。
本発明に係る偏芯量測定方法は、所定の指標パターンを投影する測定光を被検面に照射し、該被検面からの反射光または透過光により撮像面上に形成される指標像を、前記被検面を所定の軸回りに回転させながら相異なる少なくとも4つの回転位置毎に撮像し、該回転位置毎に撮像された各指標像の像中心点の座標を、前記撮像面に対し設定された座標系においてそれぞれ特定し、この特定された各像中心点の座標データに基づき、偏芯量測定における測定基準点を前記座標系において設定し、該測定基準点および前記各像中心点の座標データに基づき前記被検面の偏芯量を算定する偏芯量測定方法であって、
前記各像中心点の中から相異なる3点を選択し、該相異なる3点を各頂点とする三角形の外心を前記座標系において求め、該外心を中心候補点とする処理を該3点の組合せを変えて複数回行って、複数個の中心候補点を設定する中心候補点設定ステップと、
設定された前記複数個の中心候補点の幾何学的中心点を、前記座標系において特定する幾何学的中心点特定ステップと、
前記座標系において、前記各像中心点が前記幾何学的中心点から所定の距離範囲内にあるか否かの判定基準に基づき、前記各像中心点の全てが前記所定の距離範囲内にある場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点として適正と判定し、前記各像中心点のうちの一部の像中心点が前記所定の距離範囲外にある場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点としては不適正と判定する測定基準点判定ステップと、をこの順に行い、
前記測定基準点判定ステップにおいて不適正と判定された場合には、前記所定の距離範囲外にある前記一部の像中心点を特異座標点としてその座標データを削除し、残りの像中心点の座標データに基づき前述の各ステップを再び始めから順に行い、
前記測定基準点判定ステップにおいて適正と判定された場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点として設定し、前記座標系における、該測定基準点から前記各像中心点のうちの任意の1点までの距離または複数点までの各距離の平均値を、前記被検面の偏芯量として算定する、ことを特徴とする。
本発明に係る偏芯量測定方法において、前記幾何学的中心点特定ステップは、
前記中心候補点設定ステップにおいて設定された前記複数個の中心候補点の全てを要素とする集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の外心を前記座標系において求め、該新たな三角形の外心を新たな中心候補点として前記集合の要素とするとともに、該相異なる3個の中心候補点を該集合の要素から削除する処理を、該集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となるまで行い、
前記集合の要素として残る中心候補点の総数が、1個となった場合には該1個の中心候補点を前記幾何学的中心点とし、2個となった場合には前記座標系において該2個の中心候補点を結ぶ線分の中点を前記幾何学的中心点とするものとしてもよい。
また、前記幾何学的中心点特定ステップは、
前記中心候補点設定ステップにおいて設定された前記複数個の中心候補点の全てを要素とする集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の重心を前記座標系において求め、該新たな三角形の重心を新たな中心候補点として前記集合の要素とするとともに、該相異なる3個の中心候補点を該集合の要素から削除する処理を、該集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となるまで行い、
前記集合の要素として残る中心候補点の総数が、1個となった場合には該1個の中心候補点を前記幾何学的中心点とし、2個となった場合には前記座標系において該2個の中心候補点を結ぶ線分の中点を前記幾何学的中心点とするものとしてもよい。
本発明に係る偏芯量測定方法においては、全ての像中心点の座標データから直接的に測定基準点を設定するのではなく、中心候補点設定ステップから幾何学的中心点特定ステップまでの手順により所定の幾何学的中心点を設定し、この幾何学的中心点が測定基準点として適正なものか否かを測定基準点判定ステップにおいて判定し、適正でない場合は幾何学的中心点を更新するようにしている。
この更新の過程において、特異座標点の有無の判別がなされてその座標データが削除されるので、測定基準点判定ステップにおいて適正と判定された幾何学的中心点は、被検面の偏芯量を測定する際の測定基準点として信頼性の高いものとなる。
したがって、本発明に係る偏芯量測定方法によれば、像中心点の中に、測定に悪影響を及ぼすような特異座標点が含まれるような場合でも、信頼性の高い測定基準点を設定することができ、被検面の偏芯量を高精度に測定することが可能となる。
以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る偏芯量測定方法に用いる偏芯量測定装置の概略構成図である。
図1に示す偏芯量測定装置1は、被検光学素子5の各被検面の偏芯量を、本発明の一実施形態に係る偏芯量測定方法を適用して測定するものであり、測定ヘッド10と、被検光学素子5を回転可能に保持する基台20と、偏芯量を算定するための各種演算等を行う解析演算部30と、測定ヘッド10を図中上下方向に移動可能に保持するZ軸ステージ40とを備えてなる。
上記測定ヘッド10は、上記被検光学素子5に照射される光束を出力する光源11と、光源11から出力された光束を通過させる、十字形状のスリット(以下「レチクル」と称する)を有するレチクル板12と、レチクル板12からの光束を図中下方に向けて反射するビームスプリッタ13と、入射された光束を平行光束とするコリメータレンズ14と、平行光束を光収束点Fに収束せしめる対物レンズ15と、CCDやCMOS等の撮像素子16を搭載した撮像カメラ17とを備えている。
一方、上記被検光学素子5は、2枚のレンズ51,52を鏡筒53内に保持してなり、該レンズ51,52の各レンズ面51a,51b,52a,52bのうち、レンズ52の図中上側のレンズ面52aの焦点面(レンズ面52aの焦点(近軸の曲率中心)Cが位置する面;図示略)が、レンズ51の図中上側のレンズ面51aよりも図中上方に位置するように構成されている。
上記基台20は、上記被検光学素子5が載置される載置部材21と、この載置部材21を支持するXY軸ステージ22および回転ステージ23とを備えてなる。XY軸ステージ22は、載置部材21に載置された被検光学素子5と測定ヘッド10との位置調整を行う際に用いられるものであり、載置部材21に載置された被検光学素子5を、該被検光学素子5の光軸Lと垂直な方向に移動し得るように構成されている。また、回転ステージ23は、載置部材21に載置された被検光学素子5を、図示した回転軸Eを中心として回転させ得るように構成されている。
なお、上記載置部材21としては、その上方端面縁部において被検光学素子5を支持する円筒形状のものを用いてもよいが、前掲の特許文献3の図3に示すような、Vブロックと回転円板よりなるチャック機構を用いてもよい。
上記解析演算部30は、測定の際に撮像された各画像の解析等を行う、コンピュータ等からなる解析装置31と、解析結果や各画像等を表示する画像表示装置32と、解析装置31に対する各種入力を行うための入力装置33とを備えてなる。
上記Z軸ステージ40は、上記基台20が載置される支持部41と、この支持部41に立設されたガイド部42と、このガイド部42に沿って図中上下方向に移動可能に設けられ、上記測定ヘッド10を保持する可動部43とを備えてなる。このZ軸ステージ40は、上記被検光学素子5の各レンズ面51a,51b,52a,52bの偏芯量を測定する際に、上記測定ヘッド10の光収束点Fが各レンズ面51a,51b,52a,52bの焦点面にそれぞれ位置するように(例えば、レンズ面52aの偏芯量を測定する場合には、光収束点Fがレンズ面52aの焦点面に位置するように)、測定ヘッド10の高さを順次調整するようになっている。
なお、偏芯量の測定に際しては、上記測定ヘッド10の光軸Zと、上記被検光学素子5の光軸Lと、上記基台20(回転ステージ23の)の回転軸Eとが互いに一致するように調整されることが好ましいが、これらが互いに一致しない場合でも測定は可能である。各軸が一致しない場合の測定手法については、前掲の特許文献2に詳述されている。
次に、本発明の一実施形態に係る偏芯量測定方法の測定手順について説明する。図2は本実施形態に係る偏芯量測定方法の測定手順を示すフローチャートであり、図3は被検光学素子5の互いに異なる回転位置で撮像された2つの画像例((a),(b))を示す図である。
なお、本実施形態の偏芯量測定方法は、上述の偏芯量測定装置1を用いて実施するものであり、上記測定ヘッド10の光軸Z、上記被検光学素子5の光軸Lおよび上記基台20の回転軸Eの相互間の位置調整は事前に終了しているものとする。また、以下では、上記被検光学素子5の各レンズ面51a,51b,52a,52bのうち、レンズ面52aを被検面としてその偏芯量を測定する場合を例にとって説明する。この場合、測定準備として、測定ヘッド10の光収束点Fがレンズ面52aの焦点面に位置するように、Z軸ステージ40を用いて測定ヘッド10の高さ調整が行われる。この調整完了後の被検光学素子5の位置を初期位置とする。
〈1〉まず、測定点数N(Nは4以上の任意の整数。例えばN=18)を設定する(図2のステップS1)。
〈2〉次に、測定ヘッド10から被検光学素子5に対し、所定の指標パターン(上記レチクルによる十字形状のパターン)を投影する測定光束を照射して最初の画像I(図3(a)参照)を撮像し、撮像後に、回転ステージ23を用いて、被検光学素子5(レンズ面52a)を回転軸Eの回りに360/N度(N=18の場合は20度)だけ回転させる(図2のステップS2)。
なお、図3(a)に示す画像Iには、レンズ面52aの偏芯量測定に必要となる十字形状の指標像Aが写っている。指標像Aは、測定ヘッド10から被検光学素子5に照射された測定光束のうち、レンズ51を透過してレンズ面52aに至り該レンズ面52aから反射された光束(特に近軸領域からの反射光束)により、上記撮像素子16の撮像面上に形成されたレチクル像である。
〈3〉次いで、撮像された指標像の像中心点の座標を、撮像素子16の撮像面に対し設定された座標系(直交座標系や極座標系など適宜に設定可能)において求める(図2のステップS3)。この像中心点の座標の求め方(十字線の中心点の座標の特定方法)は、前掲の特許文献3に記載されたものと同様であり、詳細な説明は省略する。
〈4〉被検面(レンズ面52a)が、初期位置から回転軸Eの回りに計360度回転したか否かを判定し(図2のステップS4)、否と判定されれば、上記手順〈1〉〜〈3〉を繰り返し、回転位置毎に撮像された指標像の像中心点の座標を求める。図3(b)に、他の回転位置で撮像された画像Iを示す。なお、各像中心点の座標を求めるために必要となる画像処理や演算処理は解析装置31において行われ、求められた各像中心点の座標は解析装置31の記憶部に順次記憶される。図4に、求められた各像中心点の相対的な位置関係を模式的に示す。図4では、P〜P18の計18個の像中心点が図示されている。なお、番号は座標が特定された順番を示している。
〈5〉次に、各像中心点の中から相異なる3点を選択し、上記座標系において、該相異なる3点を各頂点とする三角形の外心(外接円の中心)を求め、該外心を中心候補点とする処理(図2のステップS5)を、該3点の組合せを変えて所定回数に達したか否かを判定しながら(図2のステップS6)、達するまで複数回行って、複数個の中心候補点を設定する(中心候補点設定ステップ)。この中心候補点設定ステップにおける処理は、具体的には例えば、図5に示すように、以下の手順で行われる。図5は中心候補点設定ステップの手順の一例を示す図である。
〈a〉まず、上述の3点の組合せを変えて行う処理の実行回数を決定する。本実施形態では、全像中心点の個数18の3分の1に相当する値の6を実行回数とする。
〈b〉次に、決められた実行回数に応じて相異なる3点を選択する。本実施形態では、図5に示す18個の像中心点P〜P18のうち、最初に求められた像中心点Pを起点として6個置きに最初の3点(P,P,P13)を選択する。以下、起点位置を1つずつずらしながら、残る5組の3点(P,P,P14),(P,P,P15),(P,P10,P16),(P,P11,P17),(P,P12,P18)を選択する。
〈c〉選択された各々の組合せにおける3点を各頂点とする三角形の外心を、上記座標系において求め、該外心を中心候補点とする。図5には、3点(P,P,P13)を各頂点とする三角形Tおよびその外心からなる中心候補点Qと、3点(P,P,P14)を各頂点とする三角形Tおよびその外心からなる中心候補点Qだけを図示しているが、実際には図6に示すように、計6個の中心候補点Q〜Qが設定されることになる。なお、図6は、6個の中心候補点Q〜Qの相対的な位置関係を模式的に示す図であり、これらの位置関係を分かり易くするため、図6では図5に比べ座標系を拡大している。
〈6〉次いで、設定された6個の中心候補点Q〜Qの幾何学的中心点を特定する(幾何学的中心点特定ステップ)。この幾何学的中心特定ステップにおける処理は、具体的には例えば、図7および図8に示すように、以下の手順で行われる。図7は幾何学的中心特定ステップの第1段階の手順の一例を示す図であり、図8は幾何学的中心点特定ステップの第2段階の手順の一例を示す図である。
〈a〉まず、上述の中心候補点設定ステップにおいて設定された6個の中心候補点Q〜Qの全てを要素とする集合を設定する。
〈b〉次に、設定された集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の外心を、上記座標系において求め、該新たな三角形の外心を新たな中心候補点として上記集合の要素とするとともに、該新たな中心候補点を求めるために選択された上記相異なる3個の中心候補点を集合の要素から削除する(図2のステップS7)。
具体的には例えば図7に示すように、まず、6個の中心候補点Q〜Qの中から、相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを選択し、該相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを各頂点とする新たな三角形Tの外心からなる新たな中心候補点Rを求める。この新たな中心候補点Rを上記集合の要素とするとともに、上記相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを集合の要素から削除する。次に、上記集合から別の相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを選択し、該相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを各頂点とする新たな三角形Tの外心からなる新たな中心候補点Rを求める。この新たな中心候補点Rを上記集合の要素とするとともに、上記相異なる3個の中心候補点Q,Q,Qを集合の要素から削除する。
〈c〉上記〈6〉の〈b〉の処理を、上記集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となったか否かを判定しながら(図2のステップS8,S9)、1個または2個となるまで行い、図8に例示するように2個の中心候補点R,Rが残った場合には、上記座標系において、この2個の中心候補点R,Rを結ぶ線分Uの中点を、上述の6個の中心候補点Q〜Qの幾何学的中心点Oとする(図2のステップS10)。一方、上記〈6〉の〈b〉の処理によって、上記集合の要素として残る中心候補点の総数が1個となった場合には、この残った1個の中心候補点を上記幾何学的中心点とする(図2のステップS11)。
〈7〉次に、上記座標系において、上記18個の像中心点P〜P18が上記幾何学的中心点Oから所定の距離範囲内にあるか否かの判定基準に基づき、幾何学的中心点Oが測定基準点として適正か否かを判定する(測定基準点判定ステップ)。この測定基準点判定ステップにおける処理は、具体的には例えば、図9に示すように、以下の手順で行われる。図9は測定基準点判定ステップの手順の一例を示す図である。
〈a〉まず、上記座標系において、上記幾何学的中心点Oから所定の距離範囲を設定する(図2のステップS12)。本実施形態では、図9に示すように幾何学的中心点Oを中心とする半径rの内円Vと、幾何学的中心点Oを中心とする半径rの外円Vに挟まれた円環状領域を、上記所定の距離範囲として設定する(r,rの数値は適宜設定される)。
〈b〉次に、設定された上記円環状領域内に、上記18個の像中心点P〜P18の各々があるか否かを判別し(図2のステップS13)、18個の像中心点P〜P18の全てが上記円環状領域内にある場合には、上記幾何学的中心点Oを測定基準点として適正であると判定し、該幾何学的中心点Oを測定基準点に設定する。一方、18個の像中心点P〜P18のうちの一部の像中心点(図9では、像中心点P9,14が該当する)が上記円環状領域外にある場合には、上記幾何学的中心点Oを測定基準点としては不適正と判定する。
〈8〉上記幾何学的中心点Oが測定基準点としては不適正と判定された場合には、上記円環状領域外にある一部の像中心点P9,14を特異座標点としてその座標データを削除し(図2のステップS14)、残りの16個の像中心点P〜P,P10〜P13,P15〜P18の座標データに基づき、上述の手順〈5〉〜〈7〉を再び順に行う。
なお、次に手順〈5〉を行う場合には、16個の像中心点P〜P,P10〜P13,P15〜P18の中から相異なる3点の組合せを選択することになるので、上述した選択方法をそのまま適用することはできない。そこで、例えば、上記〈4〉の〈b〉に示す6つの組合せの3点(P,P,P13),(P,P,P14),(P,P,P15),(P,P10,P16),(P,P11,P17),(P,P12,P18)のうち、既に手順〈7〉でデータが削除された像中心点P9,14を含む組合せ(P,P,P15),(P,P,P14)においては、これらの像中心点P9,14を座標データが残る他の像中心点に置き換えた組合せ、例えば、(P,P10,P15),(P,P,P15)に替えて手順〈5〉を行うようにすることができる。このように、像中心点の中から相異なる3点を選択する際には、別の組合せの中に一部の像中心点が重複して選択されていても構わない。
〈9〉そして、測定基準点が設定された場合には、上記座標系において、該測定基準点から、残った像中心点のうちの任意の1点までの距離または複数点(残った全ての像中心点としてもよい)までの各距離の平均値を求め、これをレンズ面52aの偏芯量として算定する(図2のステップS15)。
なお、図2に示すフローチャートでは、測定基準点が設定されない限り、上述の手順〈5〉〜〈7〉を繰り返すようにしているが、手順〈5〉〜〈7〉を繰り返す回数の上限(例えば3回)を設定し、この上限回数分だけ手順〈5〉〜〈7〉を繰り返しても測定基準点が設定されない場合には、手順〈1〉に戻って再度測定をやり直すようにしてもよい。
以上、本発明の偏芯量測定方法の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態のものに態様が限られるものではなく、種々の態様のものを実施形態とすることが可能である。
例えば、上記実施形態の手順〈5〉に示す幾何学的中心点の求め方に替えて、上記6個の中心候補点Q〜Qの全てを要素とする集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の重心を上記座標系において求め、該新たな三角形の重心を新たな中心候補点として上記集合の要素とするとともに、該新たな三角形の重心を求めるために選択された上記相異なる3個の中心候補点を上記集合の要素から削除する処理を、該集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となるまで行うようにしてもよい。
また、上記実施形態においては、1つの被検面(レンズ面52a)の偏芯量を測定する際の測定点数Nとして18を例示しているが、測定点数Nは、任意の値に適宜変更することが可能である。勿論、測定点数Nを3の倍数に設定しない場合でも適用は可能である。測定点数Nを3の倍数に設定しない場合には、複数個(3の倍数ではない数)の像中心点の中から相異なる3点の組合せを選択する際に、上記手順〈8〉に準じて、別の組合せの中に一部の像中心点が重複するように選択するなどの方法を採用することができる。
また、上記実施形態においては、指標パターンを投影するために十字形状のレチクルを用いているが、これに替えて、ピンホール等の他の形状のものを、指標パターンを投影するために用いることも可能である。
また、上記実施形態で使用する偏芯量測定装置は、被検面からの反射光により形成される指標像を観察する光反射タイプのものであるが、被検面からの透過光により形成される指標像を観察する光透過タイプのものを使用して偏芯量を測定する場合にも、本発明を適用することが可能である。
一実施形態に係る偏芯量測定方法に使用する装置の概略構成図 一実施形態に係る偏芯量測定方法の手順を示すフローチャート 回転位置別の2つの画像例((a),(b))を示す図 各像中心点の相対的な位置関係を模式的に示す図 中心候補点設定ステップの手順の一例を示す図 中心候補点の相対的な位置関係を模式的に示す図 幾何学的中心点特定ステップの第1段階の手順の一例を示す図 幾何学的中心点特定ステップの第2段階の手順の一例を示す図 測定基準点判定ステップの手順の一例を示す図
符号の説明
1 偏芯量測定装置
5 被検光学素子
10 測定ヘッド
11 光源
12 レチクル板
13 ビームスプリッタ
14 コリメータレンズ
15 対物レンズ
16 撮像素子
17 撮像カメラ
20 基台
21 載置部材
22 XY軸ステージ
23 回転ステージ
24 Z軸ステージ
30 解析演算部
31 解析装置
32 画像表示装置
33 入力装置
40 Z軸ステージ
41 支持部
42 ガイド部
43 可動部
51,52 レンズ
51a,51b,52a,52b レンズ面
53 鏡筒
F 光収束点
Z,L 光軸
E 回転軸
,I 画像
,A 指標像
〜P18 像中心点
〜Q、R,R 中心候補点
幾何学的中心点
,T,T,T 三角形
線分
内円
外円
,r 半径

Claims (3)

  1. 所定の指標パターンを投影する測定光を被検面に照射し、該被検面からの反射光または透過光により撮像面上に形成される指標像を、前記被検面を所定の軸回りに回転させながら相異なる少なくとも4つの回転位置毎に撮像し、該回転位置毎に撮像された各指標像の像中心点の座標を、前記撮像面に対し設定された座標系においてそれぞれ特定し、この特定された各像中心点の座標データに基づき、偏芯量測定における測定基準点を前記座標系において設定し、該測定基準点および前記各像中心点の座標データに基づき前記被検面の偏芯量を算定する偏芯量測定方法であって、
    前記各像中心点の中から相異なる3点を選択し、該相異なる3点を各頂点とする三角形の外心を前記座標系において求め、該外心を中心候補点とする処理を該3点の組合せを変えて複数回行って、複数個の中心候補点を設定する中心候補点設定ステップと、
    設定された前記複数個の中心候補点の幾何学的中心点を、前記座標系において特定する幾何学的中心点特定ステップと、
    前記座標系において、前記各像中心点が前記幾何学的中心点から所定の距離範囲内にあるか否かの判定基準に基づき、前記各像中心点の全てが前記所定の距離範囲内にある場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点として適正と判定し、前記各像中心点のうちの一部の像中心点が前記所定の距離範囲外にある場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点としては不適正と判定する測定基準点判定ステップと、をこの順に行い、
    前記測定基準点判定ステップにおいて不適正と判定された場合には、前記所定の距離範囲外にある前記一部の像中心点を特異座標点としてその座標データを削除し、残りの像中心点の座標データに基づき前述の各ステップを再び始めから順に行い、
    前記測定基準点判定ステップにおいて適正と判定された場合には、前記幾何学的中心点を前記測定基準点として設定し、前記座標系における、該測定基準点から前記各像中心点のうちの任意の1点までの距離または複数点までの各距離の平均値を、前記被検面の偏芯量として算定する、ことを特徴とする偏芯量測定方法。
  2. 前記幾何学的中心点特定ステップは、
    前記中心候補点設定ステップにおいて設定された前記複数個の中心候補点の全てを要素とする集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の外心を前記座標系において求め、該新たな三角形の外心を新たな中心候補点として前記集合の要素とするとともに、該相異なる3個の中心候補点を該集合の要素から削除する処理を、該集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となるまで行い、
    前記集合の要素として残る中心候補点の総数が、1個となった場合には該1個の中心候補点を前記幾何学的中心点とし、2個となった場合には前記座標系において該2個の中心候補点を結ぶ線分の中点を前記幾何学的中心点とするものである、ことを特徴とする請求項1記載の偏芯量測定方法。
  3. 前記幾何学的中心点特定ステップは、
    前記中心候補点設定ステップにおいて設定された前記複数個の中心候補点の全てを要素とする集合の中から相異なる3個の中心候補点を選択し、該相異なる3個の中心候補点を各頂点とする新たな三角形の重心を前記座標系において求め、該新たな三角形の重心を新たな中心候補点として前記集合の要素とするとともに、該相異なる3個の中心候補点を該集合の要素から削除する処理を、該集合の要素として残る中心候補点の総数が1個または2個となるまで行い、
    前記集合の要素として残る中心候補点の総数が、1個となった場合には該1個の中心候補点を前記幾何学的中心点とし、2個となった場合には前記座標系において該2個の中心候補点を結ぶ線分の中点を前記幾何学的中心点とするものである、ことを特徴とする請求項1記載の偏芯量測定方法。
JP2008260078A 2008-10-06 2008-10-06 偏芯量測定方法 Expired - Fee Related JP5317619B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008260078A JP5317619B2 (ja) 2008-10-06 2008-10-06 偏芯量測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008260078A JP5317619B2 (ja) 2008-10-06 2008-10-06 偏芯量測定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010091347A JP2010091347A (ja) 2010-04-22
JP5317619B2 true JP5317619B2 (ja) 2013-10-16

Family

ID=42254215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008260078A Expired - Fee Related JP5317619B2 (ja) 2008-10-06 2008-10-06 偏芯量測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5317619B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210083833A (ko) * 2019-12-27 2021-07-07 경북대학교 산학협력단 모듈러 건축물 유닛의 비틀림 측정 시스템

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4774332B2 (ja) * 2006-06-06 2011-09-14 富士フイルム株式会社 偏芯量測定方法
JP2008096197A (ja) * 2006-10-10 2008-04-24 Olympus Corp 偏心測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210083833A (ko) * 2019-12-27 2021-07-07 경북대학교 산학협력단 모듈러 건축물 유닛의 비틀림 측정 시스템
KR102388059B1 (ko) 2019-12-27 2022-04-19 경북대학교 산학협력단 모듈러 건축물 유닛의 비틀림 측정 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010091347A (ja) 2010-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4774332B2 (ja) 偏芯量測定方法
JP4943946B2 (ja) 偏芯量測定装置
JP5399304B2 (ja) 非球面体測定方法および装置
JP5222796B2 (ja) 光学素子の偏芯調整組立方法および偏芯調整組立装置
KR20200063099A (ko) 파면 기술에 기반한 비구면 렌즈 편심 검출장치 및 그 검출방법
JP2007078593A (ja) 光波干渉装置
WO2011114939A1 (ja) 高さ測定方法、高さ測定用プログラム、高さ測定装置
JP5173106B2 (ja) 光学要素の幾何学構造の伝達測定方法と装置
JP3435019B2 (ja) レンズ特性測定装置及びレンズ特性測定方法
JP3661865B2 (ja) 球面形状測定解析方法
JP5362431B2 (ja) 偏芯量測定方法
KR20110065365A (ko) 비구면체 측정 방법 및 장치
JP5317619B2 (ja) 偏芯量測定方法
JP2009145081A (ja) 回転非対称収差の発生要因誤差量測定方法および装置
JPH0996589A (ja) レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置
JP5904896B2 (ja) レンズ検査装置およびレンズ検査方法
JP6162907B2 (ja) 形状測定装置及び形状測定方法
JP2001056217A (ja) 光学素子形状測定方法及び装置
JP7191632B2 (ja) 偏心量測定方法
JP2005024505A (ja) 偏心測定装置
JP4922905B2 (ja) 回転中心線の位置変動測定方法および装置
JP2011080875A (ja) 屈折率分布の測定装置及び測定方法
KR20090058448A (ko) 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법
JP2000097669A (ja) 光波干渉計装置、及び該装置におけるデータ処理方法
JP2005024504A (ja) 偏心測定方法、偏心測定装置、及びこれらにより測定された物

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100621

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110628

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130327

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130612

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130709

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees