JP4943946B2 - 偏芯量測定装置 - Google Patents

Description

本発明は、レンズ等の光学素子における被検面の偏芯量を測定する偏芯量測定装置に関し、特に複数のレンズ等により構成された光学素子における各被検面の偏芯量を測定するのに好適な偏芯量測定装置に関する。

従来、この種の偏芯量測定装置としては、オートコリメーション法と称される測定手法を適用したものが知られている（下記特許文献１、２参照）。

オートコリメーション法では、被検光学素子の被検面の焦点面と撮像面とが、被検面を介して互いに共役な位置関係となるように被検面と光学系との位置調整を行い、被検面を所定の回転軸回りに回転させながら、被検面の焦点面に所定形状の指標の像を結像させる。この指標の像は、被検面を介してリレーされ撮像面上に結像されるが、このとき被検面が偏心していると、被検面の回転に伴って指標の像が円形の軌跡を描くように移動するので、この円の半径を計測することで被検面の偏芯量を求めることができる。

従来の偏芯量測定装置では、指標としてピンホールを用いているものが多いが、この場合、画像上においてピンホール像の中心位置を特定することが難しいという問題があった。そこで、本願出願人は、十字形状のレチクルを指標として用いることにより、指標像の中心位置を画像上において容易に特定し得るようにした測定手法を提案し、既に特許庁に対し開示している（下記特許文献３参照）。

特開２００５−５５２０２号公報 特開２００７−１７４３１号公報 特願２００６−１５７１９８号明細書

ところで、複数のレンズ等から構成された光学素子においては、各レンズ面について偏芯量を測定する必要が生じるが、各レンズの配置によっては、所定のレンズ面の焦点面（近軸曲率中心）に他のレンズ面やフィルタ等の他の光学部材が位置している場合がある。

このような場合、上記所定のレンズ面を被検面としてオートコリメーション法を適用すると、被検面を介して撮像面上に結像される指標像（以下「正規像」と称する）とは別に、被検面の焦点面に位置する他のレンズ面等を介してリレーされた指標像（以下「不要像」と称する）が撮像面上に結像されてしまうことになる。

従来の偏芯量測定装置の中には、画像上における指標像（正規像）の位置を、画像濃度値に基づいて自動的に特定するように構成されているものがあるが、正規像と不要像とが共に画像上に担持されていた（写っていた）場合、これらを互いに峻別することが困難なため、正規像の位置特定を行うことができなかった。

そこで、正規像と不要像とが共に画像上に担持されてしまうような場合には、オペレータが画像を見て正規像と不要像との峻別を行い、不要像をマスキングするなどの作業を行うことが必要とされていた。通常、１つの被検面の偏芯量を測定するのに、正規像の位置が互いに異なる１０枚以上の画像が必要とされるので、各画像において上述のマスキング等の作業を行うことは非常に煩わしく、また測定に要する時間も著しく増大してしまうことになる。このため、オペレータの判断によって、偏芯量の測定に供する画像が間引かれてしまい、測定精度が低下してしまう虞もある。

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、オートコリメーション法を適用して偏芯量を測定する際に、被検面を介して結像された正規像とは別に、他の面を介して結像された不要像が画像上に担持されていた場合でも、画像上における正規像の位置を特定することが可能な偏芯量測定装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため本発明の偏芯量測定装置では、被検面以外の他の面を介して結像された不要像は、被検光学素子を回転しても各画像上での位置や画像濃度値が殆ど変化しないことに着目して、差画像を求めることにより不要像を消去するようにしている。

すなわち、本発明に係る偏芯量測定装置は、所定の回転軸を中心として被検光学素子を回転可能に保持する基台と、該基台に保持され前記所定の回転軸を中心として回転せしめられる前記被検光学素子の被検面に対し、光源からの光を所定形状の指標を介して照射するとともに、該指標の像を前記被検面の焦点面に結像させる照射用光学系と、前記被検面からの反射光または透過光を撮像面上に導き該反射光または透過光により形成される前記指標の正規像を前記撮像面上に結像させる結像用光学系と、前記被検光学素子の互いに異なる複数の回転位置毎に、該複数の回転位置各々に対応した前記正規像をそれぞれ担持した複数の画像を取得する撮像手段と、撮像された前記複数の画像に基づき前記被検面の偏芯量を解析する解析手段と、を備えてなるものであって、
前記解析手段は、前記複数の画像のうちの所定の２枚の画像の差画像を求めることにより、前記被検面の焦点面に位置する所定面からの反射光または透過光により前記撮像面上に結像される前記指標の不要像を画像上から消去するように構成されていることを特徴とする。

本発明に係る偏芯量測定装置において、前記解析手段は、前記差画像において画像濃度値が正となる領域および負となる領域のどちらか一方の領域の画像濃度値を零とする処理を行なうことにより、前記２枚の画像のうちの一方の画像上の前記正規像のみを担持した正規像位置特定用画像を形成するように構成されたものとすることができる。

また、前記解析手段は、前記一方の画像と前記正規像位置特定用画像との差画像を求めることにより、前記指標の不要像のみを担持した不要像除去用画像を形成するように構成されたものとすることもできる。

また、前記解析手段は、前記正規像位置特定用画像において、画素ライン毎に各画素に対応した画像濃度値を合算し、該合算された値が最大となる画素ラインの座標に基づき、前記正規像の中心位置を特定するように構成することもできる。

なお、本発明において「画像」とは、人が視覚的に認識し得る通常の画像以外に、このような画像を構成する各画素に対応した画像濃度値の分布データ等の画像情報を含む概念である。
また、「差画像」とは、２つの画像間の画像濃度値の差をとった画像を意味する。

本発明に係る偏芯量測定装置によれば、オートコリメーション法を適用して偏芯量を測定する際に、被検面を介して結像された正規像とは別に、他の面を介して結像された不要像が画像上に担持されていた場合でも、差画像を求めることにより不要像を画像上から消去することができるので、画像上における正規像の位置を画像濃度値等に基づいて特定することが可能となる。

したがって、従来の偏芯量測定装置においては必要とされていた、オペレータによる不要像のマスキング等の作業が不要となるので、測定に要する時間を大幅に短縮することができるとともに、測定精度の低下を防止することが可能となる。

以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態に係る偏芯量測定装置の概略構成図である。

図１に示す偏芯量測定装置１は、被検光学素子としてのレンズ体５の各被検面の偏芯量を、オートコリメーション法を適用して測定するものであり、測定ヘッド１０と、レンズ体５を回転可能に保持する基台２０と、偏芯量を算定するための各種演算等を行う解析演算部３０と、測定ヘッド１０を図中上下方向に移動可能に保持するＺ軸ステージ４０とを備えてなる。

上記測定ヘッド１０は、上記レンズ体５に照射される光束を出力する光源１１と、光源１１から出力された光束を通過させる、指標としての十字形状のスリット（以下「レチクル」と称する）を有するレチクル板１２と、レチクル板１２からの光束を図中下方に向けて反射するビームスプリッタ１３と、入射された光束を平行光束とするコリメータレンズ１４と、平行光束を光収束点Ｐに収束せしめる対物レンズ１５とを備えている。また、この測定ヘッド１０は、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子１６を搭載した、撮像手段としての撮像カメラ１７も備えている。なお、本実施形態においては、上記レチクル板１２、上記ビームスプリッタ１３、上記コリメータレンズ１４、および上記対物レンズ１５等により照射用光学系が構成されており、上記対物レンズ１５、上記コリメータレンズ１４、上記ビームスプリッタ１３等により結像用光学系が構成されている。

一方、上記レンズ体５は、複数のレンズを備え、かつ所定のレンズ面の焦点面に他のレンズ面が位置するように構成された光学素子として例示されたものであり、２枚のレンズ５１，５２を鏡筒５３内に保持してなる。また、被検面としての各レンズ面５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂのうち、レンズ５２の図中上側のレンズ面５２ａの焦点面（レンズ面５２ａの焦点（近軸の曲率中心点）Ｃ_３が位置する面；図示略）に、レンズ５１の図中上側のレンズ面５１ａが位置するように構成されている。

上記基台２０は、上記レンズ体５が載置される載置部材２１と、この載置部材２１を支持するＸＹ軸ステージ２２および回転ステージ２３とを備えてなる。ＸＹ軸ステージ２２は、載置部材２１に載置されたレンズ体５と測定ヘッド１０との位置調整を行う際に用いられるものであり、載置部材２１に載置されたレンズ体５を、上記測定ヘッド１０の光軸Ｚと略直交する面内において移動し得るように構成されている。また、回転ステージ２３は、載置部材２１に載置されたレンズ体５を、図示した回転軸Ａを中心として回転させ得るように構成されている。

なお、上記載置部材２１としては、その上方端面縁部においてレンズ体５を支持する円筒形状のものを用いてもよいが、前掲の特許文献３の図３に示すような、Ｖブロックと回転円板よりなるチャック機構を用いてもよい。

上記解析演算部３０は、測定の際に撮像された各画像の解析等を行う、コンピュータ等からなる解析手段としての解析装置３１と、解析結果や各画像等を表示する画像表示装置３２と、解析装置３１に対する各種入力を行うための入力装置３３とを備えてなる。

上記Ｚ軸ステージ４０は、上記基台２０が載置される支持部４１と、この支持部４１に立設されたガイド部４２と、このガイド部４２に沿って図中上下方向に移動可能に設けられ、上記測定ヘッド１０を保持する可動部４３とを備えてなる。このＺ軸ステージ４０は、上記レンズ体５の偏芯量を測定する際に、上記測定ヘッド１０の光収束点Ｐが上記各レンズ面５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂの焦点面にそれぞれ位置するように（例えば、レンズ面５２ａの偏芯量を測定する場合には、光収束点Ｐがレンズ面５２ａの焦点面に位置するように）、測定ヘッド１０の高さを順次調整するようになっている。

なお、偏芯量の測定に際しては、上記測定ヘッド１０の光軸Ｚと、上記レンズ体５の光軸Ｂと、上記基台２０（回転ステージ２３の）の回転軸Ａとが互いに一致するように調整されることが好ましいが、これらが互いに一致しない場合でも測定は可能である。各軸が一致しない場合の測定手法については、前掲の特許文献２に詳述されている。

次に、本実施形態の偏芯量測定装置１による上記レンズ体５の偏芯量の測定手順および偏芯量測定装置１の作用について説明する。なお、上記測定ヘッド１０の光軸Ｚ、上記レンズ体５の光軸Ｂ、および上記基台２０の回転軸Ａの相互間の位置調整は終了しているものとする。また、以下では、上記レンズ体５の各レンズ面５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂのうち、レンズ面５２ａの偏芯量を測定する場合を例にとって説明する。

〈１〉まず、上記Ｚ軸ステージ４０を用いて、上記測定ヘッド１０の光収束点Ｐが上記レンズ面５２ａの焦点面に位置するように、測定ヘッド１０の高さ調整を行う。

〈２〉次に、測定ヘッド１０からレンズ体５に測定光束を照射する。レンズ体５に照射された測定光束は、上記光収束点Ｐに収束して上記レンズ面５２ａの焦点面に上記レチクルの像を結像するとともに、その一部が上記レンズ５１を透過して上記レンズ面５２ａに照射される。レンズ面５２ａに照射された光束のうちレンズ面５２ａからの反射光束（特に近軸領域からの反射光束）の一部は、上記レンズ５１を透過してレンズ面５２ａの焦点面に上記レチクルの像を結像しつつ測定ヘッド１０に入射する。測定ヘッド１０に入射された、上記レンズ面５２ａからの反射光束は、上記対物レンズ１５、上記コリメータレンズ１４、上記ビームスプリッタ１３を介して上記撮像カメラ１７の撮像素子１６に入射され、この撮像素子１６の撮像面上に上記レチクルの像（以下「正規像」と称する）が結像される。

一方、レンズ体５に照射された測定光束のうち上記レンズ面５１ａからの反射光束は、上記対物レンズ１５、上記コリメータレンズ１４、上記ビームスプリッタ１３を介して上記撮像カメラ１７の撮像素子１６に入射され、この撮像素子１６の撮像面上に上記正規像とは別のレチクル像（以下「不要像」と称する）が結像される。

〈３〉次いで、上記撮像カメラ１７により、上記正規像および上記不要像が共に担持された画像を撮像する。なお、上記レンズ面５２ａの焦点面と上記撮像面とは、上記レンズ面５２ａを介して共役な位置関係となっている。

〈４〉以下、上記回転ステージ２３を用いて、上記レンズ体５（レンズ面５２ａ）を、上記回転軸Ａを中心として所定角度ずつ回転させ、各々の回転位置毎に、上記〈１〉、〈２〉の処理を行って、上記正規像および上記不要像が共に担持された画像を撮像する。なお、撮像された各画像情報は、上記解析装置３１の記憶部に順次記憶される。

図２に、各回転位置に対応した複数の画像の一例を示す。図２には、上記レンズ体５を３０度ずつ回転させて撮像された計１２枚の画像Ｉ_１〜Ｉ_１２（数字は撮像順を示す）が示されている。各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２において、画像を４つに区切るように写っている大きな十字形の像が不要像Ｕｃ_１〜Ｕｃ_１２であり、その傍らに写っている小さな十字形の像が正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２である。図示のように、正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２は、各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２において相対的に位置が変化しているのに対し、不要像Ｕｃ_１〜Ｕｃ_１２は、各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２における相対的な位置および画像濃度値が殆ど変化していない。

〈５〉次に、上記各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２上に担持された正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２の中心位置を特定するための準備として、上記不要像Ｕｃ_１〜Ｕｃ_１２を画像上から消去する画像処理を行う。この不要像消去のための画像処理は、上記解析装置３１において自動的に行われるようになっている。

ここで、不要像消去のための画像処理の原理について、図４および図５を用いて説明する。図４は正規像および不要像がそれぞれ担持された２つの画像を例示した図である。また、図５は図４に示す２つの画像から不要像を消去する際の画像処理の作用を示す図であり、同図（Ａ）は図４に示す画像Ｉａにおける断面線６１ａに沿った画像濃度値の分布を示し、同図（Ｂ）は図４に示す画像Ｉｂにおける断面線６１ｂに沿った画像濃度値の分布を示している。また、同図（Ｃ）は図４に示す画像Ｉａと画像Ｉｂとの差画像における画像濃度値の分布を示している。

図４の画像Ｉａ上には正規像Ｒｃ_ａおよび不要像Ｕｃ_ａが担持されており、画像Ｉｂ上には、正規像Ｒｃ_ｂおよび不要像Ｕｃ_ｂが担持されている。また、図４および図５（Ａ），（Ｂ）に示すように、正規像Ｒｃ_ａおよびＲｃ_ｂは、相対的な位置が画像間で変化しているのに対し、不要像Ｕｃ_ａおよびＵｃ_ｂは、相対的な位置およびその画像濃度値が画像間で変化していない。そこで、２つの画像Ｉａ，Ｉｂの差画像ΔＩ（＝Ｉａ−Ｉｂ）を求める。この差画像ΔＩにおいては、不要像Ｕｃ_ａおよびＵｃ_ｂが相殺されて消去されることとなる。なお、差画像ΔＩ（＝Ｉａ−Ｉｂ）を求める際、画像Ｉｂ上に担持されていた正規像Ｒｃ_ｂと対応する領域の画像濃度値が負となるが、本実施形態ではこのような場合、画像濃度値が負となる領域の画像濃度値を零とする処理を行い、画像濃度値が正となる領域（正規像Ｒｃ_ａに対応する領域）のみが担持された正規像位置特定用画像を形成するようにしている。一方、差画像ΔＩ（＝Ｉａ−Ｉｂ）を求める際、画像濃度値が正となる領域の画像濃度値を零とする処理を行うとともに、画像濃度値が負となる領域の符号を正に付け替えることにより、正規像Ｒｃ_ｂに対応する領域のみが担持された正規像位置特定用画像を形成するようにしてもよい。

ここで述べた不要像消去ための画像処理を、図２に示す各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２間に適用することにより、不要像Ｕｃ_１〜Ｕｃ_１２が消去され、正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２のみがそれぞれ担持された正規像位置特定用画像を形成する。

図３に正規像位置特定用画像の一例を示す。図３に示す１２枚の正規像位置特定用画像ΔＩ_１〜ΔＩ_１２は、図２に示す各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２のうち互いに隣接する２つの画像間の差画像（ΔＩ_ｎ＝Ｉ_ｎ−Ｉ_ｎ＋１；ｎ＝１，…１１）に基づいて形成されたものである（ただし、ΔＩ_１２＝Ｉ_１２−Ｉ_１）。

〈６〉次に、上記正規像位置特定用画像ΔＩ_１〜ΔＩ_１２において、正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２の中心位置を特定する。この中心位置の特定に際しては、前掲の特許文献３に記載された手法を用いることが可能である。

なお、正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２が小さかったり、その画像濃度値（撮像面上での受光量）が小さかったりして、中心位置の特定が困難な場合には、以下のような手順により中心位置を特定してもよい。

例えば、図３に示す正規像位置特定用画像ΔＩ_１において、Ｙ方向（図中縦方向）に並んだ画素ライン毎に、各画素に対応した画像濃度値を合算した値を算定し（下式（１）参照）、算定された値が最大となる画素ラインのＹ座標を、正規像Ｒｃ_１の中心位置のＹ座標とする。同様に、Ｘ方向（図中横方向）に並んだ画素ライン毎に、各画素に対応した画像濃度値を合算した値を算定し（下式（２）参照）、算定された値が最大となる画素ラインのＸ座標を、正規像Ｒｃ_１の中心位置のＸ座標とする。なお、下式（１），（２）は、正規像位置特定用画像ΔＩ_１に対応した画素数が、縦横共に５１２である場合のものである。

〈７〉特定された各正規像Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２の中心位置に基づき、周知の重み付き平均法
等の近似手法を用いて、像中心の軌跡（通常、円形となる）を求め、この像中心の軌跡の半径に基づいて上記レンズ面５２ａの偏芯量を算定する。

他のレンズ面５１ａ，５１ｂ，５２ｂの偏芯量の測定についても同様の手順で行うが、画像上に不要像が担持されない場合には、上述の不要像消去のための画像処理を省略することが可能である。

このように本実施形態に係る偏芯量測定装置によれば、正規像と不要像が画像上に担持されていた場合でも、差画像を求めることにより不要像を画像上から消去し得るので、画像上における正規像の位置を特定することが可能となる。また、これにより、被検面の偏芯量を高精度に測定し得るとともに、測定に要する時間を大幅に短縮することが可能となる。

なお、本発明の偏芯量測定装置としては、上記実施形態のものに限られるものではなく、種々の態様の変更が可能である。

例えば、上記実施形態では、各正規像位置特定用画像を形成する際に、図２に示す各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２のうち互いに隣接する２つの画像間の差画像を順次求めるように構成されているが、これに替えて以下の手順により、不要像のみを担持した不要像除去用画像を形成し、この不要像除去用画像を利用して各正規像位置特定用画像を形成するように構成してもよい。図６は不要像除去用画像の形成過程を模式的に示す図である。

まず、図２に示す各画像Ｉ_１〜Ｉ_１２のうちの所定の２つの画像（図６では画像Ｉ_１と画像Ｉ_２）の差画像を求めて作成された正規像位置特定用画像（図６では図３に示す正規像位置特定用画像ΔＩ_１）と、差画像の元になった上記２つの画像のうちの一方の画像（図６では画像Ｉ_１）との差画像を求めることにより、不要像のみを担持した不要像除去用画像Ｉ_Ｕｃを形成する。

次に、図２に示す各画像Ｉ_２〜Ｉ_１２と、上記不要像除去用画像Ｉ_Ｕｃとの差画像をそれぞれ求めることにより、図３に示す各正規像位置特定用画像ΔＩ_２〜ΔＩ_１２と同様の各正規像位置特定用画像を形成することができる（正規像位置特定用画像ΔＩ_１については、前段階において既に形成されている）。

また、上記実施形態においては、指標として十字形状のレチクルを用いているが、これに替えて、ピンホール等の他の形状のものを指標として用いることも可能である。

さらに、上記実施形態においては、１つの被検面（レンズ面５２ａ）の偏芯量を測定する際に、被検面の回転位置を３０度ずつ変化させて撮像された計１２枚の画像を用いているが、被検面の回転角度や撮像する画像の枚数については、適宜変更し得る。

また、上記実施形態の偏芯量測定装置は、被検面からの反射光により形成される指標像を観察する光反射タイプのものであるが、被検面からの透過光により形成される指標像を観察する光透過タイプのものとすることも可能である。

一実施形態に係る偏芯量測定装置の概略構成図 レンズ体の各回転位置において撮像された複数の画像の一例を示す図 正規像位置特定用画像の一例を示す図 正規像および不要像がそれぞれ担持された２つの画像を例示する図 不要像を消去する画像処理の作用を示す図 不要像除去用画像の形成過程を模式的に示す図

符号の説明

１ 偏芯量測定装置
５ レンズ体（被検光学素子）
１０ 測定ヘッド
１１ 光源
１２ レチクル板
１３ ビームスプリッタ
１４ コリメータレンズ
１５ 対物レンズ
１６ 撮像素子
１７ 撮像カメラ
２０ 基台
２１ 載置部材
２２ ＸＹ軸ステージ
２３ 回転ステージ
２４ Ｚ軸ステージ
３０ 解析演算部
３１ 解析装置
３２ 画像表示装置
３３ 入力装置
４０ Ｚ軸ステージ
４１ 支持部
４２ ガイド部
４３ 可動部
５１，５２ レンズ
５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂ レンズ面
５３ 鏡筒
６１ａ，６１ｂ 断面線
Ｉ_１〜Ｉ_１２ 画像
ΔＩ_２〜ΔＩ_１２ 正規像位置特定用画像
Ｉ_Ｕｃ 不要像除去用画像
Ｒｃ_１〜Ｒｃ_１２，Ｒｃ_ａ，Ｒｃ_ｂ 正規像
Ｕｃ_１〜Ｕｃ_１２，Ｕｃ_ａ，Ｕｃ_ｂ 不要像
Ｐ 光収束点
Ｚ，Ｂ 光軸
Ａ 回転軸

Claims (4)

1. 所定の回転軸を中心として被検光学素子を回転可能に保持する基台と、該基台に保持され前記所定の回転軸を中心として回転せしめられる前記被検光学素子の被検面に対し、光源からの光を所定形状の指標を介して照射するとともに、該指標の像を前記被検面の焦点面に結像させる照射用光学系と、前記被検面からの反射光または透過光を撮像面上に導き該反射光または透過光により形成される前記指標の正規像を前記撮像面上に結像させる結像用光学系と、前記被検光学素子の互いに異なる複数の回転位置毎に、該複数の回転位置各々に対応した前記正規像をそれぞれ担持した複数の画像を取得する撮像手段と、撮像された前記複数の画像に基づき前記被検面の偏芯量を解析する解析手段と、を備えてなる偏芯量測定装置であって、
   前記解析手段は、前記複数の画像のうちの所定の２枚の画像の差画像を求めることにより、前記被検面の焦点面に位置する所定面からの反射光または透過光により前記撮像面上に結像される前記指標の不要像を画像上から消去するように構成されていることを特徴とする偏芯量測定装置。
2. 前記解析手段は、前記差画像において画像濃度値が正となる領域および負となる領域のどちらか一方の領域の画像濃度値を零とする処理を行なうことにより、前記２枚の画像のうちの一方の画像上の前記正規像のみを担持した正規像位置特定用画像を形成するように構成されていることを特徴とする請求項１記載の偏芯量測定装置。
3. 前記解析手段は、前記一方の画像と前記正規像位置特定用画像との差画像を求めることにより、前記指標の不要像のみを担持した不要像除去用画像を形成するように構成されていることを特徴とする請求項２記載の偏芯量測定装置。
4. 前記解析手段は、前記正規像位置特定用画像において、画素ライン毎に各画素に対応した画像濃度値を合算し、該合算された値が最大となる画素ラインの座標に基づき、前記正規像の中心位置を特定するように構成されていることを特徴とする請求項２または３記載の偏芯量測定装置。
   

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