KR100913449B1 - 세정 시스템 및 세정 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (35)
- 양극과, 음극과, 상기 양극과 상기 음극 사이에 설치된 격막과, 상기 양극과 상기 격막 사이에 획정된 양극실과, 상기 음극과 상기 격막 사이에 획정된 음극실을 갖고, 황산 용액을 전기 분해하여 상기 양극실에 산화성 물질을 생성시키는 황산 전해부와,상기 양극실에 농축 황산 용액을 공급하는 농축 황산 공급부와,상기 산화성 물질을 포함하는 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 세정 처리부를 구비하고,상기 음극실에는, 상기 양극실에 공급되는 황산 용액보다도 저농도의 황산 용액이 공급되는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 농축 황산 공급부로부터 공급되는 상기 농축 황산의 농도는 90 질량 퍼센트 이상인 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 황산 전해부와 상기 세정 처리부 사이에서 상기 산화성 용액을 순환시키는 용액 순환부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 양극과, 음극과, 상기 양극과 상기 음극 사이에 설치된 격막과, 상기 양극과 상기 격막 사이에 획정된 양극실과, 상기 음극과 상기 격막 사이에 획정된 음극실을 갖고, 황산 용액을 전기 분해하여 상기 양극실에 산화성 물질을 생성시키는 황산 전해부와,상기 양극실에 농축 황산 용액을 공급하는 농축 황산 공급부와,상기 산화성 물질을 포함하는 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 세정 처리부를 구비하고,상기 산화성 물질은 퍼옥소일황산인 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
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- 제1항에 있어서, 상기 양극 및 상기 음극 중 적어도 상기 양극은, 도전성을 갖는 기재의 표면에 도전성 다이아몬드막을 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 농축 황산 공급부는 석영으로 이루어지는 탱크를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 세정 처리부는 세정 대상물을 적재하는 회전 테이블과, 상기 회전 테이블에 적재된 세정 대상물에 대해 상기 산화성 용액을 토출하는 노즐을 갖는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 격막은 이온 교환막 또는 친수화 처리한 중성막인 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 음극실에 이온 교환수를 공급하는 이온 교환수 공급부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제10항에 있어서, 상기 이온 교환수 공급부는 상기 양극실에 설치된 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 격막을 사이에 두고 음극에 대향하는 양극과, 상기 격막과의 사이에 획정된 양극실에 공급된 90 질량 퍼센트 이상의 농축 황산 용액을 전기 분해하여 상기 양극실에 산화성 물질을 생성하고,상기 격막과 상기 음극 사이에 획정된 음극실에, 상기 양극실에 공급하는 황산 용액보다도 저농도의 황산 용액을 공급하고,상기 산화성 물질을 포함하는 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 산화성 물질을 포함하는 산화성 용액을, 세정 처리부와 상기 양극실 사이에서 순환시키면서 상기 세정 처리부에서 상기 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 격막을 사이에 두고 음극에 대향하는 양극과, 상기 격막과의 사이에 획정된 양극실에 공급된 90 질량 퍼센트 이상의 농축 황산 용액을 전기 분해하여 상기 양극실에 퍼옥소일황산을 생성하고, 상기 퍼옥소일황산을 포함하는 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 제12항에 있어서, 상기 저농도의 황산 용액은 이온 교환수로 희석되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 양극실로부터 송출된 상기 산화성 용액의 적어도 일부를 상기 양극실에 순환시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 양극 및 상기 음극 중 적어도 상기 양극은 도전성을 갖는 기재의 표면에 도전성 다이아몬드막을 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 회전 테이블 상에 피세정물을 적재하고, 노즐로부터 상기 피세정물에 대해 상기 산화성 용액을 토출하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 산화성 용액을 히터로 가열하여 상기 세정 대상물에 적용하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 세정 대상물은 레지스트 마스크가 도포된 웨이퍼이고, 상기 세정 처리에 의해 상기 레지스트 마스크를 제거하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 농축 황산 공급부로부터 공급되는 상기 농축 황산의 농도는 90 질량 퍼센트 이상인 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 황산 전해부와 상기 세정 처리부 사이에서 상기 산화성 용액을 순환시키는 용액 순환부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 양극 및 상기 음극 중 적어도 상기 양극은, 도전성을 갖는 기재의 표면에 도전성 다이아몬드막을 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 농축 황산 공급부는 석영으로 이루어지는 탱크를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 세정 처리부는 세정 대상물을 적재하는 회전 테이블과, 상기 회전 테이블에 적재된 세정 대상물에 대해 상기 산화성 용액을 토출하는 노즐을 갖는 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 격막은 이온 교환막 또는 친수화 처리한 중성막인 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 음극실에 이온 교환수를 공급하는 이온 교환수 공급부를 더 구비한 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제28항에 있어서, 상기 이온 교환수 공급부는 상기 양극실에 설치된 것을 특징으로 하는 세정 시스템.
- 제14항에 있어서, 상기 퍼옥소일황산을 포함하는 산화성 용액을, 세정 처리부와 상기 양극실 사이에서 순환시키면서 상기 세정 처리부에서 상기 산화성 용액을 사용하여 세정 대상물의 세정 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 양극실로부터 송출된 상기 산화성 용액의 적어도 일부를 상기 양극실에 순환시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 양극 및 상기 음극 중 적어도 상기 양극은, 도전성을 갖는 기재의 표면에 도전성 다이아몬드막을 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제14항에 있어서, 회전 테이블 상에 피세정물을 적재하여, 노즐로부터 상기 피세정물에 대해 상기 산화성 용액을 토출하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 산화성 용액을 히터로 가열하여 상기 세정 대상물에 적용하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 세정 대상물은 레지스트 마스크가 도포된 웨이퍼이고, 상기 세정 처리에 의해 상기 레지스트 마스크를 제거하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
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