JP5087325B2 - 洗浄システム及び洗浄方法 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る洗浄システム5は、硫酸電解部10と、洗浄処理部12と、溶液循環部14と、溶液供給部15とを有する。
陽極、陰極とも、導電性膜と基体が同一の材料であってもよい。例えば、陰極基体にグラッシーカーボンを使用する場合や、陽極基体に導電性ダイヤモンド自立膜を使用する場合は、基体そのものが電極触媒性を有する導電性膜であり、電解反応に寄与できる。
横軸が電解電流値(アンペア)であり、縦軸が剥離に要する時間(秒)である。この評価で用いた評価試料は、図3(a)と同様である。
図5(a)において、横軸は電解電流値(アンペア)であり、縦軸は剥離に要する時間(秒)である。また、図5(b)において、横軸は電解電圧値(ボルト)であり、縦軸は剥離に要する時間(秒)である。
これに対して、図7(a)に表すように、本実施形態により得られた酸化性溶液を用いた場合は、いずれの条件においても剥離できることが分かる。特に、処理時間が5分、処理温度が160℃のときには、ほぼすべてのレジストが剥離したことが確認できた。
横軸は、酸化性溶液の繰り返し使用回数(回)であり、縦軸は、吸光度(−)である。この吸光度は、200ナノメータの波長を用いて測定した値である。
Claims (32)
- 陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極との間に設けられた隔膜と、前記陽極と前記隔膜との間に設けられた陽極室と、前記陰極と前記隔膜との間に設けられた陰極室とを有し、濃硫酸溶液を電気分解して前記陽極室に酸化性物質を生成させる硫酸電解部と、
前記陽極室に、濃硫酸溶液を供給する濃硫酸供給部と、
前記酸化性物質を含む酸化性溶液を用いて洗浄対象物の洗浄処理を行う洗浄処理部と、
を備えたことを特徴とする洗浄システム。 - 前記濃硫酸供給部から供給される前記濃硫酸溶液の濃度は、90質量パーセント以上であることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記酸化性物質は、ペルオキソ一硫酸であることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記硫酸電解部で生成された前記酸化性溶液を保持し、かつこの保持された酸化性溶液を前記洗浄処理部へ供給する溶液保持部をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記洗浄処理部から排出された酸化性溶液を回収して再び前記洗浄処理部に供給する溶液循環部をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記溶液循環部は、前記洗浄処理部から排出された酸化性溶液中に含まれる汚染物を濾過するフィルタを有することを特徴とする請求項5記載の洗浄システム。
- 前記陰極室には、前記陽極室に供給される濃硫酸溶液よりも低濃度の硫酸溶液が供給されることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記陰極室には、前記陽極室に供給される濃硫酸溶液と同じ濃度の濃硫酸溶液が供給されることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記洗浄処理部から排出された酸化性溶液を回収して、前記硫酸電解部に供給することを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記洗浄処理部から排出された酸化性溶液を回収して、前記溶液保持部に供給することを特徴とする請求項4記載の洗浄システム。
- 前記陽極及び前記陰極のうち少なくとも前記陽極は、導電性を有する基体の表面に導電性ダイヤモンド膜を形成してなることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記濃硫酸供給部は、石英からなるタンクを有することを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記洗浄処理部は、洗浄対象物を載置する回転テーブルと、前記回転テーブルに載置された洗浄対象物に対して前記酸化性溶液を吐出するノズルとを有することを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記隔膜は、イオン交換膜または親水化処理した中性膜であることを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 前記陰極室へイオン交換水を供給するイオン交換水供給部をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の洗浄システム。
- 請求項1に記載の洗浄システムにおいて、濃硫酸溶液を前記陽極室に供給し、
前記陽極室に供給された濃硫酸溶液を電気分解して前記陽極室に酸化性物質を生成し、前記酸化性物質を含む酸化性溶液を用いて洗浄対象物の洗浄処理を行うことを特徴とする洗浄方法。 - 前記濃硫酸溶液の濃度は、90質量パーセント以上であることを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記酸化性物質は、ペルオキソ一硫酸であることを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記硫酸電解部で生成された前記酸化性溶液を溶液保持部に保持し、かつこの保持された酸化性溶液を前記洗浄処理部へ供給することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記洗浄処理部から排出された酸化性溶液を回収し、この回収された酸化性溶液を前記洗浄処理部に供給することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記酸化性物質を含む酸化性溶液を、前記洗浄処理部と前記陽極室との間で循環させつつ、前記洗浄処理部にて前記酸化性溶液を用いて洗浄対象物の洗浄処理を行うことを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記酸化性物質を含む酸化性溶液を、前記洗浄処理部と前記溶液保持部との間で循環させつつ、前記洗浄処理部で前記酸化性溶液を用いて洗浄対象物の洗浄処理を行うことを特徴とする請求項19記載の洗浄方法。
- 前記隔膜と前記陰極との間に設けられた陰極室に、前記陽極室に供給する濃硫酸溶液よりも低濃度の硫酸溶液を供給することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記隔膜と前記陰極との間に設けられた陰極室に、前記陽極室に供給する濃硫酸溶液と同じ濃度の濃硫酸溶液を供給することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記低濃度の硫酸溶液は、イオン交換水で希釈されていることを特徴とする請求項23記載の洗浄方法。
- 前記陽極室から送出された前記酸化性溶液の少なくとも一部を前記陽極室に循環させることを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記陽極は、導電性を有する基体の表面に導電性ダイヤモンド膜を形成してなることを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 回転テーブルの上に被洗浄物を載置し、ノズルから前記被洗浄物に対して前記酸化性溶液を吐出することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記酸化性溶液をヒータで加熱して前記洗浄対象物に適用することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記洗浄対象物は、レジストが塗布された基板であり、前記洗浄処理により前記レジストを除去することを特徴とする請求項16記載の洗浄方法。
- 前記洗浄対象物において、第1のレジストに対しては、前記電気分解における電解電流値を第1の範囲内として洗浄を行う工程と、
前記洗浄対象物において、第2のレジストに対しては、前記電解電流値を前記第1の範囲より大きな第2の範囲内として洗浄を行う工程とを有することを特徴とする請求項30記載の洗浄方法。 - 前記第1のレジストはノボラック樹脂系のレジストであり、前記第2のレジストは前記第1のレジストよりもカーボンリッチなレジストであることを特徴とする請求項31記載の洗浄方法。
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