KR100908367B1 - 금속 함유 화합물 및 그 용도 - Google Patents

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Abstract

플라스틱 렌즈 등의 광학 부재에 요구되는 높은 투명성, 양호한 내열성, 기계적 강도를 가지면서, 또, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 갖는 수지의 원료로 이루어지는 중합성 화합물, 그 수지로 이루어지는 광학 부재를 제공한다.
분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 화합물, 그 화합물을 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물, 그 폴리티올 조성물을 함유하여 이루어지는 중합성 조성물, 그 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지, 및 그 수지로 이루어지는 광학 부재.
금속 함유 화합물, 중합성 조성물, 광학 부재, 폴리티올 조성물.

Description

금속 함유 화합물 및 그 용도{METAL-CONTAINING COMPOUND AND USE THEREOF}
본 발명은 높은 굴절률을 갖는 투명 수지용 원료 모노머로서 유용한, 분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 화합물에 관한 것이다. 게다가, 그 화합물을 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물, 그 화합물 또는 그 폴리티올 조성물을 함유하는 중합성 조성물을 반응, 경화시켜 얻어지는 수지, 또, 그 수지로 이루어지는 광학 부재에 관한 것이다.
무기 유리는 투명성이 우수하고, 광학 이방성이 작은 등의 제반 물성이 우수하므로, 투명성 재료로서 넓은 분야에서 사용되고 있다. 그러나, 무겁고 파손되기 쉬우며, 성형 가공하여 제품을 얻을 때의 생산성이 나쁜 등의 단점이 있어, 무기 유리를 대신하는 소재로서 투명성 유기 고분자 재료(광학용 수지)가 사용되고 있다. 이러한 광학용 수지로부터 얻어지는 광학 부재로는, 예를 들면, 시력 교정용 안경 렌즈나 디지털 카메라 등의 촬영기기용 렌즈 등의 플라스틱 렌즈 등이 있고, 실용화되어 보급되고 있다. 특히, 시력 교정용 안경 렌즈의 용도에서는, 무기 유리제의 렌즈와 비교하여 경량이고 좀처럼 깨지지 않으며, 염색이 가능하여 패션성이 풍부한 등의 장점을 살려 널리 사용되고 있다.
종래, 안경 렌즈에 사용되는 광학용 수지로서 디에틸렌글리콜 비스아릴카보 네이트를 가열하에 주형 중합하여 얻어지는 가교형 수지(통칭, DAC 수지)가 실용화되고 있고, 투명성, 내열성이 양호하고 색수차가 낮다라는 특징으로부터, 범용의 시력 교정용 플라스틱 안경 렌즈 용도로 가장 많이 사용되어 왔다. 그러나, 굴절률이 낮기(nd=1.50) 때문에 플라스틱 렌즈의 중심 두께나 주변의 두께(코바 두께)가 커져, 착용감, 패션성이 떨어지는 등의 문제가 있어, 이들 문제를 해결할 수 있는 고굴절률의 플라스틱 렌즈용 수지가 요구되어 개발이 행하여졌다.
그 추세 중에서, 디이소시아네이트 화합물과 폴리티올 화합물을 주형 중합시켜 얻어지는 황 원자를 함유하는 폴리티오우레탄은 투명성, 내충격성이 우수하고, 고굴절률(nd=1.6∼1.7)이고, 또, 색수차도 비교적 낮은 등의 매우 우수한 특징을 실현하여, 얇은 두께, 경량의 고품질인 시력 교정용 플라스틱 안경 렌즈의 용도로 사용되어 오고 있다.
한편, 더욱 높은 굴절률을 갖는 광학용 수지를 추구하는 추세에서, 에피설파이드기를 갖는 화합물을 중합시켜 얻어지는 투명성 수지(특허 문헌 1, 특허 문헌 2)나 Se 등의 금속 함유 화합물을 중합시켜 얻어지는 수지(특허 문헌 3, 특허 문헌 4) 등 몇몇의 제안이 되고 있다. 또 최근에는, 플라스틱 렌즈로서 필요한 제반 특성(투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등)을 가지면서, 또, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률의 광학용 수지가 요구되어 개발이 행하여지고 있다.
[특허 문헌 1] 일본국 공개특허 평 9-110979호 공보
[특허 문헌 2] 일본국 공개특허 평 11-322930호 공보
[특허 문헌 3] 일본국 공개특허 평 11-140046호 공보
[특허 문헌 4] 일본국 공개특허 2001-296402호 공보
[발명의 개시]
[발명이 해결하려고 하는 과제]
본 발명의 목적은 플라스틱 렌즈 등의 광학 부재에 필요한 제반 특성(투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등)을 가지면서, 또, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 매우 높은 굴절률을 부여하는 중합성을 갖는 화합물, 그 화합물을 중합하여 얻어지는 수지 및 그 수지로 이루어지는 광학 부재를 제공하는 것에 있다.
[과제를 해결하려고 하는 수단]
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여, 예의 검토한 결과, 본 발명에 도달했다.
즉, 본 발명은,
분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 화합물에 관한 것이다.
구체적인 태양으로는, 금속원자가 Sn원자, Si원자, Zr원자, Ge원자, Ti원자, Zn원자, Al원자, Fe원자, Cu원자, Pt원자, Pb원자, Au원자 또는 Ag원자, 보다 바람직하게는 Sn원자, Si원자, Zr원자, Ti원자, 또는 Ge원자인 상기 화합물에 관한 것이고, 구체적인 태양으로서, 일반식(1)으로 표시되는 화합물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112007035237742-pct00001
(식 중, M은 Sn원자, Si원자, Zr원자, Ti원자, 또는 Ge원자를 나타내며,
Rp는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋고,
Xp는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자를 나타내며,
Yq는 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기를 나타내며,
m은 2∼n의 정수를 나타내며, n은 금속 원자 M의 가수를 나타내며,
p는 1∼m의 정수를 나타내며, q는 1∼n-m의 정수를 나타내며,
또한, m이 2 이상인 경우, -(-Xp-Rp-SH) 끼리가 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋다.)
또한, 상기 화합물을 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물, 그 화합물 또는 그 폴리티올 조성물을 함유하는 중합성 조성물, 상기 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지, 및 그 수지로 이루어지는 광학 부재에 관한 것이다.
[발명의 효과]
본 발명의 화합물을 중합하여 얻어지는 수지는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서, 또, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 가지고 있어, 플라스틱 렌즈 등의 광학 부재에 사용되는 수지로서 유용하다.
[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 화합물은,
분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 것을 화학 구조상의 특징으로 하는 화합물이다.
상기의 조건을 충족시키는 것이면, 특별히 제한은 없지만, 구체적으로는 이하의 화합물, 예를 들면, 이하 일반식(1)의 화합물을 들 수 있다.
본 발명의 화합물은 이소시아네이트기나 비닐기 등의 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 갖는 기와 반응하는 티올기를 분자 내에 가지므로, 중합성 화합물로서 유용하다. 후에 상술하는 바와 같이, 그 화합물을 이용하여 중합하여 얻어지는 수지는 투명성을 갖고, 또, 고굴절률인 특징을 갖고 있다.
본 발명의 화합물에서, 금속 원자로서는 소망의 효과를 발현하는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ge 원자, Ti 원자, Zn 원자, Al 원자, Fe 원자, Cu 원자, Pt 원자, Pb 원자, Au 원자 또는 Ag 원자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, Ge 원자이다.
본 발명의 화합물의 바람직한 태양으로는, 일반식(1)으로 표시되는 화합물이다.
[화학식 2]
Figure 112007035237742-pct00002
(식 중, M은 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, 또는 Ge 원자를 나타내며,
Rp는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋고,
Xp는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자를 나타내며,
Yq는 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기를 나타내며,
m은 2∼n의 정수를 나타내며, n은 금속 원자 M의 가수를 나타내며,
p는 1∼m의 정수를 나타내며, q는 1∼n-m의 정수를 나타내며,
또한, m이 2 이상인 경우, -(-Xp-Rp-SH) 끼리가 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋다.)
일반식(1)에서, M은 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, 또는 Ge 원자를 나타낸다.
일반식(1)에서, Rp는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋다.
이러한 2가의 유기기로는, 구체적으로는 예를 들면, 2가의 쇄상 또는 환상의 지방족기, 방향족기 또는 방향족-지방족기이고, 바람직하게는 2가의 탄소수 1∼20의 쇄상 지방족기, 탄소수 3∼20의 환상 지방족기, 탄소수 5∼20의 방향족기, 탄소수 6∼20의 방향족-지방족기를 들 수 있다.
보다 구체적으로는, 바람직하게는, 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1∼20의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기, 페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5∼20의 방향족기, -C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6∼20의 방향족-지방족기이고, 보다 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기 등의 탄소수 1∼6의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기, 페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5∼15의 방향족기, -C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6∼15의 방향족-지방족기이다.
이러한 2가의 유기기는, 기 중에 탄소 원자, 수소 원자 이외의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 좋다. 이러한 헤테로 원자로는 산소 원자 또는 황 원자를 들 수 있다. 본 발명의 소망하는 효과를 고려하면, 그 기중에 황 원자를 함유하는 것은 바람직하다.
일반식(1)에서, Xp는 각각 독립적으로 황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. 본 발명의 소망의 효과인 고굴절률인 것을 감안하면, Xp로서, 황 원자는 보다 바람직하다.
일반식(1)에서, Yq는 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기를 나타낸다.
이러한 기로는, 예를 들면, 할로겐 원자, 수산기, 알킬기, 아릴기, 알킬옥시기, 아킬티오기, 아릴옥시기, 아릴티오기를 나타내며, 보다 구체적으로는, 할로겐 원자, 수산기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 알킬옥시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기를 나타낸다.
구체적으로는 할로겐 원자로서, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자,
치환 또는 무치환의 알킬기로서,
메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1∼10의 직쇄 알킬기,
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, 1-메틸헥실기, 2-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 2-에틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1-n-프로필부틸기, 1-iso-프로필부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸프로필기, 1-메틸헵틸기, 2-메틸헵틸기, 3-메틸헵틸기, 4-메틸헵틸기, 5-메틸헵틸기, 6-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 2-에틸헥실기, 3-에틸헥실기, 4-에틸헥실기, 1-n-프로필펜틸기, 2-n-프로필펜틸기, 1-iso-프로필펜틸기, 2-iso-프로필펜틸기, 1-n-부틸부틸기, 1-iso-부틸부틸기, 1-sec-부틸부틸기, 1-tert-부틸부틸기, 2-tert-부틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸프로필기, 1,1-디메틸펜틸기, 1,2-디메틸펜틸기, 1,3-디메틸펜틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2,2-디메틸펜틸기, 2,3-디메틸펜틸기, 2,4-디메틸펜틸기, 3,3-디메틸펜틸기, 3,4-디메틸펜틸기, 1-에틸-1-메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸부틸기, 1-에틸-3-메틸부틸기, 2-에틸-1-메틸부틸기, 2-에틸-3-메틸부틸기, 1,1-디메틸헥실기, 1,2-디메틸헥실기, 1,3-디메틸헥실기, 1,4-디메틸헥실기, 1,5-디메틸헥실기, 2,2-디메틸헥실기, 2,3-디메틸헥실기, 2,4-디메틸헥실기, 2,5-디메틸헥실기, 3,3-디메틸헥실기, 3,4-디메틸헥실기, 3,5-디메틸헥실기, 4,4-디메틸헥실기, 4,5-디메틸헥실기, 1-에틸-2-메틸펜틸기, 1-에틸-3-메틸펜틸기, 1-에틸-4-메틸펜틸기, 2-에틸-1-메틸펜틸기, 2-에틸-2-메틸펜틸기, 2-에틸-3-메틸펜틸기, 2-에틸-4-메틸펜틸기, 3-에틸-1-메틸펜틸기, 3-에틸-2-메틸펜틸기, 3-에틸-3-메틸펜틸기, 3-에틸-4-메틸펜틸기, 1-n-프로필-1-메틸부틸기, 1-n-프로필-2-메틸부틸기, 1-n-프로필-3-메틸부틸기, 1-iso-프로필-1-메틸부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸부틸기, 1-iso-프로필-3-메틸부틸기, 1,1-디에틸부틸기, 1,2-디에틸부틸기, 1,1,2-트리메틸프로필기, 1,2,2-트리메틸프로필기, 1,1,2-트리메틸부틸기, 1,1,3-트리메틸부틸기, 1,2,3-트리메틸부틸기, 1,2,2-트리메틸부틸기, 1,3,3-트리메틸부틸기, 2,3,3-트리메틸부틸기, 1,1,2-트리메틸펜틸기, 1,1,3-트리메틸펜틸기, 1,1,4-트리메틸펜틸기, 1,2,2-트리메틸펜틸기, 1,2,3-트리메틸펜틸기, 1,2,4-트리메틸펜틸기, 1,3,4-트리메틸펜틸기, 2,2,3-트리메틸펜틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 2,3,4-트리메틸펜틸기, 1,3,3-트리메틸펜틸기, 2,3,3-트리메틸펜틸기, 3,3,4-트리메틸펜틸기, 1,4,4-트리메틸펜틸기, 2,4,4-트리메틸펜틸기, 3,4,4-트리메틸펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸부틸기, 1-에틸-1,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2,3-디메틸부틸기, 2-에틸-1,1-디메틸부틸기, 2-에틸-1,2-디메틸부틸기, 2-에틸-1,3-디메틸부틸기, 2-에틸-2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3∼10의 분기 알킬기, 
시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸 시클로펜틸기, 메톡시 시클로펜틸기, 메톡시 시클로헥실기, 메틸 시클로헥실기, 1,2-디메틸 시클로헥실기, 1,3-디메틸 시클로헥실기, 1,4-디메틸 시클로헥실기, 에틸 시클로헥실기 등의 총탄소수 5∼10의 포화 환상 알킬기,
치환 또는 무치환의 아릴기로서,
페닐기, 나프틸기, 안트라닐기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소,
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 헥실페닐기, 시클로헥실페닐기, 옥틸페닐기, 2-메틸-1-나프틸기, 3-메틸-1-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 5-메틸-1-나프틸기, 6-메틸-1-나프틸기, 7-메틸-1-나프틸기, 8-메틸-1-나프틸기, 1-메틸-2-나프틸기, 3-메틸-2-나프틸기, 4-메틸-2-나프틸기, 5-메틸-2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 7-메틸-2-나프틸기, 8-메틸-2-나프틸기, 2-에틸-1-나프틸기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 20 이하의 알킬 치환 아릴기,
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 헥실옥시페닐기, 시클로헥실옥시페닐기, 옥틸옥시페닐기, 2-메톡시-1-나프틸기, 3-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 5-메톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-1-나프틸기, 7-메톡시-1-나프틸기, 8-메톡시-1-나프틸기, 1-메톡시-2-나프틸기, 3-메톡시-2-나프틸기, 4-메톡시-2-나프틸기, 5-메톡시-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기, 8-메톡시-2-나프틸기, 2-에톡시-1-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴기,
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기, 4,5-디메톡시-1-나프틸기, 4,7-디메톡시-1-나프틸기, 4,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-2-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴기,
2,3,4-트리메톡시페닐기, 2,3,5-트리메톡시페닐기, 2,3,6-트리메톡시페닐기, 2,4,5-트리메톡시페닐기, 2,4,6-트리메톡시페닐기, 3,4,5-트리메톡시페닐기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴기,
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 20 이하의 아릴기,
치환 또는 무치환의 알킬 옥시기로서,
메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기 등의 총탄소수 1∼10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기,
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5∼10 이하의 시클로 알콕시기,
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총탄소수 1∼10 이하 알콕시 알콕시기, 벤질 옥시기 등의 아랄킬 옥시기,
치환 또는 무치환의 알킬 티오기로서,
메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, i-프로필티오기, n-부틸티오기, i-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기, 2-에틸헥실티오기, 3,5,5-트리메틸헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, n-노닐티오기 등의 총탄소수 1∼10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬 티오기,
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5∼10 이하의 시클로알킬 티오기,
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기, n-펜틸옥시에틸티오기, iso-펜틸옥시에틸티오기, n-헥실옥시에틸티오기, iso-헥실옥시에틸티오기, n-헵틸옥시에틸티오기 등의 총탄소수 1∼10 이하의 알콕시알킬 티오기, 벤질 티오기 등의 아랄킬티오기,
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기, n-펜틸티오에틸티오기, iso-펜틸티오에틸티오기, n-헥실티오에틸티오기, iso-헥실티오에틸티오기, n-헵틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 1∼10 이하 알킬티오알킬티오기,
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서,
페닐옥시기, 나프틸옥시기, 안트라닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 옥틸페닐옥시기, 2-메틸-1-나프틸옥시기, 3-메틸-1-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-1-나프틸옥시기, 6-메틸-1-나프틸옥시기, 7-메틸-1-나프틸옥시기, 8-메틸-1-나프틸옥시기, 1-메틸-2-나프틸옥시기, 3-메틸-2-나프틸옥시기, 4-메틸-2-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 6-메틸-2-나프틸옥시기, 7-메틸-2-나프틸옥시기, 8-메틸-2-나프틸옥시기, 2-에틸-1-나프틸옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기,
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기, 옥틸옥시페닐옥시기, 2-메톡시-1-나프틸옥시기, 3-메톡시-1-나프틸옥시기, 4-메톡시-1-나프틸옥시기, 5-메톡시-1-나프틸옥시기, 6-메톡시-1-나프틸옥시기, 7-메톡시-1-나프틸옥시기, 8-메톡시-1-나프틸옥시기, 1-메톡시-2-나프틸옥시기, 3-메톡시-2-나프틸옥시기, 4-메톡시-2-나프틸옥시기, 5-메톡시-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-메톡시-2-나프틸옥시기, 8-메톡시-2-나프틸옥시기, 2-에톡시-1-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴옥시기,
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기, 4,5-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,7-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-2-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴옥시기,
2,3,4-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,6-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,6-트리메톡시페닐옥시기, 3,4,5-트리메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴옥시기,
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 20 이하의 아릴옥시기,
치환 또는 무치환의 아릴 티오기로서,
페닐티오기, 나프틸티오기, 안트라닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 옥틸페닐티오기, 2-메틸-1-나프틸티오기, 3-메틸-1-나프틸티오기, 4-메틸-1-나프틸티오기, 5-메틸-1-나프틸티오기, 6-메틸-1-나프틸티오기, 7-메틸-1-나프틸티오기, 8-메틸-1-나프틸티오기, 1-메틸-2-나프틸티오기, 3-메틸-2-나프틸티오기, 4-메틸-2-나프틸티오기, 5-메틸-2-나프틸티오기, 6-메틸-2-나프틸티오기, 7-메틸-2-나프틸티오기, 8-메틸-2-나프틸티오기, 2-에틸-1-나프틸티오기, 2,3-디메틸페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기,
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기, 옥틸옥시페닐티오기, 2-메톡시-1-나프틸티오기, 3-메톡시-1-나프틸티오기, 4-메톡시-1-나프틸티오기, 5-메톡시-1-나프틸티오기, 6-메톡시-1-나프틸티오기, 7-메톡시-1-나프틸티오기, 8-메톡시-1-나프틸티오기, 1-메톡시-2-나프틸티오기, 3-메톡시-2-나프틸티오기, 4-메톡시-2-나프틸티오기, 5-메톡시-2-나프틸티오기, 6-메톡시-2-나프틸티오기, 7-메톡시-2-나프틸티오기, 8-메톡시-2-나프틸티오기, 2-에톡시-1-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴티오기,
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴티오기,
2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴티오기,
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 20 이하의 아릴티오기,
등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다.
이러한 Yq에서 바람직하게는 수소원자, 할로겐 원자로서 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자,
치환 또는 무치환의 알킬기로서,
메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1∼6의 직쇄 알킬기,
이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3∼6의 분기 알킬기,
시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 총탄소수 5∼6의 포화 환상 알킬기,
치환 또는 무치환의 아릴기로서,
페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소,
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 12 이하의 알킬 치환 아릴기,
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 모노알콕시 아릴기,
2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 디알콕시 아릴기,
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴기,
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서,
메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기,
시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5∼6 이하의 시클로 알콕시기,
메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 알콕시 알콕시기,
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서,
메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, i-프로필티오기, n-부틸티오기, i-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬 티오기,
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5∼6 이하의 시클로알킬 티오기,
메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 알콕시 알킬티오기,
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 알킬티오 알킬티오기,
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서,
페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기,
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 모노알콕시 아릴옥시기,
2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 디알콕시 아릴옥시기,
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기,
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서,
페닐티오기, 나프틸티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기,
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 모노알콕시 아릴티오기,
2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 12 이하의 디알콕시 아릴티오기,
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴티오기,
이고,
보다 바람직하게는, 수소 원자,
할로겐 원자로서 염소 원자, 브롬 원자,
치환 또는 무치환의 알킬기로서,
메틸기, 에틸기, iso-프로필기 등의 총탄소수 1∼3의 직쇄 또는 분기 알킬기,
치환 또는 무치환의 아릴기로서,
페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소,
2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기 등의 총탄소수 9 이하의 알킬 치환 아릴기,
2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 9 이하의 모노알콕시 아릴기,
클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴기,
치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서,
메톡시기, 에톡시기, iso-프로폭시기 등의 총탄소수 1∼3 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5∼6 이하의 시클로알콕시기,
치환 또는 무치환의 알킬티오기로서,
메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, i-프로필티오기 등의 총탄소수 1∼3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬 티오기,
시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5∼6 이하의 시클로알킬 티오기,
메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 1∼6 이하의 알킬티오 알킬티오기,
치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서,
페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴 옥시기,
2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬 옥시기가 치환된 총탄소수 9 이하의 모노알콕시 아릴옥시기,
클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기,
치환 또는 무치환의 아릴티오기로서,
페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기,
2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총탄소수 9 이하의 모노알콕시 아릴티오기,
클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기 등의 할로겐 원자가 치환된 총탄소수 12 이하의 아릴티오기,
이다.
일반식(1)에서, m은 2∼n의 정수를 나타낸다. 이러한 m으로서, 바람직하게는 정수 n 또는 n-1이고, 보다 바람직하게는 정수 n이다.
본원에서, 일반식(1)에서의 m은 금속 원자 M의 가수 n에 의해, 통상, 2∼4의 정수이다.
일반식(1)에서, n은 금속 원자 M의 가수를 나타낸다.
즉, 예를 들면, M이 Sn 원자 또는 Ti 원자인 경우, n=2 또는 4이고, 바람직하게는 정수 4를 나타낸다. 또한 M이 Zr 원자, Si 원자, Ge 원자인 경우, n=4이다.
일반식(1)에서 n으로서, 바람직하게는 2∼4의 정수이고, 보다 바람직하게는 2 또는 4의 정수이다.
일반식(1)에서, p는 1∼m의 정수를 나타낸다. 또한, 일반식(1)에서, q는 1∼n-m의 정수를 나타낸다.
즉, 예를 들면, M이 4가의 Sn 원자이고(n=4), 또, m=4인 경우, p는 기마다에 정수 1∼4의 각각의 숫자를 나타내며, R1, R2, R3, R4의 4종류의 기를 갖는다. 상술한 바와 같이, 이들 R1 R4기는 동일한 기이어도 좋고, 서로 독립적으로 다른 기이어도 좋다. 또한, 예를 들면, R1과 R2 또는/및 R3와 R4로 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성해도 좋다.
또한, 예를 들면, M이 4가의 Sn 원자이고(n=4), 또, m=2인 경우, p는 기마다에 정수 1∼2의 각각의 숫자를 나타내며 R1 및 R2의 2 종류의 기를 갖고, 상기와 마찬가지로, 이들 R1 및 R2는 동일한 기이어도 좋고, 서로 독립적으로 다른 기이어도 좋다. 또한, 예를 들면, R1과 R2로 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성해도 좋다.
이 때 q는 1∼2의 숫자를 나타내며, Y1 및 Y2의 2 종류의 기를 갖는다. 상술한 바와 같이, 이들 Y1 및 Y2기는 동일한 기이어도 좋고, 서로 독립적으로 다른 기이어도 좋다.
또한, 일반식(1)에서, m이 2 이상인 경우, -(-Xp-Rp-SH) 끼리가 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성해도 좋다.
이 경우, 말단의 SH기 끼리가 직접 결합(단결합)하든가 혹은 탄소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 원자 또는 유기기 등으로 이루어지는 연결기를 통하여 결합해도 좋다.
또한, 도중의 Rp기 끼리 혹은 한쪽 말단의 SH기와 다른 한쪽의 도중의 Rp기가 직접 결합(단결합)하든가, 혹은, 상기와 같은 연결기를 통하여 결합해도 상관없다.
상기의 연결기로는, 구체적으로는 예를 들면, 상기한 2가의 유기기로서 기재된 것을 들 수 있다.
일반식(1)으로 표시되는 화합물로는 대표적으로는 예를 들면, 하기 화합물을 예시할 수 있지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
[표 1-1]
Figure 112007035237742-pct00003
[표 1-2]
Figure 112007035237742-pct00004
일반식(1)으로 표시되는 화합물로 대표되는, 분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 본 발명의 화합물은, 대표적으로는, 예를 들면, 일반식(2)으로 표시되는 금속 할로겐화물과 분자 내에 2개 이상의 티올기를 함유하는 폴리티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.
[화학식 3]
Figure 112007035237742-pct00005
(식 중, M, Y, m, n 및 q는 상기와 같고, Z는 할로겐 원자를 나타낸다.)
일반식(2)으로 표시되는 금속 화합물은 공업 원료 또는 시약으로서 입수 가능하다.
폴리티올 화합물로는 공지의 화합물이 적합하게 사용되고, 그 화합물은 대표적으로는, 예를 들면, 일본국 공개특허 2001-342252호 공보, 일본국 공개특허 2001-342172호 공보, 일본국 공개특허 평 9-52391호 공보, 일본국 공개특허 평 1-215984호 공보 등에 기재된 방법에 따라 제조된다. 물론, 이들 폴리티올 화합물 중 일부 화합물에 대해서는 공업 원료 또는 시약으로서 입수 가능하다.
이하, 일반식(2)으로 표시되는 금속 할로겐화물과, 그 폴리티올 화합물과의 반응에 의해, 일반식(1)로 대표되는 본 발명의 화합물을 제조하는 방법에 대해, 이하, 서술한다.
반응은 무용매로 행하여도 좋고, 혹은, 반응에 불활성인 유기 용매의 존재하에 행하여도 좋다. 이러한 유기 용매로는, 반응에 불활성인 유기 용매이면 특별히 한정되는 것은 아니고, 석유 에테르, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 탄화수소계 용매, 디에틸에테르, 테트라하이드로퓨란, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매, 초산에틸, 초산부틸, 초산아밀 등의 에스테르계 용매, 염화메틸렌, 클로로포름, 클로르벤젠, 디클로르벤젠 등의 함염소계 용매, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드 등 비프로톤성 극성 용매 등이 예시된다.
반응 온도는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 통상, -78℃∼200℃의 범위이고, 바람직하게는, -78℃∼100℃이다.
반응 시간은 반응 온도에 따라 영향을 받지만, 통상, 몇분부터 100시간이다.
반응에서의 일반식(2)으로 표시되는 화합물과 원료인 폴리티올 화합물의 사용량은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 일반식(2)으로 표시되는 화합물 1몰에 대해서, 그 폴리티올 화합물의 사용량은 0.01∼100몰이다.
바람직하게는 0.1몰∼50몰이고, 보다 바람직하게는 0.5몰∼20몰이다.
반응을 실시할 때에, 반응을 효율적으로 행하기 위해서, 생성되는 할로겐화 수소의 포착제로서 염기성 화합물을 사용하는 것은 바람직하다. 이러한 염기성 화합물로서, 예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 중탄산리튬, 수산화마그네슘, 수산화칼슘 등의 무기 염기, 피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 염기가 예시된다.
본 발명의 일반식(1)으로 표시되는 화합물은 소망에 따라, 정제하여 단일 화합물로서 취출하여 사용해도 좋고, 혹은, 원료인 폴리티올 화합물, 일반식(1)이고 다른 구조를 갖는 화합물, 또는, 올리고머상의 폴리티올 화합물 등의 부생성물 등을 함유하고 있는 조성물 그대로 사용해도 좋다.
본 발명의 폴리티올 조성물은 상기 반응에서 얻어지는 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또, 금속 원자 중에서 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물을 필수 성분으로 함유하여 이루어지는 조성물이고, 필수 성분 이외의 다른 티올 화합물을 함유하고 있어도 좋다.
다른 티올 화합물로서, 예를 들면, 메탄디티올, 에탄디티올, 1,1-프로판디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,1-시클로헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 1,1-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 티오말산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(2-메르캅토 아세테이트), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(3-메르캅토 프로피오네이트), 디에틸렌글리콜 비스(2-메르캅토 아세테이트), 디에틸렌글리콜 비스(3-메르캅토 프로피오네이트), 1,2-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,3-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤프로판비스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 테트라키스(메르캅토메틸)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물, 1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리메르캅토벤젠, 1,2,4-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,3-디(p-메톡시페닐)프로판-2,2-디티올, 1,3-디페닐프로판-2,2-디티올, 페닐메탄-1,1-디티올, 2,4-디(p-메르캅토페닐)펜탄 등의 방향족 폴리티올, 1,2-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠 등, 및 이들의 상기 알킬화물 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 방향족 폴리티올 화합물, 비스(메르캅토메틸)설파이드, 비스(메르캅토에틸)설파이드, 비스(메르캅토프로필)설파이드, 비스(2-메르캅토에틸티오)메탄, 비스(3-메르캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-메르캅토프로필)에탄, 1,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,3-비스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)설파이드, 비스(1,3-디메르캅토프로필)설파이드, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 비스(메르캅토에틸)디설파이드, 비스(메르캅토프로필)디설파이드 등, 및 이들 티오글리콜산 및 메르캅토프로피온산의 에스테르, 하이드록시메틸설파이드비스(2-메르캅토아세테이트), 하이드록시메틸설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시에틸설파이드비스(2-메르캅토아세테이트), 하이드록시에틸설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시프로필설파이드비스(2-메르캅토아세테이드), 하이드록시프로필설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시메틸디설파이드비스(2-메르캅토아세테이트), 하이드록시메틸디설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시에틸디설파이드비스(2-메르캅토아세테이트), 하이드록시에틸디설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시프로필디설파이드비스(2-메르캅토아세테이트), 하이드록시프로필디설파이드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(2-메르캅토아세테이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-디티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르) 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 지방족 폴리티올 화합물, 3,4-티오펜디티올, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 메르캅토기 이외에 황 원자를 함유하는 복소환 화합물, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 글리세린디(메르캅토아세테이트), 1-하이드록시-4-메르캅토시클로헥산, 2,4-디메르캅토페놀, 2-메르캅토하이드로퀴논, 4-메르캅토페놀, 3,4-디메르캅토-2-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,2-디메르캅토-1,3-부탄디올, 펜타에리스리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨모노(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨트리스(티오글리콜레이트), 디펜타에리스리톨펜타키스(3-메르캅토프로피오네이트), 하이드록시메틸-트리스(메르캅토에틸티오메틸)메탄, 1-하이드록시에틸티오-3-메르캅토에틸티오벤젠 등의 메르캅토기 이외에 하이드록시기를 함유하는 화합물을 들 수 있다. 또한, 이들의 염소치환체, 브롬치환체 등의 할로겐 치환체를 사용해도 좋다.
본 발명의 폴리티올 조성물에서, 그 조성물을 구성하는 각 성분의 비율은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 이하와 같다.
즉, 본 발명의 폴리티올 조성물의 전체 중량 중에서, 본 발명의 청구항 1의 티올 화합물의 함유량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이고, 바람직하게는 20중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 30중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상이다.
본 발명의 폴리티올 조성물 전체 중량 중에서, 기타 티올 화합물의 함유량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 80중량% 이하이고, 바람직하게는 70중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 60중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하이다.
본 발명의 중합조성물이란, 분자 내에 티올기를 2개 이상 갖고, 또, 금속 원자 중에서 선택되는 1종을 분자 내에 함유하는 화합물을 포함하는 것이면 좋고, 기타 성분에 대해서는 특별히 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 폴리티올 화합물은, 그 자체 만으로도 중합하는 것이고, 바람직하게는 본 발명의 폴리티올 화합물과 반응하여 중합하는 성분이면, 특별히 제한되는 것은 아니다. 또한, 이 경우, 일반식(1)으로 표시되는 화합물을 대표로 하는 본 발명의 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 혹은, 다른 복수의 화합물을 병용하여도 지장이 없다.
또한, 본 발명의 중합조성물에서, 일반식(1)으로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 중합성 조성물로서 보다 바람직하게는, (A) 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또, 금속 원자 중에서 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물, 혹은 그 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물과,(B) 티올기와 반응하는 관능기를 갖는 화합물을 포함하여 이루어진다.
여기서(B) 티올기와 반응하는 관능기를 갖는 화합물로는, 이소(티오)시아네이트 화합물,(티오)에폭시 화합물, 혹은,(메트)아크릴기, 비닐기 등의 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 갖는 화합물(이하, 엔 화합물로 칭한다.) 등을 들 수 있다.
이러한 화합물로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들면, 일본국 공개특허 2001-342252호 공보 등에 나타내는 이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물,(티오)에폭시 화합물,(메트)아크릴레이트 화합물, 비닐 화합물 등이 사용된다.
구체적으로는, 이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물로서, 예를 들면, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6--헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 비스(이소시아네이트에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이트에틸)에테르, 라이신디이소시아네이트메틸에스테르, 라이신 트리이소시아네이트, 크시릴렌 디이소시아네이트, 비스(이소시아네이트에틸)벤젠, 비스(이소시아네이트프로필)벤젠, α,α,α',α'-테트라메틸크시릴렌 디이소시아네이트, 비스(이소시아네이트부틸)벤젠, 비스(이소시아네이트메틸)나프탈린, 비스(이소시아네이트메틸페닐)에테르, 비스(이소시아네이트에틸)프탈레이트, 2,6-디(이소시아네이트메틸)퓨란 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물, 이소보론 디이소시아네이트, 비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 시클로헥산 디이소시아네이트, 메틸시클로헥산 디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), 4,4'-메틸렌비스(2-메틸시클로헥실 이소시아네이트), 2,5-비스(이소시아네이트메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아네이트메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아네이트메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아네이트메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아네이트메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아네이트메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물, 1,2-디이소시아네이트벤젠, 1,3-디이소시아네이트벤젠, 1,4-디이소시아네이트벤젠, 2,4-디이소시아네이트톨루엔, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(페닐이소시아네이트), 4,4'-메틸렌비스(2-메틸페닐이소시아네이트), 비벤질-4,4'-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이트페닐)에틸렌 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물, 비스(이소시아네이트메틸)설파이드, 비스(이소시아네이트에틸)설파이드, 비스(이소시아네이트프로필)설파이드, 비스(이소시아네이트헥실)설파이드, 비스(이소시아네이트메틸)설폰, 비스(이소시아네이트메틸)디설파이드, 비스(이소시아네이트에틸)디설파이드, 비스(이소시아네이트프로필)디설파이드, 비스(이소시아네이트메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이트에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이트에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이트메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이트-2-이소시아네이트메틸-3-티아펜탄, 1,2,3-트리스(이소시아네이트메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(이소시아네이트에틸티오)프로판, 3,5-디티아-1,2,6,7-헵탄테트라이소시아네이트, 2,6-디이소시아네이트메틸-3,5-디티아-1,7-헵탄디이소시아네이트, 2,5-디이소시아네이트메틸티오펜, 4-이소시아네이트에틸티오-2,6-디티아-1,8-옥탄디이소시아네이트 등의 지방족 황 함유 폴리이소시아네이트 화합물, 2-이소시아네이트페닐-4-이소시아네이트페닐설파이드, 비스(4-이소시아네이트페닐)설파이드, 비스(4-이소시아네이트메틸페닐)설파이드 등의 방향족 설파이드계 폴리이소시아네이트 화합물, 비스(4-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(2-메틸-5-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(3-메틸-5-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(3-메틸-6-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(4-메틸-5-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(3-메톡시-4-이소시아네이트페닐)디설파이드, 비스(4-메톡시-3-이소시아네이트페닐)디설파이드 등의 방향족 디설파이드계 폴리이소시아네이트 화합물, 2,5-디이소시아네이트테트라하이드로티오펜, 2,5-디이소시아네이트메틸테트라하이드로티오펜, 3,4-디이소시아네이트메틸테트라하이드로티오펜, 2,5-디이소시아네이트-1,4-디티안, 2,5-디이소시아네이트메틸-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이트-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이트메틸)-1,3-디티오란, 4,5-디이소시아네이트메틸-2-메틸-1,3-디티오란 등의 지환족 황 함유 폴리이소시아네이트 화합물, 1,2-디이소티오시아네이트에탄, 1,6-디이소티오시아네이트헥산 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물, 시클로헥산디이소티오시아네이트 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물, 1,2-디이소티오시아네이트벤젠, 1,3-디이소티오시아네이트벤젠, 1,4-디이소티오시아네이트벤젠, 2,4-디이소티오시아네이트톨루엔, 2,5-디이소티오시아네이트-m-크실렌, 4,4'-디이소티오시아네이트비페닐, 4,4'-메틸렌비스(페닐이소티오시아네이트), 4,4'-메틸렌비스(2-메틸페닐이소티오시아네이트), 4,4'-메틸렌비스(2-메틸페닐이소티오시아네이트), 4,4'-메티렌비스(3-메틸페닐이소티오시아네이트), 4,4'-이소프로필리덴비스(페닐이소티오시아네이트), 4,4'-디이소티오시아네이트벤조페논, 4,4'-디이소티오시아네이트-3,3'-디메틸벤조페논, 비스(4-이소티오시아네이트 페닐)에테르 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물, 또한, 1,3-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, 1,4-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트,(2,2-피리딘)-4,4-디카르보닐디이소티오시아네이트 등의 카르보닐폴리이소티오시아네이트 화합물, 티오비스(3-이소티오시아네이트프로판), 티오비스(2-이소티오시아네이트에탄), 디티오비스(2-이소티오시아네이트에탄) 등의 지방족 황 함유 폴리이소티오시아네이트 화합물, 1-이소티오시아네이트-4-[(2-이소티오시아네이트)설포닐]벤젠, 티오비스(4-이소티오시아네이트벤젠), 설포닐비스(4-이소티오시아네이트벤젠), 디티오비스(4-이소티오시아네이트벤젠) 등의 방향족 황 함유 폴리이소티오시아네이트 화합물, 2,5-디이소티오시아네이트티오펜, 2,5-디이소티오시아네이트-1,4-디티안 등의 지환족 황 함유 폴리이소티오시아네이트 화합물, 1-이소시아네이트-6-이소티오시아네이트헥산, 1-이소시아네이트-4-이소티오시아네이트시클로헥산, 1-이소시아네이트-4-이소티오시아네이트벤젠, 4-메틸-3-이소시아네이트-1-이소티오시아네이트벤젠, 2-이소시아네이트-4,6-디이소티오시아네이트-1,3,5-트리아진, 4-이소시아네이트페닐-4-이소티오시아네이트페닐설파이드, 2-이소시아네이트에틸-2-이소티오시아네이트에틸디설파이드 등의 이소시아네이트기와 이소티오시아네이트기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 프리폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 요소 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 또는 트리머화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.
(티오)에폭시 화합물로서, 예를 들면, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스((2,3-에피티오프로필티오-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스{[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸}-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스{[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸}에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물 및 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스{[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸}-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물 및 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설파이드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필티오 화합물 등, 게다가 3-메르캅토프로필렌설파이드, 4-메르캅토부텐설파이드 등 메르캅토기 함유 에피티오 화합물 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴레이트 화합물, 비닐 화합물로서, 예를 들면, 벤질(메트)아크릴레이트, 부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 부톡시메틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 티오글리시딜(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메트)아크릴로일옥시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐)프로판, 비스페놀F 디(메트)아크릴레이트, 비스(4-(메트)아크릴로일옥시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-(메트)아크릴옥시에톡시에톡시페닐)메탄, 트리메티롤프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트 등의(메트)아크릴레이트 화합물,(메트)아크릴로일티오에탄,(메트)아크릴로일티오메틸벤젠, 1,2-비스[(메트)아크릴로일티오]에탄, 1,3-비스[(메트)아크릴로일티오]프로판, 1,4-비스[(메트)아크릴로일티오)부탄, 1,6-비스[(메트)아크릴로일티오]헥산, 비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸]에테르, 비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸]설파이드, 비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸티오]메탄, 1,2-비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸티오]-3-(메트)아크릴로일티오프로판, 티오글리시딜티오(메트)아크릴레이트, 글리시딜티오(메트)아크릴레이트, 1,2-비스[(메트)아크릴로일티오]벤젠, 1,3-비스[(메트)아크릴로일티오]벤젠, 1,4-비스[(메트)아크릴로일티오]벤젠, 1,2-비스[(메트)아크릴로일티오메틸]벤젠, 1,3-비스[(메트)아크릴로일티오메틸]벤젠, 1,4-비스[(메트)아크릴로일티오메틸]벤젠, 1,2-비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸티오메틸]벤젠, 1,3-비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸티오메틸]벤젠, 1,4-비스[2-(메트)아크릴로일티오에틸티오메틸]벤젠 등의 티오(메트)아크릴레이트 화합물, 알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 트리알릴이소시아누레이트, 디알릴카보네이트, 디에틸렌 글리콜비스알릴카보네이트, 디알릴설파이드, 디알릴디설파이드 등의 알릴 화합물, 스티렌, 글로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(m-디옥산) 등의 비닐 화합물, 디이소프로페닐벤젠 등을 들 수 있다.
본 발명의 소망의 목적인 굴절률 등의 광학 특성, 내충격성 등의 기계적 특성을 고려하면, 그 화합물 중에서도, 이소시아네이트 화합물, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물,(티오)에폭시 화합물이 바람직하다.
티올기와 반응하는 이들 관능기를 갖는 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 혹은 다른 복수의 화합물을 병용해도 상관 없다.
본 발명에서는(A) 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또한 금속 원자로부터 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물, 혹은 그 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물과(B) 폴리이소시아네이트 화합물을 함유하는 중합성 조성물 또는 A) 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또한 금속 원자로부터 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물, 혹은 그 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물과(B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 2개 이상 함유하는 폴리엔 화합물을 함유하는 중합성 조성물이 바람직한 형태로서 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물에 있어서는, 그 조성물을 구성하는 각 성분의 비율은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 이하와 같다. 즉, 그 조성물 전체 중량 중에서,(A) 성분의 함유량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이고, 바람직하게는, 20중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 30중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 40중량% 이상이다.
또한 그 조성물 전체 중량 중에서,(B) 성분의 함유량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이고, 바람직하게는 20중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 30중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 40중량% 이상이다.
본 발명의 중합성 조성물은 본 발명의 소망의 효과가 손상되지 않는 범위에서, 상기(A) 성분 및(B) 성분 이외에 다른 중합성 화합물을 함유해도 좋다.
이러한 중합성 화합물로는 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들면,(메트)아크릴산 에스테르 화합물, 비닐 화합물 등의 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 갖는 화합물, 에폭시 화합물, 에피설파이드 화합물, 옥세탄 화합물, 티에탄 화합물 등을 예시할 수 있다.
보다 상세하게 서술하면, 본 발명의 중합성 조성물이(A) 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또한, 금속 원자 중에서 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물, 혹은 그 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물과(B) 폴리이소시아네이트 화합물을 함유하는 중합성 조성물인 경우, 다른 중합성 화합물로는,(메트)아크릴산 에스테르 화합물, 비닐 화합물 등의 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 갖는 화합물, 에폭시 화합물, 에피설파이드 화합물, 옥세탄 화합물, 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물이(A) 분자 내에 티올기를 2개 이상 함유하고, 또한, 금속 원자 중에서 선택된 1종을 분자 내에 함유하는 티올 화합물, 혹은 그 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물과(B) 분자 내에 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 2개 이상 함유하는 폴리엔 화합물을 함유하는 중합성 조성물인 경우, 다른 중합성 조성물로는, 바람직하게는, 에폭시 화합물, 에피설파이드 화합물, 옥세탄 화합물, 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 중합성 조성물 중에 함유되는 중합성 화합물의 전체 중량에 차지하는 이들 다른 중합성 화합물의 함유량은, 특별히 제한은 없지만, 통상 90중량% 이하이고, 바람직하게는 80중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 70중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 50중량% 이하이다.
본 발명의 중합성 조성물에는 얻어지는 수지의 광학특성, 내충격성이나 비중 등의 제반 물성을 조정하기 위하여, 혹은, 중합성 조성물의 점도나 취급성 등을 조성하는 등의 목적으로 여러가지 수지 개질제를 첨가해도 좋다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물을 제조할 때에, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위 내에서 소망에 따라, 사슬연장제, 가교제, 광안정제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 착색 방지제, 청색화제(blueing agent), 염료, 유동조절제, 충전제, 내부 이형제 등의 각종 물질을 첨가해도 좋다.
본 발명의 중합성 조성물을 중합시킬 때에는, 중합 반응의 속도를 조정할 목적으로, 필요에 따라 공지의 반응 촉매를 첨가해도 좋다. 이러한 반응 촉매로는, 예를 들면, 폴리(티오)이소시아네이트 화합물을 이용한(티오)우레탄화 반응인 경우에는, 디부틸틴 디라우레이트, 디부틸틴 디클로라이드, 디메틸틴 디클로라이드 등의 주석 화합물, 3급 아민 등의 아민 화합물을 예시할 수 있다. 티오(에폭시)화합물과의 중합 반응인 경우에는, 아민 화합물, 포스핀 화합물, 루이스산 화합물, 래디칼 중합 촉매, 양이온 중합 촉매 등을 예시할 수 있다. 엔 화합물과의 중합 반응인 경우에는, 래디칼 중합 촉매, 광증감제 등을 들 수 있다.
이러한 중합 촉매의 사용량은 중합성 조성물의 조성, 중합 조건 등에 의해 영향을 받기 때문에, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 중합성 조성물 중에 함유되는 전체 중합성 화합물 100중량부에 대하여, 0.0001∼10중량부이고, 바람직하게는 0.001∼5중량부이고, 보다 바람직하게는 0.005∼3중량부이다.
또한, 상기 중합 촉매를 복수개 병용하여도 상관 없다.
본 발명의 중합성 조성물의 제조방법으로서, 대표적으로는, 본 발명의 티올 화합물 또는 폴리티올 조성물과 티올기와 반응하는 관능기를 갖는 화합물을 혼합하여, 필요에 따라 각종 중합성 화합물을 더 병용하고, 조정한 혼합액에 중합촉매, 필요에 따라 각종 첨가제를 더한 후, 혼합, 용해시키는 방법을 들 수 있다. 그 중합성 조성물은 감압하 등 적당한 방법에 의해, 충분히 탈기하는 것이 바람직하다. 또한, 중합 전에 불용물이나 이물 등을 여과에 의해 제거한 후, 중합에 사용되는 것이 바람직하다.
본 발명의 수지 및 그 수지로 이루어지는 광학 부재는 대표적인 방법으로는 상기 중합성 조성물을 주형 중합하는 것에 의해 얻어진다.
즉, 본 발명의 중합성 조성물을 성형용 몰드에 주입하고, 필요에 따라 가열하여 중합을 행함으로써 실시된다. 그 성형용 몰드는 통상 테이프 또는 개스킷 등으로 유지된 2매의 유리판 등으로 구성된다.
중합 조건은 사용되는 중합성 모노머의 종류, 중합 촉매의 종류나 양, 성형용 몰드의 형상 등에 따라 영향을 받으므로, 한정되는 것은 아니지만, 통상, 중합 온도는 -20∼200℃이고, 바람직하게는 -20∼170℃이고, 보다 바람직하게는 0∼150℃이다. 중합 시간은 중합 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 1∼100시간이다.
또한 필요에 따라 승온이나 강온 등을 행하여 몇개의 온도를 조합하여 중합을 행하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물은 전자선, 자외선이나 가시광선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써도 중합을 행할 수 있다. 중합 시에는, 필요에 따라서, 활성 에너지선에 의해 중합 개시하는 래디칼 중합 촉매나 양이온 중합 촉매가 사용된다. 광중합의 경우에는 광원으로서, 예를 들면, 고압수은등, 할로겐 램프, 크세논 램프, 텅스텐 램프, 형광등 또는 태양광 등이 이용된다. 중합에서 얻어진 렌즈 등의 광학 부재는 필요에 따라서 어닐링 처리를 실시해도 좋다.
얻어진 광학 렌즈는 경화후, 필요에 따라서, 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 내약품성 부여, 방담성 부여 혹은 패션성 부여 등의 개선을 행하기 위하여, 표면 연마, 대전 방지 처리, 하드코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광 처리(예를 들어, 포토글로믹렌즈화 처리등) 등 공지의 각종 물리적 또는 화학적 처리를 실시할 수 있다.
또한, 본 발명의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지 경화물 및 광학 부재는 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서, 또한, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 갖고 있다.
본 발명의 광학 부재로는, 예를 들면, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘라 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈, 회절 광학소자, 발광 다이오드(LED)용 밀봉재, 광도파로, 광학 렌즈나 광도파로의 접합에 사용하는 광학용 접착제, 광학 렌즈 등에 사용하는 반사 방지막, 액정표시장치 부재(기판, 도광판, 필름, 시트 등)에 사용하는 투명성 코팅 또는 투명성 기판 등을 들 수 있다.
이하, 제조예 및 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또한, SH가(meq/g)는 하기와 같이 구했다.
<SH가(meq/g)의 측정법>
시료 약 0.2g을 정확하게 칭량하여 취하고, 메탄올/클로로포름 = 50/50(용량/용량)의 혼합용매 50ml를 가하여 균일한 용액으로 했다. 이 용액 전체 양을 0.1N 요오드 용액으로 적정을 행하여, 액의 색이 약간 황색을 띠는 시점을 종점으로 하여 이하에 나타내는 식으로부터 산출했다.
SH가(meq/g) = {(A-B) x f x 0.1}/S
A; 시료의 적정에 필요한 0.1N 요오드 용액의 적정량(mL)
B; 공시험의 적정에 필요한 0.1N 요오드 용액의 적정량(mL)
f: 0.1N 요오드 용액의 인자
S; 시료 채취량(g)
[실시예 1]
[본 발명의 식(1-2)으로 표시되는 화합물을 함유하는 폴리티올 조성물의 제조]
교반기, 온도계 및 적하로트를 구비한 2리터의 반응용기에 식(2-1)으로 표시되는 폴리티올 화합물 125.2g(0.48몰) 및 순수 600g을 도입하고, 교반하, 25℃에서 10% NaOH 수용액 320g(0.80몰)을 1시간에 걸쳐 적하했다. 이어서, 40℃ 까지 승온하고, 10% 사염화주석 수용액 520.8g(0.20몰)을 4시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료후, 그대로의 온도에서 4시간 더 교반을 행한 후, 실온까지 냉각했다. 이 반응 혼합물에 클로로포름 1000ml를 투입하고, 유기층과 수층으로 분액했다. 유기층은 순수 800ml로 2회 더 세정했다. 얻어진 유기층은 무수 황산나트륨 80g을 사용해 건조 후, 용매를 증류 제거하여 식(1-2)을 함유하는 조성물 149.2g을 얻었다.
· SH가 4.90 meq/g
[화학식 4]
(2-1)
Figure 112007035237742-pct00006
(1-2)
Figure 112007035237742-pct00007
[실시예 2]
[본 발명의 식(1-2)으로 표시되는 화합물의 제조]
실시예 1에서 얻어진 조성물 80g을 사용하여 톨루엔을 전개액으로 하여 실리카겔컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여 식(1-2)으로 표시되는 화합물 60.0g을 얻었다.
< 본 발명의 중합성 조성물의 제조와 그 중합에 의한 수지 경화물의 제조 >
실시예에서 제조된 수지 또는 광학 부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법으로 행했다.
· 외관: 육안 및 현미경 관찰에 의해 색미, 투명성, 광학적 변형의 유무를 확인했다.
· 굴절률: 풀프릿 굴절계를 사용하여 20℃에서 측정했다.
[실시예 3]
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 실시예 1에서 제조한 식(1-2)으로 표시되는 화합물을 함유하는 폴리티올 조성물 24.0g 및 m-크시릴렌 디이소시아네이트 11.0g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 디부틸틴 디라우레이트 0.035g, 내부 이형제로서 제렉 UN(듀폰사제) 0.035g을 가한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.702이었다.
[실시예 4]
실온(25℃)하, 유리 비이커에 실시예 2에서 제조한 식(1-2)으로 표시되는 화합물 27.0g 및 m-크시릴렌 디이소시아네이트 8.0g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 디부틸틴 디라우레이트 0.035g, 내부 이형제로서 제렉 UN(듀폰사제) 0.035g을 가한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.724이었다.
[실시예 5]
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 실시예 1에서 제조한 식(1-2)으로 표시되는 화합물을 함유하는 폴리티올 조성물 24.9g 및 식(2-2)으로 표시되는 트리알릴이소시아누레이트 10.1g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(상품명 퍼부틸O, 니뽄 유지 주식회사 제) 0.035g을 가한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.701이었다.
[화학식 5]
(2-2)
Figure 112007035237742-pct00008
[실시예 6]
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 실시예 2에서 제조한 식(1-2)으로 표시되는 화합물 27.7g 및 식(2-2)으로 표시되는 트리알릴이소시아누레이트 7.3g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(상품명 퍼부틸O, 니뽄 유지 주식회사 제) 0.035g을 더한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.717 이었다.
[비교예 1]
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 식(2-1)으로 표시되는 화합물 16.8g 및 m-크시릴렌 디이소시아네이트 18.2g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 디부틸틴 디라 우레이트 0.035g, 내부 이형제로서 제렉 UN(듀폰사제) 0.035g을 가한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.660이었다.
[비교예 2]
실온(25℃) 하, 유리 비이커에 식(2-1)으로 표시되는 화합물 17.9g 및 식(2-2)으로 표시되는 트리알릴이소시아누레이트 17.1g을 칭량하여 취하고, 중합 촉매로서 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(상품명 퍼부틸O, 니뽄 유지 주식회사 제) 0.035g을 더한 후, 교반하여 충분히 혼합했다. 얻어진 혼합액을 테프론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에서 발포가 관찰되지 않을 때까지 충분히 탈기시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 30∼120℃까지 서서히 승온하고, 20시간 중합을 행하였다.
얻어진 수지의 성형 시편은 투명성 양호하고, 변형이 없는 외관 양호한 것이었다.
얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 nd=1.626 이었다.
본 발명의 중합성 화합물을 중합하여 얻어지는 수지는 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서, 또, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 가지고 있어, 플라스틱 렌즈 등의 광학 부재에 사용되는 수지로서 유용하다.

Claims (24)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물.
    [화학식 1]
    Figure 112009006627105-pct00010
    (식 중, M은 Sn원자, Si원자, Zr원자, Ge원자, Ti원자, Zn원자, Al원자, Fe원자, Cu원자, Pt원자, Pb원자, Au원자 또는 Ag원자를 나타내며,
    Rp는 각각 독립적으로 염소로 치환된 또는 무치환의 탄소수 1∼20의 2가의 쇄상 또는 환상 지방족기, 염소로 치환된 또는 무치환의 탄소수 5∼20의 2가의 방향족기, 또는 염소로 치환된 또는 무치환의 탄소수 6∼20의 2가의 방향족-지방족기를 나타내고, 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋고,
    Xp는 각각 독립적으로, 황 원자 또는 산소 원자를 나타내며,
    Yq는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 수산기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 알킬옥시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 혹은 치환 또는 무치환의 아릴티오기를 나타내며,
    m은 2∼n의 정수를 나타내고, n은 금속 원자 M의 가수를 나타내며,
    p는 1∼m의 정수를 나타내고, q는 1∼n-m의 정수를 나타내며,
    또한, m이 2 이상인 경우, -(-Xp-Rp-SH) 끼리가 서로 결합하여 환상 구조의 기를 형성하여도 좋다.)
    상기의 치환 또는 무치환의 알킬기는, 총탄소수 1∼10의 직쇄 알킬기; 총탄소수 3∼10의 분기 알킬기; 혹은 메틸기, 메톡시기 또는 에틸기로 치환된 또는 치환되지 않은 총탄소수 5∼10의 포화 환상 알킬기로부터 선택되며,
    상기의 치환 또는 무치환의 아릴기는, 총탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 또는 옥틸기로 치환된 총탄소수 20 이하의 알킬 치환 아릴기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 또는 옥틸옥시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴기; 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴기; 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴기; 혹은 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 또는 불소 원자로 치환된 총탄소수 20 이하의 아릴기로부터 선택되고,
    상기의 치환 또는 무치환의 알킬 옥시기는, 총탄소수 1∼10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기; 총탄소수 5∼10 이하의 시클로 알콕시기; 총탄소수 1∼10 이하의 알콕시 알콕시기; 혹은 아랄킬 옥시기로부터 선택되고,
    상기의 치환 또는 무치환의 알킬 티오기는, 총탄소수 1∼10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬 티오기; 총탄소수 5∼10 이하의 시클로알킬 티오기; 총탄소수 1∼10 이하의 알콕시알킬 티오기; 아랄킬티오기; 혹은 총탄소수 1∼10 이하의 알킬티오알킬티오기로부터 선택되고,
    상기의 치환 또는 무치환의 아릴옥시기는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 또는 옥틸기로 치환된 또는 무치환의 총탄소수 20 이하의 아릴옥시기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 또는 옥틸옥시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴옥시기; 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴옥시기; 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴옥시기; 혹은 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 또는 불소 원자로 치환된 총탄소수 20 이하의 아릴옥시기로부터 선택되고,
    상기의 치환 또는 무치환의 아릴 티오기는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 또는 옥틸기로 치환된 또는 무치환의 총탄소수 20 이하의 아릴티오기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 또는 옥틸옥시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 모노알콕시 아릴티오기; 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 디알콕시 아릴티오기; 혹은 메톡시기로 치환된 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴티오기로부터 선택된다.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제 4항에 있어서, 상기 화학식 (1) 중 M은 Sn원자, Si원자, Zr원자, Ti원자 또는 Ge원자인 화합물.
  13. 제 4항 기재의 화합물을 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물.
  14. 제 12항 기재의 화합물을 함유하여 이루어지는 폴리티올 조성물.
  15. 제 4항 기재의 화합물을 함유하여 이루어지는 중합성 조성물.
  16. 제 12항 기재의 화합물을 함유하여 이루어지는 중합성 조성물.
  17. 제 13항 기재의 폴리티올 조성물을 함유하여 이루어지는 중합성 조성물.
  18. 제 14항 기재의 폴리티올 조성물을 함유하여 이루어지는 중합성 조성물
  19. 제 17항 기재의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
  20. 제 18항 기재의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
  21. 제 4항 또는 제 12항 기재의 화합물, 혹은 제 13항 또는 제 14항 기재의 폴리티올 조성물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응, 경화시켜 얻어지는 수지.
  22. 제 4항 또는 제 12항 기재의 화합물, 혹은 제 13항 또는 제 14항 기재의 폴리티올 조성물과 분자 내에 탄소-탄소 불포화 이중결합을 2개 이상 함유하는 폴리엔 화합물을 반응, 경화시켜 얻어지는 수지.
  23. 제 21항 기재의 수지로 이루어지는 광학 부재.
  24. 제 22항 기재의 수지로 이루어지는 광학 부재.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5154804B2 (ja) * 2006-01-17 2013-02-27 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 熱硬化性樹脂組成物、当該硬化物、およびこれらから誘導される各種物品
JP5357156B2 (ja) * 2008-07-24 2013-12-04 三井化学株式会社 組成物、重合性組成物、樹脂、光学部品、組成物の製造方法
JP5157737B2 (ja) * 2008-08-11 2013-03-06 三菱瓦斯化学株式会社 新規な含金属化合物
JP5682062B2 (ja) * 2008-10-30 2015-03-11 ナガセケムテックス株式会社 硬化性組成物
JP5438421B2 (ja) * 2009-07-31 2014-03-12 株式会社クレハ フッ素樹脂および反射防止材料
DE102009051445A1 (de) * 2009-10-30 2011-05-05 Bayer Materialscience Ag Verwendung spezieller Katalysatoren für die Herstellung von Polyurethanbeschichtungen
DE102010031681A1 (de) * 2010-07-20 2012-01-26 Bayer Materialscience Ag Polyurethane mit geringem Volumenschrumpf
JP6324286B2 (ja) * 2014-09-30 2018-05-16 ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd 重合性組成物、透明樹脂、光学材料、プラスチックレンズおよび透明樹脂の製造方法
JP6326343B2 (ja) 2014-09-30 2018-05-16 ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd 重合性組成物、透明樹脂、光学材料、プラスチックレンズおよび透明樹脂の製造方法
TWI698326B (zh) 2015-01-14 2020-07-11 德商科思創德意志股份有限公司 以全相光學元件製備光學鑄件之方法及光學鑄件
KR102362785B1 (ko) * 2017-02-28 2022-02-15 에스케이씨 주식회사 광학 재료용 실록산 (메트)아크릴레이트 올리고머
KR101890332B1 (ko) * 2017-02-28 2018-08-21 에스케이씨 주식회사 광학 재료용 실록산 티올 올리고머
WO2018159976A2 (ko) * 2017-02-28 2018-09-07 에스케이씨 주식회사 광학 재료용 실록산 티올 올리고머 및 실록산 (메트)아크릴레이트 올리고머

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11269231A (ja) * 1998-03-23 1999-10-05 Daikin Ind Ltd 化粧品用共重合体
KR20010100851A (ko) * 2000-03-27 2001-11-14 사토 아키오 폴리티올, 중합성 조성물, 수지 및 렌즈, 그리고,티올화합물의 제조방법
JP2003261683A (ja) * 2002-03-06 2003-09-19 Nof Corp 中性(ベンゼン−1,2,4,5−テトラチオラート)金属錯体ポリマー、その製造方法および用途

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1016529A (en) 1963-05-10 1966-01-12 M & T Chemicals Inc Novel organotin compounds
US3903112A (en) * 1971-03-31 1975-09-02 Ashland Oil Inc Phenyl group IIB metaloxy compounds
JPH0777733B2 (ja) 1986-12-15 1995-08-23 三井東圧化学株式会社 含硫ウレタン樹脂製レンズの注型重合方法
JP3491660B2 (ja) 1995-08-16 2004-01-26 三菱瓦斯化学株式会社 新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物
JP3254375B2 (ja) 1996-05-16 2002-02-04 信越化学工業株式会社 熱可塑性樹脂組成物
JPH10176081A (ja) 1996-12-19 1998-06-30 Yokohama Rubber Co Ltd:The ゴム組成物
JP3862382B2 (ja) * 1997-10-22 2006-12-27 三井化学株式会社 3官能以上の新規な含セレンポリチオール
JP3862383B2 (ja) 1997-11-06 2006-12-27 三井化学株式会社 新規な脂肪族含セレン化合物
JP3929143B2 (ja) * 1997-10-31 2007-06-13 三井化学株式会社 新規な含セレン脂環族化合物
JPH1114949A (ja) * 1997-06-19 1999-01-22 Hoya Corp コンタクトレンズ材料、コンタクトレンズ及びその製造方法
JPH1160581A (ja) * 1997-08-21 1999-03-02 Mitsui Chem Inc 金超微粒子反応試剤
JP3315090B2 (ja) 1998-03-13 2002-08-19 三井化学株式会社 重合性組成物
JP3400406B2 (ja) 2000-04-13 2003-04-28 Hoya株式会社 光学製品
JP4377143B2 (ja) 2002-03-01 2009-12-02 三井化学株式会社 新規含硫環状化合物からなる重合性組成物及び該重合性組成物を硬化させてなる樹脂
JP4139956B2 (ja) * 2002-09-13 2008-08-27 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11269231A (ja) * 1998-03-23 1999-10-05 Daikin Ind Ltd 化粧品用共重合体
KR20010100851A (ko) * 2000-03-27 2001-11-14 사토 아키오 폴리티올, 중합성 조성물, 수지 및 렌즈, 그리고,티올화합물의 제조방법
JP2003261683A (ja) * 2002-03-06 2003-09-19 Nof Corp 中性(ベンゼン−1,2,4,5−テトラチオラート)金属錯体ポリマー、その製造方法および用途

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