KR100892790B1 - 피처리체의 유지 기구, 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 플라즈마 방전을 발생시키기 위한 대향하는 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치에 탑재되는 상기 피처리체의 유지 기구로서,상기 고주파 전원이 접속된 전극상에 장착되고, 상기 피처리체를 정전 흡착하는 정전 척과,상기 정전 척에 직류 전압을 인가하여 정전 흡착력을 발생시키는 고전압 전원과,상기 전극에 고주파 전력을 인가하여 상기 피처리체에 소정의 플라즈마 처리를 실시할 때에 해당 전극에서 발생하는 직류 성분을 검출하는 검출 회로와,상기 피처리체의 처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 직류 성분을 검출할 때, 또는 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는 전환 스위치를 갖는 피처리체의 유지 기구.
- 제 1 항에 있어서,상기 전환 스위치는, 이상(異常) 방전이 발생하기 쉬운 프로세스 조건에서 플라즈마 처리를 행하고 있을 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단하고,이상 방전을 발생하지 않는 프로세스 조건에 의한 플라즈마 처리 중에, 상기 하부 전극의 보호막의 박리 정도를 검출할 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 접속하여, 상기 검출 회로의 검출 동작을 개시시키는 스위치 구동부를 갖는 피처리체의 유지 기구.
- 제 1 항에 있어서,상기 전환 스위치는, 플라즈마가 발생하지 않고 있는 상태에서 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속하여, 상기 전극으로 대전하는 전하를 접지로 흘리는 스위치 구동부를 갖는 피처리체의 유지 기구.
- 제 1 항에 있어서,상기 정전 척은,폴리이미드계 수지 또는 세라믹의 절연 재료로 이루어지는 척 본체부와, 상기 척 본체부내에 마련되는 전극판으로 구성되며,상기 고전압 전원으로부터 직류 전압이 상기 전극판으로 인가되었을 때에 발생하는 정전 흡착력에 의해 상기 피처리체가 유지되는피처리체의 유지 기구.
- 플라즈마 방전을 발생시키기 위한 대향하는 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치에 탑재되는 상기 피처리체의 유지 기구로서,상기 고주파 전원이 접속된 전극상에 장착되고, 상기 피처리체를 정전 흡착하는 정전 척과,상기 전극에 직류 전압을 인가하여, 정전 척에 정전 흡착력을 발생시키는 고전압 전원과,상기 전극에 고주파 전력을 인가하여 상기 피처리체에 소정의 플라즈마 처리를 실시할 때에 해당 전극에서 발생하는 직류 성분을 검출하는 검출 회로와,상기 피처리체의 처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 직류 성분을 검출할 때, 또는 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는 전환 스위치를 갖는 피처리체의 유지 기구.
- 제 5 항에 있어서,상기 전극으로부터 상기 고전압 전원으로의 직류 방전에 의한 과전류를 계측하는 계측 회로와,사전 결정된 이상(以上)의 상기 과전류를 계측했을 때에는, 고전압 전원 및 고주파 전원의 출력의 정지 및 경고를 행하는 과전류 보호 회로를 더 구비하는 피처리체의 유지 기구.
- 플라즈마 방전을 발생시키기 위해 대향 배치된 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 고주파 전원이 접속된 전극에 장착되고, 상기 피처리체를 정전 흡착하는 정전 척과,상기 정전 척에 직류 전압을 인가하여 정전 흡착력을 발생시키는 고전압 전원과,상기 전극에 접속된 검출 회로와,상기 피처리체의 처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는 전환 스위치를 갖는 플라즈마 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 전환 스위치는,이상 방전을 일으키기 쉬운 프로세스 조건 하에서 플라즈마 처리를 행하고 있을 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단하고, 이상 방전을 일으키지 않는 프로세스 조건 하에서 플라즈마 처리 중에, 상기 하부 전극의 보호막의 박리 정도를 검출할 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속하여 상기 검출 회로의 검출 동작을 개시시키는, 스위치 구동부를 갖는 플라즈마 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 전환 스위치는, 플라즈마가 발생하지 않고 있는 상태에서 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속하여, 상기 전극으로 공급되는 전하를 접지로 통과시키는 스위치 구동부를 갖는 플라즈마 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 정전 척은, 폴리이미드계 수지 또는 세라믹의 절연 재료로 이루어지는 척 본체부와, 상기 척 본체부내에 마련되는 전극판을 구비하며,상기 고전압 전원이 직류 전압을 상기 전극판에 인가할 때 발생하는 정전 흡착력에 의해 상기 피처리체가 유지되는플라즈마 처리 장치.
- 플라즈마 방전을 발생시키기 위해 대향 배치된 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 고주파 전원이 접속된 전극에 장착되고, 상기 피처리체를 정전 흡착하는 정전 척과,상기 전극에 직류 전압을 인가하여, 상기 정전 척에 정전 흡착력을 발생시키는 고전압 전원과,상기 전극에 접속된 검출 회로와,상기 피처리체의 처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는 전환 스위치를 갖는 플라즈마 처리 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 전극으로부터 상기 고전압 전원으로의 직류 방전에 의한 과전류를 계측하는 계측 회로와,사전 결정된 값 이상의 과전류를 계측했을 때에는, 고전압 전원 및 고주파 전원의 출력의 정지 및 경고를 행하는 과전류 보호 회로를 더 구비하는 플라즈마 처리 장치.
- 플라즈마 방전을 발생시키기 위해 대향 배치된 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하고, 정전 흡착력을 발생시키도록 정전 척에 고전압 전원으로부터 직류 전압을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치의 플라즈마 처리 방법으로서,상기 피처리체의 처리 시에는 고주파 전원이 접속된 전극과, 그 전극에 접속된 검출 회로와의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는플라즈마 처리 방법.
- 제 13 항에 있어서,이상 방전을 일으키기 쉬운 프로세스 조건 하에서 플라즈마 처리를 행하고 있을 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 차단하고,이상 방전을 일으키지 않는 프로세스 조건 하에서 플라즈마 처리 중에, 하부 전극의 보호막의 박리 정도를 검출할 때에는, 상기 검출 회로와 상기 전극과의 접속을 전기적으로 접속하여, 상기 검출 회로의 검출 동작을 개시시키는플라즈마 처리 방법.
- 제 13 항에 있어서,상기 플라즈마가 발생하지 않고 있는 상태에서 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속하여, 상기 전극에 공급되는 전하를 접지로 통과시키는 플라즈마 처리 방법.
- 제 13 항에 있어서,상기 정전 척은, 폴리이미드계 수지 또는 세라믹의 절연 재료로 이루어지는 척 본체부와, 상기 척 본체부내에 마련되는 전극판으로 구성되며,상기 고전압 전원으로부터 직류 전압이 상기 전극판으로 인가될 때에 발생하는 정전 흡착력에 의해 상기 피처리체가 유지되는플라즈마 처리 방법.
- 플라즈마 방전을 발생시키도록 대향 배치된 2개의 전극 중 한쪽에 고주파 전원으로부터 고주파 전력을 인가하고, 정전 흡착력을 발생시키도록 상기 전극에 고전압 전원으로부터 직류 전압을 인가하여, 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치의 플라즈마 처리 방법으로서,상기 피처리체의 처리 시에는 고주파 전원이 접속된 전극과, 그 전극에 접속된 검출 회로와의 접속을 전기적으로 차단할 수 있고, 상기 피처리체의 비처리 시에는, 상기 검출 회로와 상기 전극을 전기적으로 접속할 수 있는플라즈마 처리 방법.
- 제 17 항에 있어서,상기 전극으로부터 상기 고전압 전원으로의 직류 방전에 의한 과전류를 계측하는 계측 회로에 의해 과전류가 계측되고,사전 결정된 값 이상의 과전류가 계측된 때에는, 고전압 전원 및 고주파 전원의 출력이 정지되고 경고가 행해지는플라즈마 처리 방법.
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