JP2007250755A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反応室と、静電吸着用電極を備えた試料台と、ガス放出板と、高周波電源と、バイアス用高周波電源と、静電吸着用電源と、を備えたプラズマ処理装置において、静電吸着用電源から供給される電流をモニタする吸着電流モニタ(Ip)、プラズマ生成用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするプラズマ生成側インピーダンスモニタ(Zp)、バイアス用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするバイアス印加側インピーダンスモニタ(Zb)、のうちの何れか一つを備え、そのモニタ値より、前記インナ部品の異常放電、静電吸着用電極の絶縁被膜の絶縁劣化、前記ガス放出板の異常放電、のうちの何れか一つの発生の有無を判定する制御装置を備えた。
【選択図】図1
Description
前記静電吸着用電源から供給される電流をモニタする吸着電流モニタ、プラズマ生成用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするプラズマ生成側インピーダンスモニタ、およびバイアス用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするバイアス印加側インピーダンスモニタを備え、前記モニタで計測したモニタ値に基づいて、前記インナ部品における異常放電、静電吸着用電極を絶縁する絶縁被膜の絶縁劣化、前記ガス放出板における異常放電の有無の何れかを判定する。
図1は、第1の実施形態の形態に係るプラズマ処理装置を説明する図である。この図の例では、プラズマ処理装置としてUHF帯の電磁波を用いたプラズマエッチング装置を用いる。
本実施形態では、図1に示すプラズマ処理装置において、反応室1の下部に設置されている試料台5あるいは試料台周辺を覆っているサセプタ20の近傍に異常が発生した例について説明する。
本実施形態では、図1に示すプラズマ処理装置において、反応室1の上部に設置されたプラズマ生成用電力を導入するための誘電体真空窓2あるいは反応性の処理ガスを導入する誘電体のガス放出板3の近傍に異常が発生した例について説明する。
本実施形態では、図1に示すプラズマ処理装置において、反応室1の下部に設置された試料台5の近傍に異常が発生した他の例(試料台5の上面に設けた誘電体の静電吸着用被膜11の膜厚や膜質が変化した場合、あるいは、膜厚や膜質が標準値とは異なっていた場合、例えば、交換した部品が不良品であった場合の例)について説明する。
ここでは、前述した内筒型インナ部品17表面の内壁保護コーティング8の絶縁破壊を事前に予測し、プラズマ電位を低減しあるいは吸着用直流電源16の電圧を低減することにより回避して、内筒型インナ部品17の交換時期をできるだけ延長させる例について説明する。
本実施形態では、プラズマ処理装置として、プラズマ生成用の高周波を上部の誘電体真空窓を通して導入するのではなく、反応室下部に設置された試料台より導入するプラズマ装置を用いた例について説明する。
本実施形態では、図12に示すように、プラズマ生成用の高周波を上部の誘電体真空窓を通して導入し、かつプラズマ生成用高周波による電界強度の強い領域から離れた位置にガス導入口を設けたプラズマ処理装置を用いた例について説明する。
2 誘電体真空窓
3 ガス放出板
4 ウエハ
5 試料台
6 排気口
7 磁場コイル
8 内壁保護コーティング
9 プラズマ
10 アンテナ
11 静電吸着用被膜
12 プラズマ生成用電源
13 プラズマ用整合器
14 バイアス用電源
15 バイアス用整合器
16 吸着用直流電源
17 内筒型インナ部品
18 プラズマ生成側インピーダンスモニタ
19 バイアス印加側インピーダンスモニタ
20 サセプタ
32 プラズマ電位プローブ
53 反応室
54 ガス放出板
55 ウエハ
56 試料台
57 排気口
58 内壁保護コーティング
59 プラズマ
60 静電吸着用被膜
61 プラズマ生成用電源
62 プラズマ用整合器
63 バイアス用電源
64 バイアス用整合器
65 吸着用直流電源
66 内筒型インナ部品
67 プラズマ生成側インピーダンスモニタ
68 バイアス印加側インピーダンスモニタ
69 サセプタ
70 プラズマ電位プローブ
71 グラウンド
72 反応室
73 誘電体真空窓
74 排気口
75 内壁保護コーティング
76 内筒型インナ部品
77 ウエハ
78 試料台
79 静電吸着用被膜
80 サセプタ
81 バイアス用整合器
82 バイアス用電源
83 吸着用直流電源
84 中央部ガス導入口
85 周辺部ガス導入口
86 ループアンテナ
87 プラズマ生成用電源
88 プラズマ用整合器
89 プラズマ
90 プラズマ生成側インピーダンスモニタ
91 バイアス印加側インピーダンスモニタ
Claims (20)
- 保護コーティングを施した内筒型のインナ部品を内壁に配置した反応室と、
該反応室内に配置され、その試料載置面に絶縁被膜により絶縁された静電吸着用電極を備えた試料台と、
前記反応室に処理ガスを分散して導入するガス放出板を備えたガス導入手段と、
前記反応室内に導入した処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成用高周波電源と、
前記試料台に高周波バイアス電圧を印加するバイアス用高周波電源と、
前記静電吸着用の直流電圧を前記静電吸着用電極に印加する静電吸着用電源とを備え、
前記生成したプラズマにより試料載置台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記静電吸着用電源から供給される電流をモニタする吸着電流モニタ、
プラズマ生成用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするプラズマ生成側インピーダンスモニタ、
バイアス用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするバイアス印加側インピーダンスモニタ、および
前記モニタで計測したモニタ値に基づいて、前記インナ部品における異常放電、静電吸着用電極を絶縁する試料台の絶縁劣化、前記ガス放出板における異常放電の有無の何れかを判定する制御装置を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、吸着電流モニタのモニタ値がパルス状に急増し、プラズマ生成側インピーダンスモニタおよびバイアス印加側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、前記インナ部品に施した保護コーティングの絶縁破壊ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
プラズマ電位をモニタするプラズマ電位モニタを備え、
前記制御装置は、プラズマ電位モニタのモニタ値がパルス状に急減し、プラズマ生成側インピーダンスモニタおよびバイアス印加側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、前記インナ部品に施した保護コーティングの絶縁破壊ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、バイアス印加側インピーダンスモニタ、および吸着電流モニタのモニタ値が矩形波状に変化し、プラズマ生成側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、試料台の異常放電ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
バイアス用高周波電源のピークツーピーク電圧モニタするピークツーピーク電圧モニタを備え、前記制御装置は、バイアス印加側インピーダンスモニタ、吸着電流モニタ、およびピークツーピーク電圧モニタのモニタ値が矩形波状に変化し、プラズマ生成側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、試料台の異常放電ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
バイアス用高周波電源のピークツーピーク電圧モニタするピークツーピーク電圧モニタを備え、前記制御装置は、前記プラズマ生成側インピーダンスモニタ、バイアス印加側インピーダンスモニタ、ピークツーピーク電圧モニタ、および吸着電流モニタのモニタ値が矩形波状に変化したとき、前記ガス放出板の異常放電ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記インナ部品の交換後毎における吸着電流モニタのモニタ値の履歴をもとに吸着用電極を絶縁する絶縁被膜の絶縁劣化を判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
プラズマ電位をモニタするプラズマ電位モニタを備え、前記制御装置は、プラズマ電位のモニタ値が所定値を超えたとき、前記静電吸着用電源の出力電圧を低減して前記インナ部品に発生する異常放電を予防することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、吸着電流モニタがパルス状の電流を検出したときプラズマ電位を低下させることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 保護コーティングを施した内筒型のインナ部品を内壁に配置した反応室と、
該反応室内に配置され、その試料載置面に絶縁被膜により絶縁された静電吸着用電極を備えた試料台と、
前記反応室に処理ガスを分散して導入するガス放出板を備えたガス導入手段と、
前記試料台に高周波バイアス電圧を印加するバイアス用高周波電源と、
前記試料台に高周波電圧を印加して前記反応室内に導入した処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成用高周波電源と、
前記静電吸着用の直流電圧を前記静電吸着用電極に印加する静電吸着用電源とを備え、
前記生成したプラズマにより試料載置台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記静電吸着用電源から供給される電流をモニタする吸着電流モニタ、
プラズマ生成用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするプラズマ生成側インピーダンスモニタ、
バイアス用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするバイアス印加側インピーダンスモニタ、および
前記モニタで計測したモニタ値に基づいて、前記インナ部品における異常放電、静電吸着用電極を絶縁する試料台の絶縁劣化の有無の何れかを判定する制御装置を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項10記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、吸着電流モニタのモニタ値がパルス状に急増し、プラズマ生成側インピーダンスモニタおよびバイアス印加側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、前記インナ部品に施した保護コーティングの絶縁破壊ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項10記載のプラズマ処理装置において、
プラズマ電位をモニタするプラズマ電位モニタを備え、前記制御装置は、プラズマ生成側インピーダンスモニタ、バイアス印加側インピーダンスモニタ、吸着電流モニタ、およびプラズマ電位モニタのモニタ値がパルス状に変化したとき、試料台の異常放電ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項10記載のプラズマ処理装置において、
バイアス用高周波電源のピークツーピーク電圧モニタするピークツーピーク電圧モニタを備え、前記制御装置は、プラズマ生成側インピーダンスモニタ、バイアス印加側インピーダンスモニタ、吸着電流モニタ、およびピークツーピーク電圧モニタのモニタ値が矩形波状に変化したとき、試料台の異常放電ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項10記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記インナ部品の交換後毎における吸着電流モニタのモニタ値の履歴をもとに吸着用電極を絶縁する絶縁被膜の絶縁劣化を判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項10記載のプラズマ処理装置において、
プラズマ電位をモニタするプラズマ電位モニタを備え、前記制御装置は、プラズマ電位のモニタ値が所定値を超えたとき、前記静電吸着用電源の出力電圧を低減して前記インナ部品に発生する異常放電を予防することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 保護コーティングを施した内筒型のインナ部品を内壁に配置した反応室と、
該反応室内に配置され、その試料載置面に絶縁被膜により絶縁された静電吸着用電極を備えた試料台と、
前記反応室の中央部に処理ガスを導入するためのガス放出口を形成した誘電体真空窓を備えたガス導入手段と、
前記試料台に高周波バイアス電圧を印加するバイアス用高周波電源と、
前記反応室上部の前記誘電体真空窓上にループ状のアンテナを備え、該アンテナを介して処理室内に高周波電磁界を印加して前記反応室内に導入した処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成用高周波電源と、
前記静電吸着用の直流電圧を前記静電吸着用電極に印加する静電吸着用電源とを備え、
前記生成したプラズマにより試料載置台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記静電吸着用電源から供給される電流をモニタする吸着電流モニタ、
プラズマ生成用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするプラズマ生成側インピーダンスモニタ、
バイアス用高周波電源からみたプラズマのインピーダンスをモニタするバイアス印加側インピーダンスモニタ、および
前記モニタで計測したモニタ値に基づいて、前記インナ部品における異常放電、静電吸着用電極を絶縁する試料台の絶縁劣化、前記誘電体真空窓の摩耗の有無の何れかを判定する制御装置を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項16記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記吸着電流モニタのモニタ値がパルス状に急増し、プラズマ生成側インピーダンスモニタおよびバイアス印加側インピーダンスモニタのモニタ値に変化がないとき、前記インナ部品に施した保護コーティングの絶縁破壊ありを判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項16記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記インナ部品の交換後毎における吸着電流モニタのモニタ値の履歴をもとに吸着用電極を絶縁する絶縁被膜の絶縁劣化を判定することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項16記載のプラズマ処理装置において、
プラズマ電位をモニタするプラズマ電位モニタを備え、前記制御装置は、プラズマ電位のモニタ値が所定値を超えたとき、前記静電吸着用電源の出力電圧を低減して前記インナ部品に発生する異常放電を予防することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項16記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、プラズマ生成側インピーダンスモニタのモニタ値の変化に基づいて前記誘電体真空窓の厚みの減少を判定することを特徴とするプラズマ処理装置。
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