JP7249315B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
前記インピーダンス制御機構は、前記プラズマおよび前記導電体を介して前記電源から前記接地に至る電気回路のインピーダンスを制御する機構であり、
前記制御部は、前記試料台に印加される電圧のモニタ値が所定値以下となる期間における電流のモニタ値の演算値を基に前記インピーダンスが所望の値となるように前記インピーダンス制御機構を制御し、
前記電流は、前記電源から前記試料台へ流れる電流であることにより達成される。
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
図5および図6を用いて、本実施形態についての第1の変形例を説明する。なお、既に説明した図1から図4に示されたものと同一の符号が付された構成は同一の機能を有する部分であるので、その構成については重複説明を省略する。
図7から図8を用いて、本実施形態の第2の変形例を説明する。なお、既に説明した図1から図6に示されたものと同一の符号が付された構成は、同一の機能を有する部分であるので、その構成については重複説明を省略する。
Claims (8)
- 試料がプラズマ処理される処理室と、プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に電力を供給する電源と、インピーダンス制御機構を介して接地され前記処理室内部に配置された導電体と、前記インピーダンス制御機構を制御する制御部とを備えるプラズマ処理装置において、
前記インピーダンス制御機構は、前記プラズマおよび前記導電体を介して前記電源から前記接地に至る電気回路のインピーダンスを制御する機構であり、
前記制御部は、前記試料台に印加される電圧のモニタ値が所定値以下となる期間における電流のモニタ値の演算値を基に前記インピーダンスが所望の値となるように前記インピーダンス制御機構を制御し、
前記電流は、前記電源から前記試料台へ流れる電流であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記所定値は、0ボルトであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記電流のモニタ値の演算値は、前記電流のモニタ値の瞬時値における二乗平均平方根であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記所定値は、前記試料台に印加される電圧のモニタ値の時間平均値であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項4に記載のプラズマ処理装置において、
前記電流のモニタ値の演算値は、前記期間の各々における前記電流のモニタ値の瞬時値における二乗平均平方根の和であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御部は、記憶装置に予め記憶された電流値を用いて前記インピーダンス制御機構を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記電源は、高周波電源であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記電源は、直流電源であることを特徴とするプラズマ処理装置。
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