JP7386683B2 - プラズマ処理装置及び電極消耗量測定方法 - Google Patents
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Description
[プラズマ処理装置の構成]
図1は、プラズマ処理装置の構成を示す概略断面図である。プラズマ処理装置100は、気密に構成され、電気的に接地電位とされた処理容器1を有する。この処理容器1は、円筒状とされ、例えばアルミニウム等から構成される。処理容器1は、プラズマが生成される処理空間を画成する。処理容器1内には、被処理体(work-piece)である半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という。)Wを水平に支持する載置台2が設けられている。載置台2は、基材(ベース)2a及び静電チャック(ESC:Electrostatic chuck)6を含んで構成される。基材2aは、導電性の金属、例えばアルミニウム等で構成され、下部電極としての機能を有する。静電チャック6は、ウエハWを静電吸着するための機能を有する。載置台2は、支持台4に支持される。支持台4は、例えば石英等からなる支持部材3に支持される。また、載置台2の上方の外周には、例えば単結晶シリコンで形成されたフォーカスリング5が設けられる。さらに、処理容器1内には、載置台2及び支持台4の周囲を囲むように、例えば石英等からなる円筒状の内壁部材3aが設けられる。
次に、上部電極の消耗量の測定について説明する。プラズマエッチングを行った場合、実際には上部電極であるシャワーヘッド16の電極板である上部天板16bが消耗する。そこで、以下の説明では、上部天板16bの消耗量について説明するが、本体部16a及び上部天板16bを一体のシャワーヘッドとして考えると、上部天板16bの消耗量は上部電極(CEL)の消耗量と言うこともできる。
次に、消耗量算出のシミュレーションについて説明する。図8は、基準データ取得時の上部天板の配置状態を表す図である。図9は、基準Vppから求められる相関直線を表す図である。図9は、縦軸でVppを表し、横軸で電極間距離を表す。
次に、本実施形態に係るプラズマ処理装置100を用いた実際の消耗量の算出の結果について説明する。図12は、未使用の上部天板を用いて状態を変化させて消耗量を計測した場合の計測結果を表す図である。図13は、2mmの擬似消耗を与えた上部天板を用いて状態を変化させて消耗量を計測した場合の計測結果を表す図である。図14は、金属エッチングを行った場合の測定結果を表す図である。
次に、第2実施形態について説明する。第1実施形態では、プロセスコントローラ91は、多点での消耗量Δdを求め、それらの平均値を上部天板16bの消耗量として求めた。ただし、Vppの測定が高分解能であれば、2点で適切な近似直線を求めることができ、プロセスコントローラ91は、異なる2つの電極間距離dに対応する2つのVppを用いて近似直線を求めて、消耗後の上部天板16bの消耗量を求めることもできる。高分解能とは、Vppの測定結果の小数点以下の表示桁数が多い測定能力である。この場合、電極間距離が固定である非Gap駆動型のプラズマ処理装置100でも消耗量を算出することができる。
1 処理容器
2 載置台
16 シャワーヘッド
16a 本体部
16b 上部天板
91 プロセスコントローラ
92 ユーザインターフェース
93 記憶部
100 プラズマ処理装置
Claims (7)
- 対向する第1の電極及び第2の電極を有するプラズマ装置であって、
前記第1の電極又は前記第2の電極のいずれかの電極にプラズマを着火させずにRF電力を印加する電力印加部と、
前記電力印加部により印加された前記RF電力に関する物理量を測定する測定部と、
測定した前記RF電力に関する物理量を、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電極間距離及び前記RF電力に関する物理量の相関関数に用いて、前記電極間距離を求める算出部と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記電極間距離が閾値以上の場合にアラームを通知する通知部をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記算出部は、前記第1の電極として規定の厚みを有する基準電極を使用した場合の、前記基準電極と前記第2の電極との間の前記電極間距離を変更して基準となるRF電力に関する物理量を計測し、複数の前記電極間距離と前記基準となるRF電力に関する物理量との関係を表す相関関数を求めることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極と前記第2の電極との間の距離を変更して、複数の前記電極間距離における前記基準電極が配置された位置に前記第1の電極を配置した場合の前記RF電力に関する物理量を測定し、測定した各前記RF電力に関する物理量に対応する対応距離を前記相関関数を基に取得し、各前記対応距離と複数の前記電極間距離との差の平均値を前記第1の電極の消耗量として算出することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極として規定の厚みを有する基準電極を使用して、所定の位置に配置された前記基準電極と前記第2の電極との間の第1のRF電力に関する物理量を計測し、前記第1の電極として前記規定の厚みより厚みが薄い消耗電極を使用して、前記所定の位置に配置された前記消耗電極と前記第2の電極との間の第2のRF電力に関する物理量を計測し、前記第1のRF電力に関する物理量及び前記第2のRF電力に関する物理量から前記相関関数を求めることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記RF電力に関する物理量は、RF電圧、RF電流、RF電力とRF電流の位相差、インピーダンスのうち少なくとも一つであることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 対向する第1の電極及び第2の電極を有するプラズマ装置において、
前記第1の電極又は前記第2の電極のいずれかの電極にプラズマを着火させずにRF電力を印加し、
印加された前記RF電力に関する物理量を測定し、
測定した前記RF電力に関する物理量を、前記第1の電極と前記第2の電極との間の電極間距離及び前記RF電力に関する物理量の相関関数に用いて、前記電極間距離を求める
ことを特徴とする電極消耗量測定方法。
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