KR100851309B1

KR100851309B1 - 적층 폴리에스테르 필름

Info

Publication number: KR100851309B1
Application number: KR1020027010694A
Authority: KR
Inventors: 구보타유리; 미무라타카시; 다카다야수시; 야나기바시마사토
Original assignee: 도레이 가부시끼가이샤
Priority date: 2001-03-16
Filing date: 2002-03-13
Publication date: 2008-08-08
Also published as: CN1253311C; KR20030001360A; EP1293339A1; US6828010B2; US20040028924A1; CN1457297A; EP1293339A4; WO2002074538A1

Abstract

폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층막이 형성되고, 상기 2종류의 폴리에스테르가 유리 전이점이 60℃ 이상 100℃ 이하인 폴리에스테르 수지 (A)와, 유리 전이점이 0℃ 이상 60℃ 이하인 폴리에스테르 수지(B)로 이루어지고, 상기 폴리에스테르 수지(B)에 특정의 성분을 함유하고, 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분을 특정의 비율로 하는 것에 의해, 종래 양립시킬 수 없었던 각종 피복물과의 접착성을 만족하고, 게다가 블로킹 내성, 투명성, 스크래치 내성 등을 만족하는 적층 폴리에스테르 필름으로 한다.

Description

적층 폴리에스테르 필름{LAMINATED POLYESTER FILM}

본 발명은 적층 폴리에스테르 필름의 개량에 관한 것이고, 상세하게는 각종피복물과 접착성이 우수한 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

이축배향 폴리에스테르 필름은 치수안정성, 기계적 특성, 내열성, 투명성, 전기적 특성 및 내약품성 등이 우수한 성질을 갖는 것으로부터 자기기록재료, 포장재료, 전기기록재료, 각종 사진재료 및 그래픽아트 재료 등의 많은 용도의 재료필름으로서 널리 사용되고 있다.

일반적으로 이축배향 폴리에스테르 필름은 표면이 고도로 결정배향하고 있기 때문에, 각종 도료나 잉크와 접착성이 떨어진다고 하는 결점을 갖고 있다. 이 때문에, 종래부터 여러가지 방법으로 폴리에스테르 필름 표면에 접착성을 부여하기 위한 검토가 이루어지고 있었다.

종래, 폴리에스테르 필름 표면에 접착성을 부여하는 방법으로서, 기재필름인 폴리에스테르 필름에 각종의 이접착처리, 예컨대, 표면의 코로나 방전처리, 자외선 조사처리 또는 플라즈마 처리 등을 수행하는 표면활성화법, 산, 알칼리 또는 아민 수용액 등의 약제에 의한 표면에칭법, 또는 필름표면에 접착성을 갖는 아크릴수지, 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지 또는 폴리올레핀 수지 등의 각종 수지를 프라이머 층으로서 형성하는 방법 등이 검토되고 있다.

상기 중, 폴리에스테르 수지를 프라이머 층으로서 형성하는 예로서는 일본특허공개 평10-86303호 공보, 일본특허공개 소60-198240호 공보, 일본특허공개 평 2000-25182호 공보, 일본특허공개 평1-237138호 공보 등을 들 수 있다.

일본특허공개 평10-86303호 공보에는 유리전이온도(Tg)가 다른 2종의 폴리에스테르 수지와 가교제로부터 구성되는 각종 도료나 잉크와의 접착성 및 고온고습하에서의 접착성의 양립이 개시되어 있다. 그러나, 이 구성으로는 자외선 경화형 잉크, 산화중합형 잉크, 용제형 잉크, 폴리비닐알코올 등의 수용성, 친수성 수지 등 각종 피복물과의 접착성을 동시에 만족시킬 수 없는 불충분한 것이었다.

또, 일본특허공개 소60-198240호 공보는 65∼95몰%의 이소프탈산을 공중합 조성으로 하는 폴리에스테르에 의해 금속으로의 부착성을 만족하는 것을 개시하고 있다. 그러나, 이 구성으로는 상기와 동일한 형태의 각종 피복물과의 접착성을 동시에 만족시킬 수 없고, 적층막끼리의 블로킹 내성이 불충분하였다.

또한, 일본특허공개 평 2000-25182호 공보는 Tg가 다른 2종의 폴리에스테르 필름과 지방족 아미드 및/또는 지방족 비스아미드로부터 구성되는 것은 하드코트(hard court)층과의 접착성이 좋은 것을 개시하고 있다. 그러나, 상기와 동일한 형태의 각종 피복물과의 접착성을 동시에 만족시킬 수 있는 것은 아니고, 도막면끼리의 블로킹 내성이 불충분하였다.

일본특허공개 평1-237138호 공보는 2종의 폴리에스테르 수지를 공압출에 의해 적층하여 이루어지는 것이 가열밀봉성을 만족하는 것을 개시하고 있다. 그러나 상기와 동일한 형태의 각종 피복물과의 접착성을 동시에 만족시킬 수 없었다.

즉, 상기와 같은 폴리에스테르 필름은 특히, 자외선 경화형 잉크와 같은 경화 수축을 동반하는 잉크나 폴리비닐알코올 등의 수용성, 친수성 수지와의 접착성을 동시에 만족할 수 없는 불충분한 경우가 많다는 문제가 있었다.

본 발명의 과제는 이와 같은 결점을 개량하고, 종래 양립하여 얻을 수 없었던 각종 피복물과의 접착성을 만족하고, 게다가 블로킹 내성, 투명성, 스크래치 내성 등을 만족하는 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층막이 형성되고, 상기 2종류의 폴리에스테르가 유리 전이점이 60℃ 이상 100℃ 이하인 폴리에스테르 수지(A)와, 유리 전이점이 0℃ 이상 60℃ 이하인 폴리에스테르 수지(B)로 이루어지고, 그 폴리에스테르 수지(B)가 산성분으로서 이소프탈산 65∼95몰%, 또는 디올성분으로서 디에틸렌글리콜 50∼95몰%를 적어도 함유하고, 게다가 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분이 이하의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 것으로 이루어진다.

Sa〉Sb≥5몰%

(Sa : 폴리에스테르 수지(A)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%), Sb : 폴리에스테르 수지(B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%))

이하에 본 발명에 있어서, 바람직한 실시의 형태와 함께 상세하게 설명한다.

우선, 본 발명의 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층막이 형성된 적층 폴리에스테르 필름 중, 적층막이 형성되기 전의 폴리에스테르 필름에 관하여 설명한다.

본 발명의 폴리에스테르 필름에 있어서, 폴리에스테르란, 에스테르결합을 주쇄의 주요한 결합쇄로 하는 고분자의 총칭으로서, 바람직한 폴리에스테르로서는 에틸렌테레프탈레이트, 프로필렌테레프탈레이트, 에틸렌-2,6-나프탈레이트, 부틸렌테레프탈레이트, 프로필렌-2,6-나프탈레이트, 에틸렌-α,β-비스(2-클로로페녹시)에탄-4,4'-디카르복실레이트, 에틸렌-α,β-비스(페녹시)에탄-4,4'-디카르복실레이트 등으로부터 선택된 적어도 1종의 구성 성분을 주요 구성성분으로 하는 것을 사용할 수 있다. 이들 구성성분은 1종만 사용하여도, 2종 이상 병용하여도 좋으나, 그 중에서도, 품질, 경제성 등을 종합적으로 판단하면, 에틸렌테레프탈레이트를 주요 구성성분으로 하는 폴리에스테르를 사용하는 것이 바람직하다. 또, 이들 폴리에스테르에는 또 다른 디카르복실산 성분이나 디올성분이 일부, 바람직하게는 20몰% 이하 공중합되어 있어도 좋다.

또한, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서의 기재 폴리에스테르 필름 중에는 또, 이소프탈산성분, 또는 디에틸렌글리콜 성분을 주된 구성성분으로서 공중합시킨 폴리에스테르 수지가 함유되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서의 기재 폴리에스테르 필름 중에는 또한, 이소프탈산 성분 및, 디에틸렌글리콜 성분을 주된 구성성분으로서 공중합 시킨 폴리에스테르 수지가 함유되는 것이 바람직하다. 이들에 의해 본 발명에 있어서의 적층막과 기재 폴리에스테르 필름의 접착성이 현저하게 향상한다.

기재 폴리에스테르 필름에 또한, 함유되는 것이 바람직한 이소프탈산 성분 및/또는 디에틸렌글리콜 성분을 주된 구성성분으로서 공중합시킨 폴리에스테르 수지의 양은 접착성의 점에서 5ppm 이상 20중량% 미만인 것이 바람직하다.

기재 폴리에스테르 필름 중에 더 함유될 수 있는 이소프탈산 성분, 및/또는 디에틸렌글리콜 성분을 주된 구성성분으로서 공중합시킨 폴리에스테르 수지는 상기 폴리에스테르 수지를 적층막으로서 형성하여 이루어지는 적층 폴리에스테르 필름을 재생재료로서 이용하는 것으로, 기재 폴리에스테르 필름 중에 함유시킬 수 있다.

재생재료로서 이용할 수 있는 적층 폴리에스테르 필름의 적층막을 형성하는 폴리에스테르 수지로서는 그 예로서 후술하는 폴리에스테르 수지(B)를 들 수 있다. 재생수지로서 이용할 수 있는 적층 폴리에스테르 필름의 적층막을 형성하는 폴리에스테르 수지는 전체 디카르복실산 성분 중 이소프탈산이 65몰%이상, 및/또는 전체 디올성분 중 디에틸렌글리콜을 50몰%이상으로 함유하는 것이 바람직하다.

재생재료는 특히 한정되지는 않으나, 예컨대, 상기의 적층 폴리에스테르 필름 또는 적층 폴리에스테르 필름으로부터 생성되는 부스러기 필름을 분쇄한 분쇄물을 용융압출하여 펠릿(pellet)으로서 얻을 수 있다. 상기 재생재료는 상술의 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르와 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 재생재료로서 사용되는 펠릿의 비율이 50중량% 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하이다. 상기 재생재료의 함유량이 지나치게 많으면, 적층 폴리에스테르 필름이 착색하는 경우가 있다.

또한, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서의 기재 폴리에스테르 필름의 폴리에스테르 중에는 각종 첨가제, 예컨대, 산화 방지제, 내열 안정제, 내후 방지제, 자외선 흡수제, 유기의 윤활제, 안료, 염료 유기 또는 무기의 미립자, 충전제, 대전방지제 및 핵제 등이 그 특성을 악화시키지 않는 정도로 첨가되어 있어도 좋다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서의 기재 폴리에스테르 필름의 폴리에스테르의 극한점도(25℃의 o-클로로페놀 중에서 측정)는 0.4∼1.2dl/g이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5∼0.8dl/g의 범위에 있는 것이 본 발명을 실시하는 데 바람직하다.

상기 폴리에스테르를 사용한 폴리에스테르 필름은 그 적어도 한쪽 면에 적층막이 형성된 상태에서, 이축배향된 것이 바람직하다. 이축 배향 폴리에스테르 필름이란, 일반적으로 미연신 상태의 폴리에스테르 시트 또는 필름을 길이방향 및 폭방향으로 각각 2.5∼5배 정도 연신시키고, 그 후, 열처리가 실시되고, 결정배향이 완료된 것이고, 광각 X선 회절로 이축배향의 패턴을 나타내는 것을 말한다.

폴리에스테르 필름의 두께는 특히 한정되지는 않고, 본 발명의 적층 필름이 사용되는 용도에 따라서 적당 선택되지만, 기계적 강도, 취급성 등의 점에서 통상 바람직하게는 1∼500㎛, 보다 바람직하게는 5∼300㎛, 더욱 바람직하게는 15∼260㎛, 가장 바람직하게는 30∼210㎛이다. 또, 얻어진 필름을 각종의 방법으로 접합하여 사용할 수 있다.

또, 기재필름으로서 백색폴리에스테르 필름을 바람직하게 사용할 수 있다. 이 백색 폴리에스테르 필름은 백색으로 착색된 폴리에스테르 필름이면 특히 한정되지 않으나, 백색도는 65∼150%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 80∼120%이고, 또, 광학 농도는 100㎛환산으로 0.5∼5가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3이다. 예컨대, 광학농도가 적은 기재필름을 사용한 경우는 은폐성이 떨어지고, 백색도가 적은 경우는 육안으로 본 경우 백색이 감소하기 쉽다.

이와 같은 백색도와 광학농도를 얻는 방법은 특히 한정되는 것은 아니고, 통상은 무기입자 또는 폴리에스테르와 비상용의 수지의 첨가에 의해 얻을 수 있다. 첨가하는 양은 무기입자의 경우, 바람직하게는 5∼35중량%, 보다 바람직하게는 8∼25중량%이다. 한편, 비상용성의 수지를 첨가하는 경우는 바람직하게는 3∼35체적%, 보다 바람직하게는 6∼25체적%이다.

폴리에스테르 필름에 첨가되는 무기입자는 바람직하게는 평균입경 0.1∼4㎛, 보다 바람직하게는 0.3∼1.5㎛의 무기입자 등을 대표적인 것으로서 사용할 수 있다. 구체적으로는 황산바륨, 탄산칼슘, 황산칼슘, 산화티탄, 실리카, 알루미나, 티탄산바륨, 탈크(talc), 클레이(clay) 등 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 이들의 무기입자는 다른 무기화합물, 예컨대, 인산칼슘, 산화티탄, 운모, 지르코니아, 산화텅스텐, 불화리튬, 불화칼슘 등과 병용시켜도 좋다.

폴리에스테르 필름에 첨가되는 폴리에스테르와 비상용의 수지는 특히 한정되 지 않고, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트와 혼합하는 경우는 아크릴수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 변성올레핀수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트계 수지, 페녹시 수지 및 폴리페닐렌옥시드 등을 사용할 수 있고, 상술한 무기입자와 병용하여도 좋다. 예컨대, 특히, 폴리에스테르에 무기입자나 폴리에스테르와 비상용의 수지를 혼합하여 2축연신하고, 내부에 공동을 갖는 비중이 0.5∼1.3의 백색폴리에스테르 필름은 기재필름 자체가 경량화 할 수 있는 예컨대, 수용시트용도로 사용한 경우, 인쇄특성이 향상하는 등의 장소가 있다.

또한, 이 백색 폴리에스테르 필름은 다른 색에 착색된 필름 또는 투명한 필름을 적층시킨 2층 이상의 적층체로 하고, 이들을 기재필름으로서 사용하여도 좋다.

다음에, 본 발명의 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층막이 형성된 적층 폴리에스테르 필름 중, 적층막에 관하여 설명한다.

본 발명에 있어서, 적층막이란, 기재시트로 이루어지는 폴리에스테르 필름의 표면에 적층 구조적으로 형성되어 존재하는 막형상의 것을 말한다. 상기 적층막 자체는 단일층이어도 복수층으로 이루어진 것이어도 좋다.

본 발명에 있어서의 적층막에는 유리 전이점(이하, Tg라 명칭한다)이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지를 사용하지만, 2종류의 폴리에스테르 수지로서는 Tg가 다르고, 또한 폴리에스테르 수지(A)의 Tg가 60℃ 이상 100℃ 이하이고, 폴리에스테르 수지(B)의 Tg가 0℃ 이상 60℃ 이하인 것을 만족할 필요가 있다. 상기 폴리에스테르 수지(A)의 Tg는 블러킹내성의 점에서 바람직하게는 70℃ 이상 90℃ 이하이고, 또, 상기 폴리에스테르 수지(B)의 Tg는 바람직하게는 0℃ 이상 60℃ 미만이고, 각종 피복물과의 접착성의 점에서 보다 바람직하게는 10℃ 이상 45℃ 이하이다.

본 발명에 있어서의 적층막을 형성하는 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)에는 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분이 함유되고, 그 함유량은 하기의 관계를 만족한다.

Sa〉Sb≥5몰%

(Sa:폴리에스테르 수지(A)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%), Sb:폴리에스테르 수지(B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속 염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%))

여기서, Sb는 바람직하게는 7몰% 이상, 보다 바람직하게는 7∼9몰%이다. Sa 또는 Sb가 5몰% 미만으로 되면, 특히 폴리비닐알코올 등의 친수성 수지와의 접착성이 저하한다.

Sa〉Sb≥5몰%의 관계를 만족시키는 것에 의해, 상반되는 효과인 각종 피복물과의 접착성과 블로킹 내성을 양립시킬 수 있었다고 생각된다.

본 발명의 적층막을 구성하는 폴리에스테르 수지가 함유하는 술폰산 금속염기 함유 디술폰산 성분으로서는 예컨대, 술포테레프탈산, 5-술포이소프탈산, 4-술포이소프탈산, 4-술포나프탈렌-2,7-디카르복실산, 술포-p-크실렌글리콜, 2-술포-1,4-비스(히드록시에톡시)벤젠 등의 알클리 금속염, 알칼리토류금속염 등을 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 있어서의 적층막으로 사용되는 폴리에스테르 수지(A)는 디카르복실산 성분으로서 테레프탈산을 전체 디카르복실산 성분 중에 70몰% 이상인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 75몰% 이상이다. 이 때, 테레프탈산 및 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 이외의 성분은 특히 한정되지 않고, 예컨대, 후술하는 성분 등을 사용할 수 있다. Tg를 60℃ 이상 100℃ 이하로 하고, 주성분을 규정하는 것에 의해, 효과적으로 블로킹 내성을 발현할 수 있다.

또한, 본 발명의 적층막으로 사용되는 폴리에스테르 수지(B)는 디카르복실산 성분으로서 이소프탈산을 전체 디카르복실산 성분 중 65∼95몰%, 또는 디올성분으로서 디에틸렌글리콜을 전체 디올성분 중 50∼95몰%를 적어도 함유할 필요가 있고, 디카르복실산 성분으로서 이소프탈산을 전체 디카르복실산 성분 중 65∼95몰%, 및 디올성분으로서 디에틸렌글리콜을 전체 디올성분 중 50∼95몰%를 적어도 함유하는 것이 바람직하다. 이 때, 이소프탈산 및 디에틸렌글리콜, 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 이외의 성분은 특히 한정되지 않고, 예컨대, 후술하는 성분 등을 사용할 수 있다. Tg를 0℃ 이상 60℃ 이하로 하고, 주성분을 규정하는 것에 의해, 종래 양립할 수 없었던 각종 피복물과의 우수한 접착성을 얻을 수 있었다.

본 발명의 적층막으로 사용되는 폴리에스테르 수지(B)에 함유되는 이소프탈산은 바람직하게는 70∼95몰%이고, 이 범위이면 접착성이 보다 양호하게 된다.

본 발명의 적층막으로 사용되는 폴리에스테르 수지(B)에 함유되는 디에틸렌글리콜은 바람직하게는 60∼90몰%이고, 이 범위이면 접착성이 보다 양호하게 된다.

또한, 본 발명의 적층막으로 사용되는 폴리에스테르 수지(B)에 있어서, 디카 르복실산 성분으로서 이소프탈산을 전체 디카르복실산 성분 중 65∼95몰%, 및 디올성분으로서 디에틸렌글리콜을 전체 디올성분 중 50∼95몰%를 동시에 만족시키는 것이 보다 바람직하다. 그러나, 예컨대, 이소프탈산이 전체 디카르복실산 성분 중 65∼95몰%를 만족시킬 때는 디에틸렌글리콜의 바람직한 범위는 40∼95몰%, 더욱 바람직한 범위는 50∼95몰%이고, 한편, 디에틸렌글리콜이 전체 디올성분 중 50∼95몰%를 만족시킬 때는 이소프탈산의 바람직한 범위는 45∼95몰%, 더욱 바람직한 범위는 50∼90몰%이다. 이소프탈산 성분량이 너무 적으면, 특히 자외선 경화형 잉크와 같이 경화수축을 동반하는 잉크와의 접착성이 저하하는 경우가 있고, 한편 디에틸렌글리콜 성분량이 너무 적으면, 특히 자외선 경화형 잉크와 같이 경화수축을 동반하는 잉크나 폴리비닐알콜 등의 친수성 수지와의 접착성이 저하하는 경우가 있다.

폴리에스테르 수지(A)와 폴리에스테르 수지(B)는 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있으나, 폴리에스테르 수지(A)/폴리에스테르 수지(B)의 비율이 고형분 중량비로 10/90∼90/10인 것이 접착성의 점에서 바람직하고, 보다 바람직하게는 30/70∼80/20, 더욱 바람직하게는 50/50∼80/20이다. 폴리에스테르 수지(A)가 너무 적으면, 블로킹 내성이 저하하는 경우가 있고, 폴리에스테르 수지(B)가 너무 적으면, 특히, 자외선 경화형 잉크와 같이 경화 수축을 동반하는 잉크와의 접착성이 저하하는 경우가 있다.

본 발명의 적층막은 상기한 Tg의 다른 2종류의 폴리에스테르 수지를 주된 구성성분으로서 이루어지는 것이고, 본 발명에 있어서, 주된 구성성분이란, 상기 2종류의 합계가 적층막 중에 있어서, 70중량% 이상을 차지하는 것을 말하고, 바람직하 게는 80중량% 이상, 보다 바람직하게는 90중량% 이상이다.

본 발명에 따른 적층막의 구성성분인 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)는 주쇄 또는 측쇄에 에스테르 접합을 갖는 것이고, 이와 같은 폴리에스테르 수지는 디카르복실산과 디올로부터 중축합하여 얻을 수 있다.

폴리에스테르 수지(A) 및 (B)를 구성하는 카르복실산 성분으로서는 방향족, 지방족, 지환족의 디카르복실산이나 3가 이상의 다가 카르복실산을 사용할 수 있다. 방향족 디카르복실산으로서는 테레프탈산, 이소프탈산, 오르소프탈산, 프탈산, 2,5-디메틸테레프탈산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 비페닐디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 1,2-비스페녹시에탄-p,p'-디카르복실산, 페닐인단디카르복실산 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환족의 디카르복실산으로서는 숙신산, 아디핀산, 세바신산, 도데칸지온산, 다이머산, 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산 등 및 그들의 에스테르 형성성 유도체를 사용할 수 있다.

또, 폴리에스테르 수지(A) 및/또는 (B)를 수계 수지로 한 도액을 사용하여 적층막을 형성하는 경우, 폴리에스테르 필름과의 접착성을 향상시키기 위해, 또는 폴리에스테르 수지(A) 및/또는 (B)의 수용화를 용이하게 하기 위해, 폴리에스테르 수지(A) 및/또는 (B)는 카르복실산 염기를 함유하는 화합물을 공중합하여도 좋다.

카르복실산 염기를 함유하는 화합물로서는 예컨대, 트리멜리트산, 무수트리멜리트산, 피로멜리트산, 무수피로멜리트산, 4-메틸시클로헥센-1,2,3-트리카르복실산, 트리메신산, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산, 1,2,3,4-펜탄테트라카르복실산, 3,3', 4,4'-벤조페논테트라카르복실산, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸르푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸르푸릴)-3-시클로헥센-1.2-디카르복실산, 시클로펜탄테트라카르복실산, 2.3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실산, 에틸렌글리콜비스트리메리테이트, 2,2'3,3'-디페닐테트라카르복실산, 티오펜-2,3,4,5-테트라카르복실산, 에틸렌테트라카르복실산 등 또는 이들의 알칼리 금속염, 알칼리 토류금속염, 암모늄염을 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.

폴리에스테르 수지(A) 및 (B)의 디올성분으로서는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 2,4-디메틸-2-에틸헥산-1,3-디올, 네오펜틸글리콜, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-이소부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-시클로부탄디올, 4,4'-티오디페놀, 비스페놀A, 4,4'-메틸렌디페놀, 4,4'-(2-노르보르닐덴)디페놀, 4,4'-디하드록시비페놀, o-, m-, 및 p-디히드록시벤젠, 4,4'-이소프로피리덴페놀, 4,4'-이소프로피리덴빈디올, 시클로헵탄-1,2-디올, 시클로헥산-1,2-디올, 시클로헥산-1,4-디올, 비스페놀A 등을 사용할 수 있다.

본 발명에 사용되는 폴리에스테르 수지(A) 및/또는 (B)는 변성폴리에스테르 공중합체, 예컨대, 아크릴, 우레탄, 에폭시 등으로 변성된 블럭공중합체, 그래프트 공중합체 등을 사용하는 것도 가능하다.

또, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위내에, 다른 수지, 예컨대, 본 발명에 사용되는 폴리에스테르 수지 이외의 폴리에스테르 수지, 우레탄수지, 에폭시수지, 실리콘수지, 요소수지, 페놀수지 등이 배합되어도 좋다. 또한, 본 발명의 효과가 손상되는 않는 범위내로 각종의 첨가제, 예컨대, 가교제, 산화 방지게, 내열 안정제, 내후 안정제, 자외선 흡수제, 유기의 윤활제, 안료, 염료, 충전제, 대전방지제 핵제, 계면활성제 등이 배합되어도 좋다.

본 발명의 적층막에 사용되는 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)는 공지의 제조법에 의하여 제조할 수 있다. 예컨대, 카르복실산 성분과 디올성분을 직접 에스테르화 반응시키거나 또는 에스테르 교환반응시키는 제 1단계와 이 제 1단계의 반응생성물을 중축합 반응시키는 제 2단계에 의하여, 제조하는 방법 등에 의해 제조할 수 있다. 이 때, 반응촉매로서, 예컨대, 알칼리 금속, 알칼리 토류금속, 망간, 코발트, 아연, 안티몬, 게르마늄, 티탄 화합물 등을 사용하는 것이 일반적이다.

본 발명의 적층막의 두께는 0.01∼5㎛이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.02∼2㎛, 더욱 바람직하게는 0.05∼0.5㎛이다. 적층막의 두께가 너무 얇으면, 접착성 불량으로 되는 경우가 있고, 너무 두꺼우면, 윤활성이나 블로킹 내성이 저하하는 경우가 있다.

본 발명의 적층막 중에 유기 또는 무기의 입자를 첨가하면, 윤활성이나 블로킹 내성이 더욱 향상하기 때문에 바람직하다.

본 발명의 적층막에는 유기입자로서, 가교폴리스티렌, 가교아크릴 수지, 멜 라민 수지, 벤조구아나민 수지 등이 바람직하게 사용된다.

본 발명의 적층막에는 무기입자로서, 실리카, 콜로이드실리카, 구슬형상 실리카, 알루미나, 알루미나졸, 카오린, 탈크, 운모, 탄산칼슘, 금속산화물(산화주석 등) 등이 바람직하게 사용된다.

이들의 유기입자 및 무기입자는 평균입자경이 0.001∼5㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.01∼3㎛, 더욱 바람직하게는 0.02∼1㎛이다.

또, 본 발명의 적층막에 바람직하게 사용되는 구슬형상 실리카는 구슬형상으로 연결 및/또는 분기된 형상의 콜로이드실리카이고, 구상의 콜로이드실리카가 구슬형상으로 연결(복수의 구상 콜로이드실리카가 연쇄형상으로 이루어진 형상)된 장쇄의 연결을 갖는 것, 및 연결된 실리카가 분기된 것, 및/또는 연결된 실리카가 굴곡된 것이다. 상기 구슬형상 실리카는 구상실리카의 일차 입자를 금속이온을 개재시킨 입자-입자 사이를 결합시킨 것으로, 통상은 3개 이상 100개 미만, 바람직하게는 5개 이상 50개 미만, 더욱 바람직하게는 7개 이상 30개 미만 연결된 것을 말하고, 구슬형상으로 연결된 입자가 분기된 것, 및/또는 구슬형상으로 연결된 입자가 굴곡된 것을 포함한다. 개재되는 금속이온으로서는 2가 이상의 금속이온이 바람직하고, 예컨대, Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺, Ti⁴⁺ 등이다. 특히, Ca²⁺로 한 경우에는 구슬형상에 연결 및 분기된 콜로이드실리카를 작성하는 데 적당하다. 또, 구상 실리카의 일차 입자경은 5∼100nm, 바람직하게는 8∼80nm, 더욱 바람직하게는 10∼50nm이고, 구슬형상으로 연결된 때의 길이는 30∼500nm, 바람직하게는 50∼400nm이다. 이 구슬형상 실리카의 예로서, "닛산 가가쿠 고교 가부시끼가이샤 제품" "스노우텍스" UP나 "스노우텍스"OUT을 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 적층막 중에 함유되는 유기 또는 무기의 입자는 0.2≤r/d≤20(r :입자의 평균입자경, d:적층막의 평균두께)을 만족하는 것이 바람직하다. 이들에 의해, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 윤활성이나 블로킹 내성을 효과적으로 부여할 수 있다. 또한, r/d의 범위는 바람직하게는 1/2〈 r/d≤20, 보다 바람직하게는 1≤r/d≤15이지만, 경우에 따라서는 1/2〈r/d≤4의 입자가 바람직하게 사용되고, 또한, 보다 바람직하게는 1≤r/d≤4의 입자가 사용된다.

적층막 중의 유기 또는 무기의 입자의 함유량은 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 고형분비로 0.05∼10중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1∼8중량%이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼5중량%이다. 상기 입자의 입자경이 너무 크거나, 상기 입자의 함유량이 너무 많으면, 적층막의 내삭성 등이 저하하는 경우가 있다.

또한, 입자로서 입자경이 다른 2종류의 입자, 즉, 2≤r_x/d≤20을 만족하는 입자(X)와 0.2≤r_Y/d≤4를 만족하는 입자(Y)를 함유하는 것이 바람직하다. 여기서, r_x는 입자(X)의 평균입자경(㎛), r_Y는 입자(Y)의 평균입자경(㎛), d는 적층막의 두께(㎛)이다. 입자경이 다른 2종류의 입자를 병용하는 것에 의해, 윤활성이나 국소적으로 압력이 걸리는 경우의 블로킹 내성을 비약적으로 향상시킬 수 있다. 특히 블로킹 내성을 향상시키는 데는, 입자(X)의 r/d는 4〈r_x/d≤20이 바람직하고, 입자(Y)의 r/d는 1/2〈r_Y/d≤4가 바람직하다. 또, r_x/d 및 r_Y/d의 보다 바람직한 범위는 4<r_x/d≤20 및 0.2≤r_Y/d≤4, 또는 2≤r_x/d≤20 및 1/2<r_Y/d≤4이고, 더욱 바람직하게는 입자(X)의 r/d는 4<r_x/d≤20이고, 입자(Y)의 r/d는 1/2<r_Y/d≤4이다. r_x/d가 20을 넘으면, 내삭성이나 블로킹 내성이 저하하는 경우가 있고, r_Y/d가 0.2미만에서는 블로킹 내성이 저하하는 경우가 있다. 적층막을 구성하는 입자경이 다른 2종류의 입자 중 입자(X)의 함유량은 적층막의 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대하여, 0.05∼5중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1∼3중량%이다. 또, 입자(Y)의 함유량은 적층막의 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대하여, 0.1∼10중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5∼8중량%이다. 입자(X) 및 입자(Y)의 함유량이 너무 적으면, 블로킹 내성이 저하하는 것이 있고, 너무 많으면, 적층막의 내삭성 등이 저하하는 경우가 있다.

본 발명에 있어서의 적층막에는 아크릴수지를 함유하는 것이 바람직하다. 아크릴수지를 함유하는 것에 의해 각종 수지와의 접착성이나, 또한 국소적으로 압력이 걸리는 경우의 블로킹 내성을 만족시키고, 또한 특히 투명성도 만족시킬 수 있다.

본 발명의 적층막에 함유되는 아크릴수지는 특히 한정되지 않고, 아크릴 수지를 구성하는 모노머성분으로서, 예컨대, 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트( 아킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 라우릴기, 스테아릴기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 페닐에틸기 등이 열거된다), 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트 등의 히드록실기 함유 모노머, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸아크릴아미드, N-메틸메타크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-메틸올메타크릴아미드, N, N-디메틸올아크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-페닐아크릴아미드 등의 아미드기 함유 모노머, N, N-디에틸아미노에틸아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트 등의 아미노기 함유 모노머, 글리시딜아크릴레이트 글리시딜메타크릴레이트 등의 에폭시기 함유 모노머, 아크릴산, 메타크릴산 및 그들의 염(알칼리 금속염, 알칼리 토류금속염, 암모늄염 등)등의 카르복실기 또는 그 염을 함유하는 모노머 등을 사용할 수 있고, 이들은 1종 또는 2종 이상 공중합된다. 또한, 이들은 다른 종의 모노머와 병용할 수가 있다.

여기서, 다른 종의 모노머로서는 예컨대, 알릴글리시딜에테르 등의 에폭시기 함유모노머, 스티렌술폰산, 비닐술폰산 및 그들의 염(리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염 등)등의 술폰산기 또는 그 염을 함유하는 모노머, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 프마르산 및 그들의 염(리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 암모늄염 등)등의 카르복실기 또는 그 염을 함유하는 모노머, 무수말레인산, 무수이타콘산 등의 산무수물을 함유하는 모노머, 비닐이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 스티렌, 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 비닐트리스알콕시실란, 알킬말레인산모노에스테르, 알 킬프마르산모노에스테르, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 알킬이타콘산모노에스테르, 염화비닐리덴, 초산비닐, 염화비닐 등을 사용할 수 있다.

본 발명에 있어서, 사용되는 바람직한 아크릴 수지로서는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴산, 아크릴로니트릴로부터 선택되는 공중합체 등이다. 상기 아크릴 수지의 분자량은 5만 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30만 이상으로 하는 것이 접착성의 점에서 바람직하다. 또, 아크릴 수지로서, 2종 이상의 아크릴 수지를 임의의 비율로 병용하는 것도 가능하다.

또, 본 발명의 적층막에 함유되는 아크릴 수지로서, 변성아크릴 공중합체, 예컨대, 폴리에스테르, 우레탄, 에폭시 등으로 변성된 블럭 공중합체, 그래프트 공중합체 등을 사용할 수도 있다.

본 발명의 적층막에 함유되는 아크릴 수지의 함유량은 바람직하게는 적층막의 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 고형분비로 0.5∼8중량%이고, 보다 바람직하게는 1∼5중량%이다. 아크릴 수지를 함유하는 것에 의해, 각종 피복물과의 접착성 및 블로킹 내성, 또한 투명성을 겸비한 적층 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다. 또, 아크릴 수지의 함유량이 8중량%를 넘으면, 특히 산화중합형 잉크나 수용성, 친수성 수지와의 접착성이 저하하는 경향이 있고, 또, 0.5중량% 미만에서는 블로킹 내성이나 습열처리 후의 투명성이 낮게되는 경향이 있다.

본 발명의 적층막에 함유되는 아크릴수지의 유리 전이점은 바람직하게는 0∼100℃, 보다 바람직하게는 20∼80℃, 더욱 바람직하게는 40∼80℃이다. 상기 아크릴 수지의 유리 전이점이 너무 낮으면, 블로킹 내성이 불리한 경우가 있고, 너무 높으면, 물에 분산시킬 때의 수지의 불안정이 문제로 되는 경우가 있다.

본 발명에서는 환경오염이나 도포시의 방폭성의 점에서, 상기 아크릴 수지를 물에 용해, 유화 또는 현탁하고, 수계아크릴 수지액으로서 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 수계 아크릴 수지는 친수성기를 갖는 모노머(아크릴산, 메타크릴산, 아크릴아미드, 비닐술폰산 및 그 염 등)와의 공중합이나 반응성 유화제나 계면활성제를 이용한 유화 중합, 현탁 중합, 솝프리(soap free) 중합 등의 방법에 의하여 작성할 수 있다.

본 발명에 있어서의 적층막에는 왁스를 함유하는 것이 바람직하고, 이들에 의해 각종 수지와의 접착성이나 블로킹 내성뿐만 아니라, 특히, 스크래치 내성도 만족할 수도 있다.

본 발명의 적층막에 함유되는 왁스는 특히 한정되지 않으나, 예컨대, 천연왁스, 합성왁스, 배합왁스 등을 병용할 수 있고, 2종류 이상의 왁스를 병용하는 것도 가능하다.

본 발명의 적층막에 함유되는 천연왁스로서는 예컨대, 식물계 왁스(예컨대, 칸데릴라왁스, 카르나바왁스, 라이스왁스, 목랍, 호호바유, 팜왁스, 오웨리큐리왁스, 사탕수수왁스, 아스팔트왁스, 바이크왁스 등), 동물계 왁스(예컨대, 밀랍, 라놀린, 경랍, 백랍, 셀락왁스, 코카스카쿠타이왁스, 물새왁스 등), 광물계 왁스(예 컨대, 몬탄왁스, 지랍, 세레신 등), 석유왁스(예컨대, 파라핀왁스, 마이크로크리스탈링왁스, 와셀린 등)등이 열거된다. 합성왁스로서는 예컨대, 합성탄화수소, 변성왁스, 수소화왁스, 지방족, 산아미드, 에스테르, 케톤 등이 열거된다. 또, 배합왁스는 상기 왁스에 합성 수지류를 배합한 것이고, 그 배합비는 임의로 설정된다.

본 발명에 있어서, 왁스는 상기 왁스 또는 왁스계 조성물로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하게 사용되지만, 블로킹 내성의 점에 있어서, 석유계 왁스, 식물계 왁스의 사용이 바람직하다. 또, 본 발명에서 사용하는 왁스의 융점은 바람직하게는 40∼130℃이고, 보다 바람직하게는 60∼100℃이다.

적층막 중의 왁스의 함유량은 바람직하게는 적층막의 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 고형분비로 0.5∼8중량%이고, 보다 바람직하게는 1∼5중량%이다. 왁스를 함유하는 것에 의해, 각종 피복층과의 접착성 및 블로킹 내성, 또한 스크래치 내성을 겸비한 적층 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다. 왁스의 첨가 함유량이 8중량%를 넘으면 접착성이 저하하는 경향이 있고, 또 0.5중량% 미만에서는 블로킹 내성, 스크래치 내성이 저하하는 경향이 있다.

본 발명에 있어서의 적층막을 구성하는 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지 중에 아크릴수지나 왁스성분을 함유시킨 후에, 유기 또는 무기의 입자를 더 첨가하여, 윤활성이나 블로킹 내성을 향상시킬 수 있다. 이 경우, 입자를 2종류 이상 병용하여도 좋고, 이 때, 블로킹 내성이나 윤활성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름을 제조할 때, 적층막을 형성하는 가장 바 람직한 방법은 폴리에스테르 필름의 제조공정 중에 도포하고, 기재필름과 함께 연신하는 방법이다. 예컨대, 용융압출시킨 결정배향 전의 폴리에스테르 필름을 길이방향으로 2.5∼5배 정도 연신하고, 일축연신시킨 필름에 연속적으로 도액을 도포한다. 도포된 필름은 단계적으로 가열된 존을 통과하면서 건조되고, 축방향으로 2.5∼5배 정도 연신시킨다. 또한, 연속적으로 150∼250℃의 가열존에 도입된 결정배향을 완료시키는 방법(인라인코터법)에 의하여 얻을 수 있다. 이 경우에 사용되는 도포액은 환경오염이나 방폭성의 점에서 수계의 것이 바람직하다.

기재필름 위로의 도포의 방법은 각종의 도포방법, 예컨대, 리버스 코터법, 그라비어 코터법, 로드 코터법, 바 코터법, 다이 코터법, 스프레이 코터법 등을 사용할 수 있다.

다음에, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름의 제조방법에 관하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, "PET"라 약칭함)를 기재필름으로 한 예에 관하여 설명하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 상기한 특정의 Tg를 갖고, 또한 Tg가 다른 2종류의 폴리에스테르 수지를 주된 구성성분으로 하는 적층막을 형성하는 것에 의하여 제조할 수 있다.

구체적으로 예시하여 설명한다. 극한점도 0.5∼0.8dl/g의 PET펠릿을 진공건조한 후, 압출기에 공급하고, 260∼300℃로 용융하고, T자형 구금에서 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 10∼60℃의 경면 캐스팅드럼에 감아 붙이고, 냉각고화시켜 미연신 PET필름을 작성하였다. 이 미연신 필름을 70 ∼120℃에서 가열시킨 롤사이로 종방향(필름의 진행방향)으로 2.5∼5배 연신한다. 이 필름의 적어도 한편에 코로나 방전처리를 실시하고, 본 발명의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 이 도포시킨 필름을 클립으로 고정시켜, 70∼150℃에서 가열시킨 열풍존으로 도입, 건조한 후, 폭방향으로 2.5∼5배 연신하고, 계속하여, 160∼250℃의 열처리 존으로 도입하고, 1∼30초간의 열처리를 수행하여, 결정배향을 완료시켰다. 이 열처리 공정 중에서 필요에 따라서 폭방향 또는 길이방향으로 3∼12%의 이완처리를 실시하여도 좋다. 이축연신은 종, 횡 순서로 연신 또는 동시 2축연신의 어느 것이어도 좋고, 또 종, 횡 연신 후, 종, 횡 어느 것의 방향으로 재연신하여도 좋다. 이 경우에 사용되는 도액은 환경오염이나 방폭성의 점에서 수계가 바람직하다. 또, 도액으로는 도포성을 향상시키기 위해, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위내에서, 계면활성제나 점도조정제, 소포제 등을 함유 및/또는 병용하는 것도 가능하다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 바람직하게는 인쇄용 적층 폴리에스테르필름으로서 사용할 수 있고, 또한, 바람직하게는 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 수용층을 형성하는 것에 의해, 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름으로서 사용할 수 있다.

본 발명의 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 형성되는 수용층(受容層)은 수용성(水溶性) 수지 및, 또는 물분산성 수지를 함유하는 것이고, 잉크젯용 잉크를 흡수시키는 것이면, 특히 한정되지 않는다.

본 발명의 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 형성되는 수용층의 수용성 수지 및/또는 물분산성 수지로서는 예컨대, 메틸셀룰로우즈. 히드록시에틸셀룰로우즈, 카르복시에틸셀룰로우즈, 히드록시프로필셀룰로오즈, 히드록시프로필에틸셀룰로우즈, 셀룰로오즈술페이트, 녹말 전분, 감자 전분, 산화 전분, 인산전분, 카르복실화 전분, 히드록시에틸화 전분, 시아노에틸화 전분, 아크릴산그래프트 전분, 덱스트린, 콘스타치, 곤약, 청각채, 한천, 알긴산나트륨, 황촉규 (Hibiscus manihot.L), 트라간트 검, 아라비아고무, 로카스트빈 검, 구아 검, 펙틴, 카라기닌, 아교, 세라틴, 카세인, 대두단백, 알부민, 완전 또는 부분 겔화 폴리비닐알코올 및 그 음이온, 양이온 변성물, 아세탈화 정도 또는 부티랄화 정도가 30% 이하의 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드 및 그 공중합체, 폴리비닐피롤리돈 및 그 공중합체, 폴리-N-비닐아세트아미드 및 그 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드, 에틸렌옥사이드-프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리부틸렌옥사이드, 카르복실화 폴리에틸렌옥사이드, 폴리아크릴산 및 그 나트륨염, 스티렌-무수말레인산 공중합체, 에틸렌-무수말레인산 공중합체 등이 열거되지만, 이들의 화합물에 특히 한정되지는 않는다. 이들의 수용성 수지 또는 물분산성 수지는 1종 또는 2종이상을 혼합하여도 좋다.

또, 본 발명의 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 형성되는 수용층에는 필요에 따라, 양이온성 물질이나 입자, 가교제를 첨가할 수 있고, 이들의 첨가에 의하여, 잉크흡수성이나 흡착성, 발색성 등이 향상하는 데 바람직하다.

수용층에 첨부되는 양이온성 물질은 특히 한정되지는 않으나, 조성물 중에 4 급 암모늄염을 갖고, 쌍이온으로서 클로라이드, 술페이트, 나이트레이트 등이 사용된 것이 바람직하고, 양이온성 계면활성제, 양이온기를 갖는 폴리머를 적용할 수 있다.

수용층에 첨가되는 입자로서는 특히 한정되지는 않으나, 실리카, 콜로이드 실리카, 알루미나, 알루미나졸, 제올라이트, 산화티탄, 카오린, 카오린나이트, 탈크, 운모, 탄산칼슘 등을 사용할 수 있다.

수용층에 첨가되는 가교제로서는 특히, 한정되지는 않으나, 메틸올화 또는 알킬올화 된 요소계, 멜라민계, 아크릴아미드계, 폴리아미드계 수지, 에폭시 화합물, 이소시아네이트 화합물, 옥사졸린계 화합물, 아지리딘 화합물, 각종 실란커플링제, 각종 티타네이트계 커플링제 등을 사용할 수 있다.

또한, 수용층에서는 각종의 첨가제, 예컨대, 산화방지제, 내열안정제, 내후안정제, 자외선흡수제, 윤활제, 안료, 염료, 유기 또는 무기의 미립자, 충전제, 대전방지제 및 핵제 등이 배합되어 있어도 좋다.

또, 수용층의 두께는 특히, 한정되지는 않으나, 5∼100㎛, 바람직하게는 10∼50㎛이다. 수용층이 너무 얇으면, 잉크흡수성, 화상해상성 등이 불량하게 되는 경우가 있다. 또, 수용층이 너무 두꺼우면, 건조속도가 느려서 생산효율이 악화되는 경우가 있다.

본 발명의 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 형성되는 수용층은 수용층 형성 도액을 도공장치를 사용하여 적층막 위에 도공, 건조하는 방법에 의해 형성된다. 도공방법으로서는 예컨대, 블레이드코터 방식, 에어나이프 방 식, 롤코터 방식, 브러쉬 코터 방식, 그라비아 코터 방식, 키스코터 방식, 엑스톨존 방식, 슬라이드 호퍼(슬라이드 비트)방식, 커텐코터 방식, 스프레이 방식 등을 사용할 수 있다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 바람직하게는 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름으로서 사용할 수 있다.

본 발명의 점착 라벨용 폴리에스테르 필름은 적층막 위의 적어도 일부분에 인쇄층이 형성되고, 또, 인쇄층이 형성되어 있지 않는 쪽의 면에 점착제층이 형성되어, 점착 라벨로서 사용할 수 있다.

본 발명의 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름은 점착 라벨로서 사용하는 경우, 적층막 위의 적어도 일부분에 인쇄층이 형성된다.

적층막 위에 형성되는 인쇄층은 표시기능을 갖는 것이면, 특히 한정되지는 않는다. 상기 인쇄층의 인쇄하는 방법은 특히 한정되지는 않으나, 일반적으로는 오프셋트 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 등의 방법을 사용할 수 있다. 또한, 그 때 사용되는 인쇄용 잉크도 인쇄방식에 따라서 선택되고, 특히 한정되지는 않으나, 자외선 경화형 잉크, 전자선 경화형 잉크, 산화중합형 잉크, 용제형 잉크(프렉소 잉크, 스크린 잉크 등), 수성 잉크(프렉소 잉크 등)등을 사용할 수 있다.

본 발명의 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름을 점착 라벨로서 사용하는 경우, 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름에 설치되는 점착제 층은 점착 특성을 갖는 것이면 좋고, 그 조성은 특히 한정되지는 않으나, 크게 분류하면, 고무계, 아크릴계, 비닐계, 실리콘계 등으로 분류된다. 그 중에서도 점착 라벨용으로서는 고 무계와 아크릴계가 바람직하게 사용된다.

본 발명의 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름을 점착 라벨로서 사용하는 경우 사용되는 고무계 점착제는 일반적으로는 고무엘라스토머, 연화제, 점착부여제를 주성분으로 하고, 필요에 따라서 충전제, 노화방지제를 첨가한 것이다.

고무엘라스토머로서는 천연고무, 스티렌부타디엔고무, 부틸고무, 폴리이소부틸렌, 부타디엔, 스티렌이소프렌블럭 공중합체, 스티렌부타디엔블럭 공중합체, 재생고무 등을 사용할 수 있다.

점착부여제의 수지로서는 로진 및 로진유도체, 검 로진, 테레펜 수지, 석유수지, 유용성페놀 수지 등을 사용할 수 있고, 또한, 점착제의 피착체에 대한 젖어짐을 산출시키기 위해 폴리부텐, 액상고무, 프탈산계 가소제, 광유 등을 첨가할 수 있다.

또, 연화제로서는 미네랄오일, 액상 폴리부텐, 액상 폴리아크릴레이트, 라놀린 등을 사용할 수 있다.

필요에 따라서, 첨가되는 충전제로서는 산화아연, 수화알루미늄, 산화티탄, 탄산칼슘, 클레이, 안료 등이고, 노화방지제로서는 고무용 노화방지제, 디티오카르바메이트, 또는 금속킬레이트 등을 사용할 수 있다.

한편, 아크릴계 점착제는 아크릴산부틸, 아크릴산-2-에틸헥실 등의 아크릴산에스테르가 주성분으로 되고, 이들의 수지로는 너무 부드럽기 때문에, 응집력을 조정하는 모노머, 예컨대, 산화비닐, 에틸렌아크릴산, 아크릴산메틸, 메타크릴산알킬에스테르 등과 함께 중합시켜 사용할 수 있다. 그 외 첨가제로서는 상술의 고무계 점착제에 사용되는 점착부여제, 경화제, 충전제 등이다.

아크릴계 점착제의 경우, 내열성, 내유성을 향상시키기 위해, 카르복실산, 수산기, 산아미드 등을 함유하는 관능성 모노머를 도입하고, 가교 타입으로 하는 것도 가능하다. 가교를 수행하기 위한 가교제로서는 디이소시아네이트, 멜라민 등을 사용할 수 있다. 실리콘 점착제로서는 고무형상 실록산과 수지 형상 실록산의 중합물을 혼합한 것을 주성분으로 한 것을 사용할 수 있고, 접착되기 어려운 테프론이나 실리콘라바에도 접착가능하다고 하는 특징을 갖고 있다.

비닐계 접착제로서는 염화비닐-초산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐에테르 등을 주성분으로 한 것을 사용할 수 있다. 점착제의 도공방법으로서는 표면기재에 직접 점착제를 도공하고, 박리지와 맞닿는 직접법과 박리지의 실리콘도포면에 점착제를 도공하여 표면기재와 맞닿는 간접법 등을 사용할 수 있다.

점착제의 도공방법은 특히 한정되지는 않으나, 닥터 코터, 콤마 코터, 키스롤 코터, 리버스롤 코터 등을 사용할 수 있다.

특성의 측정방법 및 효과의 평가방법은 하기와 같다.

본 발명에 있어서의 특성의 측정방법 및 효과의 평가방법은 다음과 같다.

(1) 유리 전이점(Tg)

로봇트DSC(시차주사열량계) RDC220(세이코 덴시 고교 가부시끼가이샤 제품)에 SSC5200디스크 스테이션(세이코 덴시 고교 가부시끼가이샤 제품)을 접속하여 측정하였다. 시료 10mg을 알루미늄팬에 조정 후, DSC장치에 셋트하고(참고:시료를 넣지 않은 동일한 타입의 알루미늄팬), 300℃의 온도에서 5분간 가열한 후, 액체질소 를 사용하여 냉각처리를 하였다. 이 시료를 10℃/분으로 승온하고, 그 DSC차트로부터 유리 전이점(Tg)을 검지하였다.

(2) 적층막의 두께

투과형 전자현미경 HU-12형(히다쯔 세이사쿠죠 가부시키가이샤 제품)을 사용하고, 적층막을 형성한 적층 폴리에스테르 필름의 단면을 관찰한 사진으로부터 구하였다. 두께는 측정시야 내의 30점의 평균값으로 하였다.

(3) 입자의 평균입자경

적층 폴리에스테르 필름의 적층막의 표면을 주사형 전자현미경 S-2100A형(히다쯔 세이사쿠조 제품)을 사용하고, 확대배율 10000배로 관찰할 때의 입자 50개(실시예 1∼9, 44∼49, 50∼54, 55∼57, 비교예 1∼5, 23∼27, 28∼32 : 표1, 표5, 표6, 표7 ), 또는 입자 20개(실시예 10∼19, 20∼31, 32∼43, 비교예 6∼12, 13∼17, 18∼22 : 표2, 표3, 표4)의 입자직경의 평균을 평균입자경으로 하였다.

(4) 접착성-1

자외선 경화형 잉크로서 베스트큐어161흑(T＆K 도우카 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 롤코터법으로 적층막 위에 약 1.5㎛두께로 도포하였다. 그 후, 조사강도 80W/cm의 자외선 램프를 사용하고, 조사거리(램프와 잉크면의 거리)12cm로 5초간 조사하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 잉크경화막에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 잉크경화막의 잔재된 개수에 의해 평가하였다(◎ : 100, ○ : 80∼99, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ◎ ", " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(5)접착성-2

적층막 위에 폴리비닐알코올 수지(니폰 고우세이 가가쿠 고교 가부시끼가이샤 제품 고세놀 GH-23)의 10%수용액을 사용하고, 건조 후의 도포 두께가 약 7㎛로 되도록 그라비아 코터로 도포하고, 120℃에서 건조하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 폴리비닐알코올 수지층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프을 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90° 방향으로 박리하였다.

접척성은 폴리비닐알코올 수지층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다( ○ : 80∼100, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(6) 접착성-3

자외선 경화형 잉크로서 "다이큐어" RT-8흑(다이니폰 잉크 가가쿠 고교 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 롤코터법으로 적층막 위에 약 1.5㎛두께로 도포하였다. 그 후, 조사강도 120W/cm의 자외선 램프를 사용하고, 조사거리(램프와 잉크면의 거리)12cm로 5초간 조사하여 인쇄층을 형성하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 인쇄층에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 잉크층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다(◎ : 100, ○ : 80∼99, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ◎ ", " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(7)접착성-4

적층막 위에 폴리비닐알코올 수지(클라레 가부시끼가이샤 제품 PVA-117)의 10%수용액을 사용하고, 건조 후의 도포 두께가 약 7㎛로 되도록 그라비아 코터로 도포하고, 120℃에서 건조하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 폴리비닐알코올 수지층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프을 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 폴리비닐알코올 층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다( ○ : 80∼100, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(8)접착성-5

산화 중합형 잉크로서 HS-OS흑(구호세이 잉크 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 롤코터법으로 적층막 위에 약 1.5㎛두께로 도포하였다. 그 후, 23℃, 65%RH로 경화하여 인쇄층을 형성하였다, 인쇄층에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 인쇄층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다(◎ : 100, ○ : 80∼99, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ◎ ", " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(9)접착성-6

적층막 위에 폴리비닐알코올 수지(니폰 고우세이 가가쿠 고교 가부시끼가이샤 제품 "고우세놀" GH-23)의 10%수용액을 이용하고, 건조 후의 도포 두께가 약 7㎛로 되도록 그라비아 코터로 도포하고, 100℃에서 건조하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 폴리비닐알코올 수지층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프을 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

(10)접착성-7

자외선 경화형 잉크로서 "베스트큐어" 161흑(T＆K 도우카 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 롤코터법으로 적층막 위에 약 1.5㎛두께로 도포하였다. 그 후, 조사강도 80W/cm의 자외선 램프(1등)를 사용하고, 조사거리(램프와 잉크면의 거리)12cm로 25m/분의 속도로 조사하고, 인쇄층을 형성하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 인쇄층에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

(11)접착성-8

적층막 위에 폴리비닐알코올 수지(니폰 고우세이 가가쿠 고교 가부시끼가이샤 제품 "고우세놀" GH-23)의 10%수용액을 이용하고, 건조 후의 도포 두께가 약 5㎛로 되도록 그라비아 코터로 도포하고, 80℃에서 건조하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 폴리비닐알코올 수지층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프을 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

(12)접착성-9

적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위에 수용층 형성 도액으로서, 고우쇼우유시 가부시끼가이샤 제품 NS-141LX/니폰준야쿠 가부시키가시야 제품 쥬리마-SPO202(75/25중량부)의 수용액을 이용하고, 건조 후의 도포 두께가 약 10㎛로 되도록 그라비아코터로 도포하고, 120℃에서 건조하여 수용층을 형성하였다. 그 후, 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 수용층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프을 붙여서 고무롤러를 사용하여 누른(하중 19.6N으로 5왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 잉크 수용층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다.( ○ : 75∼100, △ : 50∼74, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(13)접착성-10

적층 폴리에스테르 필름에 상기(12)와 동일하게 하여 수용층을 형성하고, 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 잉크젯 프린터(세이코 앱손 가부시끼가이샤 제품 PM-750C)를 사용하고, 수용층 위에 전면인쇄를 수행하지 않았다. 또한, 수용시트를 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 수용층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판테이프를 붙여서 고무롤러를 사용하여 누른(하중 19.6N로 5왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 수용층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다.( ○ : 75∼100, △ : 50∼74, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(14)접착성-11

자외선 경화형 잉크로서 UV에스스파흑(구호세이 잉크 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 롤코터법으로 적층막 위에 약 1.5㎛두께에 도포하였다. 그 후, 조사강도 80W/cm의 자외선 램프를 사용하고, 조사거리(램프와 잉크면의 거리)12cm로 5초간 조사하여, 인쇄층을 형성하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 인쇄층에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

(15)접착성-12

용제형 잉크로서 테트론990흑(쥬우죠우 케미컬 가부시끼가이샤 제품)을 테트론 표준용제로 희석하고, 건조 후의 두께가 약 8㎛로 되도록 하고, 60℃에서 건조하여 적층막 위에 인쇄층을 형성하였다. 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 인쇄층 위에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 셀로판 테이프을 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N으로 3왕복) 후, 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 인쇄층의 잔재된 개수에 의해 평가하였다.( ○ : 80∼100, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(16)접착성-13

재생 적층 폴리에스테르 필름을 60℃, 80%RH로 1일간 조습 후, 적층막에 1mm²의 크로스컷을 100개 넣고, 니치반 가부시끼가이샤 제품 셀로판테이프을 그 위에 붙이고, 고무롤러를 사용하여 누른(하중 20N로 3왕복) 후 90°방향으로 박리하였다.

접착성은 적층막의 잔재된 개수에 의해 평가하였다.( ○ : 80∼100, △ : 50∼79, X : 0∼49). 이 때 " ○"을 접착성 양호로 하였다.

(17)블로킹 내성-1

적층막끼리를 중첩시키고, 하중(500g/(3×4)cm²) 하, 40℃, 90%RH에서 24시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

◎ : 용이하게 박리되고 중첩된 흔적이 남아있지 않다. ○: 용이하게 박리되나, 중첩된 흔적이 일부에 남는다. △ : 박리될 수 있으나, 중첩된 흔적이 남는다. × : 박리하면 필름이 찢어진다. 이 때 "◎", " ○"을 합격으로 하였다.

(18)블로킹 내성-2

적층막끼리를 중첩시켜, 3점을 지점으로서(1개의 지점이 직경 1cm의 원형으로 필름에 접하도록 한다.), 그 3지점 위에 5kg의 추를 실고, 23℃, 65%RH에서 48시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

(19)블로킹 내성-3

적층막끼리를 중첩시켜, 바인더클립(라이온 지무키세이 가부시키가이샤 제품 NO.155 ·대)을 사용하여 끼운 것으로 국소적으로 하중을 걸고, 23℃, 65%RH에서 36시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

(20)블로킹 내성-4

적층막끼리를 중첩시켜, 하중(5kg/(3×4)cm²) 하, 40℃, 90%RH에서 48시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

◎ : 용이하게 박리되고 중첩된 흔적이 남아있지 않다. ○: 용이하게 박리되 니, 중첩된 흔적이 일부에 남는다. △ : 박리될 수 있으나, 중첩된 흔적이 남는다. × : 박리하면 필름이 찢어진다. 이 때 "◎", " ○"을 합격으로 하였다.

(21)블로킹 내성-5

적층 폴리에스테르 필름에 상기(12)와 동일한 형태로 하여 수용층을 형성하고, 23℃, 65%RH로 1일간 조습 후, 수용층면과 폴리에스테르 필름 "루미라" T60(도레이 가부시끼가이샤 제품)를 중첩시켜, 하중(500g/(3×4)cm²) 하, 40℃, 90%RH에서 24시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

(22)블로킹 내성-6

상기(14)의 방법으로 형성된 인쇄층과 폴리에스테르 필름 "루미라" T60(도레이 가부시끼가이샤 제품)을 중첩시켜, 하중(500g/(3×4)cm²) 하, 40℃, 90%RH에서 24시간 조습하고, 하중을 가한 곳의 박리상태를 이하의 기준으로 평가하였다.

(23)투명성

적층 폴리에스테르 필름을 40℃, 90%RH로 1주간 조습한 후, 전자동 직독 헤 이즈 컴퓨터 HGM-2DP(C광원용)(수가시켄키 가부시끼가이샤 제품)을 사용하고, 연무(haze)값을 측정하고, 10점 측정의 평균값을 표시하였다. 이 때, 50㎛두께 시의 필름 연무값이 1.5이하를 양호로 하였다.

연무값 : H(%) = (Td/Tt)×100

Td(%) = [{T4-T3×(T2/T1)}/T1]×100(확산투과율)

Tt(%) = (T3/T1)×100(전체 광선 투과율)

(T1 : 입사광선, T2 : 전체 광선 투과광, T3 : 장치의 확산광, T4 : 확산투과광)

(24)스크래치 내성

적층막의 표면을 400∼600g의 범위의 하중을 걸고, 손톱으로 긁은 곳의 제거하기 쉬움을 눈으로 평가하고, 적층막이 제거되지 않는 것을 양호로 하였다.

(25)이물

100mm×100mm사이즈의 재생 적층 폴리에스테르 필름에 관하여, 편광장치를 사용한 것에 하얗게 보인 이불을 실체 현미경으로 관찰하고, 100㎛ 이상의 크기의 이물을 카운트하였다. 여기서는 1000cm²마다 환산한 이물의 개수를 이하의 기준으로 평가하고, " ○", "△"를 양호레벨로 하였다.

○: 이물수 15개 이하, △ : 이물수 16∼25개, ×: 이물수 26개 이상

(26)착색도

적층 폴리에스테르 필름을 블랭크(blank)필름으로 하고, 재생 폴리에스테르 필름을 동일한 기재 두께로 비교하여 착색의 정도를 이하의 3단계 평가하고, " ○", "△"를 양호레벨로 하였다.

○: 블랭크필름과 거의 다르지 않다. △ : 약간의 착색이 있다. ×: 착색이 현저하다.

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 설명하지만, 이들에 한정되지는 않는다.

실시예 1

평균입경 0.4㎛의 콜로이드실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드실리카를 0.005중량% 함유하는 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분하게 진공건조한 후, 압출기에 공급하여 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면 캐스팅 드럼으로 감아 붙여서 냉각고화시켰다. 이 미연신 필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연식 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 25℃적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 텐터의 예열존으로 도입하고, 90℃에서 건조 후, 계속해서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하여, 결정배향이 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재 PET 필름 두께가 50㎛, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1=50/50(고형분 중량비)이고, 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 2

실시예 1의 적층막 형성 도액으로, a1/b1=70/30(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 3

실시예 1의 적층막 형성 도액으로, a1/b2=50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 4

실시예 1의 적층막 형성 도액으로, a2/b5=50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 5

실시예 1의 적층막 형성 도액으로, a2/b6=50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 6

실시예 1의 적층막 형성 도액으로, a2/b7=50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 7

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분하게 진공건조한 후, 압출기에 공급하여 285℃로 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면 캐스팅드럼에 감아서 붙여 냉각고화시켰다. 이 미연신 필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 형태의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 텐터의 예열존으로 도입하고, 95℃에서 건조 후, 이어서, 연속적으로 110℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 백색적층 PET 필름을 얻었다. 이 때, 기재백색 PET필름의 두께가 50㎛, 광학농도가 1.5, 백색도가 85%, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 50/50(고형분 중량비)이고, 결과를 표 1에 나타낸다.

비교예 1

실시예 1의 적층막 형성 도액으로 a1/b3 = 50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

비교예 2

실시예 1의 적층막 형성 도액으로 a1/b4 = 50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

비교예 3

실시예 1의 적층막 형성 도액으로 a1/b2 = 50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

비교예 4

실시예 1의 적층막 형성 도액으로 a1만으로 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

비교예 5

실시예 1의 적층막 형성 도액으로 b1만으로 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 8

실시예 1의 적층막 형성 도액에 콜로이드실리카(입자경 0.3㎛)를(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 0.3중량%첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 9

실시예 1의 적층막 형성 도액에 콜로이드실리카(입자경 0.08㎛)를 (폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 3중량% 첨가한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 형태로 하여 적층 PET필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 10

평균입경 0.4㎛의 콜로이드실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드실리카를 0.005중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기로 공급하여 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하며, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아서 냉각고화시켜 미연신필름으로 하였다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하여 일축연신필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고 25℃의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신필름을 클립으로 고정하면서 예열존으로 도입하여 90℃에서 건조한 후, 계속해서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하며, 또한 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하여 결정배향이 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이때, 기재 PET필름 두께는 50㎛, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서, 사용한 적층막 형성 도액은, a1/b1=50/50(고형분 중량비) 및 c1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%(고형분 중량비), c3이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 구성되는 물분산액이었다. a1, b1, c1, c3의 조성에 대해서는 후술한다. 평가결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 11

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, a1/b1=70/30(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 12

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, a1/b2=50/50(고형분 중량비)으로 한 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 13

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기로 공급하여 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하며, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아서 냉각고화시켜 미연신필름으로 하였다. 이 미연신필름을 85℃로 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하여 일축연신필름으로 하였다. 이 필름에 공기중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신필름을 클립으로 고정하면서 예열존으로 도입하여 95℃에서 건조한 후, 계속해서 연속적으로 110℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하여 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 기재필름이 백색인 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이때, 기재 백색 PET필름의 두께는 50㎛, 광학농도 1.5, 백색도 85%, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서, 사용한 적층막 형성 도액은, a1/b1=50=50(고형분 중량비) 및 c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%(고형분 중량비), c3가 (폴리에 스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 구성된 물분산액이었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 14

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c2가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c3이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 15

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1.5중량%(고형분 중량비), c4가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 16

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 4중량%(고형분 중량비), c4가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 8중량%(고형분 중량비)로 하고, 적층막의 두께가 0.05㎛로 되도록 한 것 이외는 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 17

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계 에 대하여) 1중량%(고형분 중량비), c4가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 하고, 적층막의 두께가 0.25㎛로 되도록 한 것 이외는 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 18

실시예 11의 적층막 형성 도액에서, c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%(고형분 중량비), c3이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 하고, 적층막의 두께가 0.05㎛로 되도록 한 것 이외는 실시예 11과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 19

실시예 11의 적층막 형성 도액에서, c2가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c3가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 하고, 적층막의 두께가 0.05㎛로 되도록 한 것 이외는 실시예 11과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.

비교예 6

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, a1/b3=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. 본 발명의 조성을 벗어난 수지 b3을 사용한 본 비교예는 접착성이 떨어졌다.

비교예 7

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, a1/b4=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. 본 발명의 조성을 벗어난 수지 b4를 사용한 본 비교예는 접착성이 떨어졌다.

비교예 8

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, b1/b2=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 2종류 사용한 본 비교예는, 블로킹 내성이 떨어졌다.

비교예 9

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, a1만을 사용한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. Tg가 높은 수지만을 사용한 본 비교예는, 접착성이 떨어졌다.

비교예 10

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, b1만을 사용한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 사용한 본 비교예는, 블로킹 내성이 떨어졌다.

비교예 11

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c5가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%(고형분 중량비), c3이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. 입자(X)가 적층막 두께에 대하여 너무 큰 본 비교예는, 블로킹 내성이 떨어졌다.

비교예 12

실시예 10의 적층막 형성 도액에서, c1이 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1.5중량%(고형분 중량비), c6가 (폴리에스테르수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 10과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다. 입자(Y)가 적층막 두께에 대하여 너무 작은 본 비교예는, 블로킹 내성이 떨어졌다.

실시예 20

평균입경 0.4㎛의 콜로이드실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드실리카를 0.005중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기로 공급하여 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하며, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아서 냉각고화시켜 미연신필름으로 하였다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하여 일축연신필름으로 하였다. 이 필름에 공기중에서 코로나 방전처리를 실시하여 25℃의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신필름을 클립으로 고정하면서 예열존으로 도입하여 90℃에서 건조한 후, 계속해서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하여 결정배향이 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이때, 기재 PET필름 두께는 50㎛, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서 사용한 적층막 형성 도액은, a1/b1=50/50(고형분 중량비) 및 d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%로 구성되는 물분산액이었다. a1, b1, d1의 조성에 대해서는, 뒤에 기술한다. 평가결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.2로 양호하였다.

실시예 21

실시예 20의 적층막 형성 도액을, a1/b1=70/30(고형분 중량비) 및 d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%로 구성되는 물분산액으로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.1로 양호하였다.

실시예 22

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, a1/b2=50/50(고형분 중량비)으로 한 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.3으로 양호하였다.

실시예 23

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기로 공급하여 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하며, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아서 냉각고화시켜 미연신필름으로 하였다. 이 미연신필름을 85℃로 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하여 일축연신필름으로 하였다. 이 필름에 공기중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신필름을 클립으로 고정하면서 예열존으로 인도하고, 95℃에서 건조한 후, 계속해서 연속적으로 110℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하여 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 기재필름이 백색인 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이때, 기재 백색폴리에스테르 필름의 두께는 50㎛, 광학농도 1.5, 백색도 85%, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서 사용한 적층막 형성 도액은, a1/b1=50/50(고형분 중량비) 및 d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 구성되는 물분산액이었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 또한, 투명성은 백색 폴리에스테르 필름이기 때문에 평가를 행하지 않았다.

실시예 24

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d2가 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.3으로 양호하였다.

실시예 25

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 6중량%로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.1로 양호하였다.

실시예 26

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 0.5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.5로 양호하였다.

실시예 27

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 8중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.1로 양호하였다.

실시예 28

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 1중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.4로 양호하였다.

실시예 29

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c2가 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.3으로 양호하였다.

실시예 30

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c7이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 3중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.3으로 양호하였다.

실시예 31

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, d1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c3이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이때, 투명성은 연무값 1.5로 양호하였다.

비교예 13

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, a1/b3=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 본 발명의 조성을 벗어난 수지 b3를 사용한 본 비교예는, 투명성은 연무값 1.4로 양호하였지만, 접착성이 떨어졌다.

비교예 14

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, a1/b4=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. 본 발명의 조성을 벗어난 수지 b4를 사용한 본 비교예는, 투명성은 연무값 1.2로 양호하였지만, 접착성이 떨어졌다.

비교예 15

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, b1/b2=50/50(고형분 중량비)으로 한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 2종류 사용한 본 비교예는, 투명성은 연무값 1.6으로 약간 나쁘고, 블로킹 내성이 떨어졌다.

비교예 16

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, a1만을 사용한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. Tg가 높은 수지만을 사용한 본 비교예는, 투명성은 연무값 1.3으로 양호하였지만, 접착성이 떨어졌다.

비교예 17

실시예 20의 적층막 형성 도액에서, b1만을 사용한 것 이외는, 실시예 20과 동일하게 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 3에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 사용한 본 비교예는, 투명성은 연무값 1.6으로 약간 나쁘고, 블로킹 내성이 떨어졌다.

실시예 32

평균입경 0.4㎛의 콜로이드실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드실리카를 0.005중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아 붙여서 냉각고화시켜 미연신 필름으로 하였다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 25℃의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 90℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재 PET필름 두께는 50㎛, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서, 사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 50/50(고형분 중량비) 및 e1이(폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여)2중량%(고형분 중량비)로 구성되는 물분산액이었다. a1, b1, e1의 조성에 관해서는 후술한다. 평가결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 33

실시예 32의 적층막 형성 도액을 a1/b1 = 70/30(고형분 중량비) 및 e1이 (폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여)1중량%(고형분 중량비)로 구성되는 물분산액으로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 34

실시예 32의 적층막 형성 도액으로 a1/b2 = 50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 35

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중량%함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 표면캐스팅드럼에 감아 붙여서 냉각고화시켜 미연신 필름으로 하였다. 이 미연신 필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 형태의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 95℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 기재필름인 백색의 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재백색 PET필름 두께는 50㎛, 광학농도 1.5, 백색도 85%, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다.

여기서, 사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 50/50(고형분 중량비) 및 e1이(폴리에스테르 수지 a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%로 구성되는 물분산액이었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 36

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e2가(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 37

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 6중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 38

실시예 32의 적층막 형성 도액으로 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 0.5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다.

실시예 39

실시예 32의 적층막 형성 도액으로 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 8중량%로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다.

실시예 40

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)1중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 41

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c2가(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)2중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 42

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c7이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)3중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

실시예 43

실시예 32의 적층막 형성 도액에 e1이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여) 2중량%(고형분 중량비), c3이(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)5중량%(고형분 중량비)로 한 것 이외는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 이 때, 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않는 양호한 것이었다.

비교예 18

실시예 32의 적층막 형성 도액에 a1/b3 = 50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 본 발명의 조성을 벗어난 수지 b3을 사용한 본 비교예는 접착성이 떨어지고, 스크래치 내성은 적층막이 약간 제거되었다.

비교예 19

실시예 32의 적층막 형성 도액에 a1/b4 = 50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. 본 발명의 조성물 벗어난 수지 b4를 사용한 본 비교예는 접착성이 떨어지고, 스크래치 내성은 적층막이 약간 제거되었다.

비교예 20

실시예 32의 적층막 형성 도액에 b1/b2 = 50/50(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 32와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 2종류 사용한 본 비교예는 스크래치 내성은 적층막이 제거되지 않은 양호한 것이었으나, 블로킹 내성이 떨어졌다.

비교예 21

실시예 32의 적층막 형성 도액에 a1만 사용한 것 이외는 실시예 32과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. Tg가 높은 수지만을 사용한 본 비교예는 스크래치 내성은 적층막이 제거되는 않는 양호한 것이었으나, 접착성이 떨어졌다.

비교예 22

실시예 32의 적층막 형성 도액에 b1만 사용한 것 이외는 실시예 32과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 4에 나타낸다. Tg가 낮은 수지만을 사용한 본 비교예는 스크래치 내성은 적층막이 제거되는 않아서 양호한 것이었으나, 블로킹 내성이 떨어졌다.

실시예 44

평균입경 0.4㎛의 콜로이드 실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드 실리카를 0.005중량%함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분하게 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면 캐스팅드럼에 감아서 붙여서 냉각고화시켰다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 25℃의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 90℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향의 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재 PET필름 두께는 50㎛, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 40/60(고형분 중량비)이었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 45

실시예 44의 적층막 형성 도액에 a1/b2 = 40/60(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 46

실시예 44의 적층막 형성 도액에 a1/b2 = 70/30(고형분 중량비)로 한 것 이 외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 47

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분히 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면 캐스팅드럼에 감아 붙여서 냉각고화시켰다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 형태의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 95℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 110℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 백색 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재백색 PET필름 두께는 50㎛, 광학농도 1.5, 백색도 85%, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

비교예 23

실시예 44의 적층막 형성 도액에 a1/b3 = 40/60(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

비교예 24

실시예 44의 적층막 형성 도액에 a1/b4 = 40/60(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

비교예 25

실시예 44의 적층막 형성 도액에 b1/b2 = 40/60(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

비교예 26

실시예 44의 적층막 형성 도액에 a1만 사용한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

비교예 27

실시예 44의 적층막 형성 도액에 b1만 사용한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 48

실시예 44의 적층막 형성 도액에 콜로이드 실리카(입자경 0.3㎛)를 (폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)0.3중량% 첨가한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 49

실시예 44의 적층막 형성 도액에 콜로이드 실리카(입자경 0.08㎛)를 (폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)3중량% 첨가한 것 이외에는 실시예 44와 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 5에 나타낸다.

실시예 50

평균입경 0.4㎛의 콜로이드 실리카를 0.015중량%, 및 평균입경 1.5㎛의 콜로이드 실리카를 0.005중량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분하게 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아 붙여서 냉각고화시켰다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 25℃의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 90℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 100℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 225℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재 PET필름 두께가 50㎛, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 60/40(고형분 중량비)으로 구성되는 물분산액이다. 결과를 표 6에 나타낸다.

실시예 51

실시예 50의 적층막 형성 도액에 a1/b2 = 60/40(고형분 중량비)로서 한 것 이외는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

실시예 52

평균입경 0.2㎛의 이산화티탄을 14중량%, 및 평균입경 1㎛의 실리카를 0.5중 량% 함유하는 PET펠릿(극한점도 0.63dl/g)을 충분히 진공건조한 후, 압출기에 공급하여, 285℃에서 용융하고, T자형 구금으로부터 시트형상으로 압출하고, 정전인가 캐스트법을 사용하여 표면온도 25℃의 경면캐스팅드럼에 감아 붙여서 냉각고화시켰다. 이 미연신필름을 85℃에서 가열하여 길이방향으로 3.3배 연신하고, 일축연신 필름으로 하였다. 이 필름에 공기 중에서 코로나 방전처리를 실시하고, 그 처리면에 실시예 1과 동일한 형태의 적층막 형성 도액을 도포하였다. 도포된 일축연신 필름을 클립으로 고정하면서 예열존에 도입하고, 95℃에서 건조 후, 이어서 연속적으로 110℃의 가열존에서 폭방향으로 3.3배 연신하고, 또한, 210℃의 가열존에서 열처리를 실시하고, 결정배향이 완료된 적층막을 형성한 백색 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 이 때, 기재백색 PET필름 두께는 50㎛, 광학농도 1.5, 백색도 85%, 적층막의 두께가 0.08㎛이었다.

사용한 적층막 형성 도액은 a1/b1 = 60/40(고형분 중량비)로 구성된 물분산액이다. 결과를 표 6에 나타낸다.

비교예 28

실시예 50의 적층막 형성 도액으로 a1/b3 = 60/40(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

비교예 29

실시예 50의 적층막 형성 도액으로 a1/b4 = 60/40(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과 를 표 6에 나타낸다.

비교예 30

실시예 50의 적층막 형성 도액으로 b1/b2 = 60/40(고형분 중량비)로 한 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

비교예 31

실시예 50의 적층막 형성 도액으로 a1만 사용한 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

비교예 32

실시예 50의 적층막 형성 도액으로 b1만 사용한 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

실시예 53

실시예 50의 적층막 형성 도액에 콜로이드 실리카 c2를(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)0.3중량%(고형분 중량비)첨가시킨 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

실시예 54

실시예 50의 적층막 형성 도액에 콜로이드 실리카 c3을(폴리에스테르 수지a1과 b1의 합계에 대하여)3중량%(고형분 중량비)첨가시킨 것 이외에는 실시예 50과 동일한 형태로 하여 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 적층막의 두께는 0.08㎛이 었다. 결과를 표 6에 나타낸다.

실시예 55

실시예 1에서 얻은 적층 폴리에스테르 필름을 분쇄하여 압출기에 공급하고, 약 280℃에서 용융하여 펠릿화하였다. 얻어진 펠릿과 PET를 중량비로 20/80으로 혼합하고, 실시예 1과 동일한 형태로 용융제막하여 두께 50㎛의 재생 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.

여기서, 사용한 적층막 형성 도액은 a1/b2 = 80/20(고형분 중량비)로 구성되는 물분산액이고, 적층막의 두께는 0.08㎛이었다. 결과를 표 7에 나타낸다.

실시예 56

실시예 55에 있어서, 얻어진 펠릿과 PET를 중량비로 40/60으로 혼합한 것 이외는 실시예 55와 동일한 형태로 하여 재생 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 7에 나타낸다.

실시예 57

실시예 55에 있어서, 얻어진 펠릿과 PET를 중량비로 50/50으로 혼합한 것 이외는 실시예 55와 동일한 형태로 하여 재생 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 결과를 표 7에 나타낸다.

상기 각 실시예, 비교예에 있어서, 적층막 형성 등을 위해 사용된 수지나 입자 등은 이하와 같다.

a1 : 테레프탈산(88몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(12몰%), 에틸렌글리콜(95몰%), 디에틸렌글리콜(5몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 80℃)의 물분산체.

a2 : 테레프탈산(85몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(15몰%), 에틸렌글리콜(97몰%), 디에틸렌글리콜(3몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 78℃)의 물분산체.

b1 : 이소프탈산(93몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(7몰%), 에틸렌글리콜(10몰%), 디에틸렌글리콜(90몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 18℃)의 물분산체.

b2 : 이소프탈산(91몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(9몰%), 에틸렌글리콜(5몰%), 디에틸렌글리콜(80몰%), 시클로헥산디메탄올(15몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 38℃)의 물분산체.

b3 : 테레프탈산(25몰%), 이소프탈산(65몰%), 트리멜리트산(10몰%), 에틸렌글리콜 (50몰%), 네오펜틸글리콜(50몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 35℃)의 물분산체.

b4 : 테레프탈산(85몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(15몰%), 에틸렌글리콜(75몰%), 디에틸렌글리콜(20몰%), 폴리에틸렌글리콜(분자량 1000)(5몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 45℃)의 물분산체.

b5 : 테레프탈산(30몰%), 이소프탈산(60몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(10몰%), 에틸렌글리콜 (5몰%), 디에틸렌글리콜(80몰%), 시클로헥산디메탄올(15몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 40℃)의 물분산체.

b6 : 이소프탈산(91몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(9몰%), 에틸렌글리콜(5몰%), 디에틸렌글리콜(40몰%), 시클로헥산디메탄올(55몰%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 45℃)의 물분산체.

b7 : 테레프탈산(45몰%), 이소프탈산(45몰%), 5-나트륨술포이소프탈산(10몰%), 에틸렌글리콜(3몰%), 디에틸렌글리콜(80몰%), 시클로헥산디메탄올(17%)로부터 구성되는 폴리에스테르 수지(Tg 47℃)의 물분산체.

c1 : 콜로이드실리카(평균입자경 1㎛)의 물분산액.

c2 : 콜로이드실리카(평균입자경 0.3㎛)의 물분산액.

c3 : 콜로이드실리카(평균입자경 0.08㎛)의 물분산액.

c4 : 콜로이드실리카(평균입자경 0.05㎛)의 물분산액.

c5 : 가교아크릴 입자(평균입자경 5㎛)의 물분산액.

c6: 알루미나 표면처리 실리카(평균입자경 0.005㎛)의 물분산액.

c7 : 콜로이드실리카(평균입자경 0.15㎛)의 물분산액.

d1 : 메타크릴산메틸(85몰%), 아크릴산에틸(13몰%), 아크릴산(1몰%), N-메틸올아크릴아미드(1몰%)로 이루어지는 공중합체의 아크릴에멀젼 용액(Tg 80℃).

d2 : 메타크릴산메틸(50%), 아크릴산에틸(47몰%), 아크릴산(1몰%), N-메틸올아크릴아미드(1몰%), 아크릴로니트릴(1몰%)로 이루어지는 공중합체의 아크릴에멀젼 용액(Tg 35℃).

e1 : 카르나바 왁스(융점 약 80℃)의 물분산액.

e2 : 파라핀 왁스(융점 약 50℃)의 물분산액.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 각종 도료나 잉크와 접착성이 우수하고, 투명성, 스크래치 내성도 우수하다. 또한, 블로킹 내성이 양호하므로, 취급성이 우수하다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 많은 용도로 사용할 수 있고, 예컨대, 카드용, 라벨용, 사진, OHP, 감열전사나 잉크젯, 오프셋인쇄 등의 수용시트 기재, 하드코트(hard court)필름, 포장용, 자기기록 매체용 등으로 사용할 수 있다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름으로서 바람직하다. 잉크젯 인쇄방식을 사용하면, 잉크젯 인쇄 용도는 특히 한정되지 않고, 예컨대 OHP시트나 인화지 등의 각종 정보 기록매체나 대형 간판, 포스터, 전기식 조명 간판, 공정 원판 등의 산업분야 등을 들 수 있다.

또, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은 점착 라벨용 적층 폴리에스테르 필름으로서 바람직하고, 적층 폴리에스테르 필름의 적층막 위의 일부분에 인쇄층이 형성되고, 또, 인쇄층이 형성되어 있는 않는 쪽의 면에 층이 형성되고, 점착 라벨로서 사용할 수 있다.

Claims

폴리에스테르 필름의 적어도 한쪽 면에 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층막이 형성되고, 상기 2종류의 폴리에스테르가 유리 전이점이 60℃ 이상 100℃ 이하인 폴리에스테르 수지(A)와, 유리 전이점이 0℃ 이상 60℃ 이하인 폴리에스테르 수지(B)로 이루어지고, 상기 폴리에스테르 수지(B)가 산성분으로서 이소프탈산 65∼95몰%, 또는 디올성분으로서 디에틸렌글리콜 50∼95몰%를 함유하고, 또한 폴리에스테르 수지(A) 및 (B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속 염기 함유 디카르복실산 성분이 Sa〉Sb≥5몰% (Sa : 폴리에스테르 수지(A)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%), Sb : 폴리에스테르 수지(B)에 있어서의 전체 디카르복실산 성분 중의 술폰산 금속염기 함유 디카르복실산 성분량(몰%))를 만족시키는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 폴리에스테르 수지(A)가 전체 디카르복실산 성분 중 테레프탈산 성분이 70몰% 이상인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 폴리에스테르 수지(B)가 산성분으로서 이소프탈산 65∼95몰%, 및 디올성분으로서 디에틸렌글리콜 50∼95몰%를 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 상기 적층막은 입자를 함유하며, 상기 입자는 0.2≤r/d≤20(r : 입자의 평균 입자경(㎛), d :적층막 두께(㎛))을 만족하고, 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 고형분비로 0.05∼10중량% 함유되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 4항에 있어서, d가 적층막의 평균두께인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 적층막 중에 입자경이 다른 2종류의 입자를 함유하고, 상기 2종류의 입자가 2≤r_x/d≤20을 만족하는 입자(X)와 0.2≤r_Y/d≤4를 만족하는 입자(Y)(r_x : 입자(X)의 평균입자경(㎛), r_Y : 입자(Y)의 평균입자경(㎛), d : 적층막 두께(㎛))인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 적층막 중에 아크릴 수지가 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 상기 적층막은 아크릴 수지를 함유하며, 상기 아크릴 수지의 함유량이 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 0.5∼8중량%인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 적층막 중에 왁스성분이 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 상기 적층막은 왁스성분을 함유하며, 상기 왁스성분의 함유량이 유리 전이점이 다른 2종류의 폴리에스테르 수지의 합계에 대해, 0.5∼8중량%인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 적층막 위에 수용층이 형성되어 있으며, 인쇄용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 11항에 있어서, 잉크젯 인쇄용 적층 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 점착 라벨용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름
제 13항에 있어서, 적층막 위에 점착제층이 형성되는 것을 특징으로 하는 적 층 폴리에스테르 필름.
제 13항에 있어서, 적층막 위의 적어도 일부분에 인쇄층이 형성되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제 1항에 있어서, 기재 폴리에스테르 필름 중에 이소프탈산 성분 및 디에틸렌글리콜 성분 중 하나 이상을 포함하는 폴리에스테르 수지가 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.