KR100698371B1 - 드라이 필름 레지스트용 보호 필름 - Google Patents

드라이 필름 레지스트용 보호 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR100698371B1
KR100698371B1 KR1020060019205A KR20060019205A KR100698371B1 KR 100698371 B1 KR100698371 B1 KR 100698371B1 KR 1020060019205 A KR1020060019205 A KR 1020060019205A KR 20060019205 A KR20060019205 A KR 20060019205A KR 100698371 B1 KR100698371 B1 KR 100698371B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polyethylene
layer
polyethylene layer
protective film
film
Prior art date
Application number
KR1020060019205A
Other languages
English (en)
Inventor
차종원
권세봉
정종진
Original Assignee
(주)폴리웹
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)폴리웹 filed Critical (주)폴리웹
Priority to KR1020060019205A priority Critical patent/KR100698371B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100698371B1 publication Critical patent/KR100698371B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D5/00—Sheets united without binding to form pads or blocks
    • B42D5/04—Calendar blocks
    • B42D5/043—Supports for desk-type calendars or diaries
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D5/00—Sheets united without binding to form pads or blocks
    • B42D5/04—Calendar blocks
    • B42D5/042—Diaries; Memorandum calendars
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D5/00—Sheets united without binding to form pads or blocks
    • B42D5/04—Calendar blocks
    • B42D5/046—Suspension devices therefor

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 드라이 필름 레지스트용 보호 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 50㎛ 이상의 휘시 아이(fish-eye)가 6개/A4(210mm X 297mm) 이하인 겔-프리 제1폴리에틸렌층 및 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm) 초과 200개/A4(210mm X 297mm)이하인 제2폴리에틸렌층을 포함하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 보호 필름은 지지필름, 감광성 수지층 및 보호 필름으로 구성되는 드라이 필름 레지스트에 사용되는 것으로서 종래의 겔-프리 폴리에틸렌 보호 필름에 비해 제조 비용이 저렴하면서도 성능이 우수하며, 또한, 1회 사용 후 폐기하는 고가의 겔-프리 폴리에틸렌 보호 필름을 재활용하여 제조할 수 있어 경제적인 효과가 큰 장점을 가지고 있다.
드라이 필름 레지스트, DFR, 보호 필름, 폴리에틸렌

Description

드라이 필름 레지스트용 보호 필름{Protect film for dry film resist}
도 1은 드라이 필름 포토레지스트 적용 시 에어보이드 발생을 설명하는 설명도이고,
도 2는 본 발명의 제 1 태양에 따른 보호 필름 적층 구조를 나타낸 것이고,
도 3은 본 발명의 제 2 태양에 따른 보호 필름 적층 구조를 나타낸 것이다.
<도면 주요 부호에 대한 설명>
1 : 지지필름 2 : 감광성 수지층 3 : 보호필름
4 : 휘시 아이(fish-eye) 5 : 에어 보이드(air void) 6 : 기판
31 : 제1폴리에틸렌층 32 : 제2폴리에틸렌층 33:제3폴리에틸렌층
본 발명은 드라이 필름 포토레지스트용 보호 필름에 관한 것으로, 경제적이고 성능이 우수한 드라이 필름 포토레지스트용 보호 필름에 관한 것이다.
드라이 필름 포토레지스트는 드라이 필름 레지스트(Dry filim resist; DFR) 또는 감광성 필름이라고 하며, 반도체 집적회로 실장에 사용되는 리드프레임이나 프린트 배선 기판의 제조시에 에칭 레지스트(etching resist)로서 사용되는 감광층을 형성하기 위해 사용된다. 일반적인 드라이 필름 레지스트는 투명한 지지필름 상에 형성되는 감광성 수지 조성물을 도포, 건조하여 감광성 수지층을 형성하고, 상기 감광성 수지층 상에 접하여 보호 필름이 적층되는 구조로 되어 있다. 상기 감광성 수지층은 네가형 또는 포지형 감광성 수지 조성물로 형성되고, 이는 알칼리 수용액으로 현상하는 알칼리 현상 형과, 유기 용제에 의해 현상하는 유기 용제 현상형이 알려져 있다. 감광성 수지 조성물은 고체 상이라고 할 수는 있지만, 형상이 변화하지 않는 경질의 고체가 아니라 일정한 치수 변형 정도를 가지는 것이다.
드라이 필름 레지스트는 패턴을 형성하고자 하는 기판에 라미네이트(laminate) 시 보호 필름을 제거하면서, 감광성 수지층을 바탕 금속에 가열 압착한다. 따라서, 드라이 필름 레지스트는 액상 감광성 수지와 비교하여 설비 투자가 적으며, 금속 정밀 가공이 우수한 특징이 있어 계속적으로 적용 범위가 확대되고 있다.
일반적으로 드라이 필름 레지스트의 지지필름으로는 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate) 필름 등의 폴리에스테르 필름이 사용되고, 보호 필름으로는 PE(폴리에틸렌(polyethylene)) 필름 등의 폴리올레핀 필름이 사용된다. 상술한 바와 같이 보호 필름은 라미네이트 시 제거된다.
또한, 통상 보호 필름으로서 사용되는 폴리올레핀 필름은 원재료를 열융해하고, 혼련, 압출하고, 2축 연장 또는 캐스팅법에 의하여 제조된다. 일반적으로 폴리 올레핀 필름은 휘시 아이(fish eye) 또는 겔로 표현되는 미융해 및 열화물을 포함한다. 휘시아이의 크기는 일반적으로 직경이 30 내지 600㎛으로 필름 표면으로부터 2 내지 40㎛의 높이로 돌출한다. 따라서, 휘시아이의 돌출된 부분이 감광성 수지층에 전사되어 감광성 수지층에 홈을 만들고, 라미네이트 후의 기판 상에 도 1에 나타낸 바와 같은 에어 보이드(air void)(5)가 생기게 된다. 이러한 에어 보이드는 감광성 수지층의 두께와 관련이 있으며, 감광성 수지층의 두께가 얇을수록 더욱 발생하기 쉽다. 또한 상기 에어 보이드는 후속 공정인 노광, 현상, 에칭에 따라 배선 패턴을 형성함에 있어서 배선 단편(chip) 또는 단선(open curcuit)등 패턴 불량 발생의 원인이 된다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위해 일본 특개평11-153861에서는 장경 80㎛이상의 휘시아이 개수가 5개/m2 이하인 폴리올레핀 보호 필름을 사용하는 드라이 필름 레지스트를 개시하고 있으며, 일본 특개2003-342307에서는 장경 30㎛이상 0.20mm 이하의 휘시 아이 개수가 40개/10cm2 이하이고, 장경 0.20mm 이상의 휘시아이 개수가 1.0개/m2 이하인 폴리에틸렌 필름 및 이의 제조방법을 제시하고 있다.
상술한 바와 같이 종래의 기술에서 보호 필름이 함유하는 휘시 아이에 의한 에어보이드를 감소하는 방법은 휘시 아이의 밀도가 적은 폴리올레핀을 사용하거나 이를 효과적으로 제조하는 방법에 국한되어 있으나, 휘시 아이의 밀도가 적은 폴리에틸렌은 제조 방법이 어렵고 이로 인해 고가인 경우가 많으므로 이를 채용하는 드라이 필름 레지스트의 제조 비용이 높아지는 문제점이 있다. 그러므로 이러한 문제 점을 개선하기 위해 경제적이면서도 성능이 우수한 드라이 필름 레지스트용 보호 필름에 대한 요구가 증대되고 있는 실정이다.
따라서, 본 발명의 목적은 경제적이면서도 성능이 우수한 드라이 필름 레지스트용 보호 필름을 제공하는 것이고 보다 구체적으로는 종래의 보호 필름인 고가의 폴리에틸렌 필름을 대체하는 적층 구조의 폴리에틸렌 보호 필름을 제공하는 것이다.
즉, 종래의 기술에서는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름으로 겔-프리 폴리에틸렌 필름을 사용하나, 고가의 겔-프리 폴리에틸렌 필름을 사용하기 때문에 제조 비용이 지나치게 증가하는 문제점이 있다. 따라서, 한번 사용한 겔-프리 폴리에틸렌 필름을 재사용하거나 비용이 저렴한 일반 폴리에틸렌 필름을 겔-프리 폴리에틸렌 필름과 적층함으로써 비용을 절감할 수 있는 새로운 구조의 드라이 필름 레지스트(DFR)용 보호 필름을 개발하고자 하는 것이다.
본 발명자들은 에어보이드를 발생시키는 것으로 알려진 휘시아이의 존재 밀도가 매우 낮은 고가의 폴리에틸렌 보호 필름을 적층 구조의 폴리에틸렌 필름 즉, 휘시아이 개수가 서로 다른 2개의 폴리에틸렌층을 포함하는 폴리에틸렌 필름으로 대체함으로써 에어보이드 발생을 억제하면서도 제조 비용이 저렴한 폴리에틸렌 보호 필름을 제공하게 되었다.
본 발명은 경제적이면서도 성능이 우수한 드라이 필름 레지스트용 보호 필름 및 이를 채용한 드라이 필름 레지스트에 관한 것으로, 상기 보호 필름은 휘시아이 개수가 서로 다른 2개의 폴리에틸렌층을 포함하는 적층 구조의 폴리에틸렌 필름인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 제 1태양의 보호 필름은 휘시아이 개수가 적은 겔-프리 제1폴리에틸렌 층 및 그 상부에 휘시아이 개수가 상대적으로 많고 저렴한 제2폴리에틸렌층을 적층하는 2층의 적층 구조를 갖는 것을 특징으로 하며, 드라이 필름 레지스트에 적층할 때 상기 제1 폴리에틸렌 층이 드라이 필름레지스트에 접하도록 적층된다.
또한 본 발명에 따른 제 2태양의 보호 필름은 휘시아이 개수가 낮은 제1폴리에틸렌 층 및 그 상부에 휘시아이 개수가 상대적으로 높고 저렴한 제2폴리에틸렌층을 적층하고 제1폴리에틸렌 층과 동등한 수준의 휘시아이 개수를 갖는 겔-프리 제3폴리에틸렌층을 제2폴리에틸렌 층의 상부에 접하도록 더 형성하는 3층의 적층 구조를 갖는다.
또한, 본 발명에 따른 제 3태양의 보호 필름은 제 1태양의 제2폴리에틸렌층 상부에 대전방지제를 함유하는 폴리에틸렌층을 더 적층하는 구조를 갖는다.
또한, 본 발명에 따른 제 4 태양의 보호 필름은 제 2태양의 제1폴리에틸렌 층 또는 제 3폴리에틸렌층 중 감광성 수지층과 접촉하지 않는 층 상부에 대전방지제를 함유하는 폴리에틸렌층을 더 적층하는 구조를 갖는다.
상기 제 3 태양 및 제 4 태양에 따른 보호 필름에 포함되는 대전방지층은 대전 방지제로 4급 암모늄염을 포함하는 폴리에틸렌층이며, 폴리에틸렌 100중량부에 대하여 0.1 내지 3중량부로 사용한다.
본 발명에 따른 보호 필름은 대전 방지층을 가짐으로써 드라이필름레지스트(DFR)에 보호 필름을 적층하거나 또는 이를 필링(PEELING)하면서 기판에 라미네이트하는 공정에서 먼지 등의 이물질의 부착이나 흡착을 방지하여 드라이필름 레지스트를 이용하는 패턴 형성 공정시 패턴 불량 발생을 감소시키고 미세 패턴 형성에 더욱 유리한 장점을 가지게 된다.
본 발명에서 휘시 아이의 개수가 낮은 제1폴리에틸렌층 및 제3 폴리에틸렌층은 장경 50㎛ 이상의 휘시 아이(fish-eye)가 6개/A4(210mm X 297mm) 이하인 것이고, 상대적으로 휘시 아이 개수가 많은 제2 폴리에틸렌층은 장경 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm) 초과 200개/A4(210mm X 297mm)이하인 것을 특징으로 하며 상기 제1폴리에틸렌층 또는 제3 폴리에틸렌층이 감광성 수지층과 접하도록 적층하여 감광성 수지층을 보호하는 기능을 한다.
본 발명에서 휘시아이는 본 발명의 기술 분야에서 통상적으로 사용하는 의미로 사용되었으며, 통상적인 의미는 폴리에틸렌 필름 원료물질의 고분자 중합과정 및 열융해 과정 등 폴리에틸렌 중합체 제조 및 가공 과정 전체에 걸쳐서 발생할 수 있는 열화물과 고융점의 물질인 겔(gel)을 의미한다. 본 발명에서 휘시 아이는 폴리에틸렌 필름에서 관찰되는 광학적 불균일 영역을 의미하는 것으로 육안 검사 또는 현미경을 이용하는 방법으로 측정 가능하다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 또한, 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
본 발명에 따른 제 1 태양에 의하면 드라이 필름 레지스트용 보호 필름은 도 2에 나타낸 것과 같은 2개의 층으로 이루어진 것일 수 있다.
도 2를 참고하면, 제1폴리에틸렌층(31) 상에 제2폴리에틸렌층(32)이 적층되어 있는 적층 구조의 보호 필름이 예시되어 있다. 제1폴리에틸렌층은 장경 50㎛ 이상의 휘시아이 개수가 6개/A4(210mm X 297mm) 이하인 폴리에틸렌으로부터 형성된 것이고, 상대적으로 휘시 아이 밀도가 높은 제2 폴리에틸렌층은 장경 50㎛ 이상의 휘시아이 개수가 6개/A4(210mm X 297mm) 초과 200개/A4(210mm X 297mm)이하인 폴리에틸렌으로부터 형성된 것이다. 또한 제2폴리에틸렌 층은 사용했던 보호 필름을 재생하여 제조할 수도 있다.
본 발명에서 휘시 아이의 개수는 간단한 클린룸(Federal Standard 209D의 클래스(class) 10000)안에서 폴리에틸렌 필름을 25 내지 35㎛의 두께로 가공한 후 A4 크기(210mm X 297mm) 안에 존재하는 휘시아이를 육안으로 검사하여 개수를 측정하거나 광학현미경을 이용하여 검사하였고, 3회 이상 측정하여 평균 개수를 계산한 것이다.
상기 제1폴리에틸렌 층에 대한 제2폴리에틸렌 층의 휘시아이 개수 비(R)는 1 < R < 200 인 것이 바람직한데, 상기 개수 비(R)가 1 이하인 경우에는 제 2폴리에틸렌 층의 휘시 아이 개수가 제1 폴리에틸렌 층과 동등 이상의 높은 품질을 나타내어 경제적이지 못하고, 상기 개수 비가 200이상인 경우에는 제2폴레에틸렌층의 휘시아이 밀도가 너무 높아 제2폴리에틸렌층에 형성되는 휘시 아이가 하부 층인 제1폴리에틸렌층에 영향을 주고 이로 인해 하부 감광성 수지층에 함몰을 유발하여 이로 인해 기판에 라미네이트 할 경우 에어보이드가 발생할 확률이 높아지기 때문에 불리하다.
또한, 제1폴리에틸렌 층과 제2폴리에틸렌 층의 두께의 비도 중요한데 이는 경제성을 고려하여 제1폴리에틸렌층을 지나치게 얇게할 경우 제2 폴리에틸렌 층에 존재하는 휘시 아이에 의해 제1 폴리에틸렌 층 하부의 감광성 수지 층에 영향을 줄 수 있고, 또한 제1폴리에틸렌 층을 너무 두껍게 할 경우에는 경제성이 현저히 떨어지기 때문이다. 따라서, 경제적이면서도 휘시 아이에 의한 불량 유발을 억제할 수 있는 정도의 두께로 조절하는 것이 필요하며, 제1폴리에틸렌 층과 제2폴리에틸렌 층의 두께의 비는 1 : 0.5 ~ 5인 것이 바람직하고, 보다 좋게는 1 : 1 내지 2 이다.
드라이 필름 레지스트용 보호 필름의 두께는 5 내지 50㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내지 40㎛ 이다. 보호 필름의 두께가 5 ㎛미만인 경우는 제조하기 어렵고, 상기 두께가 50㎛이상인 경우는 가격이 높아져서 경제적이지 못 하다.
본 발명에 따른 제 2 태양에 의하면 드라이 필름 레지스트용 보호 필름은 도 3에 나타낸 것과 같은 3개의 층으로 이루어진 것이다.
도3을 참조하면 제3 폴리에틸렌 층이 제2폴리에틸렌층 상부에 접하여 적층되어 있다. 제3 폴리에틸렌층은 제1폴리에틸렌 층과 동일한 것이거나 제1폴리에틸렌 층 수준의 휘시아이 개수를 갖는 층인 것이 바람직하다. 도 3과 같은 구조의 보호 필름은 제3폴리에틸렌층 또는 제1폴리에틸렌층이 감광성 수지에 접하여 드라이 필름 레지스트의 보호 필름을 형성할 수 있으므로 보호 필름층의 상하의 구별이 필요없이 감광성수지층에 적층하여 사용할 수 있어 제1 태양에 따른 보호 필름에서 상하의 구별이 잘못되어 발생할 수 있는 공정 불량을 방지할 수 있는 장점이 있다.
본 발명의 제 1태양에 따른 보호 필름을 제조하는 방법은 제1압출기에서 제1폴리에틸렌 층을 형성하는 재료를 용융하여 압출하며, 제2압출기에서 제2폴리에틸렌 층을 형성하는 재료를 용융하여 압출하고, 상기 압출기들에서 압출되는 필름들을 다이스에서 복합시켜 2층 구조의 보호필름을 형성한 후, 냉각롤 및 가이드롤을 거쳐서 와인더에 권취되어 제품을 제조하게 된다.
본 발명의 제 2 태양에 따른 보호 필름은 상기 제1 태양에 따른 보호 필름을 제조하는 방법에서 제3폴리에틸렌 층을 형성하는 재료를 용융하여 압출하는 제3압출기를 더 사용하여 3층의 적층 구조를 갖는 보호 필름을 형성한다.
또한, 본 발명에 따른 제 3태양의 보호 필름은 제 1태양의 제2폴리에틸렌층 상부에 대전방지제를 함유하는 폴리에틸렌층을 더 적층하는 구조를 갖는다.
또한, 본 발명에 따른 제 4 태양의 보호 필름은 제 2태양의 제1폴리에틸렌 층 또는 제 3폴리에틸렌층 중 감광성 수지층과 접촉하지 않는 층 상부에 대전방지제를 함유하는 폴리에틸렌층을 더 적층하는 구조를 갖는다.
상기 제 3 태양 및 제 4 태양에 따른 보호 필름에 포함되는 대전방지층은 대전 방지제로 4급 암모늄염을 포함하는 폴리에틸렌층이며, 폴리에틸렌 100중량부에 대하여 0.1 내지 3중량부로 사용한다. 상기 대전 방지제인 4급 암모늄염의 대표적인 예로는 부틸옥시에틸 하이드록시에틸 오르토데실옥시 암모늄염, 비스하이드록시데실프로필 암모늄염, 하이드록시부틸 도데실옥시부틸 에틸암모늄염 등이 포함되나 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 대전방지제층에 사용하는 폴리에틸렌은 제 3태양에서는 제1태양의 제2폴리에틸렌층에 사용하는 폴리에틸렌과 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하고, 제 4태양에서는 제1폴리에틸렌층 또는 제3폴리에틸렌층에 사용하는 폴리에틸렌을 사용하는 것이 바람직하다. 대전 방지층의 두께는 5 내지 15㎛ 정도가 바람직하고 보호 필름의 두께가 5 ㎛미만인 경우는 제조하기 어렵고, 상기 두께가 15㎛이상인 경우는 가격이 높아져서 경제적이지 못하다. 또한 상기 대전방지층에 함유되는 대전방지제는 폴리에틸렌 100중량부에 대하여 0.1 내지 3중량부 인 것이 바람직한데, 이는 0.1 중량부 미만일 경우 대전방지특성이 미미하며, 상기 함량이 3중량부를 초과할 경우에는 4급 암모늄염이 입자화되어 하부 폴리에틸렌층에 영향을 줄 수 있기 때문이다.
본 발명은 상술한 바와 같은 보호 필름을 감광성 수지층 상에 적층한 드라이 필름 레지스트를 제공한다.
드라이 필름 레지스트는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등과 같은 폴리에스테르 필름이나 폴리프로필렌(PP) 필름을 지지필름으로 사용하고 상기 지지필름상에 감광성 수지조성물을 도포하고, 건조하여 감광성 수지층을 형성하며, 감광성 수지층 상에 상기의 본 발명에 따른 보호 필름을 적층하여 형성한다. 상기 지지필름의 두께는 특별히 한정할 필요는 없으나, 1 내지 30㎛ 범위에서 선택된다.
상기 감광성 수지 조성물은 종래 공지의 것을 사용할 수 있으며, 아크릴계 폴리머, 분자내 적어도 1개의 광중합이 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머 및 광중합개시제를 함유하는 감광성 수지 조성물이 예시될 수 있으며, 대한민국 등록특허공보 140055호에 개시된 감광성 수지 조성물을 사용할 수 있다. 감광성 수지 층의 두께는 1 내지 30㎛ 정도의 범위가 바람직한데, 상기 두께가 1㎛ 미만으로 너무 얇은 경우 드라이 필름 레지스트를 이용한 패턴을 형성하는 에칭 공정에 의해 손실이 발생하여 패턴 불량을 유발할 수 있고, 보호 필름의 휘시아이에 의한 에어보이드 발생이 더 잘 일어날 수 있는 문제점이 있으며, 상기 두께가 30㎛를 초과할 경우 패턴 해상도가 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.
본 발명에 따른 드라이필름 레지스트(DFR)을 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 방법은 본 발명에 따른 보호 필름을 박리하면서 드라이 필름 레지스트의 감광성 수지층이 기판에 밀착하는 라미네이트 공정, 노광 및 현상 공정, 에칭 공정을 포함하는 공지의 방법을 사용한다. 본 발명에 따른 드라이필름 레지스트용 보호 필 름을 사용한 경우 종래의 고가의 겔-프리 폴리에틸렌 보호 필름과 동등한 수준의 미세 패턴 형성이 가능하였다.
이하 본 발명을 실시예를 들어 더욱 상세히 설명하나, 하기 실시예는 본 발명의 예시에 불과한 것으로서 본 발명의 특허 청구 범위가 이에 따라 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
제1폴리에틸렌 층은 선형 저밀도 폴리에틸렌으로 MI(2160g, 190℃, 10min)가 2.4이고 비중이 0.92 g/cm3, Tg가 93℃인 삼성토탈사의 4141C를 제1압출기에서 110℃로 용융, 압출하고, 제2폴리에틸렌 층은 MI(2160g, 190℃, 10min)가 3이고, 비중이 0.92 g/cm3, Tg가 87℃인 삼성토탈사의 PE 510L을 제2압출기에서 110℃로 용융, 압출하며 다이스에서 2층 구조의 적층필름상으로 제조하였으며, 제1폴리에틸렌층의 두께는 10㎛, 제2폴리에틸렌층의 두께는 13㎛였다.
휘시 아이 개수는 상기 제1폴리에틸렌 층에 사용한 삼성토탈사의 4141C 및 상기 제2폴리에틸렌 층에 사용한 삼성토탈사의 PE 510L을 용융, 압출하여 30㎛ 두께의 필름을 형성한 후 A4 크기(210mm X 297 mm)의 3개 샘플에 대해 광학 현미경으로 검사하여 측정한 개수를 평균하여 계산하였으며, 제1폴리에틸렌 층은 휘시 아이 개수가 5 개이고, 제2폴리에틸렌 층의 휘시 아이 개수는 115 개였다.
[실시예 2]
실시예 1에서와 같이 진행하되, 제1폴리에틸렌 층에 사용한 재료 및 조건을 동일하게 하여 제3압출기에서 용융, 압출하는 제3폴리에틸렌층을 제2폴리에틸렌 층의 상부에 적층하여 제1폴리에틸렌 층, 제2폴리에틸렌 층 및 제3 폴리에틸렌 층의 두께가 각각 9㎛, 10㎛, 8㎛인 3층의 적층 구조를 가지는 보호 필름을 제조하였다.
[실시예 3]
실시예 1에서와 같이 제1폴리에틸렌층 및 제2폴리에틸렌층을 형성하되, 제2폴리에틸렌 층 상부에 대전방지층을 가지는 보호필름을 제조하였다.
대전방지층은 제4압출기에서 제2폴리에틸렌층에서 사용한 삼성토탈사의 PE 510L 100중량부에 대하여 히드록시부틸 도데실옥시부틸 에틸암모늄 메틸설페이트 1.5 중량부로 혼합, 용융, 압출하여 제2폴리에틸렌층의 상부에 8㎛의 두께로 적층이 되도록 하였다.
[실시예 4]
16㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 상에 대한민국 등록특허공보 140055호의 실시예1의 아크릴계 폴리머 감광성 수지를 도포하고, 120℃에서 3분간 건조하여 20㎛의 감광성 수지층을 형성하고 상기 감광성 수지층 상에 실시예 2의 보호 필 름을 감광성 수지층 상에 접하도록 적층하여 드라이 필름 레지스트를 제조하였다.
상기 드라이 필름 레지스트에서 보호 필름을 박리하면서 동(Cu) 도금된 기판에 라미네이트 한 후, 최소 선폭 20㎛의 패턴 마스크를 사용하여 통상적인 노광, 현상 및 에칭하여 동 도금된 기판에 패턴을 형성하였다. 형성된 패턴을 현미경으로 관찰하여 패턴 불량 발생 여부를 확인한 결과 최소 선폭 20㎛의 미세 패턴이 제대로 형성되는 것을 확인하였다.
본 발명에 따른 보호 필름은 지지필름, 감광성 수지층 및 보호 필름으로 구성되는 드라이 필름 레지스트에 사용되는 것으로서 종래의 겔-프리 폴리에틸렌 보호 필름에 비해 제조 비용이 저렴하면서도 성능이 우수하며, 또한, 1회 사용 후 폐기하는 고가의 겔-프리 폴리에틸렌 보호 필름을 재활용하여 제조할 수 있어 경제적인 효과가 큰 장점을 가지고 있다.

Claims (9)

  1. 50㎛ 이상의 휘시 아이(fish-eye)가 6개/A4(210mm X 297mm) 이하인 겔-프리 제1폴리에틸렌층 및 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm) 초과 200개/A4(210mm X 297mm)이하인 제2폴리에틸렌층을 포함하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1폴리에틸렌층이 드라이 필름 레지스트의 감광성 수지층 상에 접하여 적층되는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  3. 제 2항에 있어서,
    제1폴리에틸렌 층과 제2폴리에틸렌 층의 휘시아이 개수의 비(R)가 1 < R < 200 인 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  4. 제 3항에 있어서,
    제1폴리에틸렌 층과 제2폴리에틸렌 층의 두께의 비가 1 : 0.5 ~ 5 인 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  5. 제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2폴리에틸렌 층 상부에 접하여 적층되고, 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm)인 겔-프리 제3폴리에틸렌 층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  6. 제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2폴리에틸렌 층 상부에, 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm) 초과 200개/A4(210mm X 297mm)이하인 폴리에틸렌 100중량부 및 대전방지제 0.1 내지 3중량부로 이루어지는 대전방지층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 제1폴리에틸렌층 또는 제3폴리에틸렌층 중 감광성수지층에 접착되지 않는 폴리에틸렌층 상부에, 50㎛ 이상의 휘시 아이가 6개/A4(210mm X 297mm)이하인 겔-프리 폴리에틸렌 100중량부 및 대전방지제 0.1 내지 3중량부로 이루어지는 대전 방지층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 드라이 필름 레지스트용 보호 필름.
  8. 제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항의 보호 필름을 포함하는 드라이 필름 레지스트.
  9. 제 5 항의 보호 필름을 포함하는 드라이 필름 레지스트.
KR1020060019205A 2006-02-28 2006-02-28 드라이 필름 레지스트용 보호 필름 KR100698371B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060019205A KR100698371B1 (ko) 2006-02-28 2006-02-28 드라이 필름 레지스트용 보호 필름

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060019205A KR100698371B1 (ko) 2006-02-28 2006-02-28 드라이 필름 레지스트용 보호 필름

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100698371B1 true KR100698371B1 (ko) 2007-03-23

Family

ID=41564032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060019205A KR100698371B1 (ko) 2006-02-28 2006-02-28 드라이 필름 레지스트용 보호 필름

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100698371B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009084929A2 (en) * 2007-12-31 2009-07-09 Kolon Industries, Inc. A multilayer film for dry film resist
CN101911843B (zh) * 2007-12-31 2012-09-05 可隆工业株式会社 干膜抗蚀剂的多层膜
KR20150089253A (ko) * 2014-01-27 2015-08-05 삼성전기주식회사 드라이 필름 포토레지스트
CN111806023A (zh) * 2020-06-23 2020-10-23 江门市华龙膜材股份有限公司 一种用于感光干膜的聚乙烯保护膜及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11153861A (ja) 1997-09-19 1999-06-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性フィルム
JP2003342307A (ja) 2003-04-10 2003-12-03 Japan Polyolefins Co Ltd プロテクトフィルムおよびその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11153861A (ja) 1997-09-19 1999-06-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性フィルム
JP2003342307A (ja) 2003-04-10 2003-12-03 Japan Polyolefins Co Ltd プロテクトフィルムおよびその製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009084929A2 (en) * 2007-12-31 2009-07-09 Kolon Industries, Inc. A multilayer film for dry film resist
WO2009084929A3 (en) * 2007-12-31 2009-08-20 Kolon Inc A multilayer film for dry film resist
CN101911843B (zh) * 2007-12-31 2012-09-05 可隆工业株式会社 干膜抗蚀剂的多层膜
KR20150089253A (ko) * 2014-01-27 2015-08-05 삼성전기주식회사 드라이 필름 포토레지스트
KR102194713B1 (ko) 2014-01-27 2020-12-23 삼성전기주식회사 드라이 필름 포토레지스트
CN111806023A (zh) * 2020-06-23 2020-10-23 江门市华龙膜材股份有限公司 一种用于感光干膜的聚乙烯保护膜及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102157058B1 (ko) 이형용 2축 배향 폴리에스테르 필름
KR100698371B1 (ko) 드라이 필름 레지스트용 보호 필름
JP6432283B2 (ja) ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム
JP6957856B2 (ja) ドライフィルムレジスト用ポリエステルフィルム
JP4000544B2 (ja) 感光性版用フォトレジストカバーフイルム
JP2018065250A (ja) ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルムおよびその製造方法
JP2007211073A (ja) 離型用ポリエステルフィルム
KR100919965B1 (ko) 적층 필름
EP0823660B1 (en) Photoresist layer supporting polyester film and photoresist film laminate
JP3920094B2 (ja) カバーレスドライフィルムフォトレジスト用積層フィルム
CN111699212B (zh) 干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜
JP2003345000A (ja) フォトレジスト用積層フィルム
JP2006028440A (ja) ドライフィルムレジスト支持体用二軸配向ポリエステルフィルム
JP2018100391A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよびその製造方法
KR100287237B1 (ko) 포토레지스트층지지체필름및포토레지스트필름적층체
JP2004115566A (ja) ポリエステルフィルム
KR101376477B1 (ko) 다층 필름 및 이를 이용한 드라이 필름 레지스트
JP2007211072A (ja) 離型用ポリエステルフィルム
JP2002341546A (ja) フォトレジスト用二軸配向積層ポリエステルフィルム
JP2021059031A (ja) ドライフィルムレジスト基材用フィルム
JP3643441B2 (ja) 複合化離型フィルム
TW202415535A (zh) 乾膜阻劑支持體用雙軸配向聚酯薄膜
JP2024047656A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルムおよびその製造方法
JPH09302114A (ja) ポリエステルフイルム
JP2024086625A (ja) 二軸配向ポリエステルフィルム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130315

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140317

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150313

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee