KR100587781B1 - 지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법 - Google Patents

지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 얼라이먼트 장치에 관한 것으로, 상기 얼라이먼트 장치는 (1) 스테이지상에 지지된 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔; (2) 상기 기판의 엣지에 접촉하고 상기 제 1 이동경로와 소정 각도를 이루며 교차하는 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔; (3) 상기 제 1 및 제 2 푸셔가 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임; (4) 상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재; 및 (5) 상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재를 포함한다. 다른 특징이 제공된다.

Description

지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법 {METHODS AND APPARATUS FOR POSITIONING A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE}
도 1은 본 발명에 따른 기판 교정시스템의 예시적 실시예를 개략적으로 도시한 평면도이고,
도 2a는 도 1의 푸싱장치(pushing device)중 하나를 개략적으로 도시한 평면도로서, 상기 푸싱장치의 푸셔(pusher)가 푸싱장치의 프레임의 허브부로부터 후퇴된 상태를 도시한 도면이며,
도 2b는 도 1의 푸싱장치중 하나를 개략적으로 도시한 평면도로서, 상기 푸싱장치의 푸셔가, 지지 스테이지에 대하여 기판이 교정되기에 앞서, 기판의 엣지와 접촉된 상태를 도시한 도면이며,
도 2c는 도 1의 푸싱장치중 하나를 개략적으로 도시한 평면도로서, 상기 기판이 지지 스테이지에 대하여 교정된 상태를 도시한 도면이고,
도 3 및 도 4는 각각 도 1 및 도 2a 내지 도 2c의 푸싱장치의 예시적 실시예를 포함하는 푸싱장치의 분해 조립 사시도 및 단면도이다.
※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※
101: 기판 교정 시스템 103: 지지 스테이지
105: 기판 107: 엣지
109: 푸싱 장치 111: 프레임
113a: 제 1 푸셔 지지체 113b: 제 2 푸셔 지지체
115a: 제 1 이동경로 115b: 제 2 이동경로
117a: 제 1 푸셔 117b: 제 2 푸셔
119: 허브부 121: 교차점
123: 가이드 샤프트 125: 스톱 플레이트
127: 돌출부
본 출원은 2003년 2월 20일자로 출원된 미국 예비특허출원 제60/448,855호를 우선권 주장하며, 그 전체가 본 명세서에 참조되었다.
관련출원에 대한 상호참조
본 출원은 계류중인 하기의 미국 예비특허출원과 관련된다.
"지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법"이란 명칭으로 2003년 2월 20일자에 출원된 미국 예비특허출원 제60/448,821호(대리인 관리번호 제7956/L호); 및
"지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법"이란 명칭으로 2003년 2월 20일자에 출원된 미국 예비특허출원 제60/448,972호(대리인 관리번호 제7957/L호).
각각의 상기 예비특허출원은 그 전체가 본 명세서에 참조되었다.
본 발명은 일반적으로 기판 처리에 관한 것으로, 특히, 지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정에 관한 것이다.
평판 디스플레이의 제조시, 처리 및/또는 실험을 위하여, 유리 기판이 지지 스테이지에 위치될 수 있다. 통상적인 기판 처리에는 리소그래피, 증착, 에칭, 어닐링 등이 포함될 수 있으며, 통상적인 기판 실험에는 기판상에 형성된 박막 트랜지스터의 작동 확인, 전자빔 검사, 결함 검색 등이 포함될 수 있다.
처리 및/또는 실험을 위한 장치 및/또는 기판의 위치를 정확하게 확인하고, 및/또는 장치/위치의 검색 시간을 줄이기 위하여, 지지 스테이지에 대한 기판의 위치가 결정되어야만 한다. 따라서, 지지 스테이지에 대한 기판의 위치를 신속하고 정확하게 결정하는 개선된 장치 및 방법이 바람직하다.
본 발명의 제 1 특징에서, 지지 스테이지상에 지지된 기판을 측방향으로 가압하여 상기 기판이 지지 스테이지에 대해 슬라이드하도록 하는 얼라이먼트 장치가 제공된다. 상기 얼라이먼트 장치는 (1) 상기 지지 스테이지상에 지지된 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔; (2) 상기 기판의 엣지에 접촉하고 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔 - 상기 제 2 이동경로는 제 1 이동경로와 소정 각도를 이루며 경로 교차점에서 제 1 이동경로와 교차함 - ; (3) 상기 제 1 및 제 2 푸셔가 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 지지 스테이지상에 지지된 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임; (4) 상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재; 및 (5) 상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재를 포함한다.
본 발명의 제 2 특징에서, 지지 스테이션 주변에 이격 배치된 다수의 얼라이먼트 장치를 포함하는 기판 교정 시스템이 제공된다. 상기 다수의 얼라이먼트 장치는 각각, (1) 상기 지지 스테이지상에 지지된 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔; (2) 상기 기판의 엣지에 접촉하고 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔 - 상기 제 2 이동경로는 제 1 이동경로와 소정 각도를 이루며 경로 교차점에서 제 1 이동경로와 교차함 - ; (3) 상기 제 1 및 제 2 푸셔가 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 지지 스테이지상에 지지된 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임; (4) 상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재, 및 (5) 상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재를 포함한다. 본 발명의 여타 특징에 따른 장치 및 방법에 의한 수많은 다른 특징이 제공된다.
본 발명의 다른 특징과 구성이 예시적인 실시예에 대한 하기의 상세한 설명, 첨부된 청구범위 및 도면으로부터 보다 더 명료해질 것이다.
예를 들어, 평판 디스플레이 및 다른 애플리케이션에 사용되는 유리 기판을 제조하기 위한 통상의 방법은 기판을 다양한 크기로 제조할 수 있다. 예를 들어, 1m×1.2m의 공칭 폭과 길이를 가진 유리 기판은 면당 ±0.5㎜ 또는 그 이상의 편차를 가질 수 있다.
유리 기판 크기에서 이러한 편차는 장치 처리 및/또는 실험과정에서 문제를 야기할 수 있다. 예를 들어, 리소그래픽 시스템은 마스크 얼라이먼트 과정 동안 기판 표면의 등록마크를 검색하기 위하여 하나 이상의 전자빔(e-beam)에 의존할 수 있다. 예를 들어, 특정 등록마크를 찾기 위하여, 전자빔이 스캔할 것으로 예측되는 기판 표면적이 최소화될 때, 전자빔은 최고의 기능을 발휘하게 된다. 그러나, 전술한 바와 같은 기판 크기의 편차는 등록마크의 위치를 찾기 위해 전자빔이 스캔하여야 하는 면적을 증가시키게 된다. 전자빔 스캔 면적의 증가는 등록마크의 위치를 찾는데 필요한 시간을 증가시키게 된다. 적당한 얼라이먼트가 수행될 때까지 기판 표면에 대한 마스크 인쇄가 지연되기 때문에, 더 긴 스캔 시간은 리소그래픽 프로세스의 효율에 직접적으로 영향을 미친다. 또한, 긴 전자빔 스캔 시간은, 전자빔 스캐닝 프로세스 과정중에 축적될 수 있는 과도한 전하로 인하여, 기판상에 형성되는 장치에 손상을 줄 수 있다.
본 발명의 제 1 특징에서, 본 명세서에 개시된 장치 및 방법은 실험 스테이지 또는 다른 종류의 기판 처리 스테이지일 수 있는 지지 스테이지에 위치된 기판을 상기 지지 스테이지에 대하여 위치 및/또는 배향을 조절하기 위한 것이다. 바람직하게, 본 발명의 제 1 특징에 따른 기판의 위치결정 및/또는 방향결정은 지지 스테이지의 공지된 위치 및 방향에 대하여 적어도 개략적인 기판의 얼라이먼트를 구현하게 된다. 바람직한 실시예에서, 이러한 개략적인 얼라이먼트는 기판 크기의 편차에도 불구하고 수행될 수 있어, 리소그래픽 프로세싱 과정 동안 전자빔 스캔 면적 및/또는 스캔 시간을 축소 및/또는 최소화할 수 있다. 하기된 바와 같이, 이러한 기판 얼라이먼트는 신속하고 저렴하게 수행될 수 있으며, 장치 실험시 및/또는 다른 기판 처리 단계와 함께 채용될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 교정 시스템(101)의 예시적 실시예를 개략적으로 도시한 평면도이다. 상기 기판 교정 시스템(101)은 엣지(107)를 가진 기판(105)을 지지하는 지지 스테이지(103)에 인접되게 도시되어 있다.
도 1의 실시예에서, 상기 기판 교정 시스템(101)은 지지 스테이지(103) 주변에 이격 배치된 4개의 얼라이먼트 장치(예를 들어, 푸싱 장치(109))를 포함한다. 그보다 적거나 많은 푸싱 장치가 채용될 수 있다. 각각의 푸싱 장치(109)는 지지 스테이지(103)의 모서리에 근접하게 위치된다(지지 스테이지(103)의 측면에 근접한 것과 같은 대안적인 위치가 또한 허용될 수 있다). 각각의 푸싱 장치(109)는 제 1 및 제 2 푸셔 지지체(113a, 113b)를 포함하고, 상기 제 1 푸셔 지지체(113a)는 제 1 이동경로(115a)를 따라 상기 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에 대하여 이동하며 (그리고, 제 1 푸셔(117a)를 통하여 기판(105)에 접촉하고), 제 2 푸셔 지지체(113b)는 제 2 이동경로(115b)를 따라 상기 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에 대하여 이동하게 된다 (그리고, 제 2 푸셔(117b)를 통하여 기판(105)에 접촉하게 된다). 각각의 푸싱 장치(109)의 프레임(111)은 (예를 들어, 일반적으로, 제 1 이동경로(115a)와 제 2 이동경로(115b)가 교차하는 경로 교차점(121)에 위치된) 허브부(119)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에는 다른 구조가 채용될 수 있으며, 예를 들어, 상기 경로 교차점(121)에 프레임(111)의 어떠한 부분도 위치하지 않는 구조가 채용될 수 있다.
또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 푸싱 장치(109)의 프레임(111)의 허브부(119)가 기판(105)의 아래에 부분적으로 또는 전체적으로 위치하도록 배치 및 구성될 수 있다. 또한, 상기 허브부(119)가 상기 지지 스테이지(103)의 아래에 부분적으로 또는 전체적으로 위치하도록 배치 및 구성될 수 있다. 따라서, 기판 교정 시스템(101)의 존재가 (예를 들어, 주어진 프로세싱 또는 검사 도구에서 지지 스테이지(103)의 길이 및 폭에 의해 처음에 설정된 바와 같이) 전체 시스템의 풋프린트(footprint)를 증가시킨다면, 이러한 증가는 상기 지지 스테이지(103)의 풋프린트에 비해 상대적으로 작거나 및/또는 최소화될 수 있음이 명백하다.
상기 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에 대한 각각의 푸셔 지지체(113)의 이동은 가이드 샤프트(123)에 의해 용이하게 이루어질 수 있다. 각각의 가이드 샤프트(123)는 이동경로(115)를 형성하기 위해 사용될 수 있으며, 이동경로(115)가 선형인 경우, 상기 가이드 샤프트(123)도 일직선 형태일 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 가이드 샤프트(123)는 이동경로(115)의 원하는 형상에 따라 일직선 형태가 아닐 수도 있다. 도 1의 실시예에서, 각각의 푸싱 장치(109)는 2개의 가이드 샤프트(123)를 포함하며, 각각의 가이드 샤프트(123)의 단부는 푸싱 장치(109)의 프레임(111)의 허브부(119)에 연결된다. 다른 구성이 채용될 수도 있으며, 예를 들어, 상기 프레임(111)이 하나 또는 양 가이드 샤프트(123)의 양쪽 단부에 연결될 수 있다.
또한, 상기 각각의 푸싱 장치(109)는 미리 정해진 범위 (예를 들어, 각각의 제 1 및 제 2 설정 범위)내에서 해당 이동경로(115)를 따라 각각의 푸셔 지지체(113)의 이동을 제한할 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 푸싱 장치(109)는 이러한 기능을 수행하도록 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에 연결된 (측면이 도시된) 스톱 플레이트(125)를 더 포함할 수 있다. 도 1의 실시예에서, 각각의 푸싱 장치(109)는 2개의 스톱 플레이트(125)를 포함하며, 각각의 스톱 플레이트(125)는 프레임(111)의 허브부(119)로부터 외측으로 연장하는 프레임(111)의 돌출부(127)를 통하여 푸싱 장치(109)의 프레임(111)에 연결된다. 도 1에는 2개의 돌출부(127)가 도시되었으나, 상기 돌출부는 2개 이상이거나 또는 그 보다 더 적을 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
작동시, 도 1의 기판 교정 시스템(101)은 (예를 들어, 푸셔 지지체(113)의 이동을 통하여) 푸싱 장치(109)의 푸셔(117)를 지지 스테이지(103)로부터 이격시킴으로써 상기 지지 스테이지(103)상에 기판(105)이 로딩되도록 허용한다. 그 후, 상기 기판(105)은 지지 스테이지(103)상에 로딩될 수 있고, 상기 푸셔(117)는 지지 스테이지(103)에 대하여 기판(105)을 교정하기 위하여 기판(105)의 엣지(103)를 향해 이동될 수 있다. 이하, 상기 기판 교정 시스템(101)의 푸싱 장치(109)의 작동 모드에 대한 추가적인 세부내용을 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 설명한다.
도 2a는 도 1의 푸싱 장치(109)중 하나를 개략적으로 도시한 평면도이고, 상기 푸싱 장치(109)의 푸셔(117)는 푸싱 장치(109)의 프레임(111)의 허브부(119)로부터 이격되어 후퇴되어 있다. 상기 푸셔(117)가 이와 같이 위치된 경우, 상기 기판(105)은 지지 스테이지(103)상에 위치되거나, 또는 지지 스테이지로부터 언로딩될 수 있다. 특정 실시예에서, 도 2a의 기판(105)은 지지 스테이지(103)에만 접촉한다. 이러한 실시예에서, 상기 푸싱 장치(109)는, 지지 스테이지(103)에 대한 기판(105)의 로딩 또는 언로딩이 용이하도록, 상기 푸싱 장치(109)의 (푸셔(117) 이외의) 나머지 구성요소들이 상기 기판(105)으로부터 이격되어 그 아래에 위치하도록 구성될 수 있다. 상기 기판(105)에 추가 지지체를 제공하기 위하여, 도 2a의 기판(105)이 상기 푸싱 장치(109)의 하나 또는 양 푸셔 지지체(113)의 상면(131)과 지지 스테이지(103)에 모두 접촉하는 다른 실시예가 제공된다. (도 2a를 참조하면, 상기 기판(105)은 지지 스테이지(103)에 대한 교정이 여전이 필요하다, 따라서, 예를 들면, 이후 상기 기판(105)의 에지(107)는 지지 스테이지(103)의 x-y 좌표 시스템(133)과 정렬될 것이다.)
도 2b는 도 1의 푸싱 장치(109)중 하나를 개략적으로 도시한 평면도이고, 상기 푸싱 장치(109)의 푸셔(117)는 지지 스테이지(103)에 대하여 기판(105)을 교정하기 이전에 기판(105)의 엣지(103)와 접촉하게 된다. 예를 들어, 각각의 푸셔(117)는, 상기 기판(105)이 지지 스테이션(103)상에 안착되었을 때, 적어도 기판(105)의 엣지(107)와 접촉할 때까지, 도 2a에 도시된 후퇴위치로부터 각각의 해당 이동경로(115)를 따라 지지 스테이지(103)를 향해 이동하게 된다. 전술한 바와 같이, 도 2b에 도시된 기판(105)은 하나 또는 양 푸셔 지지체(113)의 상면(131)과 접촉할 수 있다. 선택적으로, 상기 기판(105)과 푸싱 장치(109)간의 접촉은 푸셔(117)로 제한될 수 있다. 상기 기판(105)과 접촉하는 푸싱 장치(109)의 표면(예를 들어, 푸셔(117)의 수직면 및/또는 푸셔 지지체(113)의 상면(131)), 및/또는 상기 기판(105)을 지지하는 지지 스테이지(103)의 표면이 그들간의 원활한 슬라이딩이 이루어지고 기판(105) 표면이 스크레칭되는 것을 보호하도록 처리될 수 있다. 예를 들어, 이러한 표면들은 Teflon® (예를 들어, 폴리테트라플루오르에틸렌), 또는 이와 유사한 저마찰 코팅제로 코팅될 수 있다. 이러한 저마찰 코팅은, 지지 스테이지(103)에 대한 기판의 위치결정/교정시, 기판이 푸셔(117)에 의해 슬라이드되어야만 하는 경우 유용할 수 있다.
도 2c는 도 1의 푸싱 장치(109)중 하나를 개략적으로 도시한 평면도이고, 상기 기판(105)은 (예를 들어, 기판(105)의 에지(107)에 접촉하여 가압하는 푸셔(117)를 통하여) 지지 스테이지(103)에 대하여 교정된다. 즉, 상기 기판(105)의 에지(107)는 지지 스테이지(103)의 x-y 좌표 시스템(133)과 정렬된다. 하나 이상의 실시예에서, 상기 기판 교정 시스템(101)(도 1)은 푸셔(117)에 의해 형성된 범위(별도로 도시하지 않음) 이내로 기판(105)을 한정 및/또는 포함시킴으로써 지지 스테이지(103)에 대하여 기판(105)을 교정하게 된다. 이러한 일부 실시예에서, 상기 기판(105)이 그 범위내에 위치하면, 어떠한 푸셔(117)도 기판(105)의 엣지(107)를 계속 가압할 필요가 없다. 또다른 실시예에서, 상기 기판 교정 시스 템(101)과 지지 스테이지(103)는 프로세싱 또는 검사 과정중 일렬로 이동될 수 있으며, 상기 기판(105)은 푸셔(117)에 의해 형성된 범위내에 계속 제한된다. 다른 실시예에서, 하나 이상의 푸셔(117)가 기판(105)의 엣지(107)를 계속 가압할 수 있으며, (지지 스테이지(103)가 기판 교정 시스템(101)과 일렬로 이동될 수 있는지의 여부와는 관계없이) 이를 필요로 하는 애플리케이션에 더 많은 제한을 제공한다.
도 3 및 도 4는 각각 도 1 및 도 2a 내지 도 2c의 푸싱장치(109)의 예시적 실시예를 포함하는 푸싱장치(109a)의 분해 조립 사시도 및 단면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 푸싱 장치(109a)는 프레임(111)과, 상기 프레임(111)에 이동가능하게 연결된 2개의 푸셔 지지체(113)를 포함한다. 각각의 푸셔 지지체(113)는 선형 이동경로(115)를 따라 프레임(111)에 대하여 이동하게 된다. 상기 푸싱 장치(109a)는 2개의 푸셔(117)를 더 포함하며, 각각의 푸셔(117)는 이동 경로(115)를 따라 프레임(111)에 대한 이동을 위하여 푸셔 지지체(113)중 하나의 상면(131)에 연결된다. 상기 프레임(111)은, 일반적으로, 푸셔(117)와 푸셔 지지체(113)의 이동경로(115)가 교차하는 경로 교차점(121)에 위치하는 허브부(119)를 포함한다. 상기 푸싱 장치(109a)는 푸싱 장치(109a)의 프레임(111)의 허브부(119)에 연결되는 2개의 가이드 샤프트(123)를 더 포함한다. 예를 들어, 각각의 가이드 샤프트(123)는 허브부(119)로부터 외팔보 형태로 연장될 수 있다. 각각의 가이드 샤프트(123)는 푸셔 지지체(113)의 이동 경로(115)를 따라 푸셔 지지체(113)중 하나를 가이드하게 된다. 예를 들어, 각각의 푸셔 지지체(113)는 제 1 하향 연장부(135) 및 제 2 하향 연장부(137)를 포함할 수 있으며, 각각의 연장부 는 가이드 샤프트(123)를 따라 푸셔 지지체(113)의 원활한 이동을 용이하게 하기 위한 샤프트 베어링(139)이 배치될 수 있는 홀을 포함한다.
상기 푸싱 장치(109a)의 프레임(111)은 2개의 돌출부(127)를 더 포함하며, 각각의 돌출부(127)는 개방형 밀봉체(open enclosure)(141)내에 가이드 샤프트(123)중 하나를 둘러싸게 된다. 또한, 상기 푸싱 장치(109a)는 2개의 스톱 플레이트(125)를 포함하며, 각각의 스톱 플레이트(125)는 해당 돌출부(127)에 연결되고, 해당 개방형 밀봉체(141)의 말단 경계부를 형성한다.
상기 푸싱 장치(109a)는 2개의 바이어싱 부재(143)를 더 포함하며, 각각의 바이어싱 부재(143)는 개방형 밀봉체(141)내에 위치된 푸셔 지지체(113)의 제 2 하향 연장부(137)와 스톱 플레이트(125) 사이에서 각각의 개방형 밀봉체(141)내에 연장가능하게 연결된다. 상기 푸싱 장치(109)의 각각의 바이어싱 부재(143)는, (1) 바람직하게는 프레임(111)에 고정적으로 연결된 스톱 플레이트(125)를 가압하고; (2) 허브부(119)를 향하여 개방형 밀봉체(141)내로 연장되며; 및 (3) 바이어싱 부재(143)가 연장됨에 따라, 허브부(119)를 향하여 가이드 샤프트(123)를 따라 (그리고, 가이드 샤프트(123)에 의해 형성된 이동경로(115)를 따라) 푸셔 지지체(113)와 푸셔(117)를 이동시키게 된다. 이러한 방식에서, 각각의 푸셔 지지체(113)와 푸셔(117)는 후퇴 위치(도 2a)로부터 기판(105)의 엣지(107)에 대하여 접촉 위치(도 2b)까지 이동될 수 있고, 결국에는 신장 위치(도 2c)까지 이동될 수 있다. 특히 도 4를 참조하면, 상기 푸셔 지지체(113)중 하나와 상기 푸싱 장치(109a)의 푸셔(117)중 하나가 완전 신장 위치에 있는 것으로 도시되어 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 푸싱 장치(109a)는 하나 이상의 조절 가능한 스페이싱 메커니즘(145)을 포함할 수 있다. 각각의 스페이싱 메커니즘(145)은 바이어싱 부재(143)의 힘에 의해 허브부(119)를 향하여 가이드 샤프트(123)를 따라 푸셔 지지체(113)가 이동할 수 있는 한계를 설정하게 된다(예를 들어, 푸셔 지지체(113)와 푸셔(117)의 완전 신장 위치를 설정하게 된다). 도 4의 특정 실시예에서, 상기 스페이싱 메커니즘(145)은 푸셔 지지체(113)의 제 1 하향 연장부(135)에 관통된 나사형 쓰루-홀을 이용하는 세트스크류(147)와, 상기 제 1 하향 연장부(135)를 지나서 스톱 플레이트(125)를 향하여 연장되는 상기 세트스크류(147)의 길이를 조절가능하게 설정하기 위해 상기 세트스크류(147)에 연결된 너트(149)를 포함한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 세트스크류(147)의 단부(151)는 스톱 플레이트(125)에 접촉하여 허브부(119)를 향한 푸셔 지지체(113)의 임의의 과도한 이동을 방지하게 된다. 상기 푸셔 지지체(113) 및/또는 푸셔(117)의 이동을 제한하기 위한 다른 구조가 이와 유사하게 채용될 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 푸싱 장치(109a)는 바이어스 부재(143)의 힘에 저항하여 푸셔 지지체(113)가 가이드 샤프트(123)를 따라 허브부(119)로부터 이격되어 이동할 수 있는 한계를 설정할 수 있다(예를 들어, 푸셔 지지체(113)와 푸셔(117)의 완전 후퇴 위치를 설정할 수 있다). 예를 들어, 상기 푸싱 장치(109a)의 각각의 푸셔 지지체(113)는 하부(153)를 포함하며, 상기 하부(153)는 스톱 플레이트(125)에 접촉하고, 푸셔 지지체(113)가 허브부(119)로부터 이격되어 이동하는 것을 방지하게 된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 푸셔 지지체(113)가 완전 신 장 위치에 있을 때, 상기 푸셔 지지부(113)의 하부(153)는 제 1 간격(155)(예를 들어, 가이드 샤프트(123)를 따른 푸셔 지지체(113)의 최대 이동 범위(미도시))만큼 스톱 플레이트(125)로부터 이격된다.
또한, 상기 푸싱 장치(109a)는, 예를 들어, 푸셔 지지체(113)가 이동경로(115)를 따라 프레임(111)에 대하여 이동할 때, 상기 프레임(111)에 대한 푸셔 지지체(113)의 회전을 실질적으로 방지할 수 있다. 예를 들어, 각각의 푸셔 지지체(113)는, 푸셔 지지체(113)의 하부(153)에 연결되어 상기 하부(153)로부터 하향으로 연장된 가이드핀(157)을 포함할 수 있다. 각각의 돌출부(127)는, 상기 푸셔 지지체(113)가 이동경로(115)를 따라 이동할 때, 상기 가이드핀(157)을 유지하기 위한 가이드 채널(159)을 형성하도록 구성될 수 있다.
상기 푸싱 장치(109a)는, 각각의 푸셔 지지체(113)가 전술한 완전 후퇴 위치에 있도록 하기 위하여, 각각의 푸셔 지지체(113)와 연관되는 바이어싱 부재(143)의 힘에 저항하여 상기 푸싱 장치(109a)의 프레임(111)의 허브부(119)로부터 이격되도록 각각의 푸셔 지지체(113)를 후퇴시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 각각의 푸셔 지지체(113)는 푸셔 지지체(113)의 하부(153)와 제 2 하향 연장부(137)사이의 개구 영역(161)(도 4 참조)을 포함할 수 있고, 상기 개구 영역은 제 2 하향 연장부(137)와 하부(153)를 연결하고 그 사이 간격을 이어주는 한 쌍의 벽부(163)에 의해 일부가 형성된다. 각각의 벽부(163)에 축(165)이 연결될 수 있으며, 롤러 휠과 같은 회전 부재(167)가 개구 영역(161)내에서 축(165)에 회전가능하게 장착될 수 있다.
또한, 상기 푸싱 장치(109a)는 플런저(169), 또는 각각의 푸셔 지지체(113)의 회전 부재(167)와의 상호작용에 의하여 상기 허브부(119)로부터 이격되도록 각각의 푸셔 지지체(113)를 강제하는 후퇴 장치를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 플런저(169)는 경사면(173)을 가진 플런저 헤드(171)를 포함할 수 있으며, 상기 플런저(169)는 플런저 헤드(171)가 상방향으로 이동할 때 각각의 푸셔 지지체(113)의 회전 부재(167)가 상기 경사면(173)을 따라 회전하도록 상방향으로 가압될 수 있다. 이러한 방식에서, 각각의 푸셔 지지체(113)는 프레임(111)의 허브부(119)로부터 외측으로 (각각의 회전 부재(167)와 함께) 변위된다. 이를 위하여, 상기 푸싱 장치(109a)는 액츄에이터(175), 예를 들어, 모터 또는 공압 구동식 액츄에이터와 같은 선형 액츄에이터를 더 포함하며, 상기 액츄에이터는, 플런저(169)의 샤프트(179)를 상방향으로 가압하여 상기 각각의 회전 부재(167)의 전술한 상방향 변위를 유발하기 위하여, 상기 푸셔(177)를 상방향으로 후퇴가능하게 연장시키게 된다.
전술한 바와 같이, 상기 푸싱 장치(109a)는 플런저(169) 및 액츄에이터(175)를 사용하여 푸셔 지지체(113) 모두를 동시에 후퇴시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 플런저(169)의 샤프트(179)는 푸셔(117)와 푸셔 지지체(113)의 이동경로(115)가 교차하는 교차점(121) 아래에 수직으로 정렬될 수 있다. 상기 플런저(169)가 후퇴가능하게 상방으로 연장될 때, 상기 프레임(111)의 허브부(119)의 하향 연장부(181)(도 4)는 플런저(169)의 플런저 헤드(171)를 수용하기 위해 푸싱 장치(109a)의 플런저 헤드 삽입 챔버(183)를 적어도 부분적으로 형성할 수 있다. 도 4에 최상으로 도시된 바와 같이, 이러한 플런저 헤드 삽입 챔버(183)는 프레임(111)의 각 돌출부(127)에 의해 형성될 수 있고, 그리고 각각의 푸셔 지지체(113)의 회전 부재(167)는 플런저 헤드 삽입 챔버(183) 안으로 적어도 부분적으로 돌출될 수 있어서, 플런저 헤드(171)의 경사면(173)과 회전 부재(167) 사이의 롤링 커뮤니케이션(rolling communication)이 구현될 수 있다.
상기 지지 스테이지(103)에 대한 푸싱 장치(109a)의 정밀한 위치결정 및 얼라이먼트를 위하여, 그리고 도 4에 도시된 챔버 바닥(185)과 같은 장착 부재에 푸싱 장치(109a)를 견고하게 장착시키기 위하여, 상기 푸싱 장치(109a)는 샤프트 얼라이먼트 부재(187), 챔버 경계면(189) 및 액츄에이터 장착 프레임(191)을 포함할 수 있다. 상기 샤프트 얼라이먼트 부재(187)는 플런저(169)의 샤프트(179)의 수직 운동을 가이드하기 위한 샤프트 베어링(193)을 포함할 수 있다.
상기 샤프트 얼라이먼트 부재(187)는 프레임(111)의 허브부(119)의 하향 연장부(181)와의 결합을 위하여, 그리고 기판(105)의 엣지(107)에 대한 푸싱 장치(109a)의 푸셔(117)의 적절한 높이(및/또는, 도 4에 도시된 바와 같이, 지지 스테이지(103)에 대한 프레임(111)의 허브부(119)의 적절한 높이)를 설정하기 위하여 상향 연장부(195)를 포함할 수 있다. 하나 이상의 실시예에서, 상기 샤프트 얼라이먼트 부재(187)는 기계가공된 원통형 면(197)을 더 포함할 수 있어, 상기 샤프트 얼라이먼트 부재(187)는 챔버 바닥(185)을 관통하는 기계가공된 관통공(199)(도 4)으로 삽입되어 그 내부에 정밀하게 위치된다. 상기 챔버 바닥(185)은 지지 스테이지(103)(도 1) 주위에 일정한 패턴으로 배열된 다수의 이러한 기계가공된 관통공(별도로 도시하지 않음)을 포함할 수 있어서, 지지 스테이지(103)에 대한 기판(105)의 정밀한 교정이 용이하게 이루어질 수 있다.
상기 챔버 경계면(189)은 샤프트 얼라이먼트 부재(187)에 연결될 뿐만 아니라, 챔버 바닥(185)의 표면에 부착됨으로써, 상기 챔버 경계면(189)내에 형성된 채널(201) 내부에 존재하는 밀봉 링(미도시)이 챔버 바닥(185)과 챔버 경계면(189)사이의 계면을 밀봉시키게 된다. 아울러, 상기 액츄에이터 장착 프레임(191)은, 액츄에이터(175)가 장착될 수 있으며 액츄에이터(175)의 푸셔(177)가 관통해서 삽입될 수 있는 표면(203)과 커플링부(207)를 포함할 수 있으며, 따라서, 상기 액츄에이터 장착 프레임(191)은 챔버 경계면(189)에 연결될 수 있거나, 및/또는, 챔버 바닥(185)의 기계가공된 관통공(199)에 대해 적소에 고정될 수 있다.
작동에 있어서, 도 3 및 도 4의 푸싱 장치(109a)는 기판 푸싱 모드에 따라 작동될 수 있으며, 상기 푸싱 장치(109a)는 2개의 상이한 방향을 따라 기판(105)의 엣지(107)에 힘을 가하고, 이들 2개의 상이한 방향은 각각 푸싱 장치(109a)가 푸셔 지지체(113) 및 푸셔(117)를 이동시키는 이동경로(115)의 방향과 일치한다. 일 실시예에서, 상기 푸싱 장치(109a)는 제 1 방향을 따라 기판(105)의 엣지(107)에 제 1 힘을 가하고, 제 1 방향과 실질적으로 직각을 이루는 제 2 방향을 따라 엣지(107)에 제 2 힘을 가하며, 예를 들어, 제 1 힘과 제 2 힘의 조합에 근거해서, 지지 스테이지(103)에 대해 기판(105)을 이동시킨다. 상기 제 1 및 제 2 힘은 각각의 푸셔 지지체(113)의 바이어싱 부재(143)(도 1a 내지 도 3 참조)에 의해 발생될 수 있으며, 상기 푸셔(117)를 통해 기판(105)의 엣지(107)에 전달될 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 푸싱 장치(109a)는 바이어싱 부재(143)의 힘에 의해 이동경로(115)를 따라 프레임(111)의 허브부(119)측으로 각각의 푸셔 지지체(113)를 이동시키게 된다. 상기 허브부(119)를 향하는 각각의 푸셔 지지체(113)의 이러한 운동은 동일한 대향력이 추가의 이러한 운동을 막을 때까지 계속될 것이다. 이러한 힘은 여러 방법으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(105)은 다수의 푸셔(117)가 상이한 방향으로 기판(105)의 엣지(107)를 푸싱하는 위치인, 지지 스테이지(103)에 대한 위치에서 (예를 들어, 푸셔(117)에 의해 및/또는 푸셔(117)를 통해 발생되는 상이한 방향의 측방향 힘 모두가 균형을 이루도록) 정지할 것이다. 선택적으로, 상기 기판(105)은 모든 푸셔 지지체(113)(및/또는 푸셔(117))가 (도 4에 도시된 바와 같이) 완전 신장 위치에 도달했던 위치인, 지지 스테이지(103)에 대한 위치에서 정지할 것이다. 후자의 경우, 물리적 배리어(barrier) 또는 스톱에 대한 기판(105)의 엣지(107)의 완전한 위치결정이 구현되지 않았을 지라도, 상기 기판(105)은 지지 스테이지(103)에 대해 적절하게 교정될 수 있다. 예를 들어, 이후 상기 기판(105)의 엣지(107)는 완전히 연장된 푸셔(117)에 의해 설정된 한계 내에 위치할 수 있다.
본 발명의 하나 이상의 실시예에서, 상기 기판 교정 시스템(101)(도 1)은 4개의 모서리 부근에서 (예컨대, 총 8개의 위치에서) 기판과 접촉하는 4개의 푸싱 장치(109)를 포함한다. 일 양상에 있어서, 이러한 시스템은 약 0.3mm 이내로 정확하게 기판을 위치시킬 수 있다. 상기 푸싱 장치(109)에 의해 위치되는 기판과 "예비-정렬(pre-aligned)"될 수 있도록 하나 이상의 푸싱 장치(109)에 프로브 또는 다 른 측정 장치가 연결될 수 있다. 각각의 푸셔 지지체(113) 및/또는 푸셔(117)는 독립적으로, 그리고 다른 푸셔 지지체(113)와 무관한 양 만큼 (다른 푸셔 지지체가 동일한 푸싱 장치(109)의 부재이든 또는 다른 푸싱 장치(109)의 부재이든 상관없이) 연장될 수 있음을 주지하라.
또한, 상기 푸싱 장치(109)는, 푸싱 장치(109a)의 액츄에이터(175)가 플런저(169)의 샤프트(179)를 상방으로 가압하는 푸셔 후퇴 모드에서 작동할 수도 있다. 상기 허브부(119)의 플런저 헤드 삽입 챔버(183) 내부에서 상방으로 이동하는 플런저 헤드(171)는 각각의 푸셔 지지체(113)의 회전 부재(167)와 접촉하며, 상기 회전 부재(167)가 플런저 헤드(171)의 경사면(173)을 따라 회전할 때, 상기 허브부(119)로부터 외측으로 회전 부재(167)를 변위시키게 된다. 상기 플런저 헤드(171)의 상방 운동은 계속되어, 예를 들어, 푸셔 지지체(113)의 하부(153)가 스톱 플레이트(125)와 접촉할 때까지, 각각의 푸셔 지지체(113)를 허브부(119)로부터 이격되게 이동경로(115)를 따라 이동시킨다. 이후, 푸셔(117)는 완전히 후퇴되고, 예를 들어 한명 이상의 작업자, 엔드 이펙터(end effector)가 장착된 로봇 등의 다수의 수단에 의해, 지지 스테이지(103)상에 기판이 로딩되거나, 또는 지지 스테이지(103)로부터 기판이 제거될 수 있다.
전술한 설명은 본 발명의 단지 예시적인 실시예를 개시한 것이며, 본 발명의 범위에 속하는 전술한 장치 및 방법의 변경예는 당업자 누구에게나 명확할 것이다. 예를 들어, 지지 스테이지에 대한 유리판의 위치를 결정하는 것과 관련하여 본 발명을 주로 설명하였으나, 다른 유형의 기판의 위치 결정에도 본 발명을 사용할 수 있음을 이해할 것이다. 각각의 푸싱 장치(109)에는 적절하게 프로그래밍된 마이크로프로세서 또는 마이크로제어기와 같은 제어기(미도시)가 연결될 수 있으며, 이러한 제어기는 전술한 바와 같이 푸셔(117)의 후퇴 및 연장을 제어하도록 되어 있다.
따라서, 예시적인 실시예와 관련하여 본 발명을 개시하였으나, 다음의 청구범위에 의해 한정된 바와 같은, 본 발명의 사상 및 범위 내에 해당되는 다른 여러 실시예들이 존재함을 이해해야 한다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 지지 스테이지에 대한 기판의 위치결정 장치 및 방법은 지지 스테이지의 공지된 위치 및 방향에 대하여 적어도 개략적인 기판의 얼라이먼트를 구현함으로써, 기판 크기의 편차에도 불구하고 수행될 수 있고, 따라서, 리소그래픽 프로세싱 과정에서의 전자빔 스캔 면적 및/또는 스캔 시간을 축소 및/또는 최소화할 수 있으며, 신속하고 저렴하게 수행될 수 있고, 장치 실험시 및/또는 다른 기판 처리 단계와 함께 채용될 수 있다.

Claims (24)

  1. 지지 스테이지상에서 지지되는 기판을 측방향으로 가압하여 상기 기판이 지지 스테이지에 대해 슬라이드하도록 하는 얼라이먼트 장치로서,
    상기 지지 스테이지상에서 지지되는 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔;
    상기 기판의 엣지에 접촉하고 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔 - 상기 제 2 이동경로는 제 1 이동경로와 직각을 이루며 경로 교차점에서 제 1 이동경로와 교차함 - ;
    상기 제 1 및 제 2 푸셔와 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 상기 지지 스테이지상에서 지지되는 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임;
    상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재; 및
    상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재
    를 포함하는, 얼라이먼트 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 이동경로의 적어도 일부는 상기 제 1 이동경로의 적어도 일부와 직각인 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 푸셔중 적어도 하나를 상기 지지 스테이지로부터 이격시키는 푸셔 후퇴장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 푸셔 후퇴장치는 제 1 및 제 2 푸셔 모두를 상기 지지 스테이지로부터 이격시키는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 푸셔는 상기 프레임에 대해 측방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 이동경로를 형성하는 제 1 가이드 샤프트; 및
    상기 제 2 이동경로를 형성하는 제 2 가이드 샤프트
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 1 이동경로를 따라 이동하는 제 1 푸셔 지지체;
    상기 제 2 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 2 이동경로를 따라 이동하는 제 2 푸셔 지지체;
    상기 프레임에 연결되고, 상기 지지 스테이지로부터 제 1 이동경로를 따라 상기 제 1 푸셔 지지체의 운동을 제한하는 제 1 스톱 플레이트; 및
    상기 프레임에 연결되고, 상기 지지 스테이지로부터 제 2 이동경로를 따라 상기 제 2 푸셔 지지체의 운동을 제한하는 제 2 스톱 플레이트
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 푸셔는 상기 지지 스테이지로부터의 이격된 이동에 의하여 상기 기판이 지지 스테이지에 로딩되도록 허용하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 1 이동경로를 따라 이동하는 제 1 푸셔 지지체;
    상기 제 2 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 2 이동경로를 따라 이동하는 제 2 푸셔 지지체;
    상기 제 1 푸셔 지지체가 상기 가이드 샤프트를 따라 상기 지지 스테이지를 향해 이동할 수 있는 한계를 설정하는 제 1 스페이싱 메커니즘; 및
    상기 제 2 푸셔 지지체가 상기 가이드 샤프트를 따라 상기 지지 스테이지를 향해 이동할 수 있는 한계를 설정하는 제 2 스페이싱 메커니즘을
    더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 1 이동경로를 따라 이동하는 제 1 푸셔 지지체;
    상기 제 2 푸셔에 연결되고, 상기 프레임에 이동가능하게 연결되며, 상기 제 2 이동경로를 따라 이동하는 제 2 푸셔 지지체; 및
    상기 지지 스테이지로부터 이격되도록 상기 제 1 및 제 2 푸셔 지지체를 가압하는 플런저
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라이먼트 장치.
  11. 지지 스테이션 주변에 이격된 관계로 배치된 다수의 얼라이먼트 장치를 포함하는 기판 교정 장치로서, 상기 다수의 얼라이먼트 장치 각각은,
    상기 지지 스테이지상에서 지지되는 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔;
    상기 기판의 엣지에 접촉하고 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔 - 상기 제 2 이동경로는 제 1 이동경로와 직각을 이루며 경로 교차점에서 제 1 이동경로와 교차함 - ;
    상기 제 1 및 제 2 푸셔와 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 지지 스테이지상에서 지지되는 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임;
    상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재; 및
    상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재
    를 포함하는, 기판 교정 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 다수의 얼라이먼트 장치 각각은 상기 지지 스테이지의 모서리에 근접하여 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 교정 장치.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 다수의 얼라이먼트 장치의 제 1 및 제 2 푸셔에 의해 형성된 범위 이내로 상기 기판을 제한함으로써, 상기 다수의 얼라이먼트 장치가 상기 지지 스테이지의 x-y 좌표 시스템과 상기 기판을 정렬시키는 것을 특징으로 하는 기판 교정 장치.
  14. 지지 스테이지에 대하여 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법으로서,
    지지 스테이지로 기판을 지지하는 단계;
    상기 지지 스테이지상에 지지된 기판의 엣지에 접촉하고 제 1 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 1 푸셔;
    상기 기판의 엣지에 접촉하고 제 2 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 제 2 푸셔 - 상기 제 2 이동경로는 제 1 이동경로와 직각을 이루며 경로 교차점에서 제 1 이동경로와 교차함 - ;
    상기 제 1 및 제 2 푸셔와 이동가능하게 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 푸셔를 지지 스테이지상에 지지된 기판 엣지의 높이로 유지하는 프레임;
    상기 제 1 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 기판의 엣지에 대하여 제 1 푸셔를 바이어스시키는 제 1 바이어싱 부재; 및
    상기 제 2 푸셔와 프레임 사이에 연결되며, 상기 제 1 푸셔의 바이어싱과는 독립적으로 상기 기판의 엣지에 대하여 제 2 푸셔를 바이어스시키는 제 2 바이어싱 부재
    를 포함하는 하나 이상의 얼라이먼트 장치를 제공하는 단계;
    상기 기판의 엣지에 제 1 푸셔를 접촉시키고, 상기 제 1 이동경로를 따르는 방향으로 작용하는 제 1 힘을 상기 기판의 엣지에 가하는 단계; 및
    상기 기판의 엣지에 제 2 푸셔를 접촉시키고, 상기 제 2 이동경로를 따르는 방향으로 작용하는 제 2 힘을 상기 기판의 엣지에 가하는 단계
    를 포함하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 2 이동경로의 적어도 일부는 제 1 이동경로의 적어도 일부와 직각인 것을 특징으로 하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 푸셔중 적어도 하나를 상기 지지 스테이지로부터 이격시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 지지 스테이지에 대하여 상기 기판을 교정하는 얼라이먼트 장치를 채용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 지지 스테이지에 대한 기판의 교정이 상기 기판의 엣지와 상기 지지 스테이지의 x-y 좌표 시스템의 정렬을 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  19. 제 14 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 얼라이먼트 장치를 제공하는 단계는 다수의 얼라이먼트 장치를 제공하는 단계를 포함하며,
    상기 다수의 얼라이먼트 장치의 제 1 및 제 2 푸셔에 의해 형성된 범위 이내로 상기 기판을 제한하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판을 측방향으로 슬라이딩시키는 방법.
  20. 지지 스테이지에 대하여 기판이 슬라이딩하도록 지지 스테이지 상에서 지지되는 기판을 측방향으로 가압하는 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부로서,
    상기 지지 스테이지 상에 지지된 기판의 엣지에 접촉하고 이동경로를 따라 측방향으로 이동하는 푸싱 장치의 푸셔에 연결된 회전 부재; 및
    상기 회전 부재와 상호작용하여 상기 푸셔를 이동시키는 후퇴 장치 헤드
    가 구비된 회전 부재/후퇴 장치 헤드 쌍을 포함하는, 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 회전 부재는 상기 후퇴 장치 헤드를 따라 롤링하여 상기 푸셔를 이동시키는 것을 특징으로 하는, 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 후퇴 장치 헤드는 경사면을 포함하고,
    상기 후퇴 부재 헤드가 이동할 때, 상기 회전 부재는 상기 경사면을 따라 롤링하여 상기 푸셔를 이동시키는 것을 특징으로 하는, 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 후퇴 장치 헤드가 상방향으로 이동할 때, 상기 회전 부재는 상기 경사면을 따라 롤링하여 상기 푸싱 장치의 허브로부터 상기 푸셔를 멀리 이동시키는 것을 특징으로 하는, 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 후퇴 장치 헤드가 상방향으로 이동할 때, 상기 회전 부재는 상기 경사면을 따라 롤링하여, 상기 푸셔가 상기 푸싱 장치의 스톱 플레이트에 연결될 때까지, 상기 푸싱 장치의 허브로부터 상기 푸셔를 멀리 이동시키는 것을 특징으로 하는, 얼라이먼트 장치의 푸싱 장치의 변위부.
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