JP6036610B2 - 製造装置、及び製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、貼り合せ基板の製造装置、及び製造方法に関する。

液晶表示素子の製造方法では、貼り合わせ基板から複数の液晶表示素子を切り出す多面取りが行われている。例えば、特許文献１には、シリコンＩＣ基板と透明基板とで貼り合わせ基板を作成した後分断する製造方法が開示されている。このような多面取りの製造方法を用いることで、複数個の反射型液晶表示素子を一括で得ることができる。よって、生産性を向上することができる。

特開２００３−１３１１８４号公報

このような多面取りの製造方法では、基板を貼り合せる際に位置合わせを行う必要がある。位置合わせを簡便に行うことで、生産性を向上することができる。さらに、製造工程中において、発塵や基板端面のチッピングを抑制することが望まれる。例えば、チッピングなどで発生した破片や異物が基板間に混入してしまうと、歩留まりが劣化してしまう。

本発明は上記の点に鑑みなされたもので、高い生産性で貼り合わせ基板を製造することができる製造装置、及び製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様にかかる製造装置は、第１の基板と第２の基板とが貼り合わせられた貼り合わせ基板を製造する製造装置であって、前記第１の基板の側面と当接する第１の当接部と、前記第１の当接部に前記第１の基板を付勢する第１の付勢部と、を備え、前記第１の基板を保持する第１のカートリッジと、前記第２の基板の側面と当接する第２の当接部と、前記第２の当接部に前記第２の基板を付勢する第２の付勢部と、を備え、前記第２の基板を保持する第２のカートリッジと、前記第１のカートリッジの側面と当接する第３の当接部と、前記第３の当接部に前記第１のカートリッジを付勢する第３の付勢部と、を備え、前記第１のカートリッジを保持するステージと、前記第２のカートリッジの側面と当接する第４の当接部と、前記第４の当接部に前記第２のカートリッジを付勢する第４の付勢部と、を備え、前記ステージの上方において前記第２のカートリッジを保持する保持治具と、前記第１の基板と前記第２の基板とを接近させるために、前記ステージに対して前記保持治具を相対移動させる駆動機構と、前記駆動機構による相対移動をガイドするガイド機構と、前記ステージ、前記保持治具、及び前記ガイド機構を収容するチャンバと、を備えたものである。

本発明の一態様にかかる製造装置は、第１の基板と第２の基板とが貼り合わせられた貼り合わせ基板を製造する製造方法であって、前記第１の基板の側面と当接する第１の当接部と、前記第１の当接部に前記第１の基板を付勢する第１の付勢部と、を備えた第１のカートリッジによって、前記第１の基板を保持するステップと、前記第２の基板の側面と当接する第２の当接部と、前記第２の当接部に前記第２の基板を付勢する第２の付勢部と、を備えた第２のカートリッジによって、前記第２の基板を保持するステップと、前記第１のカートリッジの側面と当接する第３の当接部と、前記第３の当接部に前記第１のカートリッジを付勢する第３の付勢部と、を備えたステージに前記第１のカートリッジを配置するステップと、前記第２のカートリッジの側面と当接する第４の当接部と、前記第４の当接部に前記第２のカートリッジを付勢する第４の付勢部と、を備えた保持治具に前記第２のカートリッジを配置するステップと、ガイド機構に沿って前記ステージに対して前記保持治具を相対的に移動させることで、前記ステージの上に配置された前記保持治具に前記ステージを近づけていくステップと、を備えたものである。

本発明によれば、高い生産性で貼り合わせ基板を製造することができる製造装置、及び製造方法を提供することを目的とする。

本実施形態に係る液晶表示素子の構成を示す平面図である。 本実施形態に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。 貼り合わせ工程における液晶表示素子の構成を示す斜視図である。 貼り合わせ工程で用いられる第１のカートリッジを模式的に示す平面図である。 シリコンウェハを保持した第１のカートリッジの構成を模式的に示す側面図である。 貼り合わせ工程で用いられる第２のカートリッジを模式的に示す平面図である。 ガラス基板を保持した第２のカートリッジの構成を模式的に示す側面図である。 第１のカートリッジと第２のカートリッジとを対向配置した状態を模式的に示す側面図である。 カートリッジを保持するダイセットの構成を模式的に示す斜視図である。 シリコンウェハを保持していない状態の第１のカートリッジを示す図である。 シリコンウェハを保持した状態の第１のカートリッジを示す図である。 第１のカートリッジを保持していない状態のステージの構成を示す平面図である。 第１のカートリッジを保持した状態のステージの構成を示す平面図である。 ガラス基板を保持していない状態の第２のカートリッジを示す図である。 ガラス基板を保持した状態の第２のカートリッジを示す図である。 第２のカートリッジを保持していない状態の保持治具の構成を示す平面図である。 第２のカートリッジを保持した状態の保持治具の構成を示す平面図である。 製造装置の動作を示す側面断面図である。 製造装置の動作を示す側面断面図である。 製造装置の動作を示す側面断面図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態にかかる貼り合わせ基板と、その製造装置について説明する。なお、以下の説明では、本実施の形態にかかる貼り合わせ基板が、液晶表示素子であるとして説明する。もちろん、本実施の形態にかかる貼り合わせ基板は、液晶表示素子に限られるものではない。液晶表示素子以外の表示素子、光学素子、半導体基板などであってもよく、これら以外のものであってもよい。すなわち、第１の基板と第２の基板とが接着材によって貼り合わされた構造を有する貼り合わせ基板に適用することができる。第１の基板と第２の基板の材質は特に限定されるものではない。また、以下の説明では、適宜ＸＹＺ３次元直交座標系を用いて説明を行う。ＸＹ平面が液晶表示素子と平行な面であり、Ｚ方向は液晶表示素子と垂直方向である。製造装置においては、水平面であるＸＹ平面に沿って液晶表示素子が配置される。

（液晶表示素子の構成）
まず、液晶表示素子の全体構成について、説明する。図１は、液晶表示素子の構成を示す平面図であり、図２はその断面図である。なお、図１、及び図２では、液晶表示素子１００の厚さ方向をＺ方向とし、矩形の液晶表示素子１００の端辺に沿った方向をＸ方向及びＹ方向としている。

液晶表示素子１００は、第１の基板部である駆動基板１と、第２の基板部である対向基板２と、シール材６と、を備えている。対向配置された駆動基板１と対向基板２とはシール材６によって貼り合わされている。シール材６は矩形枠状に形成されており、その内側が表示領域３となる。表示領域３には、複数の画素３ａがアレイ状に配置されている。すなわち、画素３ａが配置された領域が表示領域３となる。それぞれの画素３ａには、画素回路であるトランジスタが配置されている。したがって、駆動基板１は、アレイ状に配置されたトランジスタアレイ基板となる。

矩形状の表示領域３の外側が、額縁状の周辺領域４となる。周辺領域４には、シフトレジスタ、ビデオスイッチ等の周辺回路が形成されている。周辺領域４において、駆動基板１の一端は対向基板２からはみ出しており、そのはみ出した部分に、外部の制御回路と接続される端子１０が形成される。ここでは、複数の端子１０がＹ方向に沿って配列されている。端子１０はプリント基板やフレキシブル基板等と接続される。

図２に示すように、駆動基板１と対向基板２とシール材６とで形成された空間には、液晶７が封入されている。駆動基板１と対向基板２には、液晶７を所定の方向に配向するための配向膜９が設けられている。配向膜９は、互いに向かうように配置されている。配向膜９は、ＳｉＯなどを斜め蒸着することによって形成することができる。また、シール材６は、シール内スペーサ８を含有している。

駆動基板１は、不透明なシリコンウェハから切り出されたシリコン基板である。そして、それぞれの画素３ａには、スイッチング素子であるトランジスタと接続された反射画素電極（不図示）が設けられている。対向基板２は透明なマザーガラス基板から切り出されたガラス基板である。対向基板２の全面には、対向電極５が形成されている。対向電極５は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で形成されている。反射画素電極と対向電極５との間の電圧によって液晶７が駆動する。対向基板２側から光が入射すると、液晶７の状態に応じて、反射画素電極で反射される光の偏光状態が制御される。したがって、各反射画素電極に供給する表示信号を制御することで、表示領域３内に所望の画像を表示することができる。また、対向基板２の表示側の面には、必要に応じて反射防止膜や偏光子等を形成してもよい。

（多面取り）
上記の液晶表示素子１００は、多面取りによって製造される。すなわち、駆動基板１と対向基板２と個々に貼り合わせて、液晶表示素子１００を製造するのではなく、大型のマザー基板同士を貼り合わせた後に、個々の液晶表示素子１００に切断する。このようにすることで、一度に複数の液晶表示素子１００を一括して製造することができる。よって、生産性向上、歩留まり向上、製造コストの低減を図ることができる。

例えば、図３に示すように、第１のマザー基板としてシリコンウェハ（半導体基板）１２を用意する。第２のマザー基板として透明なガラス基板１３を用意する。シリコンウェハ１２とガラス基板１３は、ほぼ同じ大きさの円形状になっている。なお、図３では、円形のガラス基板１３を用いたが、矩形状のガラス基板１３を用いてもよい。そして、シリコンウェハ１２に画素３ａ、周辺回路、端子等を形成することで、複数の駆動基板１が形成される。これらの製造工程には、公知の半導体製造工程を用いることができるため、説明を省略する。また、ガラス基板１３の全面に透明な対向電極をスパッタ法などで形成する。そして、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３の表面に配向膜９（図３では図示を省略）を形成する。シリコンウェハ１２の表面に接着剤となるシール材６を塗布して、シール材６の内側に、液晶を滴下する。

より具体的には、各表示領域３を枠状に囲むシール材６をシリコンウェハ１２上に塗布する。そして、シール材６で形成された矩形枠内に液晶７を供給する。ここでは、ＯＤＦ（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ）法が用いられる。すなわち、液晶７を微量滴下するディスペンサを用いて、シール材６の枠内に液晶７を一定量ずつ滴下する。ここで、滴下する液晶７を除電することにより、滴下する液晶量を一定とすることができる。これによって、表示する画像の再現性を向上させて、画像品質を高めることができる。

液晶を滴下した後、配向膜９が形成された面（以下、配向面とする）が向かい合うように、シリコンウェハ１２をガラス基板１３と対向配置する。シール材６を介してシリコンウェハ１２とガラス基板１３を貼り合わせることで、貼り合わせ基板１４が形成される。なお、上記の説明では、シール材６をシリコンウェハ１２に塗布したが、ガラス基板１３に塗布するようにしてもよい。すなわち、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを上下反対にして、貼り合せを行ってもよい。

シール材６としては、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂などが用いられている。例えば、紫外線照射によって、シール材６を硬化する。これにより、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とが接合して、固着される。より具体的には、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を真空状態にした状態で、シリコンウェハ１２上に設けられたシール材６をガラス基板１３と接触させる。これにより、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とが仮接合され、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とシール材６とで形成された空間が封止される。そして、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を大気圧に戻して加圧するとともに、シール材６に紫外線を照射する。これにより、シール材６が硬化して、シリコンウェハ１２とガラス基板１３が貼り合せられ、貼り合わせ基板１４が完成する。このように、真空状態から大気圧状態に戻して加圧することで、ガラス基板１３とシリコンウェハ１２との間にセルギャップを一定にすることができる。もちろん、ＵＶ硬化ではなく、熱硬化を用いてシール材６を硬化してもよく、ＵＶ硬化と熱硬化の両方を用いてもよい。

そして、スクライブラインなどに沿って、貼り合わせ基板１４を切断する。こうすることで、貼り合わせ基板１４から液晶表示素子１００の個片を切り出すことができる。このようにして、駆動基板１と対向基板２とが貼り合わせられた液晶表示素子１００が製造される。

切り出された液晶表示素子１００の端子１０に外部の制御装置などをワイヤボンディングや異方性導電膜などによって接続する。これにより、画素電極に供給された電圧に応じて、液晶７が駆動する。外部から対向基板２及び液晶７を通過した光は、画素３ａの画素電極で反射される。液晶７の状態に応じて、画素電極で反射されて外部に出射する光の光量が変化する。外部制御装置からの制御信号に応じて所望の画像を表示することができる。このような反射型の液晶表示素子は、画像を投影するプロジェクタに好適であり、さらには、自動車などの乗り物に搭載されるヘッドアップディスプレイに利用することが可能である。

（製造装置）
貼り合わせ工程を行うための製造装置について説明する。貼り合わせ工程では、互いの配向面が向かい合った状態で、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を対向配置する。そして、シリコンウェハ１２のシール材６がガラス基板１３と接触するように、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を近づけていく。ここで、製造装置は、ガラス基板１３とシリコンウェハ１２を位置決めした状態で近づけていくダイセットが用いられる。さらに、貼り合せ工程において、シリコンウェハ１２を保持する第１のカートリッジと、ガラス基板１３を保持する第２のカートリッジを用いている。第１のカートリッジと第２のカートリッジをダイセットに設置している。なお、製造装置において、液晶表示素子１００と垂直なＺ方向が鉛直方向（上下方向）となっており、ＸＹ平面が水平面となっている。

（カートリッジ）
まず、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０の構成について、図４〜図８を用いて説明する。図４は、第１のカートリッジ２０の構成を模式的に示す平面図であり、図６は、第２のカートリッジ３０の構成を模式的に示す平面図である。図５は、シリコンウェハ１２を保持した状態の第１のカートリッジ２０を模式的に示す側面図である。図７は、ガラス基板１３を保持した状態の第２のカートリッジ３０を模式的に示す側面図である。図８は、第１のカートリッジと第２のカートリッジとを対向配置した状態を模式的に示す側面図である。すなわち、図８では、第２のカートリッジ３０を上下反転した状態を示している

なお、図４〜図８では、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３に形成されたシール材６、配向膜９、及び液晶７などを適宜省略して、図示している。さらに、図４〜図８は、カートリッジを模式的に示す図であり、一部の構成については適宜省略されている。また、図４〜図８は模式図であるため、実際の形状や構成とは一部異なっている。

図４に示すように、第１のカートリッジ２０は、ベース部２１と当接部２２と付勢部２３とを備えている。ベース部２１は、シリコンウェハ１２よりも大きなプレートである。そして、ベース部２１の上には、当接部２２が配置されている。当接部２２は、シリコンウェハ１２の側面と当接するように設けられている。図４では、２つの当接部２２が設けられている。一方の当接部２２は、Ｘ方向に沿って設けられ、他方の当接部２２は、Ｙ方向に沿って設けられている。付勢部２３は、シリコンウェハ１２を当接部２２に付勢する。すなわち、付勢部２３は、板バネ又はスプリングなどの弾性体を有しており、白抜矢印方向に付勢力を発生する。そして、付勢部２３の付勢力によってシリコンウェハ１２を当接部２２に付勢する。すなわち、付勢部２３がシリコンウェハ１２の側面を当接部２２に付き当てる。

このように、当接部２２と付勢部２３によってシリコンウェハ１２をＸ方向、及びＹ方向に挟み込むようにして、第１のカートリッジ２０がシリコンウェハ１２を保持している。これにより、精度よく、シリコンウェハ１２を位置決めすることができる。すなわち、当接部２２が位置決めの基準となるため、位置精度を向上することができる。また、シリコンウェハ１２の端部にはオリフラ１２ａが設けられている。そして、オリフラ１２ａが、当接部２２と接触する。

図５に示すように、当接部２２及び付勢部２３は、シリコンウェハ１２の上面よりも上側に位置しないように形成されている。すなわち、当接部２２と付勢部２３は、シリコンウェハ１２の配向面１２ｂよりも上側に突出しないようになっている。換言すると、配向面１２ｂを上側にして、シリコンウェハ１２を第１のカートリッジ２０に設置した状態において、当接部２２、及び付勢部２３は、シリコンウェハ１２の側面の上端よりも下側に配置されている。そのため、側面視において、当接部２２と付勢部２３は階段状に形成されている。そして、当接部２２、及び付勢部２３は、シリコンウェハ１２の裏面（配向面１２ｂと反対側の面）及び側面のみと接触する。このような構成とすることで、当接部２２、及び付勢部２３がガラス基板１３や第２のカートリッジ３０と干渉することなく、貼り合わせを行うことができる。

図６に示すように、第２のカートリッジ３０は、第１のカートリッジ２０と同様に、ベース部３１、当接部３２、及び付勢部３３を備えている。ベース部３１、当接部３２、及び付勢部３３は、それぞれ、ベース部２１、当接部２２、及び付勢部２３と同様の構成になっている。そして、第２のカートリッジ３０も、同様にガラス基板１３を保持している。すなわち、当接部３２と付勢部３３によってガラス基板１３をＸ方向、及びＹ方向に挟み込むようにして、第２のカートリッジ３０がガラス基板１３を保持している。ガラス基板１３には、直線状の切欠１３ａが１つ設けられており、この切欠１３ａに一方の当接部３２が接触する。

さらに、第２のカートリッジ３０には、２つの脱落防止機構３４が設けられている。脱落防止機構３４は、ガラス基板１３の＋Ｘ側と−Ｘ側にそれぞれ配置されている。すなわち、ガラス基板１３の両側に脱落防止機構３４が配置されている。

当接部３２及び付勢部３３の側面構成は、図７に示すようになっている。当接部３２及び付勢部３３は、ガラス基板１３の上面、すなわち配向面１３ｂよりも上側に位置しないように形成されている。すなわち、当接部３２と付勢部３３は、ガラス基板１３の配向面１３ｂよりも上側に突出しないようになっている。換言すると、配向面１３ｂを上側にして、ガラス基板１３を第２のカートリッジ３０に設置した状態において、当接部３２、及び付勢部３３は、ガラス基板１３の側面の上端よりも下側に配置されている。そのため、側面視において、当接部３２と付勢部３３は階段状に形成されている。そして、当接部３２、及び付勢部３３は、ガラス基板１３の裏面（配向面１３ｂと反対側の面）及び側面のみと接触する。このような構成とすることで、当接部３２、及び付勢部３３がシリコンウェハ１２や第１のカートリッジ２０と干渉することなく、貼り合わせを行うことができる。

ここで、貼り合わせ工程では、ガラス基板１３の配向面１３ｂをシリコンウェハ１２の配向面１２ｂと対向配置する必要がある。そのため、ガラス基板１３を保持する第２のカートリッジ３０を上下反転して、配向面１２ｂを下側に向ける必要がある。当接部３２及び付勢部３３は、図７に示したように、配向面１２ｂ側にはみ出していない。第２のカートリッジ３０を上下反転した場合に、第２のカートリッジ３０からガラス基板１３が脱落してしまう恐れがある。第２のカートリッジ３０からガラス基板１３が脱落するとガラス基板１３が破損してしまう。そこで、本実施の形態では、図６、図７に示すように、第２のカートリッジ３０は、脱落防止機構３４を有している。脱落防止機構３４は、Ｘ方向において、ガラス基板１３の両側に配置されている。そして、脱落防止機構３４は、第２のカートリッジ３０を上下反転した際に、ガラス基板１３が第２のカートリッジ３０から脱落するのを防止する。そのため、脱落防止機構３４は、ガラス基板１３の配向面１３ｂ側にはみ出ている。すなわち、脱落防止機構３４がガラス基板１３の端部上に配置されている。

第２のカートリッジ３０を上下反転して、対向配置したときの側面構成を図８（ａ）に示す。第２のカートリッジ３０を上下反転させると、図８（ａ）に示すように、配向面１３ｂが下側を向く。このとき、脱落防止機構３４の一部は、ガラス基板１３の配向面１３ｂ側に突出するように配置されている。すなわち、第２のカートリッジ３０を上下反転した状態で、脱落防止機構３４は、配向面１３ｂの下側に配置される。これにより、当接部３２と付勢部３３からガラス基板１３が脱落した場合、脱落防止機構３４の上に、ガラス基板１３が載る。これにより、脱落防止機構３４がガラス基板１３を第２のカートリッジ３０から脱落するのを防止することができる。例えば、衝撃などによって付勢部３３の付勢力が弱くなって、当接部３２と付勢部３３からガラス基板１３が外れてしまうことがある。当接部３２と付勢部３３との間からガラス基板１３が脱落しても、脱落防止機構３４がガラス基板１３を保持する。よって、脱落防止機構３４は、第２のカートリッジ３０からガラス基板１３が脱落することができ、ガラス基板１３の破損を防ぐことができる。

なお、当接部３２と付勢部３３とがガラス基板１３を保持している状態において、脱落防止機構３４は、ガラス基板１３と接触しないように配置することが好ましい。すなわち、当接部３２と付勢部３３とがガラス基板１３を保持している状態では、ガラス基板１３と脱落防止機構３４との間には微小な隙間が形成されている。

なお、脱落防止機構３４は、シリコンウェハ１２のオリフラ１２ａよりも外側に位置している。換言すると、平面視において、脱落防止機構３４は、ガラス基板１３がシリコンウェハ１２の外周端からはみ出す位置に配置されている。したがって、貼り合せ工程において、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とをある程度近づけていった場合であっても、脱落防止機構３４がシリコンウェハ１２や第１のカートリッジ２０と干渉することはない。

そして、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを近づけるように、第１のカートリッジ２０及び第２のカートリッジ３０の少なくとも一方を移動させる。シリコンウェハ１２とガラス基板１３とがある一定の距離まで近づいたら、図８（ｂ）に示すように脱落防止機構３４を退避させる。すなわち、ガラス基板１３の外側に脱落防止機構３４を移動させると、脱落防止機構３４がシリコンウェハ１２とガラス基板１３の間から退避する。これにより、当接部２２や付勢部２３と脱落防止機構３４が干渉するのを防ぐことができる。そして、脱落防止機構３４を退避位置に移動した後で、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０をさらに近づける。すると、シリコンウェハ１２上のシール材６にガラス基板１３が接触して、シリコンウェハ１２とガラス基板１３が貼り合せられる。

（ダイセット）
上記のように、貼り合せ工程では、第１のカートリッジ２０に対して第２のカートリッジ３０を近づけている。そのため、貼り合わせ工程のための製造装置では、第１のカートリッジ２０及び第２のカートリッジ３０がそれぞれダイセットに設置される。そして、ダイセットが第１のカートリッジ２０を第２のカートリッジ３０に対して相対的に移動している。

ダイセットは、第１のカートリッジ２０がシリコンウェハ１２を保持した構成と同様の構成で、カートリッジを保持する。製造装置に設置されたダイセットの構成について、図９を用いて、説明する。図９は、ダイセット１０１の構成を模式的に示す斜視図である。なお、図９では、第１のカートリッジ２０の当接部２２及び付勢部２３、並びに第２のカートリッジ３０の当接部３２及び付勢部３３を省略して、図示している。

ダイセット１０１は、下側のダイとなるステージ４０と、上側のダイとなる保持治具５０を備えている。ステージ４０と保持治具５０は、支柱８６を介して取り付けられている。ステージ４０の上には第１のカートリッジ２０が載置されている。ステージ４０は、第１のカートリッジ２０を保持する。ステージ４０は、ベース部４１と、当接部４２とを備えている。なお、図９では、図示を省略しているが、ベース部４１には、付勢部が設けられている。そして、付勢部が第１のカートリッジ２０を当接部４２に付勢する。横方向から付勢部と当接部４２が第１のカートリッジ２０を挟み込むことで、ステージ４０が第１のカートリッジ２０を保持する。

ステージ４０の上方には、保持治具５０が設けられている。保持治具５０は、第２のカートリッジ３０が載置されるステージとなる。このとき、図８に示したように、第２のカートリッジ３０は上下反転している。ガラス基板１３が下方向、すなわち、シリコンウェハ１２側に配置される。保持治具５０は、ガラス基板１３の配向面１３ｂが下方向を向いた状態で、第２のカートリッジ３０を保持する。

保持治具５０は、ベース部５１と当接部５２を備えている。後述するように保持治具５０には、ガラス基板１３を下方に向けて配置するための開口部５１ａが設けられている。なお、図９では、図示を省略するが、保持治具５０は、付勢部を備えている。ステージ４０が第１のカートリッジ２０を保持するのと同様に、保持治具５０は、第２のカートリッジ３０を保持する。すなわち、付勢部が第２のカートリッジ３０を当接部５２に付勢することで、保持治具５０が第２のカートリッジ３０を保持する。

さらに、ステージ４０の四隅には、保持治具５０を支持する支柱８６が設けられている。支柱８６は、Ｚ方向に沿って設けられている。保持治具５０は支柱８６の上端に固定されている。そして、ステージ４０が支柱８６にガイドされながら、保持治具５０に対して相対移動する。例えば、ステージ４０の四隅には支柱８６を貫通する貫通穴が設けられている。そして、支柱８６とステージ４０とが直動軸受を介して連結されている。このように、ステージ４０は、鉛直移動可能に、支柱８６に支持されている。したがって、支柱８６は、保持治具５０に対するステージ４０の相対移動をガイドするガイド機構となる。

このように、ステージ４０と保持治具５０とは支柱８６を介して連結されている。例えば、保持治具５０を下降させていくと、シリコンウェハ１２とガラス基板１３が接近する。そして、シリコンウェハ１２に設けられたシール材６がガラス基板１３と接触するまで、保持治具５０を下降させる。これにより、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を仮接合することができる。

このような構成によって、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を精度よく、位置決めすることができる。シリコンウェハ１２は第１のカートリッジ２０の当接部２２を基準として位置決めされる。さらに、第１のカートリッジ２０は、ステージ４０の当接部４２を基準として位置決めされる。また、ガラス基板１３は、第２のカートリッジ３０の当接部３２を基準として位置決めされる。さらに、第２のカートリッジ３０は、保持治具５０の当接部５２を基準として位置決めされる。

そして、ステージ４０が支柱８６に沿って、第２のカートリッジ３０に接近していく。よって、高い位置精度の位置合わせを簡便に行うことができる。例えば、シリコンウェハ１２やガラス基板１３に設けたアライメントマークなどをカメラなどで撮像して、位置合わせを行う必要がなくなる。よって、簡便に高い精度の位置合わせを行うことができ、生産性を向上することができる。

さらに、ダイセット１０１が第１のカートリッジ２０及び第２のカートリッジ３０を保持している。したがって、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３を製造装置内に搬入する際に、シリコンウェハ１２及びガラス基板１３を直接保持する必要がなくなる。これにより、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３の基板端面でのチッピングや、基板からの発塵を抑制することができる。よって、生産性を向上することができる。

（第１のカートリッジ２０）
次に、第１のカートリッジ２０の構成について、図１０、及び図１１を用いて詳細に説明する。図１０、及び図１１は、第１のカートリッジ２０の構成を示す図である。図１０は、シリコンウェハ１２を保持していない状態、図１１は、シリコンウェハ１２を保持している状態をそれぞれ示している。さらに、図１０（ａ）、図１１（ａ）は、第１のカートリッジ２０の平面図を示し、図１０（ｂ）、図１１（ｂ）は、第１のカートリッジ２０の側面図を示している

上記のように、第１のカートリッジ２０は、ベース部２１、当接部２２、付勢部２３を備えている。ベース部２１の中央には、開口部２１ａが形成されている。したがって、ベース部２１は枠状になっている。そして、この開口部２１ａに、シリコンウェハ１２が配置される。

ベース部２１の＋Ｘ側の端辺、及び−Ｙ側の端辺には、それぞれ当接部２２が設けられている。すなわち、一方の当接部２２は、シリコンウェハ１２の＋Ｘ側に配置され、他方の当接部２２は、シリコンウェハ１２の−Ｙ側に配置される。当接部２２は、ボルト２２ａによって、ベース部２１に固定されている。

ベース部２１の−Ｘ側かつ＋Ｙ側の角部には、付勢部２３が設けられている。付勢部２３は、先端部２３ａ、バネ２３ｂ、レバー２３ｃ、本体部２３ｄを有している。本体部２３ｄのシリコンウェハ１２側には、先端部２３ａが配置されている。先端部２３ａはボルト等によって、本体部２３ｄに固定されている。先端部２３ａは、本体部２３ｄよりもシリコンウェハ１２側に突出している。すなわち、先端部２３ａは開口部２１ａの上まで延在している。そして、先端部２３ａがシリコンウェハ１２の側面と当接する。さらに、本体部２３ｄはバネ２３ｂを介してベース部２１に取り付けられている。バネ２３ｂは、先端部２３ａを図１１（ａ）の白抜矢印の方向に付勢するための付勢力を発生する。

レバー２３ｃは、付勢部２３を退避させるために設けられている。すなわち、レバー２３ｃを、図１０（ａ）の矢印Ａの方向に回転することで、先端部２３ａがシリコンウェハ１２の側面から離れる。これにより、シリコンウェハ１２の脱着が可能になる。また、レバー２３ｃを矢印Ａと反対方向に回転させることで、付勢部２３がシリコンウェハ１２に近づく。これにより、先端部２３ａがシリコンウェハ１２の側面と接触する。さらに、先端部２３ａがシリコンウェハ１２の側面と接触すると、バネ２３ｂが伸縮する。バネ２３ｂの伸縮によって、シリコンウェハ１２を当接部２２に押し付けるための弾性力が発生する。付勢部２３がシリコンウェハ１２を当接部２２に付勢する。このようにして、シリコンウェハ１２が第１のカートリッジ２０に保持される。さらに、レバー２３ｃを矢印Ａの方向に回転させることで、シリコンウェハ１２が解放される。これにより、シリコンウェハ１２を第１のカートリッジ２０から搬出することができる。このように、レバー２３ｃを操作することで、付勢部２３を退避位置、又は保持位置に切り替えることができる。

付勢部２３は、当接部２２に対して斜め方向の付勢力を発生する。すなわち、付勢部２３は、Ｘ方向とＹ方向との間の方向（図１１（ａ）中の白抜矢印方向）に付勢力を発生する。そして、一方の当接部２２がＸ方向の反力を発生し、他方の当接部２２がＹ方向の反力を発生する。したがって、シリコンウェハ１２は、２つの当接部２２によって、Ｘ方向及びＹ方向に位置決めされる。

シリコンウェハ１２の４方向の端部がオリフラ１２ａとなっている。すなわち、Ｘ方向に沿ったオリフラ１２ａが２つ設けられ、Ｙ方向に沿ったオリフラ１２ａが２つ設けられている。当接部２２はシリコンウェハ１２のオリフラ１２ａと当接する。ＸＹ平面視において、シリコンウェハ１２の当接部２２と接触する箇所は、直線状に形成されている。ＸＹ平面視において、当接部２２のシリコンウェハ１２と接触する箇所も直線状に形成されている。これにより、Ｘ方向、及びＹ方向に精度よく位置決めすることができる。なお、シリコンウェハ１２の付勢部２３と接触する箇所は、オリフラ１２ａとなっていない。したがって、平面視において、先端部２３ａは、シリコンウェハ１２の外形に沿って円弧状になっている。１つの付勢部２２でＸ方向及びＹ方向に付勢力を発生することができる。

（ステージ４０）
次に、第１のカートリッジ２０が載置されるステージ４０の構成について、詳細に説明する。図１２、及び図１３は、ステージ４０の構成を示す平面図である。なお、図１２は、第１のカートリッジ２０が設置されていない状態を示し、図１３は、第１のカートリッジ２０が設置されている状態を示している。なお、図１３では、図１１に示す第１のカートリッジ２０を時計回りに９０度回転させた状態で、第１のカートリッジ２０が設置されている。

ステージ４０は、ベース部４１、当接部４２、付勢部４３を備えている。ベース部４１は略矩形状の外形を有している。ベース部４１には、２つの当接部４２が設けられている。当接部４２が第１のカートリッジ２０の外周側面と当接することで、第１のカートリッジ２０が位置決めされる。当接部４２は第１のカートリッジ２０の−Ｘ側、及び−Ｙ側にそれぞれ配置される。第１のカートリッジ２０の−Ｘ側の当接部４２がＸ方向の位置を規定し、−Ｙ側の当接部４２がＹ方向の位置を規定する。

なお、第１のカートリッジ２０の当接部２２は、シリコンウェハ１２の−Ｘ側、及び−Ｙ側に配置されている。したがって、当接部２２と当接部４２が近接して配置されている。すなわち、ＸＹ平面視において、当接部２２が当接部４２とシリコンウェハ１２との間に配置される。このようにすることで、シリコンウェハ１２の位置決めの基準位置と、第１のカートリッジ２０の位置決めの基準位置を近づけることができる。これにより、より高い精度で位置決めすることができる。

ステージ４０は、４つの付勢部４３を備えている。それぞれの付勢部４３は同一の構成を備えており、ステージ４０における設置位置と設置方向が異なっている。第１のカートリッジ２０の＋Ｘ側に２つの付勢部４３が配置され、第１のカートリッジ２０の＋Ｙ側に２つの付勢部４３が配置されている。付勢部４３は、先端部４３ａ、バネ４３ｂ、レバー４３ｃ、本体部４３ｄ及び回転軸４３ｅを備えている。本体部４３ｄは、回転軸４３ｅ周りに回転可能に、ベース部４１に取り付けられている。さらに、本体部４３ｄの先端には、先端部４３ａが設けられている。そして、先端部４３ａが第１のカートリッジ２０の外周側面と当接する。

また、バネ４３ｂの一端は、本体部４３ｄに取り付けられ、他端はベース部４１に取り付けられている。バネ４３ｂは、回転軸４３ｅと先端部４３ａとの間において、本体部４３ｄに取り付けられている。バネ４３ｂが伸縮することで、本体部４３ｄを回転軸４３ｅ周りに回転させる力が発生する。先端部４３ａが第１のカートリッジ２０と接触すると、バネ４３ｂが伸縮する。バネ４３ｂの伸縮によって、第１のカートリッジ２０を当接部４２に押し付けるための弾性力が発生する。付勢部４３が第１のカートリッジ２０を当接部４２に付勢する。このようにして、第１のカートリッジ２０がステージ４０に保持される。

本体部４３ｄの先端部４３ａと反対側の端部には、レバー４３ｃが設けられている。レバー４３ｃは、先端部４３ａを退避させるために設けられている。レバー４３ｃを操作することで、先端部４３ａが第１のカートリッジ２０の側面から離れる。これにより、ステージ４０から第１のカートリッジ２０を解放することができ、第１のカートリッジ２０の脱着が可能になる。

４つの付勢部４３は同様の機構を備えており、それぞれ付勢力を発生する。これにより、第１のカートリッジ２０が当接部４２に付勢される。すなわち、付勢部４３は、第１のカートリッジ２０を−Ｘ方向、及び−Ｙ方向に付勢する。付勢部４３は、第１のカートリッジ２０を当接部４２に押し付ける。

さらに、ベース部４１には、４つの貫通穴４５が設けられている。貫通穴４５は、第１のカートリッジ２０の外側において、対角に配置されている。貫通穴４５は、図９で示した支柱８６が挿入される。したがって、支柱８６が保持治具５０に対するステージ４０の上下方向への相対移動をガイドする。

（第２のカートリッジ３０）
次に、第２のカートリッジ３０の構成について、図１４、及び図１５を用いて詳細に説明する。図１４、及び図１５は、第２のカートリッジ３０の構成を示す図である。図１４は、ガラス基板１３を保持していない状態、図１５は、ガラス基板１３を保持している状態をそれぞれ示している。さらに、図１４（ａ）、図１５（ａ）は、第２のカートリッジ３０の平面図を示し、図１４（ｂ）、図１５（ｂ）は、第２のカートリッジ３０の側面図を示している。また、図１５は、ガラス基板１３が上側にある状態、すなわち、上下反転していない状態を示している。なお、第２のカートリッジ３０の説明において、第１のカートリッジ２０と共通する内容については、適宜説明を省略する。

第２のカートリッジ３０はベース部３１、当接部３２、付勢部３３を備えている。ベース部３１の中央には、開口部３１ａが配置されており、ベース部３１は枠状になっている。そして、この開口部３１ａに、ガラス基板１３が配置される。

ベース部３１の−Ｘ側の端辺、及び−Ｙ側の端辺には、それぞれ当接部３２が設けられている。すなわち、一方の当接部３２は、ガラス基板１３の−Ｘ側に配置され、他方の当接部３２は、ガラス基板１３の−Ｙ側に配置される。当接部３２は、ボルト３２ａによって、ベース部３１に固定されている。

ベース部２１の＋Ｘ側で＋Ｙ側の角部には、付勢部３３が設けられている。付勢部３３は、先端部３３ａ、バネ３３ｂ、レバー３３ｃ、本体部３３ｄを有している。付勢部３３の構成は、付勢部２３と同様であるため、説明を省略する。すなわち、付勢部３３の先端部３３ａ、バネ３３ｂ、レバー３３ｃ、本体部３３ｄがそれぞれ、付勢部２３の先端部２３ａ、バネ２３ｂ、レバー２３ｃ、本体部２３ｄに対応する。そして、レバー３３ｃを操作することで、付勢部３３を退避位置、又は保持位置に切り替えることができる。

図１５（ａ）に示すように、ガラス基板１３の−Ｙ側の端部には、Ｘ方向に沿って切欠１３ａが形成されている。そして、切欠１３ａにおいて、ガラス基板１３の側面が一方の当接部３２と接触する。よって、ＸＹ平面視において、一方の当接部３２のガラス基板１３の側面と接触する箇所は直線状になっている。ガラス基板１３において、他方の当接部３２と接触する箇所は、円弧状となっている。よって、ＸＹ平面視において、他方の当接部３２のガラス基板１３と接触する箇所は、ガラス基板１３の外周に沿うように、円弧状になっている。もちろん、他方の当接部３２を直線状にしてもよい。この場合、ガラス基板１３の２か所に切欠１３ａを設ける。

さらに、ベース部３１には、２つの脱落防止機構３４が取り付けられている。一方の脱落防止機構３４は、ガラス基板１３の＋Ｘ側に配置され、他方の脱落防止機構３４はガラス基板１３の−Ｘ側に配置されている。脱落防止機構３４は、先端部３４ａ、バネ３４ｂ、レバー３４ｃ、本体部３４ｄを備えている。なお、脱落防止機構３４の機構は、付勢部３３の機構と同様になっているため、説明を省略する。すなわち、脱落防止機構３４の先端部３４ａ、バネ３４ｂ、レバー３４ｃ、本体部３４ｄは、それぞれ、付勢部３３の先端部３３ａ、バネ３３ｂ、レバー３３ｃ、本体部３３ｄに対応する。

そして、先端部３４ａが配向面１３ｂの上側に延在するように配置されている（図１５（ｂ）参照）。また、先端部３４ａは、ガラス基板１３の側面と接触しないようになっている。レバー３４ｃを回転すると、先端部３４ａが図１５（ｂ）の白抜矢印方向に移動する。先端部３４ａが配向面１３ｂの上側から退避する。すなわち、一対の先端部３４ａが離れるように移動する。このように、レバー３４ｃを操作することで、脱落防止機構３４を退避位置、又は保持位置に切り替えることができる。

脱落防止機構３４及び付勢部３３を退避位置に移動することで、ガラス基板１３を第２のカートリッジ３０から脱着することができる。例えば、ガラス基板１３を第２のカートリッジ３０に脱着する場合、レバー３３ｃ、レバー３４ｃを所定の方向に回転させて、先端部３３ａ、先端部３４ａを退避位置に移動する。これにより、ガラス基板１３が搬入及び搬出することできる状態となる。第２のカートリッジ３０の上に、ガラス基板１３を搬入したら、レバー３３ｃ、レバー３４ｃを反対方向に回転させて、先端部３３ａ、先端部３４ａを保持位置に移動する。すなわち、先端部３３ａをガラス基板１３の側面に当接させる。さらに、一対の先端部３４ａを近づけて、先端部３４ａが配向面１３ｂの上方に移動する。ガラス基板１３の脱落を防止した状態で、第２のカートリッジ３０がガラス基板１３を保持することができる。

（保持治具５０）
次に、保持治具５０の構成について、図１６、及び図１７を用いて詳細に説明する。保持治具５０は、ベース部５１、当接部５２、及び付勢部５３を備えている。なお、保持治具５０の基本的な構成は、ステージ４０と同様であるため、共通の構成については、適宜説明を省略する。例えば、当接部５２と付勢部５３の構成は、当接部４２と付勢部４３と同様であるため、説明を省略する。

ベース部５１には、開口部５１ａが設けられている。この開口部５１ａ内に、第２のカートリッジ３０が配置される。なお、第２のカートリッジ３０の一部はベース部５１の上側に載置されるため、第２のカートリッジ３０が保持治具５０から落下することはない。当接部５２と付勢部５３とが第２のカートリッジ３０を保持する。すなわち、付勢部５３が第２のカートリッジ３０を当接部５２に付き当てることで、保持治具５０が第２のカートリッジ３０を保持する。なお、第２のカートリッジ３０の−Ｙ側に配置された当接部５２は、ＸＹ平面視においてコの字型に形成されている。こうすることで、付勢部５３が付勢部３３と干渉するのを防ぐことができる。すなわち、Ｙ方向の位置を規定する当接部５２がＸ方向に離れた２か所で第２のカートリッジ３０と当接し、この間に付勢部３３が配置される。

図１５に示す状態の第２のカートリッジ３０を上下反転すると、ガラス基板１３は下側に向く。この状態で、第２のカートリッジ３０を保持治具５０の上に載置する。すなわち、ガラス基板１３の配向面１３ｂが下面となった状態で第２のカートリッジ３０を保持治具５０に設置する。このとき、ガラス基板１３は、開口部５１ａ内に配置される。したがって、配向面１２ｂと配向面１３ｂが向かい合った状態で、ガラス基板１３がシリコンウェハ１２の上方に配置される。そして、付勢部５３が第２のカートリッジ３０を当接部５２に付勢する。当接部５２と付勢部５３とによって、第２のカートリッジ３０が保持治具５０に位置決めされて、保持される。

さらに、保持治具５０には、支柱８６に固定するために固定穴５６が設けられている。支柱８６が固定穴５６に挿入されることによって、保持治具５０が支柱８６に固定されて、支持される。固定穴５６は、第２のカートリッジ３０の外周よりも外側に配置されている。ここでは、４つの固定穴５６が対角に配置されている。

なお、第２のカートリッジ３０の当接部３２は、ガラス基板１３の−Ｘ側、及び−Ｙ側に配置されている。したがって、当接部３２と当接部５２が近接して配置されている。すなわち、ＸＹ平面視において、当接部３２が当接部５２とガラス基板１３との間に配置される。このようにすることで、ガラス基板１３の位置決めの基準位置と、第２のカートリッジ３０の位置決めの基準位置を近づけることができる。これにより、より高い精度で位置決めすることができる。

（製造装置）
次に、製造装置の構成とその工程について説明する。図１８〜図２０は、製造装置１０２の構成を側面断面図である。図１８は、ダイセット１０１に第１のカートリッジ２０を設置する工程を示し、図１９は、ダイセット１０１に第２のカートリッジ３０を設置する工程を示している。図２０は、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを近づける工程を示している。

製造装置１０２は、チャンバ８０と、可動支柱８１と、ストッパ８２と、台座８３と、ダイセット１０１と、駆動機構８５と、を備えている。ダイセット１０１は、上記のように、ステージ４０、保持治具５０、及び支柱８６を備えている。チャンバ８０は、可動支柱８１、ストッパ８２、台座８３、ステージ４０、及び保持治具５０等を収容している。台座８３の上には、ダイセット１０１が配置されている。さらに、図１８、図１９に示すように、チャンバ８０の上方には開口部８０ａが設けられており、外部空間と連通している。そして、図２０に示すように、チャンバ８０の上に蓋８７を配置して、開口部８０ａを塞ぐ。これにより、チャンバ８０の内部空間が密閉される。チャンバ８０は図示しない真空ポンプに接続されており、チャンバ８０内を真空状態にすることができる。

チャンバ８０の底面には、駆動機構８５、及び可動支柱８１が設けられている。可動支柱８１は、チャンバ８０に上下移動可能に保持されている。可動支柱８１は、Ｚ方向に沿って設けられ、台座８３を支持している。可動支柱８１は、台座８３の上下移動をガイドするガイド機構となる。駆動機構８５は、台座８３の底面に取り付けられ、台座８３を支持している。駆動機構８５は、台座８３を上下に移動させる。例えば、駆動機構８５は、モータ又はシリンダなどであり、台座８３を上下に移動する。これにより、台座８３が可動支柱８１とともに上下に移動する。

台座８３の上には、ダイセット１０１が配置されている。具体的には、台座８３には、支柱８６がＺ方向に沿って設けられている。そして、支柱８６は、ステージ４０の貫通穴４５を通って保持治具５０を支持している。さらに、支柱８６は、ベアリングなどを介して、ステージ４０と連結されている。台座８３が上下に移動すると、ステージ４０及び保持治具５０も上下に移動する。すなわち、台座８３に連動して、ステージ４０及び保持治具５０が上下に移動する。ダイセット１０１には、シリコンウェハ１２を保持した第１のカートリッジ２０とガラス基板１３を保持した第２のカートリッジ３０がセットされる。

さらに、チャンバ８０の底面には、ストッパ８２がＺ方向に沿って設けられている。台座８３には、ストッパ８２の位置に、貫通穴８３ａが設けられている。したがって、台座８３を所定の位置まで下降すると、ストッパ８２が貫通穴８３ａを貫通して、ステージ４０に突き当たる（図２０参照）。これにより、ステージ４０の下降が停止する。すなわち、ストッパ８２は、チャンバ８０内での、ステージ４０の下限位置を規定している。ステージ４０の下降は、ストッパ８２によって制限される。

なお、可動支柱８１、支柱８６、ストッパ８２は、対称性を考慮して、対角に配置することが好ましい。すなわち、可動支柱８１、支柱８６、ストッパ８２をそれぞれ４つ設けて、周方向に９０度間隔で配置することが好ましい。そして、駆動機構８５は、４つの可動支柱８１を配置した中心に配置することが好ましい。これにより、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３が水平を保ったまま、上下に移動する。

（第１のカートリッジ２０の搬入）
ステージ４０に第１のカートリッジ２０を設置すると、図１８に示す状態となる。例えば、駆動機構８５を駆動して、台座８３を最も高い位置まで持ち上げる。こうすることで、ステージ４０の上部が、チャンバ８０の上端よりも上側になる。これにより、ステージ４０上に第１のカートリッジ２０を載置することができる。ここでは、第１のカートリッジ２０をＹ方向に移動させて、ステージ４０の上に第１のカートリッジ２０を載置している。すなわち、ステージ４０と保持治具５０との間に、横方向から第１のカートリッジ２０を搬入している。支柱８６の間を通って、第１のカートリッジ２０をステージ４０上に載置する。第１のカートリッジ２０がステージ４０に載置されたら、付勢部４３を保持位置に移動する。

（第２のカートリッジ３０の搬入工程）
次に、保持治具５０に第２のカートリッジ３０を設置すると、図１９に示す状態となる。例えば、駆動機構８５を駆動して、図１８に示す位置から台座８３を下げる。この状態では、保持治具５０がチャンバ８０の上端よりも上側になる。そして、上下反転した状態のカートリッジ３０を保持治具５０の上に載置する。ここで、ガラス基板１３は、開口部５１ａに配置される。これにより開口部５１ａを介して、ガラス基板１３とシリコンウェハ１２が対向配置される。第２のカートリッジ３０が保持治具５０に載置されたら、付勢部５３を保持位置に移動する。

なお、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０を搬入する順序は反対であってもよい。例えば、第２のカートリッジ３０を保持治具５０上に載置した後に、第１のカートリッジ２０をステージ４０上に載置してもよい。もちろん、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０をダイセット１０１に同時に搬入してもよい。

（貼り合せ工程）
次に、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを貼り合せる工程について説明する。図１９に示す状態から駆動機構８５を駆動して、台座８３を下げていくと、図２０に示すようになる。より詳細には、第２のカートリッジ３０及び保持治具５０がチャンバ８０の上端よりも下に位置するように、台座８３を下降する。このとき、台座８３は、可動支柱８１にガイドされながら、下降する。そして、チャンバ８０に蓋８７を取り付けて、開口部８０ａを塞ぐ。蓋８７とチャンバ８０とで形成された空間を真空ポンプによって排気して、真空状態とする。

チャンバ８０内の空間が真空状態となったら、可動支柱８１に沿って台座８３をさらに下げていく。台座８３を下げていく途中、ストッパ８２が貫通穴８３ａを通過して、ステージ４０に当接する。すると、ステージ４０の下降が停止して、台座８３とステージ４０とが離れていく。支柱８６を介して台座８３に支持されている保持治具５０は、そのまま下降する。ステージ４０がストッパ８２の位置で停止しても、保持治具５０が下降していく。これにより、保持治具５０がステージ４０に近づいていく。すなわち、ステージ４０が支柱８６にガイドされながら、保持治具５０に対してステージ４０が相対的に移動していく。そして、ステージ４０が保持治具５０に対してある距離まで近づいたら、上記のように脱落防止機構３４を退避させる。

脱落防止機構３４を退避した後、さらに駆動機構８５を駆動して、台座８３を下降する。ストッパ８２がステージ４０の下降を停止しているため、保持治具５０がステージ４０に近づいていく。ステージ４０が支柱８６にガイドされながら、保持治具５０に接近していく。保持治具５０の開口部５１ａ内に第１のカートリッジ２０の一部及びシリコンウェハ１２が移動する。そして、第２のカートリッジ３０の保持されているガラス基板１３がシリコンウェハ１２上のシール材６（図１８〜図２０では不図示）と接触する。これにより、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とシール材６とで形成された空間が封止される。

そして、第２のカートリッジ３０がガラス基板１３の保持を解除する。すなわち、付勢部３３を退避位置に移動する。これにより、ガラス基板１３が第２のカートリッジ３０から第１のカートリッジ２０に受け渡される。なお、ガラス基板１３の保持の解除は、脱落防止機構３４を退避した後であれば、シール材６とガラス基板１３が接触する前であってもよい。シール材６とガラス基板１３が接触する前に、ガラス基板１３の保持を解除する場合、ガラス基板１３が第２のカートリッジ３０から落下することでシール材６とガラス基板１３とが接触する。

その後、チャンバ８０をベントして大気圧に戻すとともに、駆動機構８５が台座８３を上昇させる。この時、大気圧によってシリコンウェハ１２とガラス基板１３とが加圧される。これにより、仮接合された貼り合わせ基板１４が形成される。大気での加圧によって、駆動基板１と対向基板２とが所定のセルギャップとなる。そして、蓋８７を外して、ダイセット１０１から、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０とを搬出する。これにより、第１のカートリッジ２０上に載置された状態で、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とが製造装置１０２から搬出される。

そして、シール材６の硬化のため、ガラス基板１３を介して紫外線を照射するとともに、シリコンウェハ１２とガラス基板１３を加熱する。これにより、シール材６が硬化されて、貼り合わせ基板１４が完成する。なお、貼り合わせ基板１４を第１のカートリッジ２０上にセットした状態で、シール材６の硬化を行ってもよい。こうすることで、基板のチッピングや発塵を防ぐことができる。

上記のように、第１のカートリッジ２０、及び第２のカートリッジ３０をダイセット１０１に搬入出するため、ダイセット１０１を駆動機構８５によって、チャンバ８０の上方までダイセット１０１を持ち上げている。ストッパ８２を用いているため、駆動機構８５の下降動作によってシリコンウェハ１２とガラス基板１３とを接近させることができる。すなわち、ダイセット１０１の上下駆動によって、第１のカートリッジ２０と第２のカートリッジ３０とが接近させることができる。このようにすることで、ステージ４０及び保持治具５０をカートリッジの搬入位置に移動させる駆動機構８５と、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを近づける駆動機構８５とを共通化することができる。これにより、駆動機構の数を減らすことができ、装置構成を簡素化することができる。

もちろん、上記の説明では、駆動機構８５が台座８３を下降させることで、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを接近させたが、駆動機構８５の上下動作は特に限定されるものではない。すなわち、駆動機構８５が台座８３を上昇させることで、シリコンウェハ１２とガラス基板１３とを接近させてもよい。すなわち、駆動機構８５が、ステージ４０と保持治具５０の少なくとも一方を上下に移動させることができればよい。換言すると、ステージ４０と保持治具５０とを接近させるように、ステージ４０又は保持治具５０を移動すればよい。もちろん、ステージ４０と保持治具５０とを別々の駆動機構８５で上下移動させてもよい。

なお、製造工程において、第１のカートリッジ２０、及び第２のカートリッジ３０を用いることで、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３に直接触れることなく、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３を搬送することができるようになる。シール材の塗布、液晶の滴下工程において、第１のカートリッジ２０を用いるようにしてもよい。すなわち、第１のカートリッジ２０にシリコンウェハ１２をセットした状態で、シール材６の塗布、及び液晶７の滴下を行うようにしてもよい。これにより、貼り合せ工程前の発塵などを防ぐことができる。よって、セルギャップに異物などが混入することを防ぐことができ、歩留まりを改善することができる。特に、シリコン基板を用いた高精細の反射型液晶表示素子１００では、セルギャップが数μｍ程度と非常に狭くなる。したがって、セルギャップを均一にするためには、異物の混入を確実に防ぐ必要がある。本実施の形態に係る製造装置１０２を用いることで、高精細画像表示が可能な液晶表示素子１００を高い生産性で製造することができる。

さらに、第１のカートリッジ２０、及び第２のカートリッジ３０が、シリコンウェハ１２及びガラス基板１３を保持しているため、作業者が直接シリコンウェハ１２及びガラス基板１３に触れることなくなる。基板をカートリッジに搬入した後は、カートリッジの搬送のみで製造装置１０２に基板を移載することができる。よって、移載機で搬入、搬出を行うことができる。よって、発塵を防ぐことができる。

また、ストッパ８２がシリコンウェハ１２やガラス基板１３ではなく、ステージ４０に当接している。これにより、チッピングを防ぐことができる。よって、歩留まりを改善することができる。なお、第１のカートリッジ２０、第２のカートリッジ３０、ステージ４０、及び保持治具５０は金属材料によって形成されている。これにより、精度よく加工することができる。例えば、当接部４２、５２と当接する第２のカートリッジ３０と第１のカートリッジ２０の側面を平面にする。こうすることで、より精度よく位置決めすることができる。

また、第１のカートリッジ２０及び第２のカートリッジ３０の基板と接触する部分、すなわち、当接部２２、当接部３２、先端部３３ａ、及び先端部２３ａはチッピングが起こらないように軟質な材料とすることが好ましい。また、シリコンウェハ１２、及びガラス基板１３には、当接部２２、当接部３２、先端部３３ａ、及び先端部２３ａ以外、接触していない。これにより、接触面積を小さくすることができ、よりチッピングや発塵を防ぐことができる。

本実施の形態にかかる製造装置は、第１の基板と第２の基板とが貼り合わせられた貼り合わせ基板を製造する製造装置であって、前記第１の基板の側面と当接する第１の当接部と、前記第１当接部に前記第１の基板を付勢する第１の付勢部と、を備え、前記第１の基板を保持する第１のカートリッジと、前記第２の基板の側面と当接する第２の当接部と、前記第２の当接部に前記第２の基板を付勢する第２の付勢部と、を備え、前記第２の基板を保持する第２のカートリッジと、前記第１のカートリッジの側面と当接する第３の当接部と、前記第３の当接部に前記第１のカートリッジを付勢する第３の付勢部と、を備え、前記第１のカートリッジを保持するステージと、前記第２のカートリッジの側面と当接する第４の当接部と、前記第４の当接部に前記第２のカートリッジを付勢する第４の付勢部と、を備え、前記ステージの上方において前記第２のカートリッジを保持する保持治具と、前記第１の基板と前記第２の基板とを接近させるために、前記ステージに対して前記保持治具を相対移動させる駆動機構と、前記駆動機構による相対移動をガイドするガイド機構と、前記ステージ、前記保持治具、及び前記ガイド機構を収容するチャンバと、を備えたものである。

上記の製造装置が、前記ステージの下限位置を規定するストッパをさらに備え、前記駆動機構が、前記保持治具、及び前記ステージを下降させ、前記駆動機構の下降動作中に前記ステージがストッパと当接することで、下降中の前記保持治具が前記ステージに近づいていくようにしてもよい。

上記の製造装置において、前記第２のカートリッジには、前記第２の基板の前記第１の基板側の面側に突出する脱落防止機構が設けられていてもよい。

上記の製造装置において、前記第１のカートリッジの前記第１の当接部及び前記第１の付勢部が、前記第１の基板の表面から突出しない状態で、前記第１の基板を保持するようにしてもよい。

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。

１ 駆動基板、 ２ 対向基板、 ３ 表示領域、 ３ａ 画素、 ４ 周辺領域
６ シール材、 ７ 液晶、 ８ スペーサ、 ９ 配向膜、 １０ 端子
１２ シリコンウェハ、 １３ ガラス基板、 １４ 貼り合わせ基板
２０ 第１のカートリッジ、 ２１ ベース部、 ２１ａ 開口部
２２ 当接部、 ２３ 付勢部、 ３０ 第２のカートリッジ、 ３１ ベース部
３１ａ 開口部、 ３２ 当接部、 ３３ 付勢部、 ３４ 脱落防止機構、
４０ ステージ、 ４１ ベース部、 ４２ 当接部、 ４３ 付勢部
５０ 保持治具、 ５１ ベース部、 ５２ 当接部、 ５３ 付勢部
８０ チャンバ、 ８５ 駆動機構、 ８６ 支柱、 １０１ ダイセット、

Claims (2)

1. 第１の基板と第２の基板とが貼り合わせられた貼り合わせ基板を製造する製造装置であって、
   前記第１の基板の側面と当接する第１の当接部と、前記第１当接部に前記第１の基板を付勢する第１の付勢部と、を備え、前記第１の基板を保持する第１のカートリッジと、
   前記第２の基板の側面と当接する第２の当接部と、前記第２の当接部に前記第２の基板を付勢する第２の付勢部と、を備え、前記第２の基板を保持する第２のカートリッジと、
   前記第１のカートリッジの側面と当接する第３の当接部と、前記第３の当接部に前記第１のカートリッジを付勢する第３の付勢部と、を備え、前記第１のカートリッジを保持するステージと、
   前記第２のカートリッジの側面と当接する第４の当接部と、前記第４の当接部に前記第２のカートリッジを付勢する第４の付勢部と、を備え、前記ステージの上方において前記第２のカートリッジを保持する保持治具と、
   前記第１の基板と前記第２の基板とを接近させるために、前記ステージに対して前記保持治具を相対移動させる駆動機構と、
   前記駆動機構による相対移動をガイドするガイド機構と、
   前記ステージ、前記保持治具、及び前記ガイド機構を収容するチャンバと、を備えた製造装置。
2. 第１の基板と第２の基板とが貼り合わせられた貼り合わせ基板を製造する製造方法であって、
   前記第１の基板の側面と当接する第１の当接部と、前記第１の当接部に前記第１の基板を付勢する第１の付勢部と、を備えた第１のカートリッジによって、前記第１の基板を保持するステップと、
   前記第２の基板の側面と当接する第２の当接部と、前記第２の当接部に前記第２の基板を付勢する第２の付勢部と、を備えた第２のカートリッジによって、前記第２の基板を保持するステップと、
   前記第１のカートリッジの側面と当接する第３の当接部と、前記第３の当接部に前記第１のカートリッジを付勢する第３の付勢部と、を備えたステージに前記第１のカートリッジを配置するステップと、
   前記第２のカートリッジの側面と当接する第４の当接部と、前記第４の当接部に前記第２のカートリッジを付勢する第４の付勢部と、を備えた保持治具に前記第２のカートリッジを配置するステップと、
   ガイド機構に沿って前記ステージに対して前記保持治具を相対的に移動させることで、前記ステージの上に配置された前記保持治具に前記ステージを近づけていくステップと、を備えた製造方法。

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