TWI257497B - Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage - Google Patents

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1257497 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係主張2003年2月20曰所申請之美國臨時專 利申請案第60/448,85 5號優先權，其全文係合併於此以供 參考。 本發明係與下列審查中之美國臨時專利申請案相關： 2 0 0 3年2月2 0日所申請之美國臨時專利申請案第 60/448,82 1 號，標題為「METHODS AND APPARATUS FOR DETERMINING A POSITION OF A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE」；以及 2003年2月 20曰所申請之美國臨時專利申請案第 60/448,972 號，標題為「METHOD AND APPARATUS FOR POSITIONING A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE」。 前述各臨時專利申請案之全文係合併於此以供參考。 本發明一般係關於基材處理，且尤其係關於相對於一 支撐平台定位一基材。 【先前技術】 於平面顯示器製造期間，玻璃基材可置放於一支撐平 台上以進行處理及/或測試。典型基材處理可包括微影、沉 積、蝕刻、退火等，而典型基材測試則包括確認薄膜電晶 體形成於基材、電子束檢測、缺陷偵測等操作。 為能正確辨識元件及/或基材位置以進行處理及/或 5 1257497 測試，以及/或減少元件/位置搜尋時間，一基材相對於一 測試台之位置應能準確判定。因此，快速且正確判定一基 材相對於一測試或其他支撐台之位置的方法與設備係為吾 人所期待的。 【發明内容】 於本發明之一第一態樣中係提供一種基材對準系 統，其係用以橫向推動一置於一支撐平台上之基材以使該 基材相對於該支撐平台作滑動。該對準裝置包括（1) 一第一 推進器，用以接觸一由該支撐平台所支撐之一基材的邊緣 並沿一第一移動路徑作橫向移動；（2) —第二推進器，用以 接觸該基材之該邊緣並沿一第二移動路徑作橫向移動，該 第二移動路徑係以一角度於一路徑交點與該第一移動路徑 相交；（3)—框架，其中該第一及該第二推進器係可動地與 之相連，該框架係用於將該第一及第二推進器保持在該支 撐平台所支撐之該基材之邊緣的高度；（4) 一第一偏壓元 件，其係連接於該第一推進器及該框架之間且用於使該第 一推進器相對於該基材之該邊緣產生偏壓；以及（5) —第二 偏壓元件，其係連接於該第二推進器及該框架之間且用於 使該第二推進器相對於該基材之該邊緣產生偏壓而不受該 第一推進器之偏壓所影響。 於本發明之一第二態樣中係提供一基材校準系統，其 包括數個以一間隔關係繞設於一支撐平台周圍的對準元 件。該等對準元件之每一者至少包含（1) 一第一推進器，用 1257497 以接觸一由該支撐平台所支撐之基材之一邊緣，並沿一第 一移動路徑作橫向移動；（2) —第二推進器，用以接觸該基 材之該邊緣，並用以沿一第二移動路徑作橫向移動，該第 二移動路徑係以一角度於一路徑交點與該第一移動路徑相 交；（3)—框架，其中該第一及該第二推進器係可動地與之 相連，該框架係用於將該第一及第二推進器保持在該支撐 平台所支撐之該基材之邊緣的高度；（4) 一第一偏壓元件， 其係連接於該第一推進器及該框架之間且用於使該第一推 進器相對於該基材之該邊緣產生偏壓；以及（5)—第二偏壓 元件，其係連接於該第二推進器及該框架之間且用於使該 第二推進器相對於該基材之該邊緣產生偏壓而不受該第一 推進器之偏壓所影響。本發明另提供多種態樣，以及符合 本發明之此等或其他態樣的方法及設備。 本發明之其他特徵及態樣在參照下文例示性實施例 的詳細說明、附加申請專利範圍及圖式後將更易領會。 【實施方式】 習知用以生產玻璃基材（例如用於平面顯示器及其他 應用）之製造方法可生產出不同尺寸的基材。例如，具有1 米χ1·2米之公稱寬度及長度尺寸之基材的每一邊（或更多） 可上下變動0.5毫米。 此等玻璃基材尺寸的變動在裝置製程及/或測試期間 可能會導致諸多問題。例如於光罩對準期間，平板印刷系 統可依賴一或多個電子束（e-beam)以找尋基材表面之註冊 1257497 標記。當雷工 sL· 子束欲知描之基材表面區域很小時（例如為找出 其上之註冊標記b電子束將可發揮最大的作用。然而，前 文所述之該等尺寸變異往往會造成電子束所需掃描以找出 ,主冊標記之區域增加。任何電子束掃描區域的增加都會始 能找出註冊標記之所需時間拉長。由於基材表面之標記印 刷在適*板準前都得延遲，所增加的掃描時間勢必會影響 平板印刷之效率。此外，由於過度的電荷會在電子束掃描 製程期間增加，過長的電子束掃描時間也將損害基材上的 裝置。 於本發明之一第一態樣中，此處所揭示之方法及設備 都適於使一基材置放於一支樓平台上（此平台可為一測試 平台或其他類型之基材處理平台）以相對於該支推平台作 位置及/方位上的調整。較佳的是，基材依據本發明第一態 樣所定位及/或方位上的調整將仍可相對於該支擇平台之 已知位置及方位對基材進行粗略的調整。於一特定實施例 中’上述粗略的校準無論基材尺寸變化為何皆可進行，藉 以降低及/或減少平板印刷製程期間的電子束掃描區域及/ 或掃描時間。如下文所將進一步描述者，前述基材校準將 可快速且以花費不多的方式進行，同時也可用於其他的基 材製程步驟及/或裝置測試期間。 第1 Α圖係依據本發明之一基材校準系統1 〇 1之例示 性實施例的上方概要圖。該基材校準系統1 〇 1已顯示係置 於鄰近於一支撐一基材丨〇5(其具有一邊緣107)之支偉平 台 103。 1257497 如第1A圖所示，該基材校準系統1〇1至少 對準裝置（例如數個推進裝置1〇9)，其以一間隔 於該支撐平台1〇3周圍。然更少或更多的推進裝 用。各推進農置109係經定位鄰近於該支撐平台 角落（其他替代的位置亦可接受，例如鄰近該支撐 之一側）。各推進裝置109包括一第一及一第二推 部H3a、U3b，該第一推進器支撐部n3a適於 推進裝置109之㈣m沿一第一移動路徑ιΐ5 (並經由一第一推進器n7a接觸該基材1〇5),而 進器支撐部113b適於相對於該推進裝置1〇9之該 沿一第二移動路徑n 5 b作移動（並經由一第一推； 接觸該基材105)。各推進裝置1〇9之該框架m 轂部119(例如，通常位於該第一移動路徑u5a 移動路徑115b相交之一路徑交點121)。該推進 之框架1 1 1的其他配置也可使用，例如在沒有框 分位於該路徑交點1 2 1。 亦如第1圖所示，該推進裝置1〇9之框架1 ] 11 9也可經定位及配置已使其可完全或部分地位 1 0 5下。此外，該穀部丨丨9也可作定位及被至已 或部分地位於該支撐平台i 03下。因此應可領會 基材杈準系統1 0 1的存在增加了表面區（例如，可 —給定之處理或檢測工具中由該支撐平台103之 度所造成），此增加與該支撐平台103之表面區相 至最小及/或相當小的程度。 包含四個 關係配置 置亦可使 103 之一 平台103 進器支撐 相對於該 a作移動 該第二推 框架111 复器117a 可包括一 及該第二 裝置109 架111部 L1的轂部 於該基材 使其完全 的示弱該 能最初在 寬度及長 較下可降 9 1257497 各推進恭支撐部丨丨3相對於該推進裝置 的移動可藉由一導引桿123來幫助進行。各 可用於界定一移動路徑115，且當一移動路徑 的情況下，該導引桿123亦可呈直線。於其他 該導引桿123可依據該移動路徑115之所欲 化。於第1圖之例示中，各推進裝置i 〇9至少 引桿123，且個導引桿123之一端係與該推進 框架m的轂冑119相連接。然而其他的安排 例如該框架Hi也可與一或兩導引桿123之該 接。 各推進裳置i 09更可沿其移動路徑u 5將 I 4 11 3之移動限制在一預定範圍内（例如，分 及第一預定範圍）。例如，如第1圖所示，該推 更可至少包括一連接該推進裝置109之框架1: 125(以輪廓圖示）以進行工作。於第1圖之例示 茫置109至乂包含兩個止動板I]?，且各止動 由該框架111之一突出部127連接該推進裝置 木11 1 ’以由該框架u丨之該轂部丨丨9向外伸d 圖中亦圖不兩突出部1 2 7之狀態，應可暸解的 出部為多或為少的數目亦可使用。 在操作上，第1圖之該基材校準系統1 〇 i 推進裝置109之推進器117移離（例如藉由該推 113的移動）該支撐平台1〇3的方式以使該基材 該支撐平台103上。其後，該基材} 05可裝載 1〇9之框架 導引桿123 1 1 5為線性 實施例中， 形狀而作變 包含兩個導 裝置1 09之 亦可使用， 等端部相連 各推進器支 別為一第一 進裝置109 Π的止動板 中’各推進 板1 2 5係經 1 0 9之該框 i。然而第1 是較二個突 可藉由將該 進器支撐部 105裝载於 於該支撐平 10 1257497 台i〇3上且該等推進器117可移向該基材ι〇5之該邊緣 107，以將該基材105相對於該支撐平台1〇3作校準。有關 操作該基材校準系統1〇1之該推進裝置1〇9的模式之進一 步細節將參照下文及第2A-2C圖討論之。 第2A圖係第1圖之該推進裝置1〇9之一上方概要 圖，其中該推進裝置109之該等推進器117係由該推進裝 置109之該框‘ ill的毅部119内縮。當該等推進器I】？ 經定位後，該基材105可置放於該支撐平台1〇3上或由該 支撐平台卸載。於一特定實施例中，第2A圖之該基材1〇5 係僅與該支撐平台103相接觸。於上述實施例中，該推進 裝置1〇9更可經配置以使該推進裝置1〇9之剩餘部分（除該 等推進器117外）係與該基材1〇5相間隔並未於該基材1〇5 下方以利於該基材1〇5相對於該支撐平台1〇3作裝載或卸 載。其他實施例中，第2A圖之該基材1〇5係接觸該支撐 平'103及該推進裝置1〇9之一或兩個推進器支撐部m t —頂表面，以對該基材105提供而外的支撐。（應注意的 疋第2A圖中，該基材105仍需與該支撐平台1〇3對準， J如以使該基材1〇5之該邊緣107其後可對準該支撐平台 1〇3之一 X-y座標系統）。 第2B圖係第1·圖之該等推進裝置1〇9之一上方概要 、中該推進裝置1〇9之該等推進器η?在將該1〇5相 士 士 ;以支撐平台103作校準之前先與該基材之該邊緣1〇7 接觸。例如，各推進器i丨7已由第2 Α圖所示之一内縮 位置甘々、 各自的移動路徑115移動，並移向該支撐平台1〇3 11 1257497 至少一足以接觸該基材105(置放於該支撐平台1〇3上）之 該邊緣107的距離。如前文所提及，該基材ι〇5如第2B 圖所示可與該等推進器支撐部113之一或兩者的頂表面 131相接觸。或者，於該基材105及該推進裝置1〇9間的 接觸可侷限於該等推進器117内。該推進裝置1〇9之該等 表面所接觸之基材1 0 5 (例如該等推進器丨丨7之垂直表面及 /或該等推進器支撐部113的上表面），以及/或該支標平台 103支撐該基材105之該表面可作處理，以促進其間的平 滑移動’並保護該基材1 05之一表面不受刮傷。例如，此 等表面可塗以鐵氟龍 Tefl〇n®(如聚四說乙 烯，polytetrafluoroethylene)或其他類似之低摩擦力材料。 在基材定位/校準該支撐平台103期間，上述之低摩擦力塗 層在一基材須滑向一推進器11 7時特別有利。 第2C圖係第1圖之該推進裝置1〇9之一上方概要 圖，其中該基材105已相對於該支撐平台ι〇3作校準（例如 藉由將該等推進器117接觸及推向該基材1〇5之該邊緣 i〇7) °亦即，該基材105之該邊緣107係對準該支撐平台 1 〇 3之 x - y座標系統1 3 3。於一或多個實施例中，該基材 校準系統101(如第1圖所示）係藉由將該基材1〇5侷限及/ 或圍在該等推進器U7所界定之一圓周内（未分別圖示出） 的方式以將該基材1〇5校準該支樓平台於若干上述 實也例中，一旦該基材1〇5位於該圓周内，其並不需要將 繼續任何推進器117推向該基材105之該邊緣ι〇7。於又 另一實施例中，該基材校準系統1 0 i及該支撐平台i 〇3於 12 1257497 處理或檢測期間可一前一後的作移動，該基枒 1 UJ繼續 侷限於該等推進器117所界定之一圓周内。於甘从—Μ 、 J 於其他該等實 施例中，該等推進器117之一或多者可持續推向該基材i〇s 之該邊緣107，以對該等相同要求（無論該支擇平二IQ〕θ 否與該基材校準系統1〇1 —前一後作移動）的應用提供$ 進一步的限制。 第3及4圖分別為一分解組件概要圖及一推進裝置 l〇9a(其至少包括第1及第2a-2C圖之該推進裝置ι〇9之一 例示實施例）之一戴面側視圖。 參照第3及第4圖，該推進裝置l〇9a至少包括—樞 架111及兩個可動地與該框架111連接之推進器支偉部 11 3。各推進器支撐部丨丨3係沿著一線性移動路徑丨丨$相對 於該框架111作移動。該推進裝置109a更包括兩個推進器 117’各推進器117連接該等推進器支撐部1 ， 表面1 3 1以沿該移動路徑丨〗5相對於該框架n i作移動 ^ 1 1 1包括一較部11 9，其通常係位於一路經交點 1 2 1，即該等推進哭* 運益支撐部113及該等推進器117之移動路 徑11 5交叉處。該施 %推進裝置l〇9a更包括兩個與該推進裝置 l〇9a之該框架ιη 1 1 1之轂部11 9相連的導引桿1 2 3。例如， 個導引桿12 3可以—里备 M 一懸臂樑配置的方式由該轂部11 9延伸 出。各導引桿1Μ & ra 係用於導引該等推進器支撐部113之一 者沿該推進器支擋卹 & # ^ 11 3之該移動路徑11 5移動。例如， 各推進器支撐部Ί Ί。 可至少包含一第一及一第二向下延伸 部135、137，各句紅 匕括一位於其内之孔洞可設一桿軸承1 3 9， 13 1257497 用以利於沿該導引桿123將該推進器支撐# ιΐ3作平滑移 動。 該推進裝置109a之該框架U1更包括兩個突出部 127’各突出部127係將該等導引桿123之—者圍在—開放 圍牆141内。該推進裝置1〇9&亦包括兩各止動板125，一 止動板125係與該等突出部12?之不同—者相連接並對各 開放圍牆141形成一末端邊界。 該推進裝置109a更包括兩個偏壓元件143，其中一 偏壓元件143可延伸地連接於該止動板125及該推進器支 撐部113之該第二向下延伸部137(其係位於該開放圍牆 141内）間的各開放圍牆141内。應可領會的是該推進裝置 109之各偏壓元件143係用於（1)推向一止動板125，其較 佳係固定地與該框架ill相連接；（2)於一開放圍牆ΐ4ι内 伸向該轂部119 ;以及（3)當該偏壓元件143延伸時，沿一 導引桿123(並沿該導引桿123所界定之該移動路徑ιΐ5) 將該推進器支撐部11 3及該推進器i丨7移向該轂部i丨9。 以此方式下，各推進器支撐部113及推進器117可由一内 縮位置（如第2A圖所示）相對於該基材1〇5(如第2B圖所示） 之該邊緣107移向一接觸位置，且最後移至一延伸位置（如 第2C圖所示）。特別參照第4圖，該等推進器支撐部ιΐ3 之一者及該等推進器117之一者係如圖示係處於一完全延 伸位置。如第4圖所示，該推進裝置109a可至少包括一或 更夕可调整之間隔機構（spacing mechanism)i45。各間隔機 構1 4 5係用於建立一限制，使推進器支撐部11 3可在偏壓 14 1257497 元件1 4 3 (例 一完全延伸 119。於第4 括一固定螺 之第一向下 該固定螺絲 1 3 5及伸向 第4圖所示 止動板1 2 5 I 1 9的動作 推進器11 7 參照% 一限制，使 部1 1 9以對 II 3及其推 推進器支撐 止動板1 2 5 部11 9。如 完全延伸位 與該止動板 11 3沿該導 該推i 11 3相對於 沿該移動路 ^ 3及第4圖 推進器支撐部 抗一偏壓元件 器1 1 7之一完全内縮位置）的影響。例如，各 113可至少包含一較低部153，用於接觸該 並避免該推進器支撐部113進一步移離該轂 引桿123之最大移動範圍（未分別示出））155。 汉具推進器117之 位置）之影響下沿一導引埕Ί 0， 彳5丨样123移向該轂部 圖之一特定實施例中，兮門ps A w 这間機構145至少包 絲釘1 4 7，用以螺入一穿3畜辞始 牙通該推進益支撐部113 延伸部1 3 5的通孔，以及^一碟㈣ 及 螺巾自1 4 9，其係皆 釘147以調整地設定伸出該第—向下延伸部 該止動板125之該固定螺絲釘147的長度。如 ’該固定螺絲釘147之一诚！ sm 鈿1 5 1係用於接觸該 ，以避免該推進器支撐部！ p缸h , 牙。丨1 1 3任何伸向該轂部 。然而任何用以限制該推進器支撐部u3及/或 之配置亦可作類似應用。 該推進裝置l〇9a更可用於建立 Π3可沿一導引桿U3移離該轂 1 4 3 (例如為建立該推進器支撐部 部 第4圖所示，當該推進器支撐部113係處於— 置時，該推進器支撐部113之該較低部153係 1 2 5相隔一第一距離（例如，該推進器支撐部 隻裝置109a亦可用於實質避免該推進器支撐部 該框架1 1 1的轉動，例如當該推進器支撐部1U 徑115相對於該框架lu移動時。例如，各推3 15 1257497 進器支撐部113可至少包含一與該推進哭 口口支撐部1 1 3之兮 較低部1 5 3相連並由該較低部丨5 3命 ^ σ卜延伸之導引 (guidepin)157。各突出部127可呈某種形狀 A界定一導弓丨 通道1 5 9 ’其係當該推進益支樓部1 1 3兮 1 1 / 口該移動路徑u 移動時用於定位該導引銷1 5 7。 該推進裝置1〇9a可用於將各推進器支撐部ιΐ3由、 推進裝置109a之該框架111之該轂部119内縮以抵抗與該 推進器支撐部113相連之該偏壓元件143的影響:各 推進器支撐部113預設前述之該完全内縮位1 2使各 旦 例如，之 推進器支撐部113可包括一位於該篦^ 义通第一向下延伸部137 該推進支撐部11 3之該較低部i 5 3 ρ卩沾叫&广 間的開放區域161(如 4圖所示），且部份以一對橫跨並連接該第二向下延伸2 137及該較低部153間之距離的牆體部163界定之—P 165可連接各牆體部163及一轉動元件167，例如一滾輪袖 旋轉地固定於該開放區域161内之該軸165上。 可 此外’該推進裝置l09a可至少包含一活塞⑹ 似之内縮裝置’以措與各推進器支撐冑ιΐ3之該轉株 167互動的方式迫使各推進器支擇部ιΐ3移離該轂 牛 例如，該活塞169可至少句拓一 s丄 y〇 匕括具有一傾斜表面173之、本 塞頭171，且當該活塞頭^ 巧m向上移動時，該活塞169 向上推以使各推進器支撐邮η 7 可 保°卩之該轉動元件167沿 斜表面173進行旋轉。於+七a η 於此方式下，各推進器支撐部 將可由該框架1 1 1之該參 數119向外位移（與各轉動元 167)。為此，該推進裝置 直109a更可包括一致動器175 16 1257497 如一線性致動器（如一馬達或氣壓驅動致動器），用以内縮 地向上延伸一推進器177,藉以將該活塞169之一桿179 向上推’致使各轉動元件167作前述之向外位移。 如前文所提及，該推進裝置109a可利用該活塞169 及該致動器175由該等推進器支撐部ιΐ3同步内縮。例如， 該活塞169之該桿部179可垂直地對準於該路徑交點 121(即該推進器支撐部113及該等推進器n7之移動路徑 相交處）之下。該框架1U之該較部119之一向下延伸部 181(如第4圖所示）可至少部分地界定該推進裝置1〇9&之 一活塞頭插入腔183，以當該活塞169向上内縮可容納該 活塞169之該活塞頭171。較佳如第4圖所*，該活塞頭 插入腔183更可藉該框架1U之各突出部127作進一步界 定；且各推進器支樓冑U3之該轉動^牛167可用於至少 部分地突出至該活塞頭插…83，以使該轉動元件167 及該該活塞頭171之該傾斜表面間的旋轉移動得以進行。 為將該推進裝置109a相對於該支撐平台1〇3作精確 定位及校準並確保該推進裝置1〇9&可固定於一固定元件 (如第4圖所示之腔底部185)’該推進裝置1〇9&可包括一 才干4對準7L件187、-腔介面189以及—致動器固定框架 ⑼。該桿部對準元件187可包括數個桿部轴承193，以導 引該活塞1 6 9之該桿部1 7 9作垂直移動。 該桿部對準元件187可包括—向上延伸部195,用以 與該框架⑴之該較部119的該向下延…“相契合， 並用以建立該推進裝置109a之該等推進器ιΐ7相對於該基 17 1257497 材105 (及/或該框架U1之該轂部U9相對於該支撐平台 103的適田冋度，如第4圖所示）之該邊緣丨〇7的適當高 度。於一或多個實施例中，該桿部對準元件【8 7也可包括 一機械汽缸表面197以使該桿部對準元件187可插入一機 械加工之通孔199(如第4圖所示），其係穿通該腔底部185 並可作精確疋位。該腔底部1 8 5可包括多個上述孔洞（並未 個別顯不），其等係以一圖案（未個別顯示）繞設於該支撐平 台103周圍（如第1圖所示）以利於將該基材105相對於該 支撐平台103作精確校準。 該腔介面189可連接該桿部對準元件187,並接附於 該腔底部185之一表面以使位於一通道（成形於該腔介面 189内）201中之一封閉環（未示出）將該腔底部185及該腔 介面1 89間之介面封閉住。同樣地，該致動器固定框架1 9 i 可至少包括一表面2 03以使該致動器175可作固定並使該 致動器175之該推進器177可作插入，以及一連接部2〇7, 用於使該致動器固定框架191可與該腔介面189相連接及/ 或固定於相對於該腔底部1 8 5之該經加工通孔1 9 9作適當 固定。 於操作中，第3圖及第4圖之該推進裝置i〇9a可依 據一基材推進模式進行操作，其中該推進裝置1 〇 9 a係沿著 兩不同方向以將力施於該基材105之該邊緣1〇7，上述與 一移動路徑 115之方向相符之各方向係通過該推進裝置 l〇9a移動一推進器支撐部113及一推器器117之處。於一 實施例中，該推進裝置1 〇 9 a係將一第一力沿一第一方向施 18 1257497 於該基材105之該邊緣1〇7，並

r甘〆 科一第二力沿一筮-古A 以係實質垂直於該第—方向）施 相對於該支撐平台103作 緣並將基材⑻ 結合之力）。节笛免唾 』★依據第一及第二力所 之力）…及第二力可藉由各… 1A-3圖所示）之該偏壓元件143 推進器⑴移動至該基材105之Ή且可經由該等 Λ 心通邊緣107。 如前文所述，該推進裝置109a在一偏壓元件⑷之 下係沿一移動路徑i丨5將各推進哭 牟1 1 1夕社知* °〇支掉4 1 1 3移向該框 1之該暈又部119。各推進器支撐 夕銘龢π 4士这 保。Ρ 113移向該穀部119 U 寻及祁向之力能避免作進一步移動 為止。此力可以不同方式作施予，例…基材105可停 止於一相對於該支料纟1G3之位置，於該處多個推進器 117可以不同方向（例如’使料推進ϋ 117所產生或通過 呑等推進器之所有不同方向的橫向力均平衡）推該基材 10\之/該邊緣107。或者該基材105也可停止於一相對於該 支撐平台103之位置，於該處所有該等推進器支撐部 113(及/或推進态117)均已達一完全延伸位置（如第4圖所 不）。於後者的情況下，即便該基材1〇5之該邊緣1〇7至一 實體阻障物或止動部仍未抵達確實位置，該基材1〇5仍可 適备地對準該支撐平台1 〇 3。例如，該基材1 〇 5之該邊緣 107可接著落於完全延伸之推進器117所建立之一圓周内。 於本發明之至少一實施例中，該基材校準系統 ι〇ι(如第1圖所示）可至少包含四個推進裝置1〇9以接觸一 基材使之靠近其四個角落（如於在總共八個位置）。於一態 19 1257497 樣中，上述一系統可將該基材正確地定位於約Ο . 3 mm内。 探針或其他量測裝置也可與一或多個推進裝置1 09相連 接，以將該推進裝置1 09定位之一基材作「預校準」。應注 意的是，各推進器支撐部113及/或推進器117可不受其他 推進器支撐部1 1 3 (無論其他推進器支撐部是否為相同推進 裝置1 09或另一推進裝置1 09的一部份）的控制作延伸。 該推進裝置1 09也可以一推進器内縮模式操作之，其 中該推進裝置l〇9a之該致動器175可將該活塞119之桿部 I 7 9向上推。該活塞頭1 7 1 (即於該轂部1 1 9之該活塞頭插 入腔183内向上移動者）係與各推進器支撐部113之轉動元 件1 6 7相接觸，同時沿該活塞頭1 7 1之傾斜表面1 7 3將該 轉動元件167由該轂部119向外移開。該活塞頭171的向 上移動可持續藉以將各推進器支撐部 11 3沿其移動路徑 II 5 (例如，直至該推進器支撐部1 1 3之較低部1 5 3接觸該 止動板125)由該轂部119移離。該等推進器117接著完全 内縮且一基材可藉若干裝置（例如一或多名人工操作員、一 裝配於末端效應器之機械人或類似者）裝載於該平台103 上或由該平台103卸載。 前述說明僅揭示本發明之該等例示性實施例，熟習此 項技術人士應可迅速領會前述落於本發明範圍之設備及方 法的任何變更。例如，雖然本發明已於一開始描述相對於 一支撐平台調整該玻璃平板，然而應可瞭解的是亦可利用 本發明調整其他類型的基材。一控制器（未示出），諸如一 適當程式化之微處理器或微控制器，皆可與各推進裝置 20 1257497 109之該致動器175相連並用以控制如前所述之該等 器1 1 7的内縮及伸展。 因此，雖然本發明已揭示與之相關的例示性實施 然應暸解其他實施例亦應落於本發明之精神與範圍内 同下文申請專利範圍所界定者。 【圖式簡單說明】 第1圖係依據本發明之一基材校準系統之一例 實施例之上方概要圖。 第2A圖係第1圖之該推進裝置之一上方概要圖 中該推進裝置之該等推進器係由該推進裝置之該框架 轂部内縮。 第2B圖係第1圖之該推進裝置之一上方概要圖 中該推進裝置之該等推進器係於該基材相對於一支撐 校準之前先與一基材之該邊緣相接觸。 第2C圖係第1圖之該推進裝置之一上方概要圖 中該基材已相對於該支撐平台作校準。 第3及第4圖係分別為一透視分解組件圖及一推 置（其至少包含第1及第2A-2 C圖之該推進裝置之一 性實施例）之一橫截面側視圖。 【元件代表符號簡單說明】 推進 例， ，如 示性 ，其 之一 ，其 平台 ，其 進裝 例示 101 基材校準系統 103 支撐平台 105 基材 107 邊緣 21 推進裝置 111 框架 内縮位置 113a 推進器支撐部 推進器支撐部 115a 第一移動路徑 第二移動路徑 117a 第一推進器 第二推進器 119 轂部 路徑交點 123 導引桿 止動板 127 突出部 可推表面 131 頂表面 x-y座標系統 135 第一向下延伸部 第一向下延伸部 139 桿軸承 圍牆 143 偏壓元件 間隔機構 147 固定螺絲釘 螺帽 151 端部 較低部 155 最大移動範圍 導引銷 159 通道 開放區域 163 牆體部 軸 167 轉動元件 活塞 171 活塞頭 傾斜表面 175 致動器 推進器 179 桿 向下延伸部 183 腔 腔底部 187 桿部對準元件 腔介面 191 致動器固定框架 桿部軸承 195 向上延伸部 22 1257497 197 汽缸表面 199 201 通道 203 通孔 表面 23

Claims (1)

1257497 ___________——I V存’-月巧日修(更)正本 丨丨丨· _ 拾、申請專利範圍： 1. 一種用於橫向推動一由一支撐平台所支撐之基材以使 該基材可相對於該支撐平台作滑動之對準裝置，其至少 包含： 一第一推進器，用以接觸一由該支撐平台所支撐之 該基材之一邊緣並用以沿一第一移動路徑作橫向移動； 一第二推進器，用以接觸該基材之該邊緣並用以沿 一第二移動路徑作橫向移動，該第二移動路徑係與該第 一移動路徑呈一角度並於一路徑交點與該第一路徑相 交； 一框架，該第一及該第二推進器係可動地與之相 接，該框架係用於將該第一及該第二推進器保持在該支 撐平台所支撐之該基材之該邊緣之一高度； 一第一偏壓元件，係連接於該第一推進器及該框架 之間，其並用於使該第一推進器相對於該基材之該邊緣 產生偏壓；以及 一第二偏壓元件，係連接於該第二推進器及該框架 之間，其並用於使該第二推進器相對於該基材之該邊緣 產生偏壓，使之不受該第一推進器之該偏壓所影響。 2. 如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其中該第二移 動路徑之至少一部份係垂直於該第一移動路徑之至少 一部份。 24 1257497 3 .如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其更至少包含 一推進器内縮裝置，用於使該第一及該第二推進器之至 少一者移離該支撐平台。 4.如申請專利範圍第3項所述之對準裝置，其中該推進器 内縮裝置更用於使該第一及該第二推進器兩者移離該 支撐平台。 5 .如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其中該第一及 該第二推進器係用以相對於該框架作橫向移動。 6. 如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其更至少包 含： 一第一導引桿，用於界定該第一移動路徑；以及 一第二導引桿，用於界定該第二移動路徑。 7. 如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其更至少包 含： 一第一推進器支撐部，與該第一推進器相連接並可 動地與該框架相連，其係用於沿該第一移動路徑移動； 一第二推進器支撐部，與該第二推進器相連接並可 動地與該框架相連，其係用於沿該第二移動路徑移動； 25 1257497 一第一止動板，與該框架相連且係用於對該第一推 進器支撐部沿該第一移動路徑移離該支撐平台的移動 作限制；以及 一第二止動板，與該框架相連且係用於對該第二推 進器支撐部沿該第二移動路徑移離該支撐平台的移動 作限制。 8 .如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其中該第一及 該第二推進器更可藉移動以將該基材裝載於該支撐平 台上或由該支撐平台卸載。 9.如申請專利範圍第8項所述之對準裝置，其更至少包 含： 一第一推進器支撐部，係連接該第一推進器並可動 地與該框架連接，且其係用於沿該第一移動路徑移動； 一第二推進器支撐部，係連接該第二推進器並可動 地與該框架連接，且其係用於沿該第二移動路徑移動； 一第一間隔機構，用於建立一限制以使該第一推進 器支撐部可沿該導引桿移向該支撐平台；以及 一第二間隔機構，用於建立一限制以使該第二推進 器支撐部可沿該導引桿移向該支撐平台。 10. 如申請專利範圍第1項所述之對準裝置，其更至少 26 1257497 包含： 一第一推進器支撐部，係連接該第一推進器並可動 地與該框架相連，且其係用於沿該第一移動路徑移動； 一第二推進器支撐部，係連接該第二推進器並可動 地與該框架相連，且其係用於沿該第二移動路徑移動； 以及 一活塞，係用於將該第一及第二推進器支撐部推離 該支撐平台。 11. 一種基材校準系統，其至少包含： 數個對準裝置，其係以一間隔關係繞設於一支撐平 台周圍，其中該等對準裝置之每一者至少包含： 一第一推進器，用於接觸一由該支撐平台所支 撐之該基材之一邊緣，其並用於沿一第一移動路徑作橫 向移動； 一第二推進器，用於接觸該基材之該邊緣並用 於沿一第二移動路徑作橫向移動，該第二移動路徑係與 該第一移動路徑呈一角度並於一路徑交點與該第一路 徑相交； 一框架，該第一及該第二推進器係可動地與之 相接，該框架係用於將該第一及該第二推進器保持在該 支撐平台所支撐之該基材之該邊緣之一高度； 一第一偏壓元件，係連接於該第一推進器及該 27 1257497 框架之間，其並用於使該第一推進器相對於該基材之該 邊緣產生偏壓；以及 一第二偏壓元件，係連接於該第二推進器及該 框架之間，其並用於使該第二推進器相對於該基材之該 邊緣產生偏壓，使之不受該第一推進器之該偏壓所影 響。 12. 如申請專利範圍第1 1項所述之基材校準系統，其中 該等對準裝置之每一者係放置在鄰近該支撐平台之一 角落處。 13. 如申請專利範圍第11項所述之基材校準系統，其中 該等對準裝置係藉由將該基材限定於該等對準裝置之 該第一及該第二推進器所界定之一圓周内的方式以將 該基材對準該支撐平台之一 χ-y座標系統。 14. 一種相對於一支撐平台橫向滑動一基材的方法，其 至少包含： 以一支撐平台支撐一基材； 提供至少一對準裝置，其至少包含： 一第一推進器，用於接觸一由該支撐平台所支 撐之該基材之一邊緣，其並用於沿一第一移動路徑作橫 向移動； 28 1257497 用 與 路 之 該 該 該 該 該 影 第 第 第 第 移 少 一第二推進器，用於接觸該基材之該邊緣並 於沿一第二移動路徑作橫向移動，該第二移動路徑係 該第一移動路徑呈一角度並於一路徑交點與該第一 徑相交； 一框架，該第一及該第二推進器係可動地與 相接，該框架係用於將該第一及該第二推進器保持在 支撐平台所支撐之該基材之該邊緣之一高度； 一第一偏壓元件，係連接於該第一推進器及 框架之間，其並用於使該第一推進器相對於該基材之 邊緣產生偏壓；以及 一第二偏壓元件，係連接於該第二推進器及 框架之間，其並用於使該第二推進器相對於該基材之 邊緣產生偏壓，使之不受該第一推進器之該偏壓所 響； 使該第一推進器接觸該基材之該邊緣並施以一 一推力予該基材之該邊緣，該第一推力經控制係沿該 一移動路徑作用；以及 使該第二推進器接觸該基材之該邊緣並施以一 二推力予該基材之該邊緣，該第二推力經控制係沿該 二移動路徑作用。 15. 如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中該第二 動路徑之至少一部份係垂直於該第一移動路徑之至 29 1257497 一部份。 16. 如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其更至少包含 使該第一及第二推進器之至少一者移離該支撐平台。 17. 如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其更至少包含 利用該對準裝置以將該基材相對於該支撐平台作校準。 18. 如申請專利範圍第1 7項所述之方法，其中將該基材 相對於該支撐平台作校準包括將該基材之該邊緣對準 該支樓平台之一 X - y座標系統。 19. 如申請專利範圍第14項所述之方法，其中提供至少 一對準裝置包括提供數個對準裝置；且 更至少包含將該基材限定於該等對準裝置之該第 一及該第二推進器所界定之一圓周内。 20. —種供一調準裝置之一推進裝置用於橫向推動一由 一支撐平台所支撐之基材以使該基材可相對於該支撐平 台作滑動之部件，其至少包含： 一對轉動元件/内縮裝置頭，包括： 一轉動元件，用以耦接一推動裝置推進器，該 推動裝置推進器接觸由該支撐平台所支撐之基材的一 30 1257497 邊緣，且橫向沿著一移動路徑移動；以及 一内縮裝置頭，用以與該轉動元件互動，藉此 來移動該推進器。 21. 如申請專利範圍第2 0項所述之部件，其中該轉動元 件更可供沿著内縮裝置頭轉動，藉此移動該推進器。 2 2. 如申請專利範圍第2 0項所述之部件，其中該内縮裝 置頭包含一傾斜表面；以及 當該内縮裝置頭被移動時該内縮裝置頭更可供沿 著該傾斜表面轉動，藉此移動該推進器。 23. 如申請專利範圍第22項所述之部件，其中當該内縮 裝置頭被朝上面移動時，該轉動元件更可供沿著該傾斜表 面轉動，藉此將該推進器從該推進裝置的一轂部移開。 24. 如申請專利範圍第23項所述之部件，其中當該内縮 裝置頭被朝上面移動時，該轉動元件更可供沿著該傾斜表 面轉動，藉此將該推進器從該推進裝置的一轂部移開，直 到該推進器搞接該推進裝置之一止動板為止。 31