KR100303321B1 - 반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 - Google Patents
반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100303321B1 KR100303321B1 KR1019990018263A KR19990018263A KR100303321B1 KR 100303321 B1 KR100303321 B1 KR 100303321B1 KR 1019990018263 A KR1019990018263 A KR 1019990018263A KR 19990018263 A KR19990018263 A KR 19990018263A KR 100303321 B1 KR100303321 B1 KR 100303321B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lot
- error
- transaction
- equipment
- information
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 13
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41875—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 반도체 제조 공정의 네트웍 통신시스템에서 오류 발생 로트의 제어 장치 및 방법에 관한 것임.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은, 오류 발생 로트의 보류 및 통보를 일괄적으로 실행하는 오류발생 로트의 제어 장치 및 방법을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 로트 자체의 문제, 공정상의 문제 및 장비의 문제에 의해 오류가 발생한 로트에 대한 보류 및 오류발생 통보를 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 의해 한 번에 일괄적으로 수행하고, 오류발생 로트에 대한 조치를 네트웍 통신시스템으로 오퍼레이터에게 전송한다.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 오류 발생 로트의 제어에 이용됨.
Description
본 발명은, 반도체 제조 공정의 네트웍 통신시스템에서 로트 자체의 문제,공정상의 문제 및 장비의 문제에 의해 오류가 발생한 로트에 대한 보류 및 오류발생 통보를 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 의해 자동으로 수행하고, 오류발생 로트에 대한 조치사항을 네트웍 통신시스템을 이용하여 오퍼레이터에게 전송하는 오류발생 로트 제어 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
종래에는 로트자체의 문제, 공정상의 문제 및 장비의 문제에 의해 오류가 발생한 로트는 외부 MES(Manufacturing Execution System)부에서 로트보류(HLLT : HoLd a LoT) 트랜잭션을 발생시켜 로트를 보류시킨 다음 오류발생 로트처리 프로그램을 실행하여 상기 오류상태에 대한 조치사항을 입력하였다.
이와같이, 종래의 오류가 발생한 로트에 대한 보류 및 오류발생 통보를 이중작업으로 수행해야 할 뿐만아니라, 반도체 제조공정상에서 오류가 발생한 로트를 발견하면 작업자가 직접 로트보류 트랜잭션을 발생시켜야 하므로 로트 오류발생 처리작업이 번거롭고, 추가적인 인력이 낭비되는 문제가 있었다.
또한, 작업자가 오류발생 통보를 하지 않은 경우에는 오류가 발생한 로트의 진행으로 이후 진행해야 할 로트에 대해 연속적으로 오류를 발생시키게 되며, 이것은 전체 수율의 저하를 야기시키는 문제로 작용하고 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명은, 오류 발생 로트의 보류를 위한 로트보류 트랜잭션과 오류발생 통보를 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템을 통해 한 번의 작업으로 일괄적으로 실행하고, 오류발생 로트에 대한조치사항을 작업자에게 네트웍 통신시스템을 통하여 전달하므로써 작업을 단순화시키고 업무의 효율을 제고시키는 오류발생 로트의 제어 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명에 의한 오류발생 로트 제어장치의 일실시예 구성도.
도 2는 본 발명에 따른 오류발생 로트 제어 수행 절차에 대한 일실시예 흐름도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
102 : 작업자 인터페이스 서버(OIS) 103 : 마스터 데이터베이스
106 : 로트 이력 정보 서버(HIS) 108 : 로트 이력 정보 데이타베이스
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 반도체 제조 공정 라인상에서 오류가 발생한 로트에 대하여 로트 보류 트랜잭션을 발생시키는 제 1단계; 상기 로트 보류 트랜잭션이 발생하면 자동으로 상기 로트 이력 정보 수단에 오류발생 통보를 수행하는 제 2단계; 및 상기 보류된 로트에 대한 조치를 수행하고, 로트 해제 트랜잭션을 수행하는 제 3단계를 포함한다.
또한, 본 발명은, 반도체 제조 공정상에서 발생하는 오류발생 로트의 제어방법을 제공하기 위한 시스템에, 반도체 제조 공정 라인상에서 오류가 발생한 로트에 대하여 로트 보류 트랜잭션을 발생시키는 제 1기능; 상기 로트 보류 트랜잭션이 발생하면 자동으로 상기 로트 이력 정보 수단에 오류발생 통보를 수행하는 제 2기능; 상기 보류된 로트에 대한 조치를 수행하고, 로트 해제 트랜잭션을 수행하는 제 3기능을 실현시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체를 더 제공한다.
이하, 첨부된 도 1 이하의 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명이 적용되는 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 의해오류발생 로트 제어를 수행하는 시스템 구성도로서, 도면에서 '100'은 작업자가 통합 자동화 시스템에 접근하기 위해 작업자 인터페이스 서버(OIS : Operator Interface Server)와 통신하는 작업자 인터페이스 프로세스(OIP : Operator Interface Process), '102'는 상기 작업자 인터페이스 프로세스를 이용하여 접속한 작업자를 통합 자동화 시스템에 접근할 수 있게 하며, 작업자에게 필요한 정보를 제공하는 작업자 인터페이스 서버, '104'는 통합 자동화 시스템에서 로트, 웨이퍼, 레티클 및 장비(entity)의 정보를 저장하고, 상기 작업자 인터페이스 서버와 장비서버가 요청한 데이타를 전송하는 마스터 데이타베이스, '106'은 해당 배이(Bay)에서 발생하는 모든 트랜잭션 데이타를 입력받아 관리하는 셀 관리 서버(CMS : Cell Management Server), '108'은 반도체 생산공정의 장비, '110'은 상기 장비에서 제공된 로트 데이타에 대한 오류여부를 판단하는 장비 인터페이스 서버(EIS : Equipment Interface Server), '112'는 상기 셀 관리 서버에서 전송된 데이터 및 메세지를 임시파일로 저장하는 이력 정보서버 큐 파일(queue file), '114'는 상기 셀 관리 서버에서 제공된 로트 트랜잭션 데이타의 이력을 관리하며, 정보를 가공하고, 상기 가공된 데이타를 데이타베이스에 저장하는 로트 이력 정보 서버, '116'은 상기 로트 이력정보 서버로부터 제공된 로트에 대한 이력을 저장하는 로트 이력 정보 데이타베이스(HIS database)를 각각 나타낸다.
본 발명이 적용되는 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 의한 오류발생 로트 제어 수행 시스템의 동작을 살펴보면 다음과 같다.
반도체 제조 라인상에서 로트 자체의 문제, 공정상의 문제 및 장비문제에 의해 오류가 발생된 로트를 작업자 인터페이스 서버(102) 또는 장비 인터페이스 서버(110)가 발견할 경우, 상기 두 서버(102, 110)가 로트에 발생된 오류의 정도를 판단한 다음, 상기 로트에 발생된 오류에 대한 자동 오류 발생 정보를 마스터 데이터 베이스(104)에 저장한다.
그리고, 오류 발생 메세지를 셀 관리 서버(106)로 전송한다.
다음으로, 상기 작업자 인터페이스 서버(102) 또는 장비 인터페이스 서버(110)로부터 오류 발생 메세지를 수신한 셀 관리 서버(106)는 자동 오류 발생 표시에 따라 로트 보류에 대한 데이타를 상기 마스터 데이터베이스(104)에 저장하고, 상기 오류 발생 로트에 대해 로트보류 트랜잭션을 발생시키며, 상기 로트에 대한 오류발생 통보를 로트 이력 정보 서버(114)로 전달한다.
또한, 상기 셀 관리 서버(106)는 상기 로트보류 트랜잭션 메세지를 이력정보서버 큐 파일(112)에 임시 저장한다.
이후, 로트 이력 정보 서버(114)는 타이머에 의해 동작하며, 상기 이력정보서버 큐 파일(112)에 임시 저장되어 있는 상기 로트보류 트랜잭션 메세지를 판독하여 로트 이력 정보 데이타베이스(116)에 상기 로트에 대한 정보를 갱신한다.
상기와 같이 구성되어 동작하는 오류발생 로트 제어장치의 처리 방법을 도 2를 참조하여 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 의한 오류 발생 로트 제어를 수행하기 위한 처리흐름도이다.
먼저, 작업자 인터페이스 서버(102) 또는 장비 인터페이스 서버(110)에서 로트 자체의 문제, 공정상의 문제 및 장비문제에 의해 오류가 발생한 로트를 발견(S200)하면, 상기 작업자 인터페이스 서버(102) 또는 장비 인터페이스 서버(110)에서 로트에 발생된 오류의 정도를 판단한다(S202).
상기 판단(S202)결과, 로트보류 트랜잭션을 발생시켜야할 정도의 오류에 해당한다면, 오류발생 메세지를 셀 관리 서버(106)으로 전송한다(S204).
상기 판단(S202)결과, 로트보류 트랜잭션을 발생시키지 않아도 될 정도의 오류에 해당한다면, 상기 오류가 발생한 로트는 다시 공정을 진행한다(S218).
상기 S204단계에서, 상기 오류발생 메세지를 수신한 셀 관리 서버(106)는 로트보류 트랜잭션을 발생시키고(S206), 로트보류 트랜잭션이 발생한 로트에 대해 오류발생 통보를 로트 이력 정보 서버(114)로 자동적으로 전송하고(S208), 이력정보서버 큐 파일에 로트보류 트랜잭션 메세지를 임시 저장한다(S210). 이때, 상기 오류발생 통보를 수신한 이력 정보 서버(114)는 상기 이력정보서버 큐 파일에 저장된 로트보류 트랜잭션 메세지를 판독하여 이력 데이타 베이스(116)에 저장한다.
다음으로, 상기와 같이 오류발생 통보를 수행한 로트 중에서 로트 보류후 후속조치가 필요한 로트를 판단한다(S212).
상기 판단(S212)결과, 상기 로트보류 트랜잭션이 로트 보류후 후속조치가 필요한 로트일 경우, 작업자가 라인상에서 조치사항을 수행한다(S214).
그리고, 작업자가 상기 작업자 인터페이스 프로세스(100)를 통해 오류발생 원인공정과 장비, 처리지침 및 대책을 입력하고(S216), 상기 작업자 인터페이스 프로세스(100)를 통하여 로트 해제 트랜잭션을 발생시킨다(S218).
상기 판단(S212)결과, 상기 로트보류 트랜잭션이 로트 보류후 후속조치가 필요하지 않은 로트일 경우에는, 상기 S216단계를 수행한다.
이때, 작업자 인터페이스 서버(102)는 마스터 데이타베이스(104)에 상기 로트의 오류발생 조치 정보를 갱신한다.
마지막으로, 로트해제 트랜잭션이 발생된 상기 로트는 반도체 제조 공정을 다시 진행한다(S220).
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니다.
상기와 같은 본 발명은, 종래의 오류 발생 로트에 대한 보류 및 통보를 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템을 이용하여 자동으로 처리하고, 오류발생 로트에 대한 조치사항을 네트웍 통신시스템을 이용하여 전달하므로써, 오퍼레이터가 오류발생 통보를 하지 않았을 경우에 발생하는 위험이나 손실을 예방함으로써 로트에 대한 오류발생 확인, 오류발생에 대한 조치 시간을 단축시키며, 이에따라 업무의 효율 및 전체 수율을 향상시킬 수 있는 효과를 가진다.
Claims (12)
- 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 접근할 수 있게 하며, 오퍼레이팅 정보를 제공하기 위한 작업 정보 제공 수단;장비에서 제공된 로트 데이타의 오류 여부를 판단하는 장비 인터페이스 수단; 및상기 작업 정보 제공 수단과 인터페이스 수단을 통하여 제공된 메세지를 사용하여 오류 발생 로트의 보류 및 통보를 자동으로 수행하며, 오류 발생 로트의 해제 및 조치를 수행하기 위한 오류 발생 로트 제어 수단을 포함하는 오류발생 로트의 제어장치.
- 제 1항에 있어서,상기 작업 정보 제공 수단은,오퍼레이터를 상기 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템에 접근시키기 위한 작업자 인터페이스 수단; 및상기 작업자 인터페이스 수단을 이용하여 접속한 오퍼레이터에게 필요한 정보를 제공하고, 오류발생 메세지를 상기 오류발생 로트 제어수단에 전송하기 위한 작업자 인터페이스 서버를 포함하는 오류발생 로트의 제어장치.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 오류 발생 로트 제어 수단은,해당 베이에서 발생하는 모든 트랜잭션 데이타를 입력받아 관리하고, 로트 보류 트랜잭션을 발생시키는 셀 관리 수단; 및상기 셀 관리 수단으로부터 오류발생 메세지를 수신하며, 로트의 이력을 관리하고 로트, 웨이퍼, 레티클 및 장비 정보를 제공하기 위한 로트 이력 정보 수단을 포함하는 오류발생 로트의 제어장치.
- 제 3항에 있어서,작업자 인터페이스 수단, 장비 인터페이스 수단 및 셀 관리 수단과 데이타 수수를 수행하며 로트, 웨이퍼, 레티클 및 장비의 정보를 저장하는 마스터 데이타베이스;상기 셀 관리 수단에서 제공하는 메세지 및 데이타를 임시 파일로 저장하기 위한 이력정보서버 큐 파일; 및상기 로트 이력 정보 수단과 데이타 수수를 하며, 로트에 대한 이력 및 정보를 저장하기 위한 로트 이력 저장 수단을 더 포함하는 오류발생 로트 제어장치.
- 반도체 라인 관리용 통합 자동화 시스템을 이용한 오류발생 로트의 제어방법에 있어서,반도체 제조 공정 라인상에서 오류가 발생한 로트에 대하여 로트 보류 트랜잭션을 발생시키는 제 1단계;상기 로트 보류 트랜잭션이 발생하면 자동으로 상기 로트 이력 정보 수단에 오류발생 통보를 수행하는 제 2단계; 및상기 보류된 로트에 대한 조치를 수행하고, 로트 해제 트랜잭션을 수행하는 제 3단계를 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 5항에 있어서,상기 제 1단계는,작업자 인터페이스 수단 또는 장비 제어 수단에서 로트 자체의 문제, 공정상의 문제 및 장비문제에 의해 오류가 발생한 로트를 발견하는 제 4단계; 및상기 작업자 인터페이스 수단 또는 장비 제어 수단에서 로트에 발생된 오류의 정도가 로트보류 트랜잭션을 발생시켜야 하는 오류정보인가를 판단하는 제 5단계를 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 6항에 있어서,상기 제 5단계의 판단결과, 로트보류 트랜잭션을 발생시켜야할 정도의 오류에 해당한다면, 오류발생 메세지를 상기 셀 관리 수단으로 전송하는 제 6단계; 및상기 오류발생 메세지를 수신한 셀 관리 수단이 로트보류 트랜잭션을 발생시키는 제 7단계를 더 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 6항에 있어서,상기 제 5단계의 판단결과, 로트보류 트랜잭션을 발생시키지 않아도 될 정도의 오류에 해당한다면, 상기 오류가 발생한 로트가 다시 공정을 진행하는 제 8단계를 더 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 5항 내지 제 8항중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2단계는,상기 셀 관리 수단이 로트보류 트랜잭션이 발생한 로트에 대해 오류발생 통보를 자동으로 로트 이력 정보 수단에 전송하는 제 9단계;상기 셀 관리 수단이 이력정보서버 큐 파일에 로트보류 트랜잭션 메세지를 임시 저장하는 제 10단계; 및상기 오류발생 통보를 수신한 이력 정보 수단이 상기 이력정보서버 큐 파일에 저장된 로트보류 트랜잭션 메세지를 판독하여 로트 이력 저장수단에 저장하는 제 11단계를 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 5항에 있어서,상기 제 3단계는,오류발생 통보를 수행한 로트 중에서 로트 보류후 후속조치가 필요한 로트를 판단하는 제 12단계;상기 제 12단계의 판단결과, 상기 로트보류 트랜잭션이 로트 보류후 후속조치가 필요한 로트일 경우, 작업자가 라인상에서 조치사항을 수행하는 제 13단계;작업자가 상기 작업자 인터페이스 수단을 통해 오류발생 원인공정과 장비, 처리지침 및 대책을 입력하는 제 14단계;작업자 인터페이스 서버가 마스터 데이타베이스에 상기 로트의 오류발생 조치 정보를 갱신하는 제 15단계; 및상기 작업자 인터페이스 수단을 통하여 로트 해제 트랜잭션을 발생시킨 후 로트가 공정을 다시 진행하는 제 16단계를 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 제 10항에 있어서,상기 제 12단계의 판단결과, 상기 로트보류 트랜잭션이 로트 보류후 후속조치가 필요하지 않은 로트일 경우, 조치작업의 수행없이 작업자가 상기 작업자 인터페이스 수단을 통하여 로트 해제 트랜잭션을 발생시키는 제 17단계를 포함하는 오류발생 로트 제어방법.
- 반도체 제조 공정상에서 발생하는 오류발생 로트의 제어방법을 제공하기 위한 시스템에,반도체 제조 공정 라인상에서 오류가 발생한 로트에 대하여 로트 보류 트랜잭션을 발생시키는 제 1기능;상기 로트 보류 트랜잭션이 발생하면 자동으로 상기 로트 이력 정보 수단에 오류발생 통보를 수행하는 제 2기능; 및상기 보류된 로트에 대한 조치를 수행하고, 로트 해제 트랜잭션을 수행하는 제 3기능을 실현시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990018263A KR100303321B1 (ko) | 1999-05-20 | 1999-05-20 | 반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 |
DE10024749A DE10024749B4 (de) | 1999-05-20 | 2000-05-19 | Verfahren zur automatischen Steuerung eines Halbleiterherstellungsprozesses in einem Halbleiterfabrikautomatisierungssystem |
CN00124020A CN1133103C (zh) | 1999-05-20 | 2000-05-20 | 自动地控制半导体制造工艺的装置和方法 |
US09/576,322 US6728588B2 (en) | 1999-05-20 | 2000-05-22 | Apparatus and method for automatically controlling semiconductor manufacturing process in semiconductor factory automation system |
TW089109831A TW475230B (en) | 1999-05-20 | 2000-05-22 | Apparatus and method for automatically controlling semiconductor manufacturing process in semiconductor factory automation system |
GB0012369A GB2351806B (en) | 1999-05-20 | 2000-05-22 | Apparatus and method for automatically controlling semiconductor manufacturing process in semiconductor factory automation system |
JP2000149900A JP4893900B2 (ja) | 1999-05-20 | 2000-05-22 | 半導体製造工程の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990018263A KR100303321B1 (ko) | 1999-05-20 | 1999-05-20 | 반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000074363A KR20000074363A (ko) | 2000-12-15 |
KR100303321B1 true KR100303321B1 (ko) | 2001-09-26 |
Family
ID=19586795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990018263A KR100303321B1 (ko) | 1999-05-20 | 1999-05-20 | 반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6728588B2 (ko) |
JP (1) | JP4893900B2 (ko) |
KR (1) | KR100303321B1 (ko) |
CN (1) | CN1133103C (ko) |
DE (1) | DE10024749B4 (ko) |
GB (1) | GB2351806B (ko) |
TW (1) | TW475230B (ko) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100614573B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2006-08-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조공정에서 발생하는 로트 전산정보의 일관성유지 시스템 및 그 방법 |
KR100537184B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2005-12-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조공정에서의 로트 공정 자동이동 시스템 및 그방법 |
JP4693225B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 製造ラインの自動品質制御方法及びその装置並びに記憶媒体、自動品質制御プログラム |
DE10120701A1 (de) * | 2001-04-27 | 2002-10-31 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Steuerung eines Prozeßgerätes zur sequentiellen Verarbeitung von Halbleiterwafern |
US20030037090A1 (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-20 | Koh Horne L. | Tool services layer for providing tool service functions in conjunction with tool functions |
JP2003256634A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-12 | Fujitsu Ltd | 生産管理方法及びその方法における処理をコンピュータに行なわせるためのプログラム |
US6778873B1 (en) * | 2002-07-31 | 2004-08-17 | Advanced Micro Devices, Inc. | Identifying a cause of a fault based on a process controller output |
CN100351725C (zh) * | 2002-08-01 | 2007-11-28 | 应用材料有限公司 | 用于在先进工艺控制系统中处理歪曲的度量数据的方法、系统和介质 |
TWI284846B (en) | 2002-12-24 | 2007-08-01 | Powerchip Semiconductor Corp | Semiconductor automation system for a daily check and method thereof |
US6968280B2 (en) * | 2003-03-24 | 2005-11-22 | Powerchip Semiconductor Corp. | Method for analyzing wafer test parameters |
EP1478008A1 (en) * | 2003-05-12 | 2004-11-17 | Powerchip Semiconductor Corp. | Automation system for semiconductor manufacturing |
TW200516686A (en) * | 2003-11-10 | 2005-05-16 | Renesas Tech Corp | Manufacturing method for semiconductor integrated circuit device |
CN100518482C (zh) * | 2004-07-26 | 2009-07-22 | 株式会社日立制作所 | 部件追踪管理装置、管理方法及管理程序 |
KR100639676B1 (ko) * | 2004-09-21 | 2006-10-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 그제어방법 |
US8326764B1 (en) | 2004-09-30 | 2012-12-04 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | Factory automation transactions |
US7242995B1 (en) | 2004-10-25 | 2007-07-10 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | E-manufacturing in semiconductor and microelectronics processes |
US7151972B2 (en) | 2005-01-05 | 2006-12-19 | International Business Machines Corporation | Method for autonomic control of a manufacturing system |
JP4743508B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2011-08-10 | 横河電機株式会社 | プラント制御システム |
TWI405290B (zh) * | 2006-05-11 | 2013-08-11 | Brooks Automation Inc | 容量縮小之裝載機、輸送機、裝載埠及緩衝系統 |
US7966090B2 (en) * | 2007-03-15 | 2011-06-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Automated material handling system and method |
JP4877075B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-02-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体 |
US20100057507A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | International Business Machines Corporation | Real-Time Manufacturing Routing Optimization Using Content and Quality Level |
JP5909650B2 (ja) * | 2012-10-23 | 2016-04-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 電子部品実装システム |
US10877466B2 (en) * | 2017-08-09 | 2020-12-29 | Fisher-Rosemount Systems, Inc. | Reconciliation of run-time and configuration discrepancies |
CN107479474A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-12-15 | 重庆鲁班机器人技术研究院有限公司 | 工业机器人质量评价方法及装置 |
CN113826456B (zh) * | 2019-05-30 | 2023-05-23 | 雅马哈发动机株式会社 | 元件安装管理装置、元件安装管理方法、元件安装管理程序、记录介质 |
CN110164803B (zh) * | 2019-06-23 | 2021-04-09 | 郑州工业应用技术学院 | 一种释放机台程式的方法及系统 |
CN112801497B (zh) * | 2021-01-26 | 2024-04-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种异常检测方法及装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08195406A (ja) * | 1995-01-12 | 1996-07-30 | Toshiba Corp | 半導体生産管理システム |
KR970060430A (ko) * | 1996-01-24 | 1997-08-12 | 김광호 | 반도체 제조공정 관리방법 |
KR970063608A (ko) * | 1996-02-23 | 1997-09-12 | 김광호 | 반도체 설비의 통계적 공정관리 시스템 및 그 방법 |
KR19980030956A (ko) * | 1996-10-30 | 1998-07-25 | 김광호 | 반도체 공정요소의 제어방법 |
JPH10223720A (ja) * | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Kokusai Electric Co Ltd | 処理装置及びその方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4571685A (en) | 1982-06-23 | 1986-02-18 | Nec Corporation | Production system for manufacturing semiconductor devices |
JPH0616475B2 (ja) | 1987-04-03 | 1994-03-02 | 三菱電機株式会社 | 物品の製造システム及び物品の製造方法 |
JP2780814B2 (ja) * | 1989-06-22 | 1998-07-30 | 株式会社日立製作所 | 生産管理システム |
US5262954A (en) | 1990-05-11 | 1993-11-16 | Hitachi, Ltd. | Automated manufacture line |
JPH0425349A (ja) | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 混成ロット編成方法及び装置 |
US5495417A (en) | 1990-08-14 | 1996-02-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line |
US5579231A (en) | 1991-03-19 | 1996-11-26 | Fujitsu Limited | Management system for manufacture |
JP2828526B2 (ja) | 1991-06-20 | 1998-11-25 | 三菱電機株式会社 | 生産ラインの制御情報自動生成方式 |
JP2985505B2 (ja) | 1991-07-08 | 1999-12-06 | 株式会社日立製作所 | 品質情報収集診断システム及びその方法 |
JP2880876B2 (ja) | 1993-04-15 | 1999-04-12 | 山口日本電気株式会社 | 搬送制御システム |
JP3446256B2 (ja) | 1993-09-03 | 2003-09-16 | 株式会社日立製作所 | Faシステムの制御方法及び装置 |
JP2616413B2 (ja) | 1993-11-22 | 1997-06-04 | 日本電気株式会社 | リペアデータの編集装置およびリペアデータの編集方法 |
JP2702466B2 (ja) * | 1995-11-24 | 1998-01-21 | 山形日本電気株式会社 | 半導体ウェーハの生産方法及びその生産装置 |
KR100200480B1 (ko) * | 1995-12-21 | 1999-10-01 | 윤종용 | 불량 분석 피드백에 의한 반도체 제조공정 제어방법 |
JPH1019789A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH1050788A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造システムおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 |
JPH10170602A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 検査システム |
JPH1126333A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその情報管理システム |
JP2956663B2 (ja) * | 1997-07-07 | 1999-10-04 | 日本電気株式会社 | 半導体ウエハ装置のテスト方法 |
JP3064977B2 (ja) * | 1997-08-04 | 2000-07-12 | 株式会社日立製作所 | 検査データ解析システム及びその方法並びに解析ユニット及び解析方法 |
JPH1196081A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Chishiki Joho Kenkyusho:Kk | 記憶装置の制御方法および記憶装置ならびに記憶装置の製造方法 |
EP0932194A1 (en) * | 1997-12-30 | 1999-07-28 | International Business Machines Corporation | Method and system for semiconductor wafer fabrication process real-time in-situ interactive supervision |
JPH11214462A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査における欠陥致命性判定方法、レビュー対象とする欠陥選択方法、およびそれらに関連する回路パターンの検査システム |
JP2881148B1 (ja) * | 1998-03-31 | 1999-04-12 | 日本特殊陶業株式会社 | バンプ付基板の検査装置 |
US6272437B1 (en) * | 1998-04-17 | 2001-08-07 | Cae Inc. | Method and apparatus for improved inspection and classification of attributes of a workpiece |
US6408219B2 (en) * | 1998-05-11 | 2002-06-18 | Applied Materials, Inc. | FAB yield enhancement system |
US6405094B1 (en) * | 1998-07-10 | 2002-06-11 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method of collecting substrates abnormally processed or processed previous to ordinary processing |
JP3349455B2 (ja) * | 1998-09-30 | 2002-11-25 | 宮崎沖電気株式会社 | 半導体製造装置のための管理方法および管理システム |
US6338001B1 (en) * | 1999-02-22 | 2002-01-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | In line yield prediction using ADC determined kill ratios die health statistics and die stacking |
-
1999
- 1999-05-20 KR KR1019990018263A patent/KR100303321B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-05-19 DE DE10024749A patent/DE10024749B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-20 CN CN00124020A patent/CN1133103C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-22 JP JP2000149900A patent/JP4893900B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-22 GB GB0012369A patent/GB2351806B/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-22 TW TW089109831A patent/TW475230B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-05-22 US US09/576,322 patent/US6728588B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08195406A (ja) * | 1995-01-12 | 1996-07-30 | Toshiba Corp | 半導体生産管理システム |
KR970060430A (ko) * | 1996-01-24 | 1997-08-12 | 김광호 | 반도체 제조공정 관리방법 |
KR970063608A (ko) * | 1996-02-23 | 1997-09-12 | 김광호 | 반도체 설비의 통계적 공정관리 시스템 및 그 방법 |
KR19980030956A (ko) * | 1996-10-30 | 1998-07-25 | 김광호 | 반도체 공정요소의 제어방법 |
JPH10223720A (ja) * | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Kokusai Electric Co Ltd | 処理装置及びその方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2351806B (en) | 2003-07-16 |
JP4893900B2 (ja) | 2012-03-07 |
TW475230B (en) | 2002-02-01 |
CN1280324A (zh) | 2001-01-17 |
DE10024749B4 (de) | 2011-04-21 |
CN1133103C (zh) | 2003-12-31 |
US6728588B2 (en) | 2004-04-27 |
DE10024749A1 (de) | 2000-12-14 |
GB0012369D0 (en) | 2000-07-12 |
KR20000074363A (ko) | 2000-12-15 |
US20030109945A1 (en) | 2003-06-12 |
JP2001005513A (ja) | 2001-01-12 |
GB2351806A (en) | 2001-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100303321B1 (ko) | 반도체 라인 자동화 시스템에서의 오류발생 로트 제어 장치 및그 방법 | |
US7440932B2 (en) | Method and system for automating issue resolution in manufacturing execution and material control systems | |
US20060294047A1 (en) | Method and apparatus for communicating transactions between an industrial controller and a programming interface | |
US20120089239A1 (en) | Intelligent interface for a distributed control system | |
US6233587B1 (en) | Extensible framework of key resource manager and transaction manager events for providing native support for foreign-initiated transactions | |
CN108632106A (zh) | 监控服务设备的系统 | |
CN107819640A (zh) | 用于机器人操作系统的监控方法和装置 | |
WO2023179684A1 (zh) | 一种中央处理器状态监测方法、装置、设备、存储介质 | |
CN107451076A (zh) | 基于VxWorks系统的串口中断处理方法和装置 | |
CN114627628B (zh) | 半导体机台报警处理方法、装置、电子设备和存储介质 | |
KR20010003296A (ko) | 반도체 라인관리용 통합 자동화시스템의 감시 시스템 및 방법 | |
CN115509714A (zh) | 一种任务处理方法、装置、电子设备及存储介质 | |
CN111147282B (zh) | 自动维护drcp连接池的装置、方法及存储介质 | |
KR100596437B1 (ko) | 반도체 제조공정에서 발생하는 데이터의 자동 기록 장치 및 방법 | |
KR100614573B1 (ko) | 반도체 제조공정에서 발생하는 로트 전산정보의 일관성유지 시스템 및 그 방법 | |
KR100329778B1 (ko) | 반도체 생산라인에서 로트의 자동 반송 장치 및 방법 | |
CN115305461B (zh) | 异常工况下晶圆长膜的自动控制方法与装置 | |
JP2000288876A (ja) | 生産制御装置および生産制御方法 | |
TWI818721B (zh) | 具中斷點因應處理的機器人流程自動化快速審貸系統及其方法 | |
JP5080136B2 (ja) | リモートメンテナンスシステム | |
KR100533987B1 (ko) | 반도체 제조공정에서의 분할된 로트의 재작업 방법 | |
KR100533989B1 (ko) | 반도체 제조공정에서의 로트 공정진행 자동 종료 시스템및 그 방법 | |
JP2016012186A (ja) | プログラム管理端末装置 | |
TW202305525A (zh) | 自動化快速整合控制系統 | |
CN116913810A (zh) | 一种传输路径生成方法和半导体工艺设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120625 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |