KR100295399B1 - 초순수 제조장치 - Google Patents
초순수 제조장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100295399B1 KR100295399B1 KR1019970001190A KR19970001190A KR100295399B1 KR 100295399 B1 KR100295399 B1 KR 100295399B1 KR 1019970001190 A KR1019970001190 A KR 1019970001190A KR 19970001190 A KR19970001190 A KR 19970001190A KR 100295399 B1 KR100295399 B1 KR 100295399B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- boron
- pure water
- ultrapure water
- water
- desalting
- Prior art date
Links
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 107
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 80
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 79
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000011033 desalting Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 20
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 43
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 22
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 15
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 claims 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 2
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 2
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 238000012824 chemical production Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/02—Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
- B01D61/025—Reverse osmosis; Hyperfiltration
- B01D61/026—Reverse osmosis; Hyperfiltration comprising multiple reverse osmosis steps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/447—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by membrane distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/469—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
- C02F1/4693—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis
- C02F1/4695—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis electrodeionisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S210/00—Liquid purification or separation
- Y10S210/90—Ultra pure water, e.g. conductivity water
Abstract
전처리장치, 탈염장치, 비이온성 물질제거장치를 가지는 초순수제조장치의 탈염장치로서 2단 RO장치(103, 104)를 구비한다. 약품재생형이온교환장치를 구비하고 있지 않은, 2단 RO장치(103, 104)에 물을 통과시킨 피처리수를 붕소선택성 이온교환수지에 접촉시키는 붕소제거장치(1)를 배설하였다.
Description
제1도는 본 발명을 비재생형의 2단 RO장치를 주된 탈염장치로서 구비한 초순수 제조장치에 적용한 구성개요의 일례를 도시한 플로우챠트도.
제2도는 본 발명을 비재생형의 2단 RO장치를 주된 탈염장치로서 구비한 초순수 제조장치에 적용한 다른 예의 구성개요를 도시한 플로우챠트도.
제3도는 본 발명을 비재생형의 EDI장치를 주된 탈염장치로서 구비한 초순수 제조장치에 적용한 구성개요의 일례를 도시한 플로우챠트도.
제4도는 본 발명을 비재생형의 증류장치를 주된 탈염장치로서 구비한 초순수제조장치에 적용한 구성개요를 도시한 플로우챠트도.
제5도는 비재생형의 2단 RO장치를 주된 탈염장치로서 구비한 종래의 초순수제조장치의 구성예를 도시한 도면.
제6도는 비재생형의 EDI장치를 주된 탈염장치로서 구비한 종래의 초순수제조장치의 구성예를 도시한 도면.
제7도는 비재생형의 증류장치를 주된 탈염장치로서 구비한 종래의 초순수제조장치의 구성예를 도시한 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1, 2, 3, 4 : 붕소제거장치 101 : 전처리장치
102 : 탈탄산탑 103, 104 : RO장치
105 : 진공탈기장치 106 : 비재생형 이온교환장치
107 : 순수탱크 108 : 자외선 산화장치
109 : 카트리지폴리셔 110 : 막처리장치
120 : RO장치 121 : EDI장치
122 : 막탈기장치 130 : RO장치
131 : 증류장치 132 : 막탈기장치
[발명이 속하는 가술분야 및 그 분야의 종래기술]
본 발명은 초순수제조장치에 관한 것이며, 예를 들어 전자산업분야에 있어서의 세정용 초순수 제거장치에 관한 것이다.
또한 본 명세서에 있어서 「초순수」라고 하는 것은, 현탁물질이나 이온, 비이온성 물질 등을 가능한한 제거하도록 처리되어 일반적으로 순수, 초순수, 초초순수 등으로 불리우고 있는 고순도수를 총칭하여 말하는 것으로 한다.
종래부터 반도체장치 등의 제조분야, 약품제조분야, 식품제조분야 등등의 다양한 분야에서 용수로서 초순수가 요구되고 있고, 원수에 함유되는 현탁물질을 제거하는 전처리장치, 전처리가 끝난 피처리수 속의 이온을 제거하는 탈염장치 및 전처리가 끝난 피처리수 속의 비이온성물질을 제거하는 비이온성물질 제거장치 등을 설비한 여러 가지 구성의 초순수 제조장치가 제안되고 있다.
그리고, 이와 같은 초순수 제조장치에서도, 일반적인 산업설비에 있어서 보편적으로 요구되는 설비비용이나 제조비용의 저감화라고 하는 과제가 있는 외에, 최근에 있어서는, 환경보전의 관점에서 초순수의 제조에 수반되는 폐수의 감용화가 과제로 되어 있다. 이들 과제에 대응할 수 있는 장치로서 약품재생형 이온교환장치를 가지지 않는 구성의 초순수 제조장치가 최근 주목되고 있다. 즉, 종래의 일반적이었던 약품재생형 이온교환장치에 대신하는 탈염수단으로서 역삼투막장치, 전기재생식 탈염장치 (이하, 「EDI장치」라고 약칭한다), 배열을 이용한 중류장치 등의 비재생형 탈염장치를 가진 초순수 제조장치가 제안되어 이용되고 있다.
이들 장치에 의하면, 재생설비를 요하지 않고, 또 다량의 염수를 함유하는 재생폐액을 발생시키지 않고, 폐수처리설비의 소형화, 불필요화가 도모된다. 따라서, 전체설비나 설비면적이 축소화됨에 따른 바용저감의 효과나, 폐수총량의 저감에 따른 환경보전효과가 얻어진다고 하는 뛰어난 이점이 있다.
그런데, 위에서 설명한 문제와는 별도로, 전처리장치, 탈염장치, 비이온성 물질제거장치 등을 구비한 초순수 제조설비로 제조된 초순수에 있어서도, 붕소가 적지않게 함유되어 있는 것이 분석기술의 향상 등에 수반하여 최근 명백하게 되고, 이것이 새로운 문제가 되어 있다.
붕소가 초순수에 함유되는 것은 종래에는 거의 주목되지 않고 있었지만, 이것이 함유되는 것이 명백해진 결과, 초순수를 용수로서 이용하는 각종의 분야에 있어서 그 제거가 요구되어 오고 있다. 예를 들면 붕소의 제거가 충분하지 않은 초순수를 반도체장치제도의 용수, 예를 들면 대표적으로 알려진 세정수로서 이용하는 경우에 다음과 같은 문제가 지적된다. 즉, 기판 상에 n채널트랜지스터를 형성하려고 한 경우, n채널트랜지스터의 임계치 전압은 기반 중의 붕소농도에 의존한다. 이 때문에 제조공정 도중의 세정수에 붕소를 고농도로 함유하는 용수를 이용하면 상기 농도의 관리가 불안정해지고, 제품인 반도체장치 특성이 현저히 손실되는 가능성이 있다. 또, 고집적도화가 진행되어 왔기 때문에 특히 미세한 n채널 MOS트랜지스터를 제조할 필요가 생겼지만, 그 경우, 펀치스루(punch through) 방지의 관점에서 기반의 깊이방향의 붕소농도분포는 정밀하게 제어할 수 있는 것이 바람직하다. 따라서 이들 제조공정에서 사용되는 용수로서의 초순수소의 붕소는 충분히 저감되어 있는 것이 바람직한 것이다. 또 약품제조 등의 분야에 있어서도 초순수속의 불순물은 원소의 종류 등의 구별없이 가능한한 저감되는 것이 요구되는 경향이 있고, 붕소도 이 불순물의 하나에 포함된다.
이 붕소가 초순수 속에 함유되는 이유는, 기본적으로 초순수의 제조에 이용되는 하천수나 정수(井水)를 원수로 하는 공업용수 속에 붕소가 수십 ppb 정도 함유되어 있는 것에 기인하고 있지만, 탈염장치를 구비하고 있음에도 불구하고 종래의 일반적인 초순수 제조장치의 탈염장치로는 이것을 충분히 제거할 그 없는 데에도 구 원인의 일단이 있다.
본 발명자의 검토에 의하면, 약품재생형 이온교환장치(예를 들면 2상3탑식 이온교환장치나 재생형 혼상식 이온교환장치)를 가지는 설비에서는, 비교적 조기에 붕소의 누출이 시작된다. 그러나, 재생빈도를 매우 높게 하는 등 운용에 따라서는 초순수 중의 붕소농도를 저감할 수 있는 가능성이 있다. 한편, 역삼투막장치에서는 상기 60%정도의 누출, EDI장치에서는 상시 25%정도의 누출, 증류장치에서는 상시 65%정도의 누출이라는 식의 거의 제거가 어렵다고 하는 것이 알려졌다.
이상과 같은 문제를 고려하면, 전체설비가 약품재생형이 아님에 따른 뛰어난 이점을 가진 앞에서 설명한 EDI장치 등을 구비한 초순수 제조장치는 붕소가 제거된 용수가 요구되는 용도로는 거의 적용할 수 없게 된다.
이상의 일을 종래 장치를 참조하면서 보다 구체적으로 설명하면. 제5도는 약품재생형이 아닌 2단 RO장치를 탈염장치로서 구비한 초순수제조장치의 일례를 도시한 것으로, 이 도면에 있어서, 101은 전처리장치이고, 응집여과장치 또는 제탁막장치에 의해 원수 중의 현탁물질을 제거한다. 102는 제탁된 물 속의 탄산을 제거하는 탈탄산탑에 있어서, 입구에서 염산 등의 산을 첨가하고 산성하에 있어서 기체가 폭발한다. 또한, 지하수와 같이 과잉 탄산가스가 용존에 있는 경우에는 산을 첨가하지 않고 공기와 접촉시키는 경우도 있다. 103, 104는 2단 RO장치이다. 제1단째의 역삼투막장치(103)는 탈탄산처리수 속의 이온성 불순물이나 비이온성의 유기물이나 미립자를 제거한다. 일반적으로는 1단째의 역삼투막장치(103)에서는 입구에서 수산화나트륨등의 알칼리를 첨가하여 피처리수를 pH8.5정도로 하고, 용존해 있는 탄산을 탄산수소이온으로 하고, 제2단째의 역삼투막장치(104)에서는 그 입구에 있어서 피처리수에 다시 알칼리를 첨가하여 pH9.5정도로하여 처리를 행한다.
다음에 2단째의 RO장치의 처리수는 진공탈기장치(105)에 의해, 질소, 산소, 탄산 등의 용존가스를 제거한 후, 강산성 양이온교환수지와 강염기성 음이온교환수지를 혼합충진한 비재생형 이온교환장치(106)에 통과되어 저항율 18㏁·㎝ 전후의 일차 순수가 제조된다.
이와 같이하여 제조된 일차 순수는 그대로 반도체장치 제조장치 등의 냉각수나 석영제 지그의 세정용수 등의 이용에 공급되는 경우도 있지만, 실리콘웨이퍼 등과 같이 고순도수를 필요로 하는 용수를 제조할 경우에는, 통상 순수탱크(107)를 통하여 자외선산화장치(108)→카트리지폴리셔(109)→막처리장치(110)의 공정을 통하여 사용장소에 이르는 이차 순수처리시스템을 거쳐 초순수로 된다. 또한 순수탱크(107)보다 앞의 일련의 장치는 이차 순수처리시스템에 대해서 일반적으로 일차 순수처리시스템으로 불리고 있다. 이차 순수처리시스템에 있어서의 자외선 산화장치(108)는 유기물의 유기산이나 탄산에의 분해, 카트리지폴리셔(109)는 유기산이나 탄산이나 기타의 미량 불순물 제거, 막처리장치(110)는 한외여과막, 정밀여과막, 역삼투막 등의 막에 의해 미립자제거를 하기 위한 것이다. 또한 순수탱크(107)→자외선 산화장치(108)→카트리지폴리셔(109)→막처리장치(110)→순수탱크(107)의 폐루프내를 구성하여 초순수를 상시 순환시키면서 그 막처리수를 사용장소에 송수하도록 하고 있는 것은, 초순수 불사용시에 있어서의 대류로 박테리아증식 등의 부적합한 상태를 방지하기 위한 일반적인 구성이다.
이상과 같이 구성된 2단 RO장치를 구비한 제5도의 비재생형 설비인 종래의 초순수 제조장치는, 재생약품을 사용하지 않기 때문에 비재생형의 이점을 가지는 뛰어난 설비 특징으로 가진다. 그러나, 반면에 붕소의 누출은 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 거의 피할 수 없고, 가동초기부터 ppb레벨에서 붕소가 누출하고 있는 것이 알려진다. 이 때문에 붕소를 제거한 용수가 요구되는 용도의 용수 제조장치로서는 적당하지 않다. 또한 피처리수 속의 붕소농도는 ICP-MS분석계를 이용하여 측정하였다.
[표 1]
제6도에 도시한 장치는 비약품재생형 외의 초순수 제품장치, 구체적으로는 제5도의 탈탄사탑(102)을 제거함과 동시에, 2단의 RO장치(103, 104)를 대신하여 RO장치(120)와 EDI장치(121)를 설치하고, 또한 진공탈기장치(105)를 대신하여 막탈기장치(122)를 설치한 장치를 나타내고, 기타의 구성은 제5도의 구성과 같으므로 같은 부호를 붙이고 설명은 생략한다.
이 EDI장치(121)를 구비한 비약품재생형 외의 초순수 제조장치에 있어서도, 상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 말단의 막처리장치(110) 출구에 있어서 ppb레벨로 붕소가 누출한다.
또한 제7도에 도시한 장치는 제5도의 2단 RO장치(103. 104)를 대신하여 RO장치(130)와 증류장치(131)를 설치하고, 또한 이차 순수처리시스템의 자외선 산화장치(108)의 전단에 막탈기장치(132)를 설치한 장치를 도시하고, 기타의 구성은 제5도의 구성과 같으므로 동일한 부호를 붙이고 설명은 생략한다.
이 증류장치(131)를 구비한 초순수 제조장치에 있어서도, 상기 표 1에 나타낸 바와 같이 말단의 막처리장치(110)의 출구에 있어서 ppb레벨로 붕소가 누출해 버린다.
이상과 같이, 역삼투막장치, EDI장치, 증류장치를 주된 탈염장치로서 이용하는 것으로 비재생형 설비로 한 초순수 제조장치는, 비용저감효과, 환경보전효과가 얻어지기는 하지만, 붕소제거법에 대해서는 거의 효과가 없다고 하는 문제가 있다.
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]
본 발명은 앞에서 설명한 폐액처리 등의 문제가 없이 환경보전성에 뛰어난 특질을 가진 비재생형 초순수 제조장치에 대해서, 그 특질을 살리면서, 또한 최근에 문제가 되어 온 붕소의 제거법도 가능하게 한 초순수 제조장치의 제공을 목적으로 이루어진 것이다.
[발명의 구성 및 작용]
본 발명의 초순수 제조장치는, 원수에 함유되는 현탁물질을 제거하는 전처리장치 및 염류를 제거하는 탈염장치를 구비하는 초순수 제조장치에 있어서, 상기 탈염장치를 2단 RO장치, 전기재생식 탈염장치(EDI장치), 증류장치 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 탈염처리를 하고, 상기 2단 RO장치, 전기재생식 탈염장치, 증류장치 중의 어느 한 탈염장치를 통과한 피처리수를 붕소선택성 이온교환수지에 접속시키는 붕소제거장치를 배설하였다.
상기에 있어서 이용되는 붕소선택성 이온교환수지는, 붕소를 선택적으로 흡착할 수 있는 것이면 한정받지 않고 이용할 수 있다. 구체적으로 관능기로서 다가알콜기를 도입한 예를 들면 암바라이트(등록상표 : 롬앤드하우스사 제품) IRA-743T, 다이아이온CRB02(미츠비시카세이사 제품) 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이 붕소선택성 이온교환수지를 이용하는 것이 필수적이다. 종래 일반적인 강염기성 음이온교환수지를 이용한 것에서는, 조기에 붕소의 다량누출이 일어나버렸다. 이 때문에 비재생형에서는 이온교환수지의 빈번한 교환이 필요해지고, 재생형에서는 이온교환수지의 빈번한 약품재생이 필요해진다. 이 때문에 역삼투막장치, EDI장치, 증류장치를 주된 탈염처리장치로서 이용하여 비재생형의 초순수제조장치를 구성하는 것의 의미를 잃게 된다.
또, 피처리수를 붕소선택성 이온교환수지에 「접촉시킨다」고 하는 것은, 붕소선택성 이온교환수지를 충진한 이온교환탑에 처리수를 통과시키는 것을 말한다. 이 이온교환탑에는 다른 이온교환수지와 혼합 또는 적층한 것을 이용할 수도 있고, 장치의 구조를 한정받지 않는다. 그러나 붕선제거 장치를 약품재생에 필요한 구성으로 하는 것은 앞에서 설명한 것과 같은 이유로 비재생형의 초순수 제조장치를 구성하는 것의 의의를 잃게 되므로 적당하지 않다. 이 때문에 역삼투막장치, EDI장치, 증류장치의 후단, 특히 앞에서 설명한 일차 순수처리시스템의 하류(순수탱크의 직전)나 이차 순수처리시스템에 붕소제거장치를 설치하는 것이 바람직하다.
또, 탈염장치의 전단에는 전처리장치를 배설하는 것이 바람직하다. 이 전처리장치는 응집침전, 여과, 마이크로플록여과, 활성탄여과, 제탁막 등 어떤 처리를 행하는 것이라도 된다.
본 발명의 초순수 제조장치에 있어서는, 탈염장치로서 2단 RO장치, 전기재생식 탈염장치, 증류장치 중 어느 하나가 설치되어 있지만, 이와 동시에 비재생형 이온교환장치를 배설할 수도 있다. 이 비재생형 이온교환장치를 병설할 경우에는, 그 교환빈도를 가능한한 적게 하기 위해 2단 RO장치, 전기재생식 탈염장치, 증류장치의 후단에 이것을 배설하는 것이 바람직하다.
또 붕소선택성 이온교환수지로부터는 유기물의 유출을 무시할 수 없는 경우가 많으므로, 붕소제거장치의 하류에, 유기물을 분해하는 자외선 산화장치 및 분해생성물을 제거하는 역삼투막 등의 막처리장치가 배치되는 구성이 특히 바람직한 것으로서 추장된다.
본 발명에 있어서는 붕소제거장치의 설비에 따라서 상기한 부수적으로 바람직한 구성의 채용이 적당한 경우가 많지만, 기타의 구성은 종래의 비재생형 설비로서의 초순수 제조장치, 예를 들면 종래 예로서 설명한 제5도~제7도의 각 구성의 것이 특히 제한되지 않고, 또 같은 작용을 얻는 목적에 따라 채용할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서 2단 RO장치라고 하는 것은, 제1의 RO장치(역삼투막장치)의 초순수를, 다시 제2의 RO장치에 의해 처리하고, 제2의 RO장치의 투과수가 고순도가 되도록 한 장치이다. RO장치를 단순히 2단으로 한 장치 외에, 제1의 RO장치의 피처리수의 pH를 조정하여, 피처리수 속의 유리탄산의 제거율을 높이도록 한 방식의 2단 RO장치(예를 들면 일본국 특개평 6-31272호 등) 도 본 발명에 있어서 채용할 수 있다.
본 발명에 있어서 전기재생식 탈염장치(EDI장치)라고 하는 것은, 종래부터 실용화되고 있는 다음 구성을 기본으로 가지는 탈이온제조장치를 말한다. 즉, 양이온교환막과 음이온교환막에서 형성된 극간에, 이온교환체로서 음이온교환수지와 양이온교환수지의 혼합이온교환수지층을 혹은 음이온교환섬유와 양이온교환섬유의 혼합율을 충진하여 탈염실로 하고, 상기 이온교환체층에 피처리수를 통과시킴과 동시에, 상기 양 이온교환막을 통하여 피처리수의 흐름에 대해 직각방향으로 직류전류를 작용시켜서, 양 이온교환막의 외측에 흐르고 있는 농축수 속에 피처리수 속의 이온을 전기적으로 배제하면서 탈이온수를 제조하는 것이다(예를 들면 일본국 특개평 4-71624호 등).
본 발명의 있어서 증류장치라고 하는 것은, 일반적으로 증류법에 의한 증류수 제조장치를 말한다. 특히 고순도의 증류수를 제조하는 방법으로서는, 다중효용 증류법을 이용한 증류수 제조장치(예를 들면 오르가노아크라(주)사 제품 다중효용식 증류수제조장치, 히타치조선(주)사 제품 미라클뷰어시리즈 등)가 알려져 있다.
본 발명의 구성에 의하면 상기 붕소제거장치를 이용하여 피처리수 속의 붕소를 제거함으로써, 비재생형 탈염장치를 용도에 제한받지 않고 이용할 수 있도록 하는 경우에 현안이 되면 예상되는 문제를 효과적으로 해결할 수 있고, 그 역삼투막장치, EDI장치, 증류장치를 가지는 것으로 비재생형 설비로서 구성된 초순수 제조장치의 뛰어난 특징으로 살릴 수 있다.
[실시형태 1 ]
제1도는 본 예의 초순수 제조장치를 도시하고, 진공탈기장치(105)와 비재생형 이온교환장치(106) 사이에 붕소선택성수지(IRA-743T:전출)를 충진한 붕소제거장치(1)를 설치하고 있다.
101은 응집여과장치 또는 제탁막장치 등으로 구성되는 전처리장치, 102는 제탁된 물 속의 탄산을 제거하는 탈염산탑, 필요에 따라 입구에서 염산등의 산이 첨가되어 기체는 폭발한다. 103, 104는 2단 RO장치이고, 제1단째의 역삼투막장치(103)로 탈탄산처리수 속의 이온성 불순물이나 비이온성 유기물이나 미립자 등의 불순물을 제거하고, 제2단째의 역삼투막장치(104)에서 다시 이들 불순물의 제거를 행한다. 필요에 따라서 수산화나트륨등의 알칼리첨가에 의한 pH조정은 앞에서 설명한 종래 예와 같다.
105는 2단 RO장치의 처리수로부터 질소, 산소, 탄산, 등의 용존가스를 제거하는 진공탈기장치이고, 본 예에서는 이 진공탈기장치(105)의 다음에 상기 붕소선택성 수지를 충진한 붕소제거장치(1)가 설치된다. 그리고 이 후단에 강산성 양이온교환수지와 강염기성 음이온교환수지를 혼합충진한 비재생형 이온교환장치(106)가 설치되고, 저항율 18㏁·㎝ 전후로 붕소농도가 <10ppt라고 하는 레벨로 저감된 일차 순수가 제조된다.
일차 순수는 순수탱크(107)를 통하여 자외선 산화장치(108)→카트리지폴리셔(109)→막처리장치(110)의 공정을 통하여 사용장소에 이르는 이차 순수처리시스템을 거쳐 초순수로 된다.
또한 본 예와 같이, 비재생형 이온교환장치(106)를 붕소제거장치(1)의 후단에 설치하는 것이 바람직하다. 이것은 붕소제거장치에 충진되어 있는 IRA-743T로부터 용출하는 TOC(Total Organic Carbon)를 이 비재생형 이온교환장치에 의해 제거할 수 있기 때문이다.
본 예에 의하면 약품재생형의 탈염장치를 구비하지 않고 주된 탈염장치로서 2단 RO장치를 구비한 초순수 제조장치에 있어서, 비재생형의 이점을 유효하게 살리면서, 붕소가 제거된 초순수를 연속적으로 장기간에 걸쳐 제조할 수 있다고 하는 효과가 얻어진다.
[실시형태 2]
제2도에 도시한 본 예는 실시형태 1에서 도시한 제1도의 장치에 있어서 IRA-743T를 충진한 붕소제거장치(1)의 설치위치를, 순수탱크(107)와 자외선 산화장치(108) 사이에 붕소제거장치(2)로 한 구성을 이루는 데에 특징이 있고, 기타의 구성은 제1도의 구성과 같다.
본 예의 구성에 의하면, 붕소제거장치(2)가 순수탱크(107)의 하류인 이차 순수처리시스템 내에 배설되어 있다. 이 때문에 제1도의 구성에 비해 붕소제거장치의 피처리수 속의 붕소 이외의 음이온의 함유량이 보다 적다고 하는 이점이 있다. 예를 들면 제1도의 구성에 있어서 붕소제거장치(1)에의 유입수의 저항율이 5㏁·㎝ 정도로 하면, 본 예에 있어서는 붕소제거장치(2)에의 유입수의 저항율은 18㏁·㎝ 이상이고, 따라서 붕소선택성 이온교환수지의 부하가 적다. 이 때문에 보다 장기간(예를 들면 상기 유입수의 저항율의 관계에서는 약4배)에 걸쳐 붕소제거가 가능해진다.
[실시형태 3]
제3도에 도시한 본 예에서는, 제6도에 도시한 종래의 일차 순수처리 시스템의 막탈기장치(122)와 비재생형 이온교환장치(106) 사이에 IRA-743T를 충진한 붕소제거장치(3)를 설치하고 있다.
본 예에 의하면, 약품재생형 탈염장치를 구비하지 않고 주된 탈염장치로서 EDI장치(121)를 구비한 초순수제조장치에 있어서, 비재생형의 이점을 유효하게 살리면서, 붕소가 제거된 초순수를 연속적으로 장기간에 걸쳐 제조할 수 있다고 하는 효과가 얻어진다.
또한, 붕소제거장치(3)는 이차 순수처리시스템의 순수탱크(107)와 자외선 산화장치(108) 사이에 설치할 수도 있고, 이와 같이 함으로써 상기 실시형태2와 마찬가지의 이유로 붕소제거장치(3)의 수명을 연장할 수 있다는 이점이 있다.
[실시형태4]
제4도에 도시한 본 예에서는, 제7도에 도시한 종래의 일차 순수처리시스템의 증류장치(131)와 비재생형 이온교환수지장치(106)사이에 IRA-743T를 충진한 붕소제거장치(4)를 설치하고 있다.
본 예에 의하면, 약품재생형 탈염장치를 구비하지 않고 주된 탈염장치로서 증류장치(131)를 구비한 초순수 제조장치에 있어서, 비재생형의 이점을 유효하게 살리면서, 붕소가 제거된 초순수를 연속적으로 장기간에 걸쳐 제조할 수 있다고 하는 효과가 얻어진다.
또한, 붕소제거장치(4)는 이차 순수처리시스템의 순수탱크(107)와 자외선 산화장치(108) 사이에 설치할 수도 있고, 이와 같이 함으로써 상기 실시형태 2와 마찬가지의 이유로 붕소제거장치(4)의 수명을 연장할 수 있다는 이점이 있다.
[실시예 1]
제2도의 장치를 이용하여 각 장치구성을 이하와 같이 구성하여 물을 통과시키고 각 측정점의 붕소농도를 ICP-MS분석계를 이용하여 측정하였다.
장치
전처리장치(101) : 응집침전여과장치
탈탄산탑(102) : 충진재 충진식 하부공기흡입방식
2단 RO장치
RO장치(103) : 닛토덴코(주)사 제품 NTR-759HR
RO장치(104) : 닛토덴코(주)사 제품 NTR-759HR
진공탈기장치 : 충진재 충진식 상부진공흡입방식
붕소제거장치(1) : 암바라이트IRA-743T단상 (통수유속SV50)
비재생형 이온교환장치(106) : 강산성 양이온 교환수지와 강염기성 음이온 교환수지를 체적비가 1／1의 혼상으로 한 것 (통수유속SV30)
자외선 산화장치(108) : 치요다코우한(주)사 제품 TFL-6;0.35KW·Hr/㎥
카트리지폴리셔(109) : 강산성 양이온 교환수지와 강염기성 음이온교환수지를 체적비가 1／1의 혼상으로 한 것 (통수유속SV50)
막처리장치(11) : 아사히카세이코교(주)가 제품 OLT-3026 피처리수
피처리수 붕소농도 : 53ppb
통수량 : 50㎥／Hr
운전시간 : 60일간
결과(60일째)를 하기 표 2에 나타냈다.
[표 2]
이 결과에서 알 수 있듯이, 일차 순수처리시스템의 비재생형 이온교환장치(106)의 출구에서 이미 <10ppt를 달성할 수 있었다.
[실시예 2]
제2도의 장치를 이용하여 각 장치의 구성을 상기 실시예 1과 같게 구성하여 통수를 행하고 각 측정점의 붕소를 ICP-MS분석계를 이용하여 측정하였다. 결과를 상기 표 2에 나타냈다.
본 예에 있어서는, 막처리장치(110)의 출구에서 <10ppt를 달성할 수 있었다. 또, 연속운전시험을 행한 바, 실시예 1의 장치에 비해 약 4배의 장기간에 걸쳐 붕소제거장치로부터의 붕소의 누출방지를 할 수 있는 것을 알았다.
[실시예 3]
제3도의 장치를 이용하여 RO장치(120), EDI장치(121), 막탈기장치(122)를 이하와 같이 구성한 외에는, 각 장치구성을 상기 실시예 1과 같게 구성하여 통수를 행하고 각 측정점의 붕소농도를 ICP-MS분석계를 이용하여 측정하였다. 결과를 상기 표 2에 나탸냈다.
RO장치(120) : 닛토덴코(주)사 제품 NTR-759HR
EDI장치(121) : 오르가노 (주)사 제품 EDI-10
막탈기장치(122) : 오르가노 (주)사 제품 MJ-510P
본 예에 있어서는, 일차 순수시스템의 비재생형 이온교환장치(106)의 출구에서 이미 <10ppt를 달성할 수 있었다.
[실시예 4]
제4도의 장치를 이용하여 RO장치(130), 증류장치(131), 막탈기장치(132)를 이하와 같이 구성한 외에는 각 장치구성을 상기 실시예 1과 같게 구성하여 통수를 행하고 각 측정점의 붕소농도를 ICP-MS분석계를 이용하여 측정하였다. 결과를 상기 표 2에 나타냈다.
RO장치(130) : 닛토덴코(주)사 제품 NTR-759HR
증류장치(131) : 오르가노아크라(주)사 제품 다중효용식 증류수 제조장치
막탈기장치(132) : 오르가노(주)사 제품 MJ-510P
본 예에 있어서는 일차 순수시스템의 비재생형 이온교환장치(106)의 출구에서 이미 <10ppt를 달성할 수 있었다.
Claims (7)
- 원수중에 함유되는 현탁물질을 제거하는 전처리장치 및 염류를 제거하는 탈염장치를 구비하는 초순수 제조장치에 있어서, 상기 탈염장치를 2단 역삼투막장치, 전기재생식 탈염장치, 증류장치에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 탈염장치와, 이 탈염장치의 후단에 이 탈염장치에 있어서 처리된 처리수를 붕소선택적 이온교환수지에 접촉시켜 붕소를 제거하는 붕소제거장치를 설치하는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제1항에 있어서 상기 붕소제거장치의 후단에, 이 붕소제거장치로 처리된 처리수를 다시 처리하는 비재생형 이온교환장치를 설치한 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제2항에 있어서 상기 탈염장치, 붕소제거장치, 및 비재생형 이온교환장치는 일차 순수처리시스템울 구성하고, 이 일차 순수처리시스템의 처리수에 잔류하는 미량의 이온, 비이온성 물질, 미립자를 다시 제거하는 2차 순수처리시스템을 가지는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제3항에 있어서 상기 2차 순수처리시스템은, 유기물을 산화분해하는 자외선산화장치와, 유기물의 산화생성물을 제거하는 카트리지폴리셔와, 미립자를 제거하는 막분리장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제1항에 있어서, 상기 탈염장치와 붕소제거장치 사이에 비재생형 이온교환장치를 배치하고, 비재생형 이온교환장치의 처리수를 붕소제거장치에 공급하는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제5항에 있어서, 상기 탈염장치, 비재생형 이온교환장치는 일차 순수처리시스템을 구성하고, 이 일차 순수처리시스템에 잔류하는 미량의 이온, 비이온성 물질, 미립자를 다시 제거하는 2차 순수처리시스템을 설치하고, 이 2차 순수처리시스템에 붕소제거장치를 설치하는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
- 제6항에 있어서, 상기 2차 순수처리시스템은, 유기물을 산화분해하는 자외선산화장치와, 유기물의 산화생성물을 제거하는 카트리지 폴리셔와, 미립자를 제거하는 막분리장치를 포함하고, 붕소제거장치는, 자외선 산화장치의 전단에 배치하는 것을 특징으로 하는 초순수 제조장치.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00561696A JP3426072B2 (ja) | 1996-01-17 | 1996-01-17 | 超純水製造装置 |
| JP96-5616 | 1996-01-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970059087A KR970059087A (ko) | 1997-08-12 |
| KR100295399B1 true KR100295399B1 (ko) | 2001-09-17 |
Family
ID=11616125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019970001190A KR100295399B1 (ko) | 1996-01-17 | 1997-01-16 | 초순수 제조장치 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5833846A (ko) |
| JP (1) | JP3426072B2 (ko) |
| KR (1) | KR100295399B1 (ko) |
| GB (1) | GB2309222B (ko) |
| MY (1) | MY120689A (ko) |
| SG (1) | SG71692A1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180103964A (ko) * | 2016-01-28 | 2018-09-19 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 장치의 운전 방법 |
Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020153319A1 (en) | 1997-08-12 | 2002-10-24 | Debasish Mukhopadhyay | Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation |
| US8758720B2 (en) | 1996-08-12 | 2014-06-24 | Debasish Mukhopadhyay | High purity water produced by reverse osmosis |
| US6562205B1 (en) * | 1997-03-31 | 2003-05-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | High-temperature ultrapure water production apparatus and liquid medicine preparation apparatus equipped with the production apparatus |
| US6780328B1 (en) * | 1997-06-20 | 2004-08-24 | Li Zhang | Fluid purification devices and methods employing deionization followed by ionization followed by deionization |
| US6110831A (en) * | 1997-09-04 | 2000-08-29 | Lucent Technologies Inc. | Method of mechanical polishing |
| JP3951200B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2007-08-01 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
| US6398965B1 (en) | 1998-03-31 | 2002-06-04 | United States Filter Corporation | Water treatment system and process |
| US6328896B1 (en) * | 1998-04-24 | 2001-12-11 | United States Filter Corporation | Process for removing strong oxidizing agents from liquids |
| US6021791A (en) * | 1998-06-29 | 2000-02-08 | Speedfam-Ipec Corporation | Method and apparatus for immersion cleaning of semiconductor devices |
| JP2000271569A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Kurita Water Ind Ltd | 純水の製造方法 |
| JP3570304B2 (ja) * | 1999-08-11 | 2004-09-29 | 栗田工業株式会社 | 脱イオン水製造装置の殺菌方法及び脱イオン水の製造方法 |
| US6379518B1 (en) * | 1999-08-11 | 2002-04-30 | Kurita Water Industries Ltd. | Electrodeionization apparatus and pure water producing apparatus |
| JP4497387B2 (ja) * | 2000-05-12 | 2010-07-07 | オルガノ株式会社 | 二次純水製造装置 |
| CN1244500C (zh) | 2000-08-07 | 2006-03-08 | 西弗斯仪器公司 | 低水平硼的检测与测量 |
| WO2003031034A1 (en) * | 2001-10-05 | 2003-04-17 | Ionics, Incorporated | Control of water treatment system with low level boron detection |
| US7368058B2 (en) * | 2002-01-22 | 2008-05-06 | Toray Industries, Inc. | Method of generating fresh water and fresh-water generator |
| JP3966501B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2007-08-29 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置 |
| JP4599803B2 (ja) * | 2002-04-05 | 2010-12-15 | 栗田工業株式会社 | 脱塩水製造装置 |
| US8177981B2 (en) | 2002-04-12 | 2012-05-15 | General Electric Company | Ion exchange regeneration method |
| US6960302B2 (en) * | 2002-12-10 | 2005-11-01 | Miers Jr Jay Alfred | Fluid treatment system |
| CA2452137A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-06-18 | Rohm And Haas Company | Water treatment system with low waste volume |
| JP3864934B2 (ja) | 2003-06-12 | 2007-01-10 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
| TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US20050127007A1 (en) * | 2003-12-11 | 2005-06-16 | Miers Jay A.Jr. | Water treatment system with low waste volume |
| US7959780B2 (en) | 2004-07-26 | 2011-06-14 | Emporia Capital Funding Llc | Textured ion exchange membranes |
| DE602006012746D1 (de) | 2005-01-14 | 2010-04-22 | Asml Netherlands Bv | Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren |
| US7780833B2 (en) | 2005-07-26 | 2010-08-24 | John Hawkins | Electrochemical ion exchange with textured membranes and cartridge |
| CN105540763A (zh) | 2005-10-06 | 2016-05-04 | 派克逖克斯公司 | 流体的电化学离子交换处理 |
| CN101108762B (zh) * | 2006-07-19 | 2011-12-14 | 深圳市海川实业股份有限公司 | 一种制药用水的处理工艺 |
| US7744760B2 (en) * | 2006-09-20 | 2010-06-29 | Siemens Water Technologies Corp. | Method and apparatus for desalination |
| US7645387B2 (en) * | 2006-12-11 | 2010-01-12 | Diversified Technologies Services, Inc. | Method of utilizing ion exchange resin and reverse osmosis to reduce environmental discharges and improve effluent quality to permit recycle of aqueous or radwaste fluid |
| GR20070100306A (el) * | 2007-05-22 | 2008-12-19 | Νικολαος Πηττας | Αυτοματη διαταξη επεξεργασιας αφαλατωσης θαλασσινου νερου για παραγωγη με απολυτη υγιεινοτητα ποσιμου νερου πολυ υψηλων προδιαγραφων |
| WO2009009465A1 (en) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Christopher William Heiss | Electrocoagulation reactor and water treatment system and method |
| JP5320723B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2013-10-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
| US20100288308A1 (en) * | 2007-11-06 | 2010-11-18 | Kurita Water Industries Ltd. | Method and system for producing ultrapure water, and method and system for washing electronic component members |
| JP5081690B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2012-11-28 | オルガノ株式会社 | 超純水の製造方法 |
| US20120055875A1 (en) * | 2010-09-02 | 2012-03-08 | General Electric Company | Method to treat produced waters from thermally induced heavy crude oil production (tar sands) |
| CN103402923A (zh) * | 2011-01-31 | 2013-11-20 | 迪韦尔西菲德技术服务公司 | 硼回收处理方法 |
| US11156041B2 (en) * | 2012-02-22 | 2021-10-26 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
| WO2014058696A1 (en) * | 2012-10-10 | 2014-04-17 | M-I L.L.C. | Boron removal system and method |
| JP5733351B2 (ja) * | 2013-07-22 | 2015-06-10 | 栗田工業株式会社 | ホウ素含有水の処理方法及び装置 |
| JP6228471B2 (ja) * | 2014-01-24 | 2017-11-08 | 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 | 被処理水の処理装置、純水の製造装置および被処理水の処理方法 |
| US9757695B2 (en) | 2015-01-03 | 2017-09-12 | Pionetics Corporation | Anti-scale electrochemical apparatus with water-splitting ion exchange membrane |
| JP6415509B2 (ja) * | 2016-10-04 | 2018-10-31 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 逆浸透膜の再生方法 |
| US20200289986A1 (en) | 2016-10-19 | 2020-09-17 | Istanbul Teknik Universitesi Rektorlugu | Concurrent desalination and boron removal (cdbr) process |
| JP6907514B2 (ja) | 2016-11-28 | 2021-07-21 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
| CN107986534A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-05-04 | 浙江华强环境科技有限公司 | 一种新型超纯水处理系统 |
| JP7225544B2 (ja) | 2018-02-20 | 2023-02-21 | 栗田工業株式会社 | 純水又は超純水の製造方法 |
| KR102542839B1 (ko) * | 2018-05-17 | 2023-06-14 | 오르가노 코포레이션 | 초순수의 제조방법, 초순수 제조 시스템 및 이온 교환체 충전모듈 |
| CN112154125B (zh) | 2018-06-27 | 2023-02-24 | 野村微科学股份有限公司 | 电去离子装置、超纯水制造系统及超纯水制造方法 |
| JP2020000983A (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-09 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置、純水の製造方法 |
| JP7129965B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2022-09-02 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 純水製造方法、純水製造システム、超純水製造方法及び超純水製造システム |
| JP2023127080A (ja) * | 2022-03-01 | 2023-09-13 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1430578A (en) * | 1972-06-08 | 1976-03-31 | United States Borax Chem | Selective ion-exchangers moulding plastic articles |
| US3870033A (en) * | 1973-11-30 | 1975-03-11 | Aqua Media | Ultra pure water process and apparatus |
| GB2145709B (en) * | 1983-09-01 | 1986-08-28 | Ionics | Membrane system for water purification |
| US4548716A (en) * | 1984-07-25 | 1985-10-22 | Lucas Boeve | Method of producing ultrapure, pyrogen-free water |
| US4808287A (en) * | 1987-12-21 | 1989-02-28 | Hark Ernst F | Water purification process |
| JP2865389B2 (ja) * | 1990-07-10 | 1999-03-08 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置とそれに用いる枠体 |
| IT1243991B (it) * | 1990-10-30 | 1994-06-28 | Ionics Italba Spa | Procedimento per la depurazione dell'acqua mediante una combinazione di unita' di separazione a membrane e relativo impianto |
| JPH0631272A (ja) * | 1992-07-16 | 1994-02-08 | Japan Organo Co Ltd | 膜処理装置 |
| US5518624A (en) * | 1994-05-06 | 1996-05-21 | Illinois Water Treatment, Inc. | Ultra pure water filtration |
| JP3200301B2 (ja) * | 1994-07-22 | 2001-08-20 | オルガノ株式会社 | 純水又は超純水の製造方法及び製造装置 |
| JP3992299B2 (ja) * | 1994-09-20 | 2007-10-17 | ダイキン工業株式会社 | 超純水製造装置 |
| JP3215277B2 (ja) * | 1995-03-02 | 2001-10-02 | オルガノ株式会社 | ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置 |
-
1996
- 1996-01-17 JP JP00561696A patent/JP3426072B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-15 MY MYPI97000149A patent/MY120689A/en unknown
- 1997-01-16 KR KR1019970001190A patent/KR100295399B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-01-16 SG SG1997000097A patent/SG71692A1/en unknown
- 1997-01-16 GB GB9700849A patent/GB2309222B/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-17 US US08/785,507 patent/US5833846A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180103964A (ko) * | 2016-01-28 | 2018-09-19 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 장치의 운전 방법 |
| KR102602540B1 (ko) * | 2016-01-28 | 2023-11-15 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 장치의 운전 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2309222B (en) | 1998-04-08 |
| GB9700849D0 (en) | 1997-03-05 |
| JPH09192661A (ja) | 1997-07-29 |
| SG71692A1 (en) | 2000-04-18 |
| MY120689A (en) | 2005-11-30 |
| GB2309222A (en) | 1997-07-23 |
| KR970059087A (ko) | 1997-08-12 |
| JP3426072B2 (ja) | 2003-07-14 |
| US5833846A (en) | 1998-11-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100295399B1 (ko) | 초순수 제조장치 | |
| US6858145B2 (en) | Method of removing organic impurities from water | |
| KR100687361B1 (ko) | 오존 용해수의 제조장치 | |
| KR100191961B1 (ko) | 초정수 제조 장치 | |
| CN110451704B (zh) | 一种含氟回用水的处理方法 | |
| CN104743717A (zh) | 一种浓盐水减量化处理方法及系统 | |
| JPH11244853A (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP3227863B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
| JPH1085743A (ja) | 硼素含有水の処理装置及び方法 | |
| WO2018096700A1 (ja) | 超純水製造システム及び超純水製造方法 | |
| JP3137831B2 (ja) | 膜処理装置 | |
| JP2000051665A (ja) | 脱塩方法 | |
| JP2000317457A (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP2000015257A (ja) | 高純度水の製造装置および方法 | |
| JP2004167423A (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 | |
| JPH1080684A (ja) | 硼素含有水の処理装置及び方法 | |
| JPH10202296A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH11267645A (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP3215277B2 (ja) | ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置 | |
| CN114426361A (zh) | 一种高盐废水用除硬除氟设备及方法 | |
| JP2002066259A (ja) | 純水の製造方法 | |
| JPH10216749A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3259557B2 (ja) | 有機物の除去方法 | |
| JPH03151100A (ja) | 有機性汚水の処理方法 | |
| JP2007268352A (ja) | 水処理方法および水処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110318 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |