JP3864934B2 - 純水製造装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、超純水製造システム等に組み込むのに好適な純水製造装置に係り、特にホウ素濃度の低い純水を製造するための純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
超純水製造システムは、通常、前処理システム、一次純水システム、サブシステムより構成される。前処理システムは、凝集濾過やMF膜(精密濾過膜)、UF膜(限外濾過膜)等による除濁処理装置、活性炭等による脱塩素処理装置により構成される。
【0003】
一次純水システムは、RO(逆浸透膜)装置、脱気膜装置、電気脱イオン装置等により構成され、ほとんどのイオン成分やTOC成分が除去される。
【0004】
サブシステムは、UV装置(紫外線酸化装置)、非再生型イオン交換装置、UF装置(限外濾過装置)等により構成され、微量イオンの除去、特に低分子の微量有機物除去、微粒子の除去が行われる。
【0005】
サブシステムで作られた超純水は、ユースポイントに送水され、余剰の超純水はサブシステムの前段のタンクに返送されるのが一般的である。
【0006】
ところで、超純水の要求水質は年々厳しくなり、現在、最先端の電子産業分野ではホウ素濃度10ppt以下の超純水が要求されるようになってきている。
【0007】
ホウ素濃度の低い純水を製造するために、原水をRO装置等の脱塩装置で脱塩した後、ホウ素吸着樹脂塔に通水することが特開平8−89956号公報に記載されている。
【0008】
特開平9−192661号公報の第0040段落には、添付の図3の通り、原水を順次にRO装置31、電気脱イオン装置32及びホウ素吸着樹脂塔33に通水して処理することが記載されている。
【0009】
また、シリカ及びホウ素を十分に除去することができる電気脱イオン装置が、特開2001−113281号公報及び特開2002−205069号公報に記載されている。
【0010】
【特許文献1】
特開平8−89956号公報
【特許文献2】
特開平9−192661号公報
【特許文献3】
特開2001−113281号公報
【特許文献4】
特開2002−205069号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
原水を図3の如く、RO装置31、電気脱イオン装置32及びホウ素吸着樹脂塔33に通水した場合、ホウ素は電気脱イオン装置32及びホウ素吸着樹脂塔33の双方で除去されるので、ホウ素濃度の低い処理水を製造することができる。しかしながら、このようにホウ素吸着樹脂塔33を電気脱イオン装置32の後段に配置した場合、ホウ素吸着樹脂塔の流出水中のホウ素濃度レベルを目標水質レベルに合わせるところから、図2のように微量のホウ素がリークするようになった貫流点P1の段階で該ホウ素吸着樹脂塔の樹脂を再生又は交換する必要が生じる。即ち、上記特開平9−192661号の純水製造装置では、ホウ素吸着樹脂の再生又は交換頻度が高く、純水の製造効率が悪いという問題がある。
【0012】
本発明は、RO装置等の脱塩装置と電気脱イオン装置とホウ素吸着樹脂装置とを有する純水製造装置において、ホウ素吸着樹脂装置の樹脂再生又は交換頻度を従来よりも格段に低くすることができ、しかもホウ素濃度も十分に低い純水を得ることができる純水製造装置を提供することを目的とする。
【0013】
なお、電気脱イオン装置の水回収率を高めるために、電気脱イオン装置の濃縮水をRO装置の上流側に戻して原水に加えることが考えられるが、このようにした場合、ホウ素を含んだ水が電気脱イオン装置とRO装置との間を循環してこの間でホウ素が濃縮される。即ち、RO装置のホウ素除去率は約50%程度であり、電気脱イオン装置からの濃縮水中のホウ素の約半分はRO装置を通過して電気脱イオン装置に流入する。これが繰り返される結果、RO装置から電気脱イオン装置に流入する水中のホウ素濃度が高くなり、この結果、電気脱イオン装置の後段のホウ素吸着樹脂装置のホウ素負荷が高くなる。
【0014】
本発明は、その一態様において、電気脱イオン装置の濃縮水をRO装置上流側に戻す場合でもホウ素濃度の低い純水を効率よく製造することができる純水製造装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明の純水製造装置は、逆浸透膜装置、電気脱イオン装置及びホウ素吸着装置を有する純水製造装置において、逆浸透膜装置からの脱塩水をホウ素吸着装置に通水し、次いで電気脱イオン装置に通水して純水を製造するように上記各装置を接続したことを特徴とするものである。
【0016】
かかる本発明の純水製造装置によると、原水中のホウ素はRO装置及びホウ素吸着装置で例えば80〜99%程度除去された後、電気脱イオン装置に通水され、目標とするホウ素濃度レベルまで低減される。このように電気脱イオン装置を最終段に配置し、この電気脱イオン装置からの処理水中のホウ素濃度レベルを目標レベルとするので、この電気脱イオン装置の前段に配置されたホウ素吸着装置の流出水中のホウ素濃度レベルは目標レベルよりも相当に高い値、例えば図2の貫流点P2程度であれば足りる。このため、ホウ素吸着装置内のホウ素吸着体を再生又は交換する頻度が十分に低くなる。
【0017】
本発明では、ホウ素吸着装置がホウ素を十分に吸着除去するので、電気脱イオン装置から流出する濃縮水をRO装置よりも上流側に返送しても、RO装置と電気脱イオン装置との間でホウ素が濃縮することがなく、電気脱イオン装置から低ホウ素濃度の純水を得ることができる。
【0018】
本発明で用いる電気脱イオン装置としては、特開2001−113281号公報又は特開2002−205069号公報に記載のものが好適である。
【0019】
特開2001−113281号公報の純水製造装置は、陰極及び陽極と、該陰極と陽極との間にカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、該脱塩室に充填されたイオン交換体とを有し、pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されている電気脱イオン装置である。特に、電気脱イオン装置が複数段直列に接続され、最前段の電気脱イオン装置が上述のように、pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されている電気脱イオン装置であることが好ましい。
【0020】
特開2002−205069号公報の純水製造装置は、陽極を有する陽極室と、陰極を有する陰極室と、これらの陽極室と陰極室との間にアニオン交換膜及びカチオン交換膜を配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、該脱塩室に充填されたイオン交換体と、該濃縮室に充填されたイオン交換体、活性炭又は電気導電体と、該陽極室及び陰極室にそれぞれ電極水を通水する手段と、該濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と、該脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有し、該濃縮水通水手段が、該原水よりシリカ又はホウ素濃度の低い水を、脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から該濃縮室内に導入すると共に、該濃縮室のうち脱塩室の原水入口に近い側から流出させ、この濃縮室から流出した濃縮水の少なくとも一部を系外へ排出する手段である電気脱イオン装置である。
【0021】
なお、本発明では、ホウ素吸着装置内のホウ素吸着剤からのTOC溶出量は極力少ないものを用いることが望ましい。なぜならば、該吸着剤から溶出したTOC成分は、前述のように電気脱イオン装置で除去が可能であるが、その除去量には限界があり、過剰なTOC溶出は後段の二次純水製造設備に影響を与えるからである。本発明においては、通水初期にホウ素吸着装置内に収容されている吸着剤からのTOCの溶出量が全通水時間の1/10の時点で、1時間、吸着剤容積1リットルあたりに0.8mg以下、望ましくは0.5mg以下であるものを採用することが望ましい。なお、吸着剤の溶出量は以下の式で定義される。
【0022】
ここでいう「全通水時間」とは、ホウ素吸着装置内の吸着剤を再生もしくは吸着剤の交換を行うまでの間の通水時間のことをいう。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。図1(a),(b)は本発明の実施の形態に係る純水製造装置の通水系統図である。
【0024】
図1(a)では、被処理水はまずRO装置1に通水され、透過水がホウ素吸着装置2に通水され、このホウ素吸着装置2を通過してホウ素が吸着除去処理された水が電気脱イオン装置3に通水され、電気脱イオン処理された水が処理水として取り出される。RO装置1の濃縮排水は廃棄される。また、この図1(a)の実施の形態では、電気脱イオン装置3の濃縮水も廃棄される。図示はしないが、電気脱イオン装置3の電極室排水も廃棄される。
【0025】
図1(b)の純水製造装置は、図1(a)の純水製造装置において電気脱イオン装置3の濃縮水を返送配管4を介してRO装置1の上流側に戻し、被処理水に加えるようにしたものである。図1(b)のその他の構成は図1(a)と同一である。
【0026】
この図1(a),(b)の純水製造装置においては、電気脱イオン装置3の脱塩室からの流出水が処理水となり、この脱塩室流出水のホウ素濃度が目標水質を満たせばよいので、ホウ素吸着装置2から電気脱イオン装置3に流入する水中のホウ素濃度は前記図2の貫流点P2のように従来例におけるよりも相当に高いレベルであってもよい。このため、ホウ素吸着装置2内の吸着剤の再生又は交換頻度を著しく低くすることができる。
【0027】
なお、図1(b)の純水製造装置によると、電気脱イオン装置3の濃縮水が再利用されるので、水回収率が高くなる。また、この場合、ホウ素吸着装置2がホウ素を十分に吸着除去するので、電気脱イオン装置3の濃縮水をRO装置1の上流側に戻しても、RO装置1から電気脱イオン装置3までの循環ラインを循環する水中にホウ素が蓄積することがなく、ホウ素濃度の低い処理水を長期にわたって生産することができる。
【0028】
被処理水としては、工水、市水、井水などの原水中に含まれる懸濁物質を前処理装置で除去した、ホウ素濃度5〜100ppb程度、特に10〜30ppb程度の水が好適であるが、これに限定されない。RO装置1では、この被処理水中のイオン成分、微粒子及びTOC成分のほか、シリカやホウ素などの弱電解性成分も所要程度除去される。RO装置1でのホウ素除去率は30〜70%程度である。
【0029】
ホウ素吸着装置2に収容される吸着剤としては、ホウ素を選択的に吸着するホウ素選択性吸着剤が好適である。このホウ素選択性吸着剤としては、イオン交換作用でホウ素を吸着するものや、キレート作用でホウ素を吸着するものが好適であり、例えば、ホウ素選択性キレート樹脂の「ダイヤイオンCRB(三菱化学(株)製)」、ホウ素選択性キレート繊維の「キレストファイバーGRY(キレスト(株)製)」、アニオンイオン交換体の「Read−B(旭エンジニアリング(株)製)」などが挙げられるが、これらに限定されない。
【0030】
なお、前述の通り、このホウ素吸着剤としてはTOC溶出量の少ないものが好適であり、具体的には、通水初期に該ホウ素吸着装置内に充填されている吸着剤からのTOCの溶出量が全通水時間の1/10の時点で、1時間、吸着剤容積1Lあたりに0.8mg以下、望ましくは0.5mg以下であるものを採用することが望ましい。
【0031】
このようにTOC溶出量の少ない吸着剤は、例えば、前述の吸着剤を50〜90℃での温水洗浄、アルカリ薬剤による洗浄等の処理によって得ることができ、またTOC溶出量を低減した製品、例えば「ダイヤイオンUCBT02(三菱化学(株)製)」等を購入してそのまま採用しても良い。
【0032】
ホウ素選択性吸着剤を充填したホウ素除去装置2は、上述のような吸着剤のみを充填したものでもよく、また、カチオン交換樹脂やアニオン交換樹脂等の他のイオン交換体や吸着剤と混合、積層して充填したものであってもよい。
【0033】
ホウ素除去装置2は、酸、アルカリ薬剤で再生処理する「再生型」、吸着破過後に交換する「非再生型」のいずれでもよい。
【0034】
ホウ素除去装置2への通水SVは、TOC溶出性および再生頻度もしくは吸着剤交換頻度を考慮して、10〜100/hr、特に20〜50/hrにするのが好ましい。
【0035】
このホウ素選択性除去吸着剤を収容したホウ素吸着装置では、ホウ素が選択的に除去される。本発明では、ホウ素吸着装置2の後段に電気脱イオン装置3が設置されているので、このホウ素吸着装置2の流出水中のホウ素濃度は一次純水装置での要求濃度まで到達する必要はなく、該ホウ素吸着装置2でのホウ素除去率は80〜99%に設定すればよい。通常の場合、ホウ素吸着装置2からの流出水の水質は、導電率0.2〜1.0mS/m、ホウ素濃度0.1〜1ppb、TOC濃度は10〜50ppb程度である。この水を電気脱イオン装置に通水することによって、一次純水製造装置での設計水質、例えば抵抗率>17.5MΩ・cm、ホウ素濃度<0.01ppb、TOC<10ppbに到達した水が生産される。
【0036】
また、ホウ素除去装置2にて被処理水中のホウ素の大部分が除去されるため、電気脱イオン装置のホウ素負荷量は低く、したがって、図1(b)の通り、該電気脱イオン装置の濃縮水をRO膜装置より上流側に返送しても、RO装置1から電気脱イオン装置3を循環する水でホウ素が濃縮する現象は起こらない。
【0037】
電気脱イオン装置3は、電気再生式脱塩装置とも呼ばれるものであり、アニオン交換膜とカチオン交換膜で形成された空隙にイオン交換体を充填して、脱塩室、濃縮室を形成し、直流電流を印加して被処理水中のイオンを除去するよう構成されている。このような装置は、例えば特公平4−72567、特許第2751090号、特許第2699256号、特開2001−239270に記載されている。
【0038】
電子産業分野等で使用されている超純水のように、ホウ素濃度を厳しく管理しなくてはならない場合、該電気脱イオン装置としては、ホウ素除去能力に優れるものが望ましい。
【0039】
この電気脱イオン装置は、ホウ素除去率が80%以上、特に90%以上、とりわけ99%以上のものが好適である。
【0040】
このようなホウ素除去率の高い純水製造装置の一例として、陰極及び陽極と、該陰極と陽極との間にカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、該脱塩室に充填されたイオン交換体とを有し、pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されている電気脱イオン装置(特開2001−113281号公報の電気脱イオン装置)が挙げられる。特に、この特開2001−113281号公報の電気脱イオン装置の後段にさらに他の電気脱イオン装置を直列に接続されることが好ましい。具体的には、前段の電気脱イオン装置の脱塩室の厚さは7mm以上で、脱塩室に充填されるイオン交換体がアニオン交換体とカチオン交換体との混合物又はアニオン交換体であり、かつ印加電圧が1〜50V/cellであり、また、通水SVが30〜150/hrに設定されているのが好ましい。後段の電気脱イオン装置は任意のものでよい。このような前段電気脱イオン装置と後段電気脱イオン装置とからなる多段式の電気脱イオン装置として、「KCDI−UP(栗田工業株式会社製)」が例示できる。多段式装置では前段の電気脱イオン装置で一部のホウ素、シリカ、炭酸ガスが除去され、原水より高いpHを有する前段処理水が後段電気脱イオン装置でさらにホウ素やシリカ、その他のイオンが除去され、ホウ素除去率が向上する。
【0041】
また、電気脱イオン装置としては、陽極を有する陽極室と、陰極を有する陰極室と、これらの陽極室と陰極室との間にアニオン交換膜及びカチオン交換膜を配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、該脱塩室に充填されたイオン交換体と、該濃縮室に充填されたイオン交換体、活性炭又は電気導電体と、該陽極室及び陰極室にそれぞれ電極水を通水する手段と、該濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と、該脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有し、該濃縮水通水手段が、該原水よりシリカ又はホウ素濃度の低い水を、脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から該濃縮室内に導入すると共に、該濃縮室のうち脱塩室の原水入口に近い側から流出させ、この濃縮室から流出した濃縮水の少なくとも一部を系外へ排出する手段である電気脱イオン装置(特開2002−205069号公報の電気脱イオン装置)も好適である。
【0042】
これらの電気脱イオン装置の水回収率は60〜98%であり、この電気脱イオン装置から排出される濃縮水の一部、もしくは全量をRO膜装置より上流側に戻すことができ、超純水製造装置の水回収率を高めることができる。
【0043】
本発明の純水製造装置は、RO膜装置、ホウ素吸着装置及び電気脱イオン装置を備えるものであるが、原水水質、要求処理水質に応じて、脱気装置、活性炭吸着装置、限外濾過膜装置、紫外線殺菌/酸化装置、非再生型イオン交換装置などを更に備えてもよい。また、RO装置や電気脱イオン装置を2段通水以上で処理しても良い。原水が比較的清浄な場合や、要求水質が緩い場合は、前処理装置もしくは二次純水装置を省略して超純水製造装置を構成することもできる。
【0044】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。実施例および比較例で用いた装置は次の通りである。
【0045】
また、ホウ素、TOC、抵抗率の測定には以下のものを用いた。
ホウ素:ICP−MS(横河電機(株)製)
TOC計:TOC810(シーバース社製)
抵抗率計:MX−4(栗田工業(株)製)
【0046】
原水(被処理水)は野木町水(pH6.9、導電率:13mS/m、ホウ素濃度:20ppb、TOC濃度:500ppb)であり、供給量、回収率等は次の通りとした。
原水供給量:1m3/h
RO装置の水回収率:60%
電気脱イオン装置の水回収率:85%
【0047】
説明の便宜上、比較例を先に説明する。なお、各実施例及び比較例で生産された処理水の水質の通水開始から1ヶ月間の経時変化を表1に示す。
【0048】
[比較例1]
図6(a)に示す通り、原水をRO装置1、電気脱イオン装置3、ホウ素吸着装置2の順に通水した。電気脱イオン装置3の濃縮室及び電極室へはRO装置1からの処理水の一部を分取して通水した。電気脱イオン装置3の濃縮室排水及び電極室排水は廃棄した。
【0049】
ホウ素吸着剤としてはダイヤイオンCBR02を用い、電気脱イオン装置としてはKCDIを用いた。
【0050】
[比較例2]
図6(b)に示す通り、電気脱イオン装置3の濃縮室排水をRO装置1の上流側に戻すようにした他は比較例1と同一とした。
【0051】
[実施例1]
図4(a)に示す通り、原水をRO装置1、ホウ素吸着装置2、電気脱イオン装置3の順に通水した。
【0052】
電気脱イオン装置3の電極室へはホウ素吸着装置2の処理水を通水した。電気脱イオン装置3の濃縮室へは当該電気脱イオン装置3の脱塩室からの流出水(処理水)の一部を分取して通水した。濃縮室排水は廃棄した。その他は比較例1と同一条件とした。
【0053】
[実施例2]
電気脱イオン装置3の濃縮室排水をRO装置1の上流側に返送するようにしたこと以外は実施例1と同一とした。
【0054】
[実施例3]
ホウ素吸着剤をTOC溶出量の少ないダイヤイオンUCBT02としたこと以外は実施例2と同一とした。
【0055】
[実施例4]
電気脱イオン装置として、図5の通り2基直列に接続したKCDI−UPを用いた。ホウ素吸着剤はダイヤイオンUCBT02を用いた。前段の電気脱イオン装置3Aの電極室及び濃縮室へはホウ素吸着装置2からの処理水を一部分取して通水した。後段の電気脱イオン装置3Bの電極室及び濃縮室へは前段の電気脱イオン装置3Aの脱塩室流出水の一部を分取して通水した。各電気脱イオン装置3A,3Bの濃縮室排水はRO装置1の上流側へ返送した。それ以外は実施例1と同一とした。
【0056】
【表1】
【0057】
表1の試験結果についての考察は次の通りである。
(1) 比較例1での通水試験結果では、通水初期では脱塩水製造装置処理水のホウ素濃度は<0.01ppbであったが、20日後には処理水からホウ素が2ppb検出され、その後増加する傾向を示した。ホウ素のリークと共に処理水抵抗率も低下し、30日後では17.5MΩ・cmまで低下した。処理水TOC濃度も10日後で73ppbと高く、許容濃度10ppb以下までは到達しなかった。
(2) 比較例2では、電気脱イオン装置の濃縮水をRO装置の上流側に返送したために、系内でホウ素が濃縮することによって、ホウ素除去装置の負荷が増大し、通水3日後で、処理水にホウ素がリークした。
(3) 実施例1での試験結果では、30日経過しても処理水のホウ素濃度は0.01ppb以下、抵抗率は18.0MΩ・cm以上である。しかしながら、処理水TOC濃度は通水10日後でも35ppbと高い。
(4) 実施例2では、電気脱イオン装置の濃縮水を循環させたにも拘らず、処理水中のホウ素濃度は0.01ppb以下であり、抵抗率は18MΩ・cm以上である。なお、この場合もTOC濃度は高い。
(5) 実施例3では、TOC溶出の少ないホウ素吸着剤(ダイヤイオンUCBT02)を採用したので、通水10日後で処理水TOCは7.5ppbを示した。処理水のホウ素濃度及び抵抗率は実施例1,2と同様に良好である。
(6) 実施例4では、電気脱イオン装置をKCDI−UPに変えたが、実施例3と同様に処理水のホウ素濃度、TOC濃度が低く、また抵抗率が十分に高い。なお、TOC濃度は実施例3よりも微かではあるが低いものとなっている。
【0058】
【発明の効果】
以上の通り、本発明の純水製造装置によると、ホウ素濃度が低い処理水を効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る純水製造装置の系統図である。
【図2】ホウ素吸着装置のホウ素破過曲線である。
【図3】従来の純水製造装置の系統図である。
【図4】実施例1〜4の純水製造装置の系統図である。
【図5】実施例5の純水製造装置の系統図である。
【図6】比較例の純水製造装置の系統図である。
【符号の説明】
1,31 RO装置
2,33 ホウ素吸着装置
3,3A,3B,32 電気脱イオン装置
Claims (6)
- 逆浸透膜装置、電気脱イオン装置及びホウ素吸着装置を有する純水製造装置において、
逆浸透膜装置からの脱塩水をホウ素吸着装置に通水し、次いで電気脱イオン装置に通水して純水を製造するように上記各装置を接続したことを特徴とする純水製造装置。 - 請求項1において、該電気脱イオン装置から流出する濃縮水を該逆浸透膜装置よりも上流側に返送する返送手段を備えたことを特徴とする純水製造装置。
- 請求項1又は2において、該ホウ素吸着装置内にホウ素吸着樹脂よりなる吸着剤が収容されており、該吸着剤からの全有機物炭素(TOC)の溶出量が、通水開始から該ホウ素吸着装置内の吸着剤を再生もしくは交換するまでの通水時間の1/10の時点で、1時間、吸着剤容積1L当りで0.8mg以下であることを特徴とする純水製造装置。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、該電気脱イオン装置は、陰極及び陽極と、
該陰極と陽極との間にカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、
該脱塩室に充填されたイオン交換体とを有し、
pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されている電気脱イオン装置であることを特徴とする純水製造装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、電気脱イオン装置は複数段直列に接続されており、
最前段の電気脱イオン装置は、陰極及び陽極と、
該陰極と陽極との間にカチオン交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、
該脱塩室に充填されたイオン交換体とを有し、
pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されている電気脱イオン装置である
ことを特徴とする純水製造装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、該電気脱イオン装置は、
陽極を有する陽極室と、
陰極を有する陰極室と、
これらの陽極室と陰極室との間にアニオン交換膜及びカチオン交換膜を配列することにより形成された濃縮室及び脱塩室と、
該脱塩室に充填されたイオン交換体と、
該濃縮室に充填されたイオン交換体、活性炭又は電気導電体と、
該陽極室及び陰極室にそれぞれ電極水を通水する手段と、
該濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と、
該脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有し、
該濃縮水通水手段が、該原水よりシリカ又はホウ素濃度の低い水を、脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から該濃縮室内に導入すると共に、該濃縮室のうち脱塩室の原水入口に近い側から流出させ、この濃縮室から流出した濃縮水の少なくとも一部を系外へ排出する手段である電気脱イオン装置であることを特徴とする純水製造装置。
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