KR100194243B1 - 와이어방전가공장치 및 그의 제조방법 - Google Patents

Abstract

와이어방전가공장치 및 와이어방전가공장치의 제어방법이다.

가공갭에 공급된 전류펄스량은 검출지연 없이 정확히 계측할 수 있으므로 와이어전극단선 및 집중아크 등의 이상 가공의 방생을 검출할 수 있다.

Description

와이어방전가공장치 및 그의 제어방법

제1도는 실시예 1에 의한 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도.

제2도는 실시예 1에 의한 펄스발생회로와 카운터회로의 상세를 나타내는 도.

제3도는 실시예 1의 동작을 나타내는 도.

제4도는 실시예 1의 동작을 나타내는 도.

제5도는 실시예 1의 표시장치의 동작을 나타내는 도.

제6도는 실시예 2에 의한 펄스발생회로와 카운터회로의 상세를 나타내는 도.

제7도는 실시예 2의 동작을 나타내는 도.

제8도는 실시예 3에 의한 펄스발생회로와 카운터회로의 상세를 나타내는 도.

제9도는 실시예 3의 동작을 나타내는 도.

제10도는 실시예 3에 의한 펄스발생회로와 카운터회로의 다른 실시예의 상세를 나타내는 도.

제11도는 실시예 4에 의한 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도.

제12도는 실시예 5의 구성을 나타내는 도.

제13도는 실시예 6의 구성을 나타내는 도.

제14(a)도는 실시예 7에 의한 소정시간(Tp)의 연속적인 구간에 대한 펄스카운트수를 나타내는 타이밍도.

제14(b)도는 실시예 7에 의한 소정시간(Tp)의 각 4개 구간 내의 펄스카운팅을 나타내는 타이밍도.

제15(a)도는 실시예 7에 의한 소정시간(Tp)의 연속적인 구간에 대한 펄스카운트 수를 나타내는 타이밍도.

제15(b)도는 실시예 8에 의한 소정시간(Tp)의 각 4개 구간내의 펄스카운팅을 나타내는 타이밍도.

제16도는 실시예 9의 구성을 나타내는 도.

제17(a)도는 실시예 9에 의한 소정시간(Tp)의 연속적인 구간에 대한 펄스카운트수를 나타내는 타이밍도.

제17(b)도는 실시예 9에 의한 소정시간(Tp)의 각 4개 구간내의 펄스카운팅을 나타내는 타이밍도.

제18도는 실시예 10의 구성을 나타내는 도.

제19(a)도는 실시예 10의 동작에 의한 연속적 소정시간 펄스적분결과의 램프신호를 나타내는 타이밍도.

제19(b)도는 실시예 10의 동작에 의한 전송시간신호를 나타내는 타이밍도.

제20도는 실시예 11의 구성을 나타내는 도.

제21(a)도 및 제21(b)도는 실시예 11의 동작을 나타내는 파형도.

제22도는 종전예를 나타내는 도.

제23도는 종전예의 동작을 나타내는 도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 와이어전극 2 : 피가공물

3 : 가공갭 4 : 테이블

5a : X축 구동모터 5b : Y축 구동모터

6 : 축 구동제어장치 7 : 가공용전원

8 : 8A∼8D 가공용전원제어회로 9 : 9A 전압검출회로

10 : 10A∼10D NC제어회로 11 : 평균전압검출회로

12 : NC 프로그램 13 : 13A 펄스열발생회로

14 : 카운터회로 15 : 15A∼15E 표시장치

16 : 16A 연산장치 17 : 17A∼17C 방전에너지제어장치

이 발명은 와이어방전가공장치 및 그의 제어방법에 관한 것이며, 특히 와이어방전가공에 있어서 와이어전극의 단선의 방지, 가공효율의 향상, 아크방전의 발생 등의 이상조건하에서의 이상가공의 회피에 관한 것이다.

제22도는 종전의 와이어방전가공장치를 나타내는 도이다.

도면에서, 1은 와이어전극, 2는 피가공물, 3은 와이어전극(1)과 피가공물(2)에 의해 형성된 가공갭, 4는 피가공물(2)을 고정하는 테이블, 5a는 테이블(4)을 X축방향으로 구동하는 X축 구동모터, 5b는 테이블(4)을 Y축방향으로 구동하는 Y축 구동모터, 6은 X, Y축 구동모터(5a, 5b)를 제어하는 축구동제어장치, 7은 가공갭(3)에 방전전류펄스를 공급하는 가공용전원, 8은 가공용전원의 스위칭동작을 제어하는 가공용전원제어회로, 9는 극간에 있어서 가공전압을 검출하는 전압검출회로, 10은 NC프로그램을 입력하여, 축구동지령과 가공조건 피라미터정보를 출력하는 NC제어회로, 11은 극간의 평균전압을 검출하는 평균전압검출회로, 12는 NC프로그램이다.

또, 제23도는 종전예에 있어서, 가공갭의 방전파형을 나타낸 것이며, 30a, 30b는 방전전압파형, 31a, 31b는 방전전류파형을 나타낸다.

다음에 동작에 대하여 설명한다.

NC프로그램(12) 또는 NC제어장치(10)에 미리 설정된 가공전기조건 파라미터에 따라서, 제어장치(10)는 파라미터정보를 가공용전원제어회로(8)에 출력한다. 가공용전원제어회로(8)는 이 파라미터에 따라, 소정의 전류피크, 펄스폭, 휴지시간을 갖는 구동신호를 가공용전원(7)에 출력한다.

가공용전원(7)은 이의 구동신호의 제어 하에 구동되며, 소정의 전류펄스가 가공갭(3)에 공급되어 가공이 행하여진다.

전압검출회로(9)는 가공갭(3)에 있는 전압파형에 따라 방전의 발생을 검출함과 아울러, 전압이 가공갭(3)에 인가되어서부터 방전이 발생할 때까지의 지연시간(이하, 무부하시간이라 함)을 계측하여, 그 계측 결과를 가공용전원제어회로(8)에 출력한다.

가공용전원제어회로(8)는 제23도의 30a와 같이 전압인가부터 방전이 발생할 때까지의 무부하시간이 짧을 경우(즉시 방전)에는, 극간의 상태가 단락 또는 아크등의 이상상태에 가까운 것으로 판단하여, 31a와 같은 펄스폭이 작고 피크가 낮은 전류파형(이하, 소펄스라 함)을 공급한다.

또, 역으로 무부하시간이 30b와 같이 비교적 긴 경우에는 정상 방전으로 판단하고, 31b와 같은 펄스폭이 크고 피크가 높은 전류파형(이하, 대펄스라 함)을 공급한다.

피크가 다른 삼각파형은 특히 와이어방전가공에 자주 사용된다.

방전의 상태에 따라서 전류파형(피크치등)을 제어하므로서, 와이어전극의 단선 등을 방지할 수가 있어, 가공속도가 대폭 향상한다.

평균 전압검출회로(11)는 가공중의 평균전압을 검출하여, 그 평균 전압에 따라 NC제어장치(10)는 구동지령을 축 구동제어장치(6)에 출력하여, 축 구동제어장치(6)는 X축모터(5a), Y축모터(5b)를 구동하고, 전극이송제어(축구동제어) 즉, 검출한 평균전압이 소정치이상의 경우에는 전극이송속도(축 이동속도)를 증가시키고, 평균전압이 소정치이하의 경우에는 전극이송속도(축 이동속도)를 감소시키도록 NC제어장치(10) 및 축 구동제어장치(6)에 의해 제어가 이루어진다.

종전의 와이어방전가공장치는 상기와 같이 구성되어 있어, 가공하는 동안에 투입에너지량을 검출할 수 없으므로, 와이어전극의 단선이나 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지하는 유효한 수단이 없었다.

가공하는 동안에, 방전에너지는 평균전류를 검출하므로서 구할 수가 있으나, 종전의 평균전류검출회로는 극간의 전압, 전류파형을 평활화한 신호를 사용하고 있으므로 검출지연이 발생하여, 정확한 제어가 이루어질 수 없는 문제가 있었다.

이와 같은 관점에서 와이어전극의 단선을 방지하는 방법이 일본국 특개소 62-19322에 제안되어 있다.

방전에너지는 방전전압과 방전전류의 곱으로 구해지며, 또 방전전압이 일정하다는 사실에 의하여, 방전에너지는 전류파형의 면적에 비례한다.

따라서, 문제를 해결하기 위하여 삼각파형의 전류를 공급하여 와이어 가공을 행하는 경우가 있어서, 일본국 특개소 62-19322호 공보에 공개되어 있는 종전의 방법에 따라, 스위칭장치의 ON/OFF를 제어하는 펄스회로로부터의 펄스신호의 펄스폭에 비례하는 신호를 2승 연산하므로서, 순시에 평균 가공전류를 구하고, 방전펄스의 평균 가공전류가 와이어전극이 단선하는 한계전류치를 넘었을 때에, 펄스제어회로를 제어하여 가공갭에 흐르는 평균 가공전류를 저감시켜 와이어의 단선을 방지한다.

또, 와이어방전가공에 있어서, 단선을 동반하는 고속가공시에서는 방전주파수는 수백 ㎑로 매우 높은 주파수이므로, 방전펄스의 주기 내에서 고속으로 연산처리를 하는 수단이 필요하게 된다.

이 발명의 목적은 상기와 같은 종전의 과제를 해소하기 위한 것으로 가공중의 방전에너지(또는 방전에너지에 상당한 량)를 검출 지연을 수반하지 않고, 고정도로 검출할 수 있다.

이 발명의 다른 목적은, 와이어전극의 단선 및 집중 아크의 발생을 확실히 방지할 수 있는 와이어방전가공장치 및 그의 제어방법을 제공하는 것이다.

이하 이 발명의 실시예 1을 제1도∼제5도를 사용하여 설명한다.

제1도는 실시예 1의 와이어방전가공장치의 구성을 나타낸 도이다.

도면에서, 1은 와이어전극, 2는 피가공물, 3은 와이어전극(1)과 피가공물(2)에 의하여 형성된 가공갭, 4는 피가공물(2)을 고정하는 테이블, 5a는 테이블(4)을 X축 방향으로 구동하는 X축 구동모터, 5b는 테이블(4)을 Y축 방향으로 구동하는 Y축 구동모터, 6은 X, Y축 구동모터(5a, 5b)를 제어하는 축구동제어장치, 7은 가공갭(3)에 방전전류펄스를 공급하는 가공용전원, 8A는 가공용전원의 스위칭동작을 제어하는 가공용 전원제어회로, 9는 극간에서의 가공전압을 검출하는 전압검출회로, 10A는 NC프로그램을 입력하여 축구동지령, 전기가공조건 파라미터 정보, 전극이송속도등을 출력하는 NC제어장치로, 또 후술하는 카운터회로(14)의 카운트 결과도 입력하여 가공용 전원제어회로(8A)를 제어한다.

11은 극간의 평균전압을 검출하는 평균전압검출회로, 12는 NC프로그램, 13은 극간에 인가하는 전류펄스파형의 전류펄스폭에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생회로, 14는 소정시간내의 상기 펄스열의 펄스수를 적산하는 카운터회로, 15는 카운터회로(14)의 계측결과를 표시하는 표시장치이다.

또, 제2도는 상기 펄스열발생회로(13)와 카운터회로(14)의 실시예를 나타내는 도면이며, 20은 펄스열의 기준클록으로 되는 클록신호를 출력하는 발진기, 21은 대소펄스의 펄스폭데이터를 NC제어장치(10A)에서 입력하는 대소펄스레이터 선택회로를 표시하며, 또, 대소펄스선택신호 및 펄스폭신호를 가공용 전원제어회로(8A)에서 입력하고, 가공용 전원제어회로(8A)에 의해 선택된 대·소펄스의 펄스폭데이터를 선택적으로 출력한다.

22는 발진기(20)의 출력과 일치회로(24)의 AND를 취하는 AND회로, 23은 AND회로(22)에 의해 펄스열출력을 카운트하는 카운터, 24는 카운터의 계측치와 대소펄스의 펄스폭데이터가 일치하고 있는지 여부를 판별하는 일치회로, 25는 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 계측할 때 소정시간(Tp)을 설정하는 샘플링회로, 26은 AND회로(22)에 의해 출력하는 펄스열을 카운트하는 적산카운터이다.

또, 제3도는 가공갭(3)의 방전파형, 가공용 전원제어회로(8A)에 의해 출력하는 펄스폭신호, 대소펄스선택신호, 발진기(20)에 의해 출력하는 클록신호, 일치회로(24)에 의해 출력하는 일치회로 출력신호, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 나타낸 것이며, 30a, 30b는 방전전압파형, 31a, 31b는 방전전류파형, 32a, 32b는 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스폭을 나타내는 펄스폭신호, 33은 대소펄스선택신호, 34는 클록신호, 35는 일치회로 출력신호, 36a, 36b는 펄스열을 나타낸다.

또, 제4도는 가공갭(3)에서의 방전파형, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열, 샘플링회로(26)에 의해 출력하는 카운터리세트신호를 나타내며, 37은 방전전압파형, 38은 펄스열, 39는 카운터리세트신호를 나타낸다.

먼저 펄스열발생신호(13) 및 카운터회로(14)의 동작에 대하여 제2도∼제4도를 참조하여 설명한다.

즉, 종전예와 동일하게 피가공물을 가공하는 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 전류파형이 공급되어 가공을 할 때, 펄스열발생회로(13)는 가공용 전원제어회로(8A)에 의해 가공용전원(7)에 출력하는 전류펄스폭에 대응하는 펄스열을 다음과 같은 수순으로 출력한다.

먼저, 대소펄스데이터선택회로(21)는 대펄스 및 소펄스의 펄스폭데이터(예컨대 대펄스의 경우는 5, 소펄스의 경우는 3)를 NC제어장치(10)에서 입력하며, 또, 대소 펄스데이터선택회로(21)는 대소펄스선택회로(33)(가공용전원제어회로(8A)가 대펄스를 선택했을 때는 L, 소펄스를 선택했을 때는 H로 되는 신호)와, 가공용 전원제어회로(8A)로부터의 펄스폭신호(32a, 32b)를 입력한다.

그러므로, 가공용 전원제어회로(8A)는 펄스폭신호(32a, 32b)의 상승구간 발생시에 대소펄스에 대응하는 펄스폭데이터가 일치회로(24)에 공급되도록 선택한다.

예컨대, 가공조건에서 대펄스의 펄스폭데이터로서 5, 소펄스의 펄스폭데이터로서 3이 설정되고, 가공용 전원제어회로(8A)가 제3도의 32a에 나타내는 것 같이, 피크가 낮은 소펄스의 전류펄스를 선택한 경우에는 대소펄스데이터선택회로(21)는 펄스폭데이터로서 3을 선택하고, 일치회로(24)에 펄스폭데이터 3을 출력한다.

한편, 가공용 전원제어회로(8A)가 제3도의 32b에 표시된 것같이 피크가 높은 대펄스의 전류펄스를 선택한 경우에는 대소펄스데이터선택회로(21)는 펄스폭데이터로서 5를 선택하여, 일치회로(24)에 펄스폭데이터 5를 출력한다.

또, 이 일치회로(24)에 있는 펄스폭데이터는 다음의 펄스폭신호 32a, 또는 32b가 입력될 때까지 보존(래치)된다.

일치회로(24)는 카운터(23)의 출력(카운트. 업 치)과 대소펄스데이터선택회로(21)의 출력(펄스폭데이터)를 비교하여, 양자가 일치하는 경우에는 L, 그 외에는 H를 AND회로(22)에 일치회로출력(35)으로서 출력한다.

일치회로(24)의 출력이 H일 때, 카운터(23)는 펄스폭신호(32a)의 상승구간에 리세트되고, 발진기(20)의 출력의 카운트.업을 개시한다.

그리고 카운터(23)의 카운트.업치가 일치회로(24)에서 펄스폭데이터치와 일치할 때, 일치회로(24)의 출력이 L로 전환된다.

따라서, AND회로(22)의 출력은 펄스폭데이터에 상당하는 펄스열을 출력한 후 정지된다.

예컨대, 일치회로(24)에 펄스폭데이터로서 3이 설정되어 있을 때, 카운터회로(23)의 카운트.업치가 3이 되면, 일치회로(24)의 출력은 L로 된다.

그 결과, AND회로(22)의 출력은 (36a)에 표시된 것같이 3펄스의 펄스열을 출력한다.

또, 일치회로(24)에 펄스폭데이터로서 5가 설정되었을 때, 카운트회로(23)의 카운트.업치가 5로 되면, 일치회로(24)의 출력이 L로 된다.

그 결과, AND회로(23)의 출력은 (36b)에 표시된 것같이 5펄스의 펄스열을 출력한다.

따라서, 펄스열발생회로(13)는 가공용전원제어회로(8A)에 의해 선택된 대소펄스의 펄스폭에 따라 펄스열(36a 및 36b)을 출력한다.

다음에, 카운터회로(14)는 펄스열발생회로(13)에 의해 출력되는 펄스열을 카운터회로(14)내의 적산카운터(26)에 입력하고, 소정시간마다 펄스열의 펄스수를 계측한다.

이 소정시간(Tp)은 샘프링회로(25)에 의해 설정된다.

샘프링회로(25)는 소정시간(Tp)마다, 적산카운터(26)를 리세트신호(39)를 적산카운터(26)에 출력한다.

적산카운터(26)는 펄스열의 계측치를 리세트신호(39)로 리세트하므로서 소정시간(Tp)내의 펄스열의 펄스수를 계측한다.

예컨대, 가공갭(3)에서 (37)과 같은 전압파형의 방전이 발생한 경우, 펄스열발생회로(13)는 개개의 방전에 대해서 대응하는 펄스열을 출력하고, (38)과 같은 펄스열을 출력한다.

이때, 적산카운터(26)는 펄스열(38)과 샘프링회로(25)에 의해 출력하는 리세트신호(39)를 입력하고, 소정시간내(Tp)에 발생한 펄스열의 펄스수를 계측한다.

이상의 동작에서 카운터회로(14)의 계측결과는 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 총합계이며, 펄스열과 전류펄스폭이 대응하고 있으므로, 소정시간마다 가공갭(3)에 공급되고 있는 전류펄스의 량을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하게 된다.

따라서, 가공하는 동안 공급된 투입에너지의 량을 검출하는 것이 가능하게 되어, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지하는 유효한 수단으로 된다.

또한, 이 실시예는 단일피크 또는 복수의 피크가 있는 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에 대하여 기술하고 있으나, 단일의 피크 또는 복수의 피크가 있는 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에도 가공갭(3)에 공급하고 있는 전류펄스의 량을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하다.

특히, 이 실시예에서는 단일의 피크가 있는 전류펄스를 인가하는 경우에는 보다 고정도로 검출할 수 있다.

다음에 NC제어장치(10A)의 동작을 설명한다.

이 NC제어장치(10A)는 카운터회로(14)의 계측결과에 따라 전기가공조건 파라미터를 변경하여 가공용전원회로(8A)에 출력하므로서, 전기가공조건이 설정되도록 새로운 파라미터를 출력한다.

구체적으로는 다음과 같이 동작한다.

즉, 카운터회로(14)는 상기와 같이 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측하고, 계측결과(소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계)를 NC제어장치(10A)에 출력한다.

NC제어장치(10A)는 카운터회로(14)의 계측결과에 따라 가공용 전원제어회로(8A)에 출력되도록 가공조건파라미터를 변경 제어한다.

예컨대, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 많을 때에는 와이어전극에 투입되는 에너지가 많은 것으로 판단하여 전류펄스의 OFF시간등의 전기가공조건 파라미터의 설정치를 변경하고, 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 작게 되도록 제어한다.

반대로, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 작은 경우에도 전기가공조건 파라미터의 설정치를 변경하고, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 많게 되도록 제어한다.

이로 인하여, 가공중에 있는 전류펄스의 투입량을 검출하고, 투입하는 전류펄스를 전기가공조건에 따라 제어하는 것이 가능하게 되어 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지할 수 있다.

다음에 제5도를 사용하여 표시장치(15)의 동작에 대하여 설명한다.

카운터회로(14)는 상기와 같이 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간마다 계측하여, 계측결과(소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계)를 표시장치(15)에 출력한다.

표시장치(15)는 카운터회로(14)의 계측결과를 가공중의 투입에너지로서 표시한다.

예컨대, 제5도에 표시된 것같이 3색(백, 록, 적)의 LED를 사용하여, 투입에너지의 레벨미터를 구성하고, (1) 투입에너지가 적을 경우는 백색 LED점등, (2) 투입에너지가 적당한 경우에는 록색 LED점등, (3) 투입에너지가 과대한 경우에는(와이어전극의 단선한계를 넘는 경우) 적색 LED점등으로 하므로서, 운전자가 전류펄스를 피크치, 펄스폭, 휴지시간 등의 전기가공조건 파라미터의 설정이 적정한가 아닌가를 용이하게 판단할 수 있으므로, 와이어단선의 발생을 미연에 방지할 수 있다.

또, 전기가공조건의 선정이 용이하므로 운전자의 부담을 경감할 수 있다.

또, 실시예 1에 있는 다른 회로요소의 동작에 대하여는 종전의 것과 실질적으로 동일하므로 설명을 생략한다.

다음에 이 발명의 실시예 2를 제6도 및 제7도를 사용하여 설명한다.

제6도는 실시예 1에 있는 펄스열발생회로(13)와 카운터회로(14)의 변형예를 나타내는 도이며, 20∼26은 실시예 1과 동일 또는 대응되는 부분을 표시한다.

27은 펄스열발생회로(13)가 가공전류의 공급이 정지된 후 펄스열을 출력하도록 펄스폭신호를 지연하는 지연회로이다.

또, 제7도는 실시예 2에 있는 가공갭(3)의 방전파형, 가공용전원제어회로(8A)에 의해 출력하는 펄스폭신호, 대소펄스선택신호, 지연회로(27)에 의해 출력하는 지연신호, 발진기(20)에 의해 출력하는 클록신호, 일치회로(24)에 의해 출력하는 일치회로 출력신호, 펄스발생회로(13)가 출력하는 펄스열을 나타낸 것이며, 30a, 30b는 방전전압파형, 31a, 31b는 방전전류파형, 32a, 32b는 가공갭(3)에 공급한 전류펄스의 펄스폭을 나타내는 펄스폭신호, 40a, 40b는 지연된 펄스폭신호, 33은 대소펄스선택신호, 34는 클록신호, 35는 일치회로 출력신호, 41a, 41b는 펄스열을 나타낸다.

다음에 동작을 실시예 1과 다른 것에 대해서만 설명한다.

실시예 1과 동일하게 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 다른 전류파형을 공급하여, 피가공물을 가공하는 경우에 있어서, 지연회로(27)는 펄스폭신호를 입력하고, 전류펄스공급중에 발생하는 잡음발생의 영향을 회피하고, 가공전류의 공급을 정지한 후에 펄스열을 출력하기 위해 펄스폭신호를 (40a, 40b)와 같이 지연한다.

펄스열발생회로(13)는 지연된 펄스폭신호를 사용하여, 실시예 1과 동일한 동작으로 전류펄스폭에 대응하는 펄스열을 휴지시간중에 출력하도록 동작한다.

예컨대, 제7도에 표시된 것같이 피크가 낮은 32a의 소펄스에 대해서는 3개의 펄스열(41a), 피크가 높은 (32b)의 대펄스에 대해서는 5개 펄스의 펄스열(41b)를 출력한다.

다음에 카운터회로(14)도 실시예 1과 동일한 동작으로 펄스열발생회로(13)에서 출력되는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측한다.

이상의 동작에서 카운터회로(14)의 계측결과는 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 총합계이며, 펄스열과 전류펄스폭에 대응하고 있으므로, 소정시간(Tp)마다 가공갭(3)에 공급한 전류펄스의 량을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능해지며, 또한, 전류펄스공급중에 잡음발생의 영향에 의한 오동작을 방지하고, 고정도의 계측이 가능하게 되어있다.

따라서, 가공중에 공급된 투입에너지의 량을 검출하는 것이 가능하게 되어, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 장확히 방지하는 유효한 수단이 된다.

다음에 실시예 3을 제8도∼제10도를 사용하여 설명한다.

제8도는 실시예 1에서의 펄스열발생회로(13)와 카운터회로(14)의 변형예를 나타낸 도면이다. 20∼26은 실시예 1과 동일 또는 대응부분을 나타내며, 28은 펄스열발생회로(13)가 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력하도록, NC제어장치(10A)에서 대소펄스데이터선택회로(21)에 입력하는 대소펄스폭데이터를 각각 2승하는 펄스폭데이터 2승회로이다.

또, 제9도는 실시예 3에 있는 가공갭(3)의 방전파형, 가공용 전원제어회로(8A)에 의해 출력하는 펄스폭신호, 대소펄스선택신호, 발진기(20)에 의해 출력하는 클록신호, 일치회로(24)에 의해 출력하는 일치회로 출력신호, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 나타내는 것이며, 30a, 30b는 방전전압파형, 31a, 31b는 방전전류파형, 32a, 32b는 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 펄스폭을 나타내는 펄스폭신호, 33은 대소펄스선택신호, 34는 클록신호, 35는 일치회로 출력신호, 42a, 42b는 가공에너지에 상당하는 펄스열을 나타낸다.

또한, 제10도는 실시예 3에 있는 펄스열발생회로(13)는 카운터회로(14)의 다른 실시예를 나타내는 도면이며, 20∼26은 실시예 1과 동일 또는 대응분을 나타낸다.

29는 펄스열발생회로(13)가 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력하도록, NC제어장치(10A)에서 대소펄스데이터선택회로(21)에 입력하는 대소펄스폭데이터에, 전류펄스의 피크치에 대응하는 치를 승산하는 펄스폭데이터 승산회로이다.

다음에 동작에 대해서 실시예 1과 상이한 개소만을 설명한다.

먼저, 제8도에 표시된 실시예의 경우, 실시예 1과 동일하게 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 다른 전류파형을 공급하여 피가공물을 가공하는 경우에 있어서, 펄스열발생회로(13)는 가공용전원제어회로(8A)가 가공용전원(7)으로 출력하는 가공에너지에 상당하는 펄스열을 다음의 수순으로 출력한다.

먼저, 펄스폭데이터 2승회로(28)는 NC제어장치(10A)에서 대소펄스폭데이터를 입력하여 각각에 대응하는 펄스폭을 2승한 데이터를 대소펄스데이터선택회로에 출력한다.

가공용 전원제어회로(8A)에 의해 출력하는 대소펄스의 펄스폭데이터는 펄스폭데이터 2승회로(28)를 통과하므로서 에너지량을 나타내는 데이터로 변환된다.

이하, 실시예 1과 동일한 동작으로, 펄스열발생회로(13)는 대소펄스의 펄스폭의 2승에 대응하는 펄스열을 출력한다.

예컨대, 피크가 높은 대펄스의 펄스폭데이터를 5, 피크가 낮은 소펄스의 펄스폭데이터를 3이라고하면, 제9도에 표시된 것같이, (32a)의 소펄스에 대해서는 9개펄스의 펄스열(42a), (32b)의 대펄스에 대해서는 25개펄스의 펄스열(42b)을 출력한다.

다음에 카운터회로(14)도 실시예 1과 동일한 동작으로 펄스열발생회로(13)에서 출력되는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측한다.

이상의 동작에서, 카운터회로(14)의 계측결과는 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 총합계이며, 펄스열은 전류펄스폭의 2승에 대응하고 있으므로, 소정시간(Tp)마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하다.

따라서, 가공중에 공급한 투입에너지량을 검출할 수 있고, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지하는 유효한 수단이 된다.

다음에, 제10도에 표시된 실시예에 있어서도, 펄스폭데이터승산회로(29)는 가공용 전원제어회로(8A)가 선택한 전류펄스의 펄스폭데이터에 전류펄스의 피크치에 대응하는 치를 승산하므로서, 전류펄스의 펄스폭데이터는 에너지량을 나타내는 데이터로 변환되고, 펄스열발생회로(13)는 제8도에 표시하는 실시예와 동일한 동작으로 전류펄스의 에너지량에 상당하는 펄스열을 출력한다.

따라서, 가공중에 공급한 투입에너지량을 검출하는 것이 가능하게 되어, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지하는 유효한 수단이 된다.

또한, 이 실시예는 대소 2종류의 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에 대하여 기술하고 있으나, 단일의 피크의 전류펄스 또는 복수의 피크의 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에는 가공갭(3)에 공급한 전류펄스의 에너지량을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하다.

또, 카운터회로(14)에 의해 출력하는 펄스열이 전류펄스의 에너지량에 대응하고 있으므로, 복수의 전류펄스(대소 2종류의 전류펄스를 포함함)를 가공갭(3)에 인가하는 경우에는, 실시예 1에 비하여 전류펄스의 에너지량의 검출오차가 적게되므로 보다 정밀도 높게 가공중의 투입에너지량을 검출하는 것이 가능하다.

또, 이 실시예 3의 것은, 실시예 2의 것과 조합할 수가 있다.

제11도는 실시예 4의 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도면에서, 1∼7, 8A, 9, 11∼13은 실시예 1과 동일 또는 대응하는 부분을 나타내며, 10B는 NC프로그램을 입력하여 축구동지령, 전기가공조건파라미터정보, 전극이송속도등을 출력하는 NC제어장치, 14는 소정시간(Tp)내에 발생하는 상기 펄스열의 펄스수를 적산하는 카운터회로이며, 14a는 소펄스에 대응하는 펄스열을 계측하는 카운터, 14b는 대펄스에 대응하는 펄스열을 계측하는 카운터, 16은 상기 카운터회로(14)의 계측결과에서 가공에너지에 상당하는 량을 계산하는 연산장치, 15A는 연산장치(16)의 연산결과를 예컨대 제5도에 나타낸 것과 같이 표시하는 표시장치이다.

다음에 동작에 대해서 실시예 1 및 실시예 2와 다른 개소만을 설명한다.

실시예 1과 동일하게 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 전류파형을 공급하여 가공을 하는 경우에 있어서, 펄스열발생회로(13)는 실시예 1과 동일한 동작으로, 피크가 낮은 소펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열과, 피크가 높은 대펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열을 출력한다(제3도의 36a, 36b 참조).

이와 같은 동작중에 있어서, 카운터회로(14)는 대펄스와 소펄스의 펄스열을 따로따로 계측하도록 (14a), (14b)의 2개의 카운터로 구성되어 있으므로, (14a)는 펄스열발생회로(13)에서 출력되는 펄스열중 소펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간마다 계측하고, (14b)는 펄스열발생회로(13)에서 출력되는 펄스열중 대펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간마다 계측한다.

다음에, 연산장치(16)는 카운터회로(14a, 14b)의 계측결과를 입력한다.

예컨대, 다음과 같은 식의 연산을 행하여 가공에너지를 구한다.

즉, 연산장치(16)에서는 소정시간(Tp)내에 발생한 대소펄스의 펄스열의 계측결과에 전류펄스의 피크의 높이에 비례하는 계수(펄스폭에 비례하는 계수도 좋음)를 승산하여, 그 2개의 치를 가산하므로서, 소정시간마다 가공갭(3)에 공급하고 있는 전류펄스의 에너지량을 연산처리에 의해 구하는 것이 가능하게 된다.

따라서, 가공하는 동안 소정시간(Tp)마다 공급한 투입에너지로서, 얼마만큼의 전류펄스의 에너지량이 공급되었는가를 검출하는 것이 가능하게 되어, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지하는 효과가 있다.

또한, 이 실시예에는, 대소 2종류의 피크가 있는 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에 대하여 기술하고 있으나, 단일의 피크가 높은 전류펄스 또는 복수의 피크가 있는 전류펄스를 가공갭(3)에 인가하는 경우에 대해서도, 전류펄스의 피크높이의 수에 맞추어 카운터회로(14)를 1개 또는 복수개 설치하므로서, 소정시간마다의 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 계측하는 것이 가능하다.

이상과 같이 대·소피크펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열을 따로따로 계측하도록 (14a), (14b)의 2개의 카운터로 카운터회로(14)를 구성하여 가공용 전원제어회로에서 선택하도록 하고, 카운터회로에 의해 계측된 대·소피크펄스의 펄스수를 연산장치(16)에 입력하여 연산처리하도록 하였으므로, 카운터회로(14)의 구성을 간략화하는 효과가 있다.

또, 연산장치(16)는 그의 연산결과를 표시장치(15A)에 출력한다.

표시장치(15A)는 실시예 1과 동일하게, 연산장치(16)의 연산결과를 가공중에 있는 투입에너지로서 표시하므로서 운전자가 전류펄스의 피크치, 펄스폭, 휴지시간 등의 전기가공조건 파라미터치의 설정여부를 용이하게 판단하도록 하고 있으므로, 와이어단선의 발생을 미연에 방지할 수 있다.

또, 전기 가공조건의 용이하게 선정되므로 운전자의 부담을 경감할 수 있다.

또한, 연산장치(16)는 카운터회로(14)의 계측결과로부터 소정시간(Tp)마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 연산하고, 연산결과를 NC제어장치(10B)에 출력한다.

NC제어장치(10B)는 연산장치(16)의 연산결과에 따라 가공용 전원제어회로(8B)에 출력하는 전기가공조건 파라미터를 변경 제어한다.

예컨대, 소정시간내에 발생한 전류펄스의 에너지가 많을 때에는, 와이어전극에 투입되는 에너지가 많은 것으로 판단하여, 전류펄스의 휴지시간등의 전기가공조건파라미터의 설정을 변경하고, 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 적게 되도록 제어한다.

반대로, 소정시간내에 발생한 전류펄스의 에너지가 작은 경우에도 전기가공조건 파라미터의 설정치를 변경하여, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 많게 되도록 제어한다.

이 때문에, 가공중에 있는 투입에너지의 량을 검출하고, 투입에너지를 전기가공조건에 따라 제어하는 것이 가능하게 되어, 와이어전극의 단선 및 집중 아크등의 이상가공을 정확히 방지할 수 있다.

또한, 실시예 4에 사용되는 펄스열발생회로(13)는, 상기한 실시예 2에서 설명한 것 같이, 가공전류의 공급은 정지한 후의 시간대에 가공전류공급 시간폭에 대응하는 펄스열을 출력한다.

이 경우 방전가공의 잡음의 영향을 피할 수 있어, 보다 정밀도 높은 투입에너지의 검출이 가능하게 된다.

제12도는 실시예 5에 따른 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다. 도면에 있어서, 1∼7, 9, 12∼14는 실시예 1과 동일 또는 대응부분을 나타내며, 8B는 후술하는 NC제어장치(10D) 및 방전에너지제어장치(17)로 제어되는 가공용전원제어회로, 10D는 ND프로그램을 입력하여, 축구동지령, 전기가공조건 파라미터정보, 전극이송속도 등을 출력하는 NC제어장치, 17은 상기 카운터회로(14)의 계측결과를 유지하도록 휴지(休止)시간, 전류펄스폭등의 전기가공조건 파라미터등을 제어하는 가공용전원제어회로(8B)를 제어하는 방전에너지제어장치, 15B는 방전에너지제어장치(17)의 연산결과를 예컨대 제5도에 나타내는 것같이 표시하는 표시장치이다.

다음에 동작에 대해서 실시예 1과 다른 개소만을 설명한다.

실시예 1과 마찬가지로 가공갭(3)에 피크가 높은 큰 펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 전류파형을 공급하여 가공을 하는 경우에 있어서, 펄스열발생회로(13)는 가공용전원제어회로(8B)에 의해 가공용전원(7)에 출력하는 전류펄스폭에 대응하는 펄스열을 출력하고, 카운터회로(14)는 펄스열발생회로(13)로부터 출력되는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측한다.

방전에너지제어장치(17)는 와이어전극직경 또는 가공될 피가공물 등의 조건에 따라 미리 정해지는 펄스수의 설정치와 카운터회로(14)의 계측결과를 비교하여, 그 결과에 따라 가공용전원제어회로(8B)를 제어하는 전류피크, 펄스폭, 휴지시간등의 전기적가공조건 파라미터를 변경하여, 카운터회로(14)의 계측결과가 일정하게 유지되도록 제어한다.

따라서, 소정시간마다 가공갭(3)에 공급한 전류펄스량이 일정하게 되도록 제어되기 때문에, 가공하는 동안의 투입에너지량은 일정하게 되어 와이어전극의 단선과 집중아크등의 이상가공을 확실하게 방지할 수 있다.

또, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력된 펄스열은 실시예 2에서와 같이 휴지시간동안 출력되어 방전가공에 의해 발생한 잡음의 영향이 회피되고 고정도로 투입에너지를 검출하게 된다.

이와 같이 하여, 와이어전극의 단선을 방지하는 동작의 신뢰성을 더욱 개선할 수 있다.

또, 펄스열발생회로(13)는 실시예 3과 같이 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력할 때, 방전에너지제어장치(17)는 카운터회로(14)의 측정결과를 일정하게 유지하도록 제어할 수 있다.

제13도는 실시예 6의 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도면에 있어서, 부호 1∼7, 10D, 11∼13은 실시예 5와 동일 또는 대응하는 부분을 나타내며, 8D는 NC제어회로(10D) 및 방전에너지제어장치(17A)로 제어되는 가공용전원제어회로, 14는 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수를 적산하는 카운터회로이며, 14a는 소펄스에 대응하는 펄스열을 계측하는 카운터, 14b는 대펄스에 대응하는 펄스열을 계측하는 카운터, 16A는 상기 카운터회로(14)의 계측결과로부터 가공에너지량을 계산하는 연산장치, 17A는 연산장치(16A)의 출력신호를 입력하고, 가공용전원제어회로(8D)를 제어하는 방전에너지제어장치, 15C는 방전에너지제어장치(17A)의 연산결과를 예컨대 제5도에 나타내는 것같이 표시하는 표시장치이다.

다음에 동작에 대하여 설명한다.

실시예 5와 같이 피가공물은 가공된다.

연산장치(16A)는 실시예 4와 마찬가지의 동작이며, 카운터회로(14)의 계측결과로부터 소정시간마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 연산하고, 연산결과를 방전에너지제어장치(17A)에 출력한다.

방전에너지제어장치(17A)는, 와이어전극직경 또는 가공될 피가공물 등의 조건에 따라 미리 정해진 가공에너지의 설정치와 연산장치(16A)의 연산결과를 비교하고, 일정한 연산장치(16A)의 연산결과를 유지하도록 상기 결과에 따라 가공전원제어회로(8A)에 의해 제어되는 전기가공조건 파라미터에서 전류피크, 펄스폭, 휴지시간을 변경한다.

따라서, 소정시간(Tp)마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량이 일정하게 제어되기 때문에 가공하는 동안의 투입에너지의 양이 일정치로 되어, 와이어전극의 단선이나 집중아크등의 이상(異常)가공을 확실하게 방지하는 것이 가능하게 된다.

또, 대·소피크펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열을 따로따로 계측하도록 (14a), (14b)의 2개의 카운터로 카운터회로(14)를 구성하여, 가공용 전원제어회로에서 선택하도록 하고, 카운터회로에 의해 계측된 대·소피크펄스의 펄스수를 연산장치(16)에 입력하여 연산처리하도록 하였으므로, 카운터회로(14)의 구성을 간략화 하는 효과가 있다.

또, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 실시예 2와 같이, 휴지시간 중에 출력하며, 방전가공에 의해 발생하는 잡음의 영향을 회피하고, 보다 고정도로 투입에너지의 검출이 가능하게 되어 와이어단선방지의 신뢰성이 보다 향상되는 효과가 있다.

제14(a)도, 제14(b)도는 실시예 7에 관한 와이어가공장치의 동작을 나타내는 도면이며, 제12도에 나타내는 상기 실시예 5 또는 제13도에 나타내는 실시예 6에 따라 와이어방전가공장치에 있어서의 방전에너지제어장치(17)가 카운터회로(14)의 계측결과가 일정하게 유지되도록 전기가공조건 파라미터의 하나인 휴지시간을 제어하는 1예를 나타내는 도면이다.

제14(a)도는 소정시간(Tp)내의 카운터회로(14)의 측정결과를 나타내고, 제14(b)도는 제14(a)도의 43∼46의 구간에 대응하는 타이밍차트이며, 소정시간내의 가공갭(3)에서 형성한 방전파형, 방전에너지제어장치(17)에 의해 제어되는 휴지시간, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 나타낸 것이며, 43∼46의 각각에 대하여 a는 방전전압파형, b는 방전전류파형, c는 휴지시간, d는 펄스열을 나타낸다.

다음에 동작에 대해서 설명한다.

실시예 5와 마찬가지로, 피가공물은 가공되고, 카운터회로(14)는 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측하여, 계측결과를 방전에너지제어장치(17)에 출력한다. 방전에너지제어장치(17)는 와이어전극직경 또는 가공될 피가공등의 조건에 따라 미리 정해진 펄스수의 설정치와 카운터회로(14)의 계측결과를 비교하여, 카운터회로(14)의 계측결과가 일정하게 유지되는 상기 결과에 따라 가공용전원제어회로(8B)에 의해 제어되는 휴지시간을 변경한다.

여기서, 방전에너지제어장치(17)에 의해 시행되는 휴지시간제어 동작의 1예를 설명한다.

예컨대, 방전에너지제어장치(17)에 있어서 소정시간내의 펄스수의 설정치를 14펄스로 하여, 카운터회로(14)의 펄스수의 계측결과가 제14(a)도에 나타내는 것같이 변화하는 가공상태를 고려하면 우선, 제14(b)도의 (43)의 스텝의 가공상태에 있어서, 펄스수의 계측결과는 (43d)로 나타낸 바와 같이 14펄스이며, 방전에너지제어장치(17)의 펄스수의 설정치와 같기 때문에 휴지시간의 변경은 없다.

다음에 제14(b)도의 44의 스텝에서 가공갭(3)의 상태가 와이어단선에 가까운 상태로 변화하면, 이때의 펄스수의 계측결과는 44d로 표시되는 바와 같이 16펄스로 증가하여, 방전에너지제어장치(17)의 펄스수의 설정치를 초과하므로, 방전에너지제어장치(17)는 가공용전원제어회로(8B)에 휴지시간을 연장하는 신호를 출력한다.

제14(b)도의 다음 스텝 45의 가공상태에 있어서는, 휴지시간의 제어가 반영되어 휴지시간은 45c로 나타내는 것같이 증가하기 때문에 소정시간(Tp)내에 발생한 방전수는 감소한다.

그 결과 와이어단선이 회피되며, 소정시간내의 펄스수의 계측치도 45d에 나타내는 바와 같이 미리 정한 14펄스로 감소한다.

또 도시하는 바와 같이, 45의 스텝의 다음 스텝에서, 설정치인 14펄스보다 감소하면, 방전에너지제어장치(17)는 가공용전원제어회로(8B)에 휴지시간을 짧게 하는 신호를 출력한다.

그 결과, 계측치는 그 다음의 스텝에서 미리 정한 설정치로 14펄스를 증가된다.

방전에너지제어장치(17)는 이상 방전과 와이어단선 상태의 발생을 방지하도록 상기와 같은 싸이클로 가공용전원제어회로(8B)에 의해 제어되는 휴지시간을 제어하기 때문에, 이상 방전이나 와이어단선을 확실히 회피하는 것이 가능하게 되어 안정한 가공상태가 유지된다.

이외에도, 제13도에 나타내는 실시예 6의 방전에너지장치(17A)의 동작에 대해서도, 실시예 5의 방전에너지제어장치(17)의 동작과 실질적으로 동일하다.

또, 제15(a), 15(b)도는 실시예 8에 관한 방전가공장치의 동작을 나타내는 도면이며, 제12도에 나타내는 상기 실시예 5에 따른 와이어방전가공장치에 있어서의 방전에너지제어장치(17) 또는 (17A)가 카운터회로(14)의 계측결과를 일정하게 유지하도록 전기가공조건 파라미터의 하나인 전류펄스폭을 제어하는 1예를 나타내는 도면이다.

제15(a)도는 소정시간(Tp)내의 카운터회로(14)의 계측결과를 나타내고, 제15(b)도는 제15(a)도의 47∼50의 구간에 대응하는 타이밍차트이며, 소정시간내에서 가공갭 형성된 방전파형, 방전에너지제어장치에 의해 제어되는 전류펄스폭, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열을 나타낸 것이며, 47∼50의 각각에 대하여 a는 방전전압파형, b는 방전전류파형, c는 전류펄스폭, d는 펄스열을 나타낸다.

다음 동작에 대해서 설명한다.

실시예 5와 마찬가지로 피가공물은 가공되며, 카운터회로(14)의 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측하여, 계측결과를 방전에너지제어장치(17)에 출력한다.

방전에너지제어장치(17)는 와이어전극직경 또는 가공될 피가공물등의 조건에 따라 미리 정해진 펄스수의 설정치와 카운터회로(14)의 계측결과를 비교하여, 그 결과에 따라 가공용전원제어회로(8B)에 의해 제어되는 전류펄스폭을 변경하여, 카운터회로(14)의 계측결과를 일정하게 유지하도록 제어한다.

여기서 방전에너지제어장치(17)의 전류펄스폭제어 동작의 1예를 설명한다.

예컨대, 방전에너지제어장치(17)에 있어서 소정시간(Tp)내의 펄스수의 설정치를 14펄스로하고, 제15(a)도에 나타내는 바와 같이 카운터회로(14)이 펄스수의 계측결과가 변화하는 가공상태를 고려하면 우선, 47의 스텝의 가공상태에 있어서, 펄스수의 계측결과가 47d와 같이 14펄스이며, 방전에너지제어장치(17)의 펄스수의 설정치와 같기 때문에 전류펄스폭에 변경은 없다.

다음에 48에 스텝으로 가공갭(3)의 상태가 변화하여 와이어단선에 가까운 상태로 이행하면, 이때의 펄스수의 계측결과는 48d와 같이 16펄스를 증가하여, 방전에너지제어장치(17)의 펄스수의 설정치를 초과한다.

따라서, 방전에너지제어장치(17)는 가공용전원제어회로(8B)에 전류펄스폭을 축소하는 신호를 출력한다.

다음의 49스텝에서의 가공상태에 있어서는 전류펄스폭의 제어가 반영되어 전류펄스폭은 49C에 나타내는 바와 같이 감소하며, 동시에 전류펄스의 피크치는 저감된다.

그 결과, 와이어단선이 회피되어, 소정시간(Tp)내의 펄스수의 계측치는 49C에 나타내는 것같이 설정치인 14펄스로 감소하며, 펄스수의 계측결과가 설정치보다 작아지면, 방전에너지제어장치(17)는 가공용전원제어회로(8B)에 전류펄스폭을 길게하는 신호를 출력한다.

그 결과, 그 다음의 스텝에서 미리 정한 설정치 14펄스로 증가한다.

방전에너지제어장치(17)는 이상 방전 또는 와이어단선 상태의 발생을 방지하도록 이상과 같은 싸이클로 가공용 전원제어회로(8B)에 의해 제어되는 전류펄스폭을 제어하므로, 이상(異常)방전이나 와이어단선을 확실하게 회피할 수 있고, 안정된 가공상태가 유지된다.

제13도에 나타내는 바와 같은 실시예 6의 방전에너지제어장치(17A)의 동작은, 실시예 5의 방전에너지제어장치(17)의 동작과 실질적으로 동일하다.

제16도는 실시예 9에 따른 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도면에 있어서, 부호 1∼7, 8A, 9, 11∼14는 실시예 1과 동일 또는 대응부분을 나타내며, 17B 전극이송속도를 제어하도록 NC제어장치(10c)를 제어하는 방전에너지제어장치, 15D를 방전에너지제어장치(17B)의 연산결과를 예컨대, 제5도에, 나타내는 것같이 표시하는 표시장치이다.

또, 제17(a)도와 제17(b)도는 본 실시예에 있어서의 전극송출 속도가 제어되는 1예를 나타내는 도면이다.

제17(a)는 소정시간내의 카운터회로(14)의 계측결과를 나타내고, 제17(b)는 제17(a)도의 51∼54의 구간에 대응하는 타이밍차트이며, 소정시간(Tp)내의 가공갭(3)에 형성된 방전파형, 전극이송속도제어에 의해 변화하는 무부하시간(전압인가로부터 방전발생까지의 시간), 펄스열발생회로(13)에 의해 출력되는 펄스열을 나타내는 것으로 51∼54의 각각에 대해서 a는 방전전압파형, b는 방전전류파형, c는 무부하시간, d는 펄스열을 나타낸다.

다음의 동작에 대해서 설명한다.

실시예 5와 마찬가지로 피가공물이 가공되고, 카운터회로(14)는 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측하며, 계측결과를 방전에너지제어장치(17B)에 출력한다.

방전에너지제어장치(17B)는 와이어전극직경 또는 가공될 피가공물 등의 조건에 따라 미리 정해지는 펄스수의 설정치와 카운터회로(14)의 계측결과를 비교하여, 카운터회로(14)의 계측결과가 일정하게 유지되는 결과에 따라 NC제어장치(10c)가 제어하는 전극이송속도를 변경한다.

여기서, 방전에너지제어장치(17B)의 전극이송속도제어의 동작의 1예를 설명한다.

예컨대, 방전에너지제어장치(17B)에 있어서 소정시간(Tp)내의 펄스수의 설정치가 14펄스이고, 카운터회로(14)의 펄스수의 계측결과가 제17(a)에 나타내는 것같이 변화하는 가공상태를 고려하면, 우선 51의 스텝의 가공상태에 있어, 펄스수의 계측결과는 51d와 같이 14펄스이며, 방전에너지제어장치(17B)의 펄스수의 설정치와 같기 때문에 전극이송속도에 변경은 없고, 무부하시간도 변화하지 않는다.

다음에 52의 스텝으로 가공갭(3)의 상태가 변화하여, 와이어단선에 가까운 상태로 이행하면, 이때의 펄스수의 계측결과는 52d와 같이 16펄스로 증가하여, 방전에너지제어장치(17B)의 펄스수의 설정치를 초과하므로 방전에너지제어장치(17B)는 NC제어장치(10c)에 전극이송속도를 늦게하는 신호를 송출한다.

다음의 53의 스텝의 가공상태에 있어서는 전극이송속도의 제어가 반영되어 무부하시간은 53c에 나타내는 바와 같이 길게 되기 때문에 소정시간(Tp)내의 방전발생수가 작아진다.

그 결과, 와이어단선이 회피되며, 소정시간(Tp)내의 펄스수의 계측치도 53d에 나타내는 것같이 설정치인 14펄스로 감소한다.

또, 펄스수의 계측결과가 53의 스텝의 다음의 스텝에서 펄스수 설정치보다 작으면 방전에너지제어장치(17B)는 가공 NC제어장치(10c)에 전극이송속도를 빠르게 하는 신호를 출력한다.

이 결과 다음의 스텝에서는 설정치인 14펄스로 증가한다.

방전에너지제어장치(17B)는 이상방전 또는 와이어단선 상태에 대하여 이상과 같은 싸이클로 NC제어장치(10c)를 제어하고, 전극이송속도를 제어하기 때문에, 이상방전이나 와이어단선을 확실하게 회피하는 것이 가능하게 되어 안전한 가공상태가 유진된다.

다음에 이 발명의 실시예 10을 제18도 및 제19(a)도와 제19(b)도를 참조하여 설명한다.

제18도는 실시예 10의 와이어방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도면에 있어서, 부호 1∼7, 9, 10D, 11∼14는 실시예 5와 동일 또는 대응부분을 나타내며, 17c는 카운터회로(14)의 계측결과가 소정치에 도달하는 경우에 가공전류펄스(또는 가공전압전류펄스)의 공급을 일단 정지하므로서 소정시간내의 펄스치가 소정치 이상으로 되지 않도록 가공용전원제어회로(8c)를 제어하는 방전에너지제어장치, 15E는 방전에너지제어장치(17c)의 제어결과를, 제5도에 나타내는 것같이 표시하는 표시장치이다.

또, 제19(a)도, 제19(b)도는 실시예 10에 있어서의 방전에너지제어장치(17c)의 제어상태의 1예를 나타내는 도면이다.

제19(a)도는 소정시간(Tp)에 대한 카운터회로(14)의 계측결과를 나타내며, 제19(b)도는 전류펄스공급정지신호(이하, 전송정지신호로 한다)의 타이밍차트를 나타낸다.

다음에 동작에 대해서 설명한다.

실시예 1과 마찬가지로 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 피크가 낮은 소펄스의 2종류의 전류파형을 공급하여 가공을 하는 경우에 있어서, 펄스열발생회로(13)는 가공용전원제어회로(8c)에 의해 가공용전원(7)으로 출력하는 펄스폭에 대응하는 펄스열을 출력하고, 카운터회로(14)는 펄스열발생회로(13)로부터 출력되는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측한다.

방전에너지제어장치(17c)는 카운터회로(14)의 계측결과와 와이어전극직경 또는 가공될 피가공물등의 조건에 따라 미리 정해지는 펄스수의 소정치(상한치)와 비교하여 소정시간내에 펄스수의 계측결과가 소정치에 도달한 경우에는(제19(a)도의 55, 56, 58의 경우), 가공용전원제어회로(8c)에 의해 가공용전원(7)에 출력되는 구동신호를 정지하고, 제19(b)도에 나타내는 것같이 전류펄스의 공급을 일단 정지시키는 전송정지신호를 가공용전원제어회로(8c)에 출력하여, 소정시간(Tp)내의 펄스수의 계측결과가 소정치(상한치)보다 작게 유지한다.

또, 제19(a)도의 (57)과 같이 소정시간(Tp)내의 펄스수의 계측결과가 소정치(상한치)에 도달하지 않는 경우는 방전에너지제어장치(17c)는 전송정지 신호를 출력하지 않는다.

따라서, 방전에너지제어장치(17c)의 제어동작에 의해 소정시간(Tp)마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 양이 소정치(상한치)로 제한되기 때문에 가공중의 투입에너지의 양은 와이어단선의 한계치 이하로 제어되며, 와이어전극의 단선이나 집중아크등의 이상가공을 확실히 방지하는 것이 가능하게 된다.

또, 펄스열발생회로(13)에 의해 출력하는 펄스열은 실시예 2와 같이, 휴지시간 중에 출력되어, 방전가공에 의해 발생하는 잡음의 영향을 회피하고, 보다 높은 정확도로 투입에너지의 검출이 가능하게 되므로, 와이어단선 방지의 동작의 신뢰성이 보다 향상한다.

나아가, 펄스열발생회로(13)는 실시예 3과 같이, 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력하는 경우에 있어서도, 방전에너지제어장치(17c)는 카운터회로(14)의 계측 결과가 소정치(상한치) 이상으로 되지 않도록 제어하는 것이 가능하다.

본 실시예에 관계되는 장치에 의해 발생하는 효과의 구체예를 이하에 나타낸다.

와이어전극 : 황동제품, 03mmø

피가공물 : SKD11, 60mm 두께

피크전류 : 600A

카운터회로(14)의 소정시간 : 10ms

로하여 본 실시예에 관계되는 장치를 사용하여, 와이어방전가공을 하였을 때, 가공속도는 4.2㎜/min으로 되며, 종래의 가공속도(3.6㎜/min)에 비하여 약 20%나 향상되고, 또 단선의 발생도 없었다.

제20도는 실시예 11에 따른 와이어 방전가공장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도면에 있어서, 부호 (1)∼(7), (8A), (10A), (11), (12), (14), (15)는 실시예 1과 동일 또는 대응부분을 나타내며, 13A는 가공갭에 있어서의 가공전압을 검출하는 전압검출회로 (9A)에 의한 검출치를 입력하고, 이 검출치가 가공갭에 있어서의 유효방전을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상이였을 경우에만, 가공갭에 인가하는 전류펄스파형의 전류펄스폭에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생회로이다.

14는 소정시간(Tp)내에 발생한 상기 펄스열의 펄스수를 적산하는 카운터회로이다.

또, 제21(a)도와 제21(b)도는 실시예 11에 있어서의 와이어 방전가공장치의 동작을 나타내는 것이며, 제21(a)도는 가공갭의 상태와 방전전압사이의 관계를 나타내며, 제21(b)도는 가공갭의 방전파형과, 펄스열발생회로(13A)에 의해 출력되는 펄스열을 나타낸 것이며, 58은 방전전압파형, 59는 방전전류파형, 60은 펄스열을 나타낸다.

다음에 동작에 대하여 실시예 1과 다른 개소만을 설명한다.

실시예 1과 마찬가지로 가공갭(3)에 피크가 높은 대펄스와 낮은 소펄스의 2종류의 전류파형을 공급하여 피가공물을 가공하는 경우에 있어서, 전압검출회로(9A)는 가공갭(3)에 있어서의 전압파형에 따라 방전의 발생을 검출함과 동시에 무부하시간을 계측하여, 그 결과를 가공용전원제어회로(8A)에 출력한다.

무부하시간이 짧은 경우(즉시 방전) 가공용전원제어회로(8A)는 펄스폭이 작고 피크가 낮은 전류파형을 공급하고, 역으로 무부하시간이 비교적 긴 경우, 가공용전원제어회로(8A)는 정상방전이라고 판단하여 펄스폭이 크고 높은 피크의 전류파형을 공급한다.

평균전압검출회로(11)는 가공중의 평균전압을 검출하고, 이 전압에 따라 전극이송 제어를 시행한다.

펄스열발생회로(13A)는 전압검출회로(9A)에 의한 검출치가 가공갭에 있어서의 유효방전이라는 것을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상이였을 경우만, 가공갭에 인가한 전류펄스파형의 전류펄스폭과 대응하는 펄스열을 출력한다.

예컨대, 제21(a)도에 나타내는 것 같이 검출치의 소정레벨이 설정되면, 가공상태가 정상방전 또는 아크의 경우는, 가공갭 전압의 검출치가 소정레벨을 초과하기 때문에 펄스열발생회로(13A)는 유효방전이라고 판단하고, 펄스열을 출력하지만, 가공상태가 단락의 경우는 가공갭 전압의 검출치가 소정레벨에 도달하지 못하기 때문에, 펄스열발생회로(13A)는 펄스열을 출력치 않는다.

카운터회로(14)는 펄스열발생회로(13A)로부터 출력되는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측한다.

따라서, 카운터회로(14)와 계측결과는 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 총합계이며, 펄스열과 전류펄스폭이 대응하고 있으므로, 소정시간마다 가공갭(3)에 공급하고 있는 전류펄스의 양을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하며, 나아가 와이어전극의 소모에 영향하는 유효방전의 가공상태에 대해서만 전류펄스가 계측되므로 보다 고정도의 전류펄스의 계측이 가능하게 된다.

따라서, 가공중에 공급된 투입에너지량을 검출하는 것이 가능하게 되고, 와이어전극의 단선이나 집중아크 등의 이상가공을 확실하게 방지하는 유효한 수단이 된다.

또, 펄스열발생회로(13A)에 의해 출력되는 펄스열은 실시예 2와 같이 휴지시간 중에 출력되어 방전가공에 의해 발생하는 잡음의 영향을 회피하고, 보다 고정도의 투입에너지의 검출이 가능하게 되기 때문에 와이어단선 방지의 동작의 신뢰성이 보다 향상될 수 있다.

나아가서, 펄스열발생회로(13A)가 실시예 3과 같이 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력하도록 구성되어 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 검출지연 없이 정확히 계측할 수 있다.

또, 카운터회로(14)는, 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간마다 계측하고, 계측결과(소정시간(Tp)내의 펄스열의 펄스수의 합계)를 표시장치(15)에 출력한다.

표시장치(15)는 실시예 1과 마찬가지로 카운터회로(14)의 계측결과를 가공 중에 있어서의 투입에너지로서 표시하는 것으로, 운전자가 전류펄스의 피크치, 펄스폭, 휴지시간 등의 전기가공조건 파라미터의 설정이 적절한가, 어떤가의 판단을 정확히 또 용이하게 할 수 있기 때문에, 와이어단선의 발생을 미연에 방지할 수 있다.

또, 가공조건이 용이하게 선정되어 운전자의 부담을 경감할 수 있다.

또, 카운터회로(14)는 가공갭(3)에 공급되는 전류펄스의 펄스폭에 대응하는 펄스열의 펄스수의 합계를 소정시간(Tp)마다 계측하고, 계측결과(소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계)를 NC제어장치(10A)로 출력한다.

NC제어장치(10A)는 카운터회로(14)의 계측결과에 따라 가공용전원제어회로(8)에 출력하도록 가공조건 파라미터를 변경 제어한다.

예컨대, 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 많을 때에는, 와이어전극에 투입되는 에너지가 많다고 판단하고, 전류펄스의 휴지시간 등의 가공조건 파라미터의 설정치를 변경하여, 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 작게 되도록 한다.

반대로, 소정시간(Tp)내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 작은 경우도 가공조건 파라미터의 설정치를 변경하여 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수의 합계가 증가되도록 한다.

따라서, 소정시간마다 가공갭(3)에 공급하는 전류펄스의 양을 검출지연없이 계측하고, 또, 와이어전극의 소모에 영향을 주는 유효방전의 가공상태에 대해서만 전류펄스가 계측되어, 보다 고정밀의 전류펄스의 계측이 가능하게 되기 때문에, 가공 중에 있어서의 투입에너지의 양을 검출하여 투입에너지를 제어하므로서 와이어전극의 단선 또는 집중아크 등의 이상가공을 확실하게 방지할 수 있다.

또, 이 실시예는 실시예 2∼10와도 적절히 조합하여 사용할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 그 제어방법에 의하면, 가공갭에 공급하고 있는 전류펄스의 양을 검출지연없이 정확히 계측하는 것이 가능하게 되고, 와이어전극의 단선이나 집중아크 등의 이상가공의 발생을 검출하는 효과적인 수단을 제공한다.

본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 그 제어방법에 의하면, 와이어전극의 소모에 영향을 주는 유효방전의 가공상태에 대해서만 전류펄스가 계측되고 와이어전극의 단선이나 집중아크 등의 이상가공의 발생을 검출하는 효과적인 수단을 제공한다.

또, 본 발명에 관계되는 와이어방전가공장치 및 그 제어방법에 의하면, 전류펄스가 공급되는 동안 발생된 잡음에 의한 오검출은 가공갭에 공급한 전류펄스의 량을 고정도로 계측하도록 방지될 수 있으므로, 와이어전극단선과 집중아크와 같은 이상방전의 발생을 확실하게 검출하는 효과적인 수단을 제공한다.

본 발명에 관계된 와이어방전가공장치 및 제어방법에 의하면, 가공갭에 공급하는 전류펄스의 에너지량을 검출지연없이 정확히 계측할 수 있으며, 특히, 복수의 전류펄스(대소 2종류의 전류펄스를 포함)을 가공갭에 인가하는 경우, 전류펄스의 에너지량의 검출오차가 적고 보다 고정도로 가공 중의 투입에너지량을 검출할 수 있으므로, 와이어전극의 단선이나 집중아크 등의 이상가공의 발생을 검출하는 효과적인 수단을 제공한다.

본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 제어방법에 의하면, 가공갭에서 공급하는 전류펄스의 에너지량을 검출지연없이 계측할 수 있고, 또 카운터회로의 배치를 간략화할 수 있으므로, 와이어전극단선과 집중아크와 같은 이상가공의 발생을 검출하는 효과적인 수단이 염가의 장치로 구성할 수 있다.

본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 제어방법에 의하면, 가공 중에 출력하는 전류펄스의 량(또는 전류펄스이 에너지량)을 검출할 수 있고, 가공조건에 따른 값으로 전류펄스(또는 전류펄스의 에너지량)를 제어할 수 있으므로, 와이어전극의 단선과 집중아크와 같은 이상가공의 발생을 방지할 수 있다.

본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 제어방법에 의하면, 가공갭으로 공급하는 전류펄스의 량은 일정치로 제어되므로 가공 중에 출력하는 에너지량은 일정하게 되고, 와이어전극단선과 집중아크와 같은 이상가공을 가공의 안정성이 향상되도록 확실하게 방지할 수 있다.

본 발명에 관계하는 와이어방전가공장치 및 제어방법에 의하면, 가공갭에 공급하는 전류펄스의 량이 일정치로 제어되므로, 가공하는 동안 투입에너지량은 일정하게 되며, 와이어전극단선과 집중아크와 같은 이상가공을 가공의 안정성이 향상되도록 확실하게 방지할 수 있다.

Claims (18)

1. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치에 있어서, 펄스폭 신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생수단과, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수를 적산하는 펄스수적산수단과, 펄스수적산수단의 펄스수적산결과에 따라 가공조건을 제어하는 방전에너지제어장치로 구성되는 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
2. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치에 있어서, 방전 중의 전압을 계측하는 전압검출수단과, 전압검출수단에 의한 검출치가 가공갭에서 유효방전인 것을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상일 경우에만 펄스폭신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생수단과, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 펄스수적산수단과, 펄스수적산수단의 펄스수 적산결과에 따라 가공조건을 제어하는 방전에너지제어장치로 구성되는 제어수단을 구비함을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
3. 제2항에 있어서, 펄스열발생수단은 가공에너지에 상당하는 펄스열을 출력하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
4. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치에 있어서, 펄스폭신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생수단과, 소정시간내에 발생된 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 커운터회로로되는 펄스수 적산수단과, 펄스수적산수단의 펄스수 적산결과에 따라 가공에너지를 계산하는 에너지량 연산수단과, 에너지량 연산수단의 연산결과에 따라 가공조건을 제어하는 방전에너지제어장치로 구성되는 제어수단을 구비함을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
5. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 방전가공장치에 있어서, 방전중의 전압을 계측하는 전압검출수단과, 전압검출수단에 의한 검출치가 가공갭에 있어서 유효방전인 것을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상일 경우에만, 펄스폭신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 펄스열발생수단과, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 카운터회로로 되는 펄스수적산수단과, 펄스수적산수단의 펄스수적산결과에 따라 가공에너지에 상당하는 에너지량을 계산하는 에너지량 연산수단과, 에너지량 연산수단의 연산결과에 따라 가공조건을 제어하는 방전에너지제어장치로 구성되는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
6. 제5항에 있어서, 펄스열발생수단은, 가공전류공급정지 후의 시간대에 가공전류공급 시간폭에 대응하는 펄스열을 출력하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
7. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여, 방전가공을 하는 와이어방전가공장치에 있어서, 소정기간에 발생한 에너지량 또는 그의 에너지량에 상당하는 량을 검출하는 에너지검출수단과, 에너지검출수단의 검출결과가 소정치를 넘었을 경우에 가공전류의 공급을 일단 정지하므로서 와이어형상전극과 피가공물간의 가공갭에 가해진 에너지량을 제어하는 방전에너지제어장치로 구성되는 제어수단과를 구비함을 특징으로 하는 와이어가공방전장치.
8. 제7항에 있어서, 에너지검출수단의 결과를 나타내는 표시수단을 구비한 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
9. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치의 제어방법에 있어서, 펄스폭신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 스텝과, 소정시간내의 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 스텝과, 카운트하여 적산한 펄스수적산결과에 따라 가공조를 제어하는 스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
10. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치의 제어방법에 있어서, 방전 중의 전압을 검출하는 스텝과, 전압검출수단에 의해 검출된 전압이 가공갭에 있어서 유효방전인 것을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상일 경우에만, 펄스폭 신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 스텝과, 소정시간내에 발생한 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 스텝과, 카운트하여 적산한 펄스적산결과에 따라 가공조건을 제어하는 스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
11. 제10항에 있어서, 출력되는 펄스열은, 가공에너지에 상당하는 펄스열인 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
12. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하며, 방전가공을 하는 와이어방전가공장치의 제어방법에 있어서, 펄스폭신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 스텝과, 소정시간내에 발생된 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 스텝과, 카운트하여 적산한 펄스수적산결과에 따라 가공에너지에 상당한 량을 연산하는 스텝과, 에너지량의 연산결과에 따라 가공조건을 제어하는 스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
13. 와이어형상전극과 피가공물간에 펄스전압을 인가하여 방전가공을 하는 와이어방전가공장치의 제어방법에 있어서, 방전 중의 전압을 계측하는 스텝과, 전압검출치가 극간에 있어서 유효방전인 것을 나타내는 소정레벨의 전압치 이상인 경우에만, 펄스폭 신호에 대응하는 펄스열을 출력하는 스텝과, 소정시간내에 발생된 펄스열의 펄스수를 카운트하여 적산하는 스텝과, 카운트하여 적산한 펄스수적산 결과에 따라 가공에너지에 상당한 량을 연산하는 스텝과, 에너지량의 연산결과에 따라 가공조건을 제어하는 스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
14. 제9항에 있어서, 펄스열을 출력하는 시간대는 가공전류공급정치 후의 시간대임을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
15. 와이어형상전극 및 피가공물간에 펄스전압을 인가하고 방전가공을 하는 와이어방전가공장치의 제어방법에 있어서, 소정시간내에 발생한 에너지량 또는 그의 에너지량에 상당한 량을 검출하는 스텝과, 검출된 에너지가 소정의 량을 넘었을 때에 가공전류의 공급을 정지하므로서, 와이어형상전극과, 피가공물간에 공급된 에너지량을 제어하는 스텝으로 구성되는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
16. 제15항에 있어서, 에너지검출결과를 표시하는 스텝을 더 구성하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.
17. 제5항에 있어서, 펄스수적산수단 및 에너지량 연산수단 중의 적어도 하나의 결과를 표시하는 표시수단의 더 구성하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치.
18. 제13항에 있어서, 펄스수적산의 결과 또는 에너지량연산의 결과를 표시하는 스텝을 더 구성하는 것을 특징으로 하는 와이어방전가공장치의 제어방법.