KR100192892B1 - 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치 - Google Patents

대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100192892B1
KR100192892B1 KR1019950024391A KR19950024391A KR100192892B1 KR 100192892 B1 KR100192892 B1 KR 100192892B1 KR 1019950024391 A KR1019950024391 A KR 1019950024391A KR 19950024391 A KR19950024391 A KR 19950024391A KR 100192892 B1 KR100192892 B1 KR 100192892B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
charging
magnetic particles
forming apparatus
image forming
electrically conductive
Prior art date
Application number
KR1019950024391A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960008448A (ko
Inventor
하루미 이시야마
야스시 사또
히데유끼 야노
다다시 후루야
야스노리 찌고노
세이지 마시모
Original Assignee
미따라이 하지메
캐논 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP6208066A external-priority patent/JPH0850392A/ja
Priority claimed from JP6205961A external-priority patent/JPH0850396A/ja
Priority claimed from JP19499795A external-priority patent/JP3126636B2/ja
Application filed by 미따라이 하지메, 캐논 가부시끼가이샤 filed Critical 미따라이 하지메
Publication of KR960008448A publication Critical patent/KR960008448A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100192892B1 publication Critical patent/KR100192892B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/02—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
    • G03G15/751—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing relating to drum
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/02—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices
    • G03G15/0208—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus
    • G03G15/0241—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for laying down a uniform charge, e.g. for sensitising; Corona discharge devices by contact, friction or induction, e.g. liquid charging apparatus by bringing charging powder particles into contact with the member to be charged, e.g. by means of a magnetic brush
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
    • G03G2215/02—Arrangements for laying down a uniform charge
    • G03G2215/021—Arrangements for laying down a uniform charge by contact, friction or induction
    • G03G2215/022—Arrangements for laying down a uniform charge by contact, friction or induction using a magnetic brush

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)
  • Charge And Discharge Circuits For Batteries Or The Like (AREA)

Abstract

본 발명은, 대전될 부재를 대전시키도록 자성 입자를 지지하는 대전 부재에 있어서, 전압이 인가될 수 있는 전기 전도성 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로 상기 자성 입자의 단부에서 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 부재에 관한 것이다.

Description

대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치
제1도는 화상 형성 장치의 일례의 개략도.
제2a도 및 제2b도는 주입 대전의 원리를 도시한 도면.
제3도는 실시예 1에 따른 자성 브러시형 대전 부재의 단부의 길이 방향 개략도.
제4도는 실시예 2에 따른 자성 브러시형 대전 부재의 단부의 길이 방향 개략도.
제5도는 실시예 2에 따른 변경된 대전 부재의 단부의 길이 방향 개략도.
제6도는 실시예 3에 따른 자성 브러시형 대전 부재의 단부의 길이 방향 개략도.
제7도는 실시예 3의 변경을 도시하는 개략도.
제8도는 실시예 4에 따른 장치에서의 드럼과 자성 브러시형 대전 부재의 단부의 개략도.
제9도는 실시예 5에 따른 장치에서의 드럼과 자성 브러시형 대전 부재의 단부의 길이 방향 단면도.
제10도의 (a), (b) 및 (c) 각각은 장치의 자성 브러시형 대전 부재의 개략 횡단면도, 자성 브러시형 대전 부재의 개략 평면도 및 단부의 길이 방향 개략 단면도.
제11도의 (a) 및 (b) 각각은 실시예 7에 따른 제1 대전 부재의 측단면도 및 제1 대전 부재의 정단면도.
제12도의 (a) 및 (b) 각각은 실시예 7에 따른 화상 형성 장치의 개략도 및 대전 부재 부분의 개략 평면도.
제13도는 실시예 8에 따른 장치의 주요부의 측면의 실시예의 개략도.
제14도의 (a) 및 (b) 각각은 실시예 9에 따른 대전 장치의 주요부의 측면의 개략도 및 단부 밀봉 부재로서도 사용된 제2 대전 부재, 클리닝 블레이트 및 클리닝 장치의 수용 시트의 위치 관계를 도시하는 개략 정면도.
제15도는 실시예 10에 따른 대전 부재의 길이 방향 단부의 형태를 도시하는 길이 방향 단면도.
제16도는 실시예 11에 따른 대전 부재의 길이 방향 단부의 형태를 도시하는 길이 방향 단면도.
제17도는 실시예 12에 따른 대전 부재의 길이 방향 단부의 실시예를 도시하는 길이 방향 단면도.
제18도는 실시예 13에 따른 대전 부재의 길이 방향 단부의 실시예를 도시하는 길이 방향 단면도.
제19도는 실시예 13에 따른 대전 부재의 구조를 도시하는 실시예의 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 감광 부재 또는 감광 드럼 2 : 대전장치
6 : 클리닝 장치 13 : 대전 주입층
20, 40 : 대전 부재 21 : 자석 롤러
22 : 전극 슬리브 23 : 자성 브러시
24 : 절연부 30 : 카트리지
본 발명은 전자 사진 복사기 또는 동종의 프린터에 특히 적합한, 자성 입자를 사용하여 대전을 수행하는 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치에 관한 것이다.
전자 사진 장치에서의 대전 방법에 대해서는, 와이어 및 실드(shield)를 사용하는 코로나 대전형(corona charging type)이 주로 사용되어 왔다. 그러나, 최근에 환경 문제 관점으로부터, 방전으로 인한 소량의 오hs 산물 때문에 접촉 대전형이 널리 사용되게 되었다. 이러한 접촉 대전형 중 하나로서, 자성 입자가 대전될 부재(이하에서, 피대전 부재라 함)로서의 감광 부재에 접촉되는 자성 브러시형이 공지되어 있다.자성 브러시형의 대전 부재에는, 예컨대, 자력 생성 부재로서의 자석 롤러와, 자석 롤러의 외부 둘레의 회전 가능 비자성 전극 슬리브와, 자석 롤러의 자력에 의해 전극 슬리브의 표면 상으로 이끌려 지지된 자성 입자층이 마련된다. 감광 부재를 대전시키기 위하여, 자성 입자층은 감광 부재에 접촉되고, 전극 슬리브에는 전압이 가해진다. 자성 브러시형에서, 자성 입자들은 길이 방향(감광 부재의 생성 라인 방향)으로 대전 부재의 단부로 밀린다. 단부 구역에서, 자성 브러시는 감광 드럼에 항상 접촉되는 것은 아니므로 균일한 대전이 곤란하다. 따라서, 단부 구역에서의 감광 부재의 전위는 중앙 구역에서의 전위에 비해 매우 낮다. 이러한 이유로 인해, 전극 슬리브의 전위와 감광 부재의 표면의 전위는 단부 구역에서 상당히 상이하며, 이 결과 자성 입자는 대전 부재로부터 감광 부재로 이동한다. 자성 입자가 감광부재에 퇴적된다면, 대전 부재상의 자성 입자의 양은 점차적으로 감소되어 대전 결함을 초래한다. 대전 결함은 화상의 열화를 야기하며, 자성 브러시형으로는 장기간 사용이 불가능해진다.
따라서, 본 발명의 주목적은 대전 부재로부터 피대전 부재로의 자성 입자의 퇴적이 효과적으로 방지되는 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 장기간 동안 적당한 화상이 유지될 수 있는 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 상기 목적 및 다른 목적과, 특징 및 이점은 첨부 도면과 관련하여 취한 이하의 설명으로부터 보다 명백하게 될 것이다.
[실시예 1(제1도 내지 제3도)]
(1) 화상 형성 장치의 일례 (제1도)
제1도는 화상 형성 장치의 일례의 구조를 도시한다. 본 실시예의 화상 형성장치는 전자 사진 공정식 레이저 빔 프린터의 형태이다.
참조 부호 1로 나타낸 것은 화상 담지 부재(image bearing member)(피대전 부재)로서의 회전 드럼식 전자 사진 감광 부재(드럼)이다. 본 실시예에서, 감광 드럼은 음전하 극성을 가지고, 30㎜의 직경을 가지며, 100㎜/sec의 공정 속도(외주속도)로 화살표로 나타낸 시계 방향으로 회전된다.
참조 부호 2로 나타낸 것은 후술되는 자성 브러시형 접촉 대전 부재(20)를 사용하는 대전 장치이다. 드럼(1)은 회전 중에 대전 장치(2)에 의해 설정 극성 및 전위로 균일하게 대전된다[주 대전(primary charging)]. 본 실시예에서, -700V의 DC 대전 바이어스가 대전 바이어스 인가 전압원(S1)으로부터 자성 브러시형 대전 부재(20)의 전극 슬리브(22)로 인가되어, 회전 드럼(1)의 외측 외주면은 전하 주입 대전(charge injection charging)에 의해 -700V로 균일하게 대전된다.
회전 드럼(1)의 대전된 표면은, 레이저 다이오드, 다각형 거울 등을 포함하는 도시되지 않은 레이저 빔 주사기(scanner)로부터 공급되는 소정의 화상 정보를 나타내는 시계열 전기 디지털 화소 신호(time series electrical digital pixel signal)에 따라 세기가 변조된 레이저 빔(L)에 의해 주사되고 이에 노출된다.
정전 잠상(electrostatic latent image)은 자성 1성분 절연 토너[음화 토너(negative toner)]를 사용하는 역 현상 장치(3)에 의해 토너 화상으로 현상된다. 참조 부호 3a로 나타낸 것은 16㎜의 직경을 가지고 자석(3b)을 수납한 비자성 현상 슬리브이다. 음화 토너는 현상 슬리브(3a)상에 인가되고, 현상 슬리브(3a)는 드럼(1) 표면으로부터 300μ의 고정 거리를 가진 채로 드럼(1)과 동일한 속도로 회전되며, 슬리브(3a)에는 현상 바이어스 전압원(S2)으로부터 현상 바이어스 전압이 공급된다. 상기 전압은, 슬리브(3a)와 감광 드럼(1) 사이의 간극 내에서 점핑 현상을 수행하도록, 1800㎐의 주파수와 1600V의 피크 대 피크 전압을 가지고 직사각형 파형의 -500V로 바이어스된 -500V의 DC 전압이다.
다른 한편으로는, 기록재로서의 전사재(P)는 도시되지 않은 시트 이송부로부터 공급되고, 설정 압력으로 회전 드럼(1)에 가압 접촉된 접촉 전사 수단으로서 106내지 109Ω의 중간 저항을 갖는 전사 롤러(4)와 회전 드럼(1) 사이에 형성된 가압 접촉납부(nip portion)(전사부)(T)로 설정 타이밍으로 이송된다. 설정 전사 바이어스 전압은 전사 바이어스 인가 전압원(S3)으로부터 전사 롤러(4)로 인가된다. 본 실시예에서, 롤러 저항치는 5x108Ω이고, 롤러에는 +2000V의 DC 전압이 공급된다.
전사부(T)로 도입된 전사재(P)는 전사부(T)를 통과하며, 이 동안에 토너 화상이 정전기력 및 압력에 의해 회전 드럼(1)으로부터 전사재(P)의 표면으로 전사된다.
이제 토너 화상을 갖는 전사재(P)는 드럼(1)의 표면으로부터 분리되고, 토너 화상이 기록재 상에 정착되는 열 정착식 등의 정착 장치(5)로 도입되며, 인쇄물로서 장치의 외부로 배출된다.
토너 화상이 전사된 후에 드럼의 표면은 클리닝 장치(6)에 의해 청소되어, 반복되는 화상 형성 작업을 위해 준비 상태가 되도록 잔류 토너와 같은 이물질이 드럼의 표면으로부터 제거되게 한다. 토너는 클리닝 블레이드(6a)에 의해 제거되고, 클리닝 장치(6) 내의 토너가 수용 시트(receptor sheet)에 의해 외부로 산포되지 않도록 한다.
본 실시예에서, 프린터는 4개의 공정 수단, 즉 드럼(1), 접촉 대전 부재(20), 현상 장치(3) 및 클리닝 장치(6)가 카트리지(30) 내에 내장된 공정 카트리지식(process cartridge type) 프린터이다. 참조 부호 31로 나타낸 것은 카트리지(30)를 위한 착탈안내 및지지 부재이다. 화상 형성 장치는 이러한 공정 카트리지식으로 제한되지 않는다.
(2) 감광 부재(드럼)(1)
본 실시예에서 사용되는 피대전 부재로서의 드럼(1)의 음전하 극성을 갖는 OPC 감광 부재이며, 30㎜의 직경을 갖는 알루미늄제의 전기적으로 접지된 드럼 기부(1a)와 기부 상의 제1 기능층 내지 제5 기능층을 포함한다.
기부 상의 제1 층은, 알루미늄 드럼 기부의 홈을 매끄럼게 하고 레이저 노출 빔의 반사에 기인한 무늬 결을 방지하는 역할을 하는 전기 전도성 기초층이다.
제2 층은 알루미늄 드럼 기부로부터 주입된 양전하가 감광 부재 표면 상에 인가된 음전하를 중성화하는 것을 방지하는 역할을 하는 양전하 주입층이다. 제2층은 약 1μ의 두께를 갖는 중간 저항층이다. 제2층의 저항은 아밀란(AMILAN; 일본국 도라이 가부시끼 가이샤로부터 입수할 수 있는 폴리아미드 수지 재료의 상표명) 수지 재료 및 메톡시메틸 나일론에 의해 조절된다.
제3층은 약 0.3μ의 두께를 가지고 수지 재료 내에 산표된 디사조 색소(disazo pigment)를 갖는 전하 생성층이다. 제3층은 레이저 노출을 받을 때 한 쌍의 양전하 및 음전하를 생성한다.
제4층은 폴리카보네이트 수지 재료 내에 산표된 히드라존(hydrazone)을 갖는 전하 전달층이며, P형 반도체이다. 따라서, 감광 부재 표면 상의 음전하는 제4층을 통해 이동할 수 없고, 전하 생성층에서 생성된 양전하만이 감광 부재 표면으로 전달될 수 있다.
제5층은 표면 전하 주입층으로서의 전하 주입층이고, 약간 경화된 아크릴 수지재료 내에 산표된 SnO2의 초미세 입자를 갖는 도포된 층이다. 특히, 제5층의 저항을 낮추기 위해 안티몬이 첨가된 약 0.03μ의 입자 크기를 갖는 SnO2입자는 70중량%의 양으로 수지 재료 내에 산표되어 있다. 따라서, 이렇게 마련된 페인팅 액체는 디핑(dipping)에 이해 약 2μ의 두께로 전하 주입층으로서 도포된다. 이렇게 함으로써, 감광 부재 표면의 체적 저항율은 전하 전달층만의 경우에서의 1x1015Ω·㎝로부터 1x1012Ω·㎝의 체적 저항율로 낮아진다. 전하 주입층의 체적 저항율은 1x109Ω·㎝ 내지 1x1015Ω·㎝인 것이 바람직하다. 체적 저항율은 시트형 샘플을 사용하여 100V의 전압으로 측정되고, 저항 셀 16008A가 연결된 YHP로부터 입수할 수 있는 고 저항계 4329A를 사용하여 측정되었다.
[(3) 대전 장치(2)]
[구조]
본 실시예의 대전 장치(2)에 있어서, 제2A도에 도시된 자성 브러시형 대전 부재(20)는 자석 롤러(21), 자석 롤러와 동축으로 된 외부 회전 가능 비자성 전극 슬리브(22), 자석 롤러(21)의 자력에 의해 전극 슬리브(22)의 외측 외주면 상으로 이끌린 자성 입자의 자성 브러시(23)를 포함한다. 자석 롤러(21)에 의해 제공된 전극 슬리브(22) 상의 자속 밀도는 800x104T(tesla)이다.
대전 부재(20)는 피대전 부재로서의 드럼(감광 부재)(1)과 평행하게 위치되어, 도시되지 않은 베어링 부분으로 지지된 자석 롤러(21)의 축(21a)에 의해 자성 브러시(23)가 드럼(1)이 표면과 접촉되도록 한다. 자석 롤러(21)는 회전될 수 없지만, 비자성 전극 슬리브(22)는 도시되지 않은 구동 수단에 의해 화살표로 나타낸 시계 방향으로 설정 외주 속도로 회전된다. 드럼(1)과 함께 형성한 대전 닙부(N)에서, 자성브러시(23)는 드럼(1)의 표면과 접촉하고, 전극 슬리브(22)는 닙부(N)에서 드럼(1)에 대해 대향 방향으로 회전된다.
특히, 전극 슬리브(22)상의 자성 브러시(23)는 드럼(1)에 대해 약 5㎜의 폭을 갖는 대전 닙부(N)를 형성하도록 1㎜의 두께를 갖는다. 본 실시예에서, 자성 브러시(23)의 자성 입자의 양은 약 10g이고, 전극 슬리브(22)와 드럼(1) 사이의 대전 닙부(N)의 간극은 약 500μ이다. 대전 바이어스는 대전 바이어스 인가 전압원(S1)으로부터, 자성 브러시(23)를 위한 전기 에너지 공급부로서 기능하는 전극 슬리브(22)로 인가된다.
따라서, 드럼(1) 및 전극 슬리브(22)는 회전되고, 설정 극성 및 전위의 대전 바이어스 및 전위가 인가되며, 이에 의해 자성 브러시(23)로부터 드럼(1) 표면의 전하주입층 내의 전기 전도성 입자 내로 전하 주입이 수행되어, 드럼(1)의 표면이 주입대전을 통해 설정 극성 및 전위로 대전되도록 한다.
자성 브러시(23)와 드럼(1) 사이의 외주 속도비는 다음과 같이 정의된다.
외주 속도비(%)
역방향 회전이 사용될 때 자성 브러시(23)의 외주 속도는 음의 값을 갖는다.
-100%의 외주 속도비는 자성 브러시(23)가 휴지 상태에 있음을 의미하며, 따라서 드럼 표면에 접촉된 자성 브러시(23)의 형태는 생성된 화상 위에 있게 되어 대전 결함을 초래하는 것으로 나타난다. 정방향 회전의 경우에, 자성 브러시(23)의 회전 속도는 역방향의 경우에서와 동일한 외주 속도를 제공하기 위해 증가되어야 한다. 자성 브러시(23)가 드럼과 동일 방향으로 저속으로 접촉된 경우에, 자성 입자는 드럼 상에 퇴적되겨 한다. 따라서, 외주 속도비는 양호하게는 -100%이하이며, 본 실시예에서는 -150%이다.
[대전 원리 (제2도)]
제2도를 참조하여, 전하 주입 대전의 윈리에 대해 설명하기로 한다. 제2A도는 자성 브러시형 대전 부재(20)가 표면에 접촉되어 전압이 인가될 때 피대전 부재로서의 감광 부재(드럼)(1)의 층 구조를 개략적으로 도시하며, 제2B도는 등가 회론를 도시한다.
참조 부호 11로 나타낸 것은 드럼(1)의 알루미늄 드럼 기부이고, 참조 부호 12로 나타낸 것은 전하 전달층(제4층)이며, 참조 부호 13으로 나타낸 것은 표면에 있는 전하 주입층(제5층)이고, 참조 부호 13a로 나타낸 것은 전하 주입층 내의 전기 전도성 입자(SnO2)이다. 전술한 바와 같이, 드럼 기부(11)와 전하 전달층(12) 사이에는, 제1층 내지 제3층, 즉 기초층, 양전하 주입층 및 전하 생성층이 있지만, 이들은 도면에서 생략되었다.
전하 주입 대전에 있어서, 전하 주입은 1x104내지 1x107Ω을 갖는 중간 저항접촉 대전 부재(20)에 의해 1x109내지 1x1015Ω·㎝의 중간 체적 저항율을 갖는 피대전 부재(감광 부재)의 표면에 대해 수행된다. 본 실시예에서, 전하는 전하 주입층(13) 내의 전기 전도성 입자(13a)에 공급되어 대전을 수행하도록 한다. 제2B도의 등가 회로에 도시된 바와 같이, 전하 전달층(12)은 유전체 재료로서 기능을 하고, 접촉 대전 부재(20)는 알루미늄 드럼 기부(11) 및 전하 주입층(13) 내의 전기 전도성 입자(13a)로 이루어진 전극에 의해 각각 구성된 미세한 축전기를 대전시키는 것으로 간주된다. 여기에서, 전기 전도성 입자(13a)는 서로로부터 전기적으로 독립적이어서, 일종의 미세한 부유 전극을 형성하도록 한다. 거시적으로, 감광 부재 표면은 균일하게 대전된 것처럼 보이지만, 실제로는 대량의 대전된 미세 전기 전도성 입자(SnO2)가 감공 부재 표면을 덮고 있다. 따라서, 화상 노출이 수행될 때, SnO2입자가 전기적으로 독립적이므로 정전 잠상은 보유될 수 있다.
[자성 입자]
자성 브러시(23)를 구성하는 자성 입자로서 예컨대 다음의 것이 고려된다.
자철광과 같은 자성 분말 재료와 수지 재료의 반죽된 혼합물 또는 저항치 제어를 위해 전기 전도성 탄소 등이 추가된 혼합물이 입자로 형성된 것과, 소결된 자철광 또는 페라이트, 또는 저항치의 제어를 위해 환원 또는 산화된 것과, 저항 조절 코팅 재료(예컨대, 페놀 수지 내에 산포된 탄소)로 코팅된 상기 자성 입자, 또는 저항치를 적당한 레벨로 조절하도록 금속으로 도금된 상기 자성 입자.
자성 입자의 저항치에 대해서는, 저항치가 매우 높다면 전하는 피대전 부재로서의 드럼 내로 균일하게 주입되지 않아 결과적으로 흐린 화상을 초래한다. 저항치가 매우 높고 드럼 표면이 기공(pin hole)을 갖는다면, 전류는 집중적으로 기공으로 흘러 전압 강하를 초래하며, 따라서 대전 닙 형태의 대전 결함을 초래한다. 전술한 것을 고려하면, 자성 입자의 저항치는 양호하게는 1x104내지 1x1012Ω이다. 자성 입자의 저항치는 다음과 같이 측정되었다. 전압이 인가될 수 있는 금속 셀(바닥 면적이 227㎟)내에 2g의 자성 입자가 배치되어, 자성 입자가 6.6㎏/㎠의 압력으로 가압되고 나서, 1 내지 1000V의 전압이 인가되었다.
자성 입자의 자기적 성질에 대해서는, 자성 입자가 드럼 상에 퇴적되는 것을 방지하는 자기 구속력은 양호하게는 크며, 따라서 보다 큰 50 A·㎡/㎏의 포화 자기화가 바람직하다.
본 실시예에서 실제로 사용된 자성 입자는 30μ의 평균 입자 크기와, 1x106Ω의 저항치와, 58A·㎡/㎏의 포화 자기화를 갖는다.
[전극 슬리브(22) (제3도)]
제3도는 대전 부재(20)의 단부에서의 개략적인 길이 방향 단면도이다. 본 실시예에서, 50μ의 두께를 갖는 환상(링형) 폴리에스테르 테이프가 대전 부재(20)의 자성브러시(23)를 위한 전기 에너지 공급부인 전극 슬리브(22)의 길이 방향단부[자석 롤러(21)의 단부에 대응하는 근접부]에 인접하여 외측 외주면에 접합된다. 이러한 방식으로, 환상 절연부(24)가 제공된다. 제3도에 도시되지 않았지만, 전극 슬리브(22)의 다른 단부에도 마찬가지로 적용된다.
절연부(24)는 절연부(24)가 적당한 정도의 여유 부분을 포함하여 단부의 내측으로부터 자성 입자가 대전 닙부(N)에 의해 밀리는 위치까지 연장된다면 충분하다. 본 실시예에서, 대전 부재의 길이 방향 단부의 내부 5㎜로부터 20㎜폭 범위는 절연부(24)로서 구성된다.
절연부(24)의 내측 여유 정도는 자성 입자의 저항에 따라 상이하다. 자성 입자의 저항이 낮을 때, 자성 입자를 통해 흐르는 전류는 크게 도는 경향이 있어, 감광 부재에 접촉된 자성 입자의 전위가 감쇠되지 않게 한다. 따라서, 자성 브러시 단부에서의 자성 입자의 전위는 충분히 낮지 않아, 결국 자성 입자에 주입된 전하 및 이에 의해 제공된 전위에 의해 형성된 전기장으로 인해 자성 입자는 감광 부재 상에 퇴적된다. 이러한 이유 때문에, 자성 브러시의 절연부의 길이는 양호하게는 길게된다. 다른 한편으로는, 자성 입자의 저항이 다면, 감광 부재에 접촉된 자성 입자의 전위는 자성 입자의 저항에 의해 감쇠되려고 하여, 자성 브러시의 절연부의 길이가 단축될 수 있게 한다. 따라서, 자성 브러시의 절연부의 길이는 양호하게는 자성 입자의 저항에 따라 결정된다.
통상적으로, 드럼(감광 부재)의 표면이 대전된 전위에 있지 않은 비대전 구역인 외부 구역(D)으로 밀린 자성 입자는 자성 입자 내로 주입된 전하로 인한 전기력에 의해 대전 닙부(N)에서 드럼(1)의 표면에 퇴적된다. 전술산 구조를 사용함으로써, 자성 입자와 전극 슬리브(22) 사이의 전기 전도성 경로가 파괴되어, 자성 입자내로의 전하의 주입을 방지하도록 하며, 따라서 드럼(1) 상에의 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있다.
본 실시예에서, 절연부(24)는 폴리에스테르 테이프를 접착시킴으로써 제공되지만, 다른 구조가 사용될 수 있다. 예컨대, 슬리브는 우레탄, 아크릴 또는 페놀에 의해 코팅되거나 다른 절연 수지 재료가 인가될 수 있다.
슬리브가 폴리카보네이트의 링 형태인 절연 수지 캡이 씌워질 때 동일한 이점이 제공될 수 있다.
[실시예 2(제4도, 제5도)]
대전 부재의 다른 실시예를 설명하기로 한다.
본 실시예의 특징은 자성 브러시 단부에 대응하는 부분이 부유 전극부(223)라는 것이다. 이에 의해, 자성 입자와 드럼 표면 사이의 전위차는 제거될 수 있어서, 길이 방향 단부로 밀리는 자성 입자의 드럼 상에의 퇴적이 방지될 수 있다.
제4도에 도시된 바와 같이, 전극 슬리브(22)는 길이 방향 단부로부터, 알루미늄제의 부유 전극부(223), 폴리카보네이트제의 절연부(222) 및 전기 에너지를 자성 브러시에 공급하기 위한 알루미늄제의 전기 에너지 공급부(221) 및 전기 에너지를 자성 브러시에 공급하기 위한 알루미늄제의 전기 에너지 공급부(221)에 의해 구성된다. 다른 측면에 있어서는 실시예 1과 동일하다. 절연부(222)의 폭이 너무 작다면, 부유 전극부(223)의 전위는 자성 입자(23)를 통해 전극 슬리브(22)와 근접하게 되어 부유 전극이 충분히 부유되지 않게 한다. 본 실시예에서, 절연부(222)의 폭은 5㎜로 제한된다. 상기 폭은 양호하게는 자성 입자의 저항에 따라 변경된다. 특히, 저항의 감소에 따라 증가된다.
상기 실시예 1에서, 자성 브러시(23)의 단부에 대응하는 전극 슬리브(22)의 부분은 절연부(24)로서 형성되고, 따라서 절연부(24)는 자성 입자의 터보 전기 전하로 인한 전위를 국부적으로 얻을 수 있어, 그 결과 절연부(24)와 감광 부재 표면 사이에 전위차가 형성된다. 이러한 것이 일어나면, 자성 입자는 드럼(1) 상으로 퇴적될 수 있다. 본 실시예에서, 부유 전극부(223)는 전극 슬리브 단부에서 전기 에너지 공급부(221)로부터의 별개의 전극으로서 마련되어, 자성 입자의 터보 전기 전하로 인한 국부 전위가 감소될 수 있게 한다. 자성 브러시(23)의 단부에서의 자성 입자의 전위는 드럼(1)과 동일하다. 따라서, 자성 입자 내로의 전하 주입은 방지될 수 있어 드럼에의 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있게 한다.
부유 전극부(223)의 구조는 제4도에 도시된 것으로 제한되는 것이 아니라, 제5도에 도시된 바와 같이 부유 전극부(223)는 부유 전극부와 전극 슬리브 사이에서 절연재의 하나의 층인 절연부(24)를 가진 채로 전극 슬리브(22)의 표면 상에 형성될 수 있다. 여기에서, 절연성을 보장하기 위해, 절연부(24)는 길이 방향으로 길이 방향 중심을 향해 부유 전극부(223)를 지나 약 5㎜만큼 보다 길게 되어 있다. 절연층인 절연부(24)는 실시예 1과 동일한 방식으로 형성되고, 부유 전극부(223)는 탄소가 산포된 우레탄 등과 같은 전기 전도성 피복을 절연층인 절연부(24)상에 딥-코팅함으로써 형성되거나, 동일 이점을 가진 채로 전기 전도성 테이프를 접합 또는 접착시킴으로써 형성될 수 있다.
[실시예 3]
본 실시예는 AC 전압이 자성 브러시에 인가될 때 드럼 상으로의 자성 입자의 퇴적 방지에 유리하다.
대전 부재에 인가된 전위는 대전 부재가 드럼에 접촉함에 따라 주어질 수 있으므로, 자성 브러시의 사용에 의한 대전은 DC 전위의 인가에 의해 수행된다.
본 실시예는 특히 제1도에 도시된 클리닝 장치(6)를 사용하지 않는 클리너가 없는 공정에 효과적이다.
이러한 공정에서, 드럼 클리너가 생략되어서 잔류 토너가 대전기 내로 혼합될 수 있지만, 자성 입자의 접촉은 매우 안정하며, 따라서 도입된 토너는 대전기 내에서 제거되어 드럼으로 귀환될 수 있어, 반복 인쇄 작업이 가능하게 한다. 잔류 토너를 현상 작업 중에 현상 장치(3)에 의해 최종적으로 제거하는 것이 바람직하다. 이때, 토너의 영향을 방지하기 위해, 자성 브러시에는 AC 전압이 중첩된 바이어스 전압이 공급딜 수 있다. AC 전압이 중첩될 때, DC 전압 인가의 경우에서 보다 큰 전위차가 대전 부재(슬리브)와 드럼 사이에 생성되고, 따라서 자성 입자의 퇴적과 관련하여 결점이 발생한다.
자성 브러시의 단부와 드럼 사이의 전위차가 제거되어서 자성 브러시로부터 드럼으로의 자성 입자의 퇴적을 감소시키는 것이 바람직하다. 클리너가 없는 공정에서, 제3도의 대전 장치가 사용된다면, 자성 브러시 단부 및 드럼은 자성 브러시 단부에서 슬리브 상의 환상 절연층인 절연부(24)의 설비에 의해 전기적으로 절연되고, 따라서 드럼 상으로의 자성 입자의 최적을 감소시킨다. 클리너가 없는 공정에서, 제4도의 대전 장치가 사용된다면, 자성 입자의 퇴적은 자성 브러시 단부에서 절연부(222)를 통해 전극부(223)를 장착함으로써 더욱 더 감소될 수 있다. 그러나, 이러한 구조에 의하면, 자성 브러시 구조체의 전위는 연속 작업에 따라 점차적으로 증가한다. 따라서, 장기간 사용시, 소량의 자성 입자가 드럼 상에 퇴적될 수 있다. 제6도에 도시된 바와 같이, 전극부(223)는 드럼 접지와 공통으로 만들어져서 퇴적이 방지될 수 있다. 전극부(223)를 전기적으로 접지함으로써, 자성 브러시의 전위는 단부를 향해 감소한다. 최종 전위는 드럼 접지에 근접하며, 자성 브러시와 드럼(드럼 표면은 브러시와 접촉되지 않음) 사이의 전위차는 제거된다. 따라서, 대전 작동이 게속 된다 할 지라도, 전위차가 발생되지 않아 퇴적도 발생되지 않는다.
마찬가지로 제7도의 구조에 대해서도 적용되고, 절연층인 절연부(24)는 슬리브(22)와 전극부(223) 사이에 개재되며, 전위는 드럼 접지와 함께 공통으로 이루어지고, 이에 의해 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있다.
제6도 및 제7도의 브러시 단부와 전극부 사이의 위치 관계에 대해 상세히 설명하기로 한다. 본 실시예에서, 치수들은 드럼 직경이 30㎜이고, 슬리브 직경이 16㎜이며, 드럼과 슬리브 사이의 간극이 0.5㎜이다. 브러시 극단부 3 내지 5㎜의 구역에서 자성 입자는 산재되어 있어서, 자성 입자들은 전기장에 의해 쉽게 영향을 받으며, 단부 전극 경계(F, 제6도 및 제7도)를 자성 브러시 극단부로부터 적어도 5㎜이상의 위치에 설정하는 것이 바람직하다.
이러한 구조로 인해, 자성 브러시 단부에서의 퇴적은 AC 전압이 DC 전압 상에 중첩될 지라도 방지될 수 있다.
제6도 및 제7도의 대전 장치는 대전 부재에 AC 전압 없이 DC 전압만이 공급될 때도 사용될 수 있다.
[실시예 4]
본 실시예에서, 자성 브러시 단부에 대응하는 위치에서의 드럼의 표면은 전기 전도성 부재(전극부)(101)에 의해 형성된다. 전극부(101)는 전극 슬리브(22)와 동일한 전위를 갖도록 자성 브러시(23)의 단부에 접촉되어서, 자성 입자가 대전 닙부(N)에서 길이 방향으로 외부 구역(D)으로 밀릴 지라도, 어떠한 전하도 자성 입자 내로 주입되지 않고 어떠한 전기력도 인가되지 않아 드럼 상으로의 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있도록 한다.
특히, 제8도에 도시된 바와 같이, 전도성 재료로 된 전극부(101)는 드럼(1)의 단부에 형성된다. 전극부(101)의 위치는, 자성 입자가 자성 브러시(23)의 넓은 부분으로부터 대전 닙부(N)의 외부 구역(D)으로 확장하는 위치에 전극부가 있다면 만족스럽다. 안전성을 위해, 본 실시예에서 전극부(101)는 자성 브러시(23)의 단부의 약간 내측으로부터 형성되며 폭은 15㎜이다. 전극부(101) 아래에는 전하 전달층과 같은 절연층이 있고, 전극부(101)는 드럼 기부(11)로부터 전기적으로 절연된다. 폴리카보네이트 등의 절연층의 설비에 의해, 전극부(101) 아래의 층은 보다 효과적이 된다.
본 실시예에서, 페인트의 팁-코팅에 의해 형성된 전극부(101)는 상온에서 건조된 아크릴 수지 재료 내에 산표된 탄소 흑연을 포함하고, 약 20μ의 두께를 갖는다. 전극부(101)의 구조는 이러한 예로 제한되지 않는다. 상기 페인트는, 전기 전도성이고, 자성 입자에 대한 활주 특성이 양호하며, 쉽게 긁히지 않고, 50℃이하의 온도, 양호하게는 상온 하에서 건조되며, 페인트의 용제가 드럼을 오염시키지 않는다면 어떠한 것도 무방하다. 아크릴 수지를 제외하고, 우레탄 수지 재료, 페놀 수지 등이 사용될 수 있다. 탄소 흑연 대신에 카본 블랙, 산화 주석 또는 다른 금속 산화물이 사용될 수 있다. 코팅 방법은 디핑 외에도 롤러 코팅 방법 및 분무 코팅 방법일 수 있다.
전극부(101)의 전기 전도성 부재에 대해서는, 알루미늄, 구리 등의 금속 포일(foil)이 접합될 수 있고, 탄소가 산포된 EPDM의 전기 전도성 고무의 박층 튜브가 피복될 수 있다. 전극부(101)의 두께가 너무 크다면, 자성 입자는 전극부(101)의 단차부에 퇴적되며, 따라서 전극부의 강도가 보장되는 한 작은 것이 바람직하다. 이러한 관점으로부터, 전극부(101)를 증착법을 통해 형성하는 것이 가장 바람직하다. 특히, 길이 방향으로 대전 구역은 마스킹되고, 전극부(101)를 회전시키면서 구리가 진공 증착법에 의해 0.5μ의 두께까지 증착된다. 증착법에 의해, 전기 전도성 전극은 실리콘 드럼 표면 상에 형성될 수 있어, 이러한 구조가 실리콘 드럼에도 사용된다.
전술한 구조로 인해, 대전 닙부(N) 외부로 밀린 자성 입자에 접촉된 드럼의 상단부는 전기 전도성이 되고 자성 입자와 동일한 전위를 가져, 드럼 상에서의 자성입자의 퇴적이 방지될 수 있게 한다. 상기 실시예 1,2 및 3에 있어서, 전극 슬리브(22) 측면은 길이 방향 단부에서의 전기 구조를 결정하고, 따라서 자성 입자가 대전 닙부(N)의 길이 방향으로 외부로 확장된다면 소량의 확장된 자성 입자가 드럼 상으로 퇴적된다. 본 실시예에 따르면, 드럼(1)에 인접한 단부는 자성 브러시(23)와 동일한 전위를 가져서, 자성 입자가 확장될 지라도 확장된 부분은 동일한 전위를 가지므로 자성 입자는 드럼 상에 퇴적되지 않는다. 장치가 장기간 사용될 지라도, 자성 입자는 감소되지 않아 대전 특성이 안정하게 되도록 한다.
참조 부호 11로 나타낸 것은 드럼(1)의 알루미늄제 드럼 기부이고, 참조 부호12로 나타낸 것은 전하 전달층(제4층)이며, 참조 부호 13으로 나타낸 것은 전하 주입층(제5층)이다. 드럼 기부(11)와 전하 전달층(12) 사이에는, 제1층 내지 제3층, 즉 기초층, 양전하 주입층 및 전하 생성층이 있지만 이들은 도면에서 생략되었다. 본 실시예의 감광 부재는 실시예 1 내지3의 대전 부재와 함께 사용될 수 있다.
[실시예 5]
본 실시예에서, 드럼 기부(11)로부터 전기적으로 절연된 전기 전도성 부분(전극부)(102)은 피대전 부재로서의 드럼(1)의 길이 방향 단부에서 자성 브러시 단부와 대응하여 드럼(1)에 형성된다. 이렇게 함으로써, 전극부(102)는 자성 브러시(23)와 동일한 전위를 가져, 자성 입자가 드럼에 퇴적되는 것을 전기적으로 방지하도록 한다.
특히, 제9도에 도시된 바와 같이, 드럼(1)은 알루미늄제의 전극부(102), 폴리카보네이트제의 절연부(103), 전하 전달층(12), 전하 주입층(13) 등을 포함하는 드럼부(104)에 의해 구성된다. 기초층, 양전하 주입층 및 전하 생성층은 도면에서 생략되었다. 접지에 대해서는, 드럼 기부(11)는 제9도에 도시된 구조로 되어 있다.
실시예 4에서, 전극부(101)는 본 실시예와 비교할 때 장시간 운전시 비교적 쉽게 긁혀, 소량의 자성 입자가 드럼 상에 퇴적된다. 그러나, 본 실시예의 구조로 인해, 전극부(102)는 다소 긁힐 지라도 손상되지 않는다. 따라서, 장시간 운진시에도 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있다. 자성 입자가 감소되지 않아 양호한 대전 특성이 유지될 수 있도록 한다. 본 실시예의 감광 부재는 실시예 1 내지 3의 대전 부재와 함께 사용될 수 있다.
[실시예 6]
본 실시예에서, 대전 부재(20)는 제10도의 (a)에 도시된 바와 같이 자성 브러시(23)를 형성하도록 자성 입자가 자석 롤러(21A)에 직접 퇴적되고 자석 롤러가 회전되도록 되어 있다. 고정 자석 롤러(21A)와 회전 전극 슬리브(22)의 조합에 의하면, 자속 밀도는 자석 롤러(21A)와 슬리브(22) 표면 사이의 거리에서 감소하는 경향을 나타낸다. 그러나, 자성 브러시(23)를 형성하도록 자석 롤러(21A) 표면상에 직접 자성 입자를 퇴적시킴으로써 드럼으로의 자성 입자의 퇴적은 상당히 개선될 수 있다.
사용된 자석 롤러(21A)는 15㎜의 직경을 가지고, 8개의 자극을 가지며, 롤러 표면 상에서의 최대 자속 밀도는 1500 가우스(gauss)였다. 자성 입자의 체인의 높이는 자기판에 의해 1.5㎜로 제한되고, 자석 롤러(21A)와 드럼(1) 사이의 간극은 롤러들에 의해 500μ으로 유지된다.
자석 롤러(21A)의 단부는, 자성 입자가 길이 방향으로 외측으로 확장되는 것을 방지하도록, 밀봉 부재(26)에 의해 밀봉된다. 제10도의 (a)에서, 자성 브러시(23)의 자성 입자는 밀봉 부재(26)와 자석 롤러(21A) 사이에서 자석 롤러(21A)의 모든 원주상에 걸쳐 존재하지만, 실제로 자성 입자는 밀봉 부재(26)가 있는 지점에는 존재하지 않는다. 밀봉 부재(26)는 제10도의 (b)에 도시된 바와 같이 자성 입자의 확장을 방지하도록 자석 롤러의 회전 방향으로 길이 방향으로 내측을 향해 경사지며, 이에 의해 자성 입자는 내측으로(화살표 E) 귀환되고, 따라서 이러한 것은 바람직하게 된다. 자성입자에 관해서는, 15g의 실시예 1의 자성 입자가 사용되었다. 장치는 대전 부재(20)를 제외하고는 실시예 1과 동일하다.
본 실시예에 사용된 자석 롤러(21A)는 절연 부재이고, 롤러(21A)의 표면(27)은 자성 브러시(23)에 전압을 인가하도록 전도성을 갖도록 만들어진다. 롤러 표면이 전도성을 갖도록 하는 방법에 대해서는, 제10도의 (c)에 도시된 바와 같이, 밀봉 부재(26)에 의해 조절된 자성 브러시(23)의 단부로부터 길이 방향으로의 내측 부분은 전도성을 갖도록 만들어졌다. 이렇게 함으로써, 자석 롤러(21A)의 단부는 절연되어, 자성 브러시(23)가 대전 닙부(N)에서 외측으로 확장될 지라도 대전을 위한 전기 전도 경로가 단절되게 하고 전하가 자성 입자 내로 주입되지 않도록 한다. 따라서, 드럼으로의 자성 입자의 퇴적은 방지된다.
자석 롤러(21A)의 표면이 전도성을 갖도록 하는 특정 방법에 관해서는, 롤러의 단부만이 마스킹되고, 전기 전도성 페인트에서 딥 코팅이 수행된다. 여기에서 사용된 전기 전도성 페인트는 우레탄 내에 탄소 흑연을 산포시킴으로써 저함 강하 처리를 받는다.
본 실시예에서, 자성 브러시(23)의 단부는 밀봉 부재(26)에 의해 조절되어, 자기 구속력이 자성 브러시(23)의 외부에 작용한다. 따라서, 실시예 1과 비교할 때, 자성브러시(23)의 자성 입자는 용이하게 대전 닙부(N) 내에서 확장되려고 한다. 그러나, 전술한 구조에 의해, 드럼 상에서의 자성 브러시(23)의 자성 입자의 퇴적은 상당히 방지된다. 자성 입자의 퇴적은 실시예 4 및 5에서 설명된 바와 같이 드럼의 단부의 표면 상에서 전기 전도성 부분(101,102)을 사용함으로써 보다 더 방지될 수 있다. 따라서, 장시간의 운전 작업시 양호한 대전 특성이 유지될 수 있다.
본 실시예에서 사용된 자석 롤러(21A)는 절연 부재이므로 이러한 구조가 얻어진다. 전도성 자석이 사용될 때, 자석의 길이 방향 단부는 동일한 이점을 가진 채로 실시예 1의 전극 슬리브(22)의 단부에서처럼 절연 부재(24)로 된 것일 수 있다.
전술한 모든 자성 브러시형 접촉 대전 부재는 회전 무단 벨트 부재를 사용하는 종류일 수 있다. 또한, 회전 불능 로드, 정사각형 바아, 길이가 긴 판 등일 수 있다.
[실시예 7(제11도, 제12도)]
실시예 7 내지 9에서, 대전 장치(2)는 제1 대전 부재(20) 및 제2대전 부재(탄성부재)(40)를 포함한다. 화상 형성 장치에서 대전 장치를 제외한 구조는 실시예 1과 동일하며, 상세한 설명은 생략하기로 한다.
제11도의 (a) 및 (b)는 각각 제1 대전 부재(20)의 측단면도 및 제1 대전 부재(20)의 정단면도이며, 제12도의 (a) 및 (b)는 각각 화상 형성 장치의 개략도 및 대전 장치의 평면도이다. 대전 부재(20)는 대전 부재의 구조 및 [제3도의 대전 부재에서 절연부(24)가 없는] 구조를 제외하고는 실시예 1과 동일하며, 상세한 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예의 프린터는 프린터의 주조립체에 탈착 가능하게 장착될 수 있는 카트리지(30)를 사용하는 공정 카트리지형이며, 카트리지(30)는 드럼(1), 대전 장치(2), 제1 및 제2 접촉 대전 부재(20,40), 현상 장치(3) 및 클리닝 장치(6)(4개의 공정수단)를 포함한다.
[예비 대전기(40)]
제12도에 도시된 제2 대전 부재(40)는, 드럼의 회전 방향(이동 방향)에 대해 제1 대전 부재로서의 자성 브러시형 접촉 대전 부재(20)의 상류측에서 대전 부재(20)의 자성 브러시(23)의 길이 방향 단부에 대응하는 위치에서, 특히 클리닝 장치(6)와 제1대전 부재(20) 사이에서 드럼에 접촉된다.
제2 대전 부재(40)는 본 실시예에서 전기 전도성 스펀지(탄성 부재)이다. 제2대전 부재(40)에 대해, 자성 브러시형 대전 부재(20)의 전극 슬리브(22)에 인가되는 동일한 전압이 대전 바이어스 인가 전압원(S1)으로부터 인가된다. 제2대전 부재(40)를 위한 전기 에너지 공급 타이밍은 제2e전 부재(40)와 제1대전 부재(20) 사이의 위치 차이에 대응하여 빨라진다.
제2 대전 부재(40)는, 자성 브러시형 대전 부재(20)의 자성 브러시(23)의 길이 방향 단부에 대응하는 드럼의 표면을, 제1대전 부재(20)에 의해 대전될 드럼의 표면과 동일한 전위로 대전시킨다. 제2 대전 부재(40)에 의해 대전되는 길이 방향 구역은, 내측 약 5㎜로부터 제1 대전 부재(20)의 대전 닙부(N)에 의해 밀린 자성 입자가 확장되는 구역까지, 특히 단부 여유 부분을 포함하여 총 25㎜이다.
이러한 구조로 인해, 제1 대전 부재(20)에 의해 대전될 드럼의 표면 구역의 자성 브러시 단부에 대응하는 드럼의 표면 부분은 제1 대전 부재(20)에 의해 마련된 드럼의 표면과 동일한 부분에 대하여 미리 대전되며, 따라서 상기 부분은 자성 입자와 동일한 전위를 가져 드럼(1) 상에서의 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있게 한다. 따라서, 자성 입자(23)의 양은 감소되지 않아 연속 작업시에도 안정된 대전 특성이 제공될 수 있다.
제2 대전 부재(40)인 전기 전도성 스펀지는 1x106Ω·㎝의 조절된 저항치를 갖는 EPDM 발포 부재이지만, 이것으로 제한되는 것은 아니며, 전기 전도성 물질로서 탄소 또는 금속 산화물이 산포된 우레탄, 실리콘 고무, NBR, EPM, CR, SBR 등의 발포 부재가 사용될 수 있다.
제2 대전 부재(40)는 스펀지와 같은 탄성 부재가 아니라 예컨대 강성의 고무일 수 있다. 그러나, 스펀지와 같은 탄성 부재는 드럼(1)과의 접촉이 안정되어 전하의 균일한 주입이 성취될 수 있으므로 보다 바람직하다.
본 실시예에서, 제2 대전 부재(40)의 탄성 부재로서 스펀지가 사용되었다. 중간 저항을 갖는 펠트(felt)가 동일한 이점을 가진 채로 사용될 수 있다.
[실시예 8(제13도)]
본 실시예는 상기 실시예 7의 변경예이고, 제2대전 부재(40)로서 섬유 브러시(furbrush)가 사용된다. 다른 구조는 실시예 7과 동일하다. 섬유 브러시는 탄소가 산포된 레이온 섬유이고, 5x106Ω·㎝의 저항치와, 300 데니어(denier)/50섬사(filament)와, 1㎟당 155의 밀도를 갖는다.
섬유 브러시의 재료는 일본국 유니찌까 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 REC-B, REC-C, REC-M1, REC-M10과, 도라이 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 클라카보(CLACARBO)와, 미쯔비시 레이온 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 탄소 산포 레이온 또는 로발(ROVAL)등일 수 있다. 주변 조건 가능한 REC-B, REC-C, REC-M1, REC-M10이 바람직하다.
본 실시예에서도 실시예 7과 동일한 이점이 제공된다. 제2 대전 부재(40)는 섬유 브러시이므로, 드럼(1)과의 접촉이 부드러워서, 요구되는 토크가 감소될 수 있다.
[실시예 9(제14도)]
본 실시예에서, 대전 부재(40)는 토너가 클리닝 장치(6)의 단부에서 누설되는 것을 방지하도록 밀봉을 위한 단부 밀봉 부재로 마련된다. 밀봉 구조를 갖는 제2 대전 부재(40)는 전기 전도성 스펀지이고, 제1 대전 부재로서 기능하는 자성 브러시형 대전 부재(20)의 자성 브러시(23)의 길이 방향 단부에 대응하는 드럼의 위치[제12도의 (b)]에 접촉된다. 특히, 제14도의 (b)에 도시된 바와 같이, 단부 밀봉 부재로서도 기능하는 제2 대전 부재(40)로서의 전기 전도성 스펀지는 클리닝 장치(6)의 블레이드지지 부재(61) 상에 지지된 우레탄제 클리닝 장치 블레이드(6A)의 길이 방향 단부 각각에 마련된다. 클리닝 수단에 의해 제거된 토너를 수용하기 위한 수용 시트(6B)는 전기 전도성 스펀지와 부분적으로 중첩된다.
본 실시예에서 사용된 전기 전도성 스펀지는 탄소가 산포된 edpm 발포 부재로서, 즉 실시예7에 사용된 것과 동일하다. 실시예 8에 사용된 섬유 브러시도 사용 가능하지만, 본 경우에는 토너의 누설을 방지하기 위해 고밀도의 재료가 바람직하다. 전기 전도성 펠트, 직물 등을 사용하여 유사한 효과가 제공될 수 있다.
이러한 구조에 의해, 실시예 7 및 8과 마찬가지로, 길이 방향 단부에서의 실시예의 표면은 클리닝 장치(6)를 위한 단부 밀봉 부재로서도 기능하는 전기 전도성 스펀지에 의해 제1 대전 부재와 동일한 전위로 미리 대전된다. 따라서, 길이 방향 단부에 대응하는 드럼의 부분은 자성 입자와 동일한 전위를 가져서 드럼 상에서의 자성 입자의 퇴적을 방지한다.
본 실시예의 구조에 의해, 제2 대전 부재(40)는 클리닝 장치(6)의 단부 밀봉 부재로서도 기능하며, 따라서, 제2 대전 부재(40)를 위한 추가 공간을 제공할 필요가 없게 되어 장치의 소형화를 성취한다. 제1 대전 부재는 실시예 1 내지 3 및 6에서 의 대전 부재일 수 있다. 감광 부재는 실시예 4 및 5와 동일한 것일 수 있다.
실시예 7 내지 9에서의 제1 대전 부재로서의 자성 브러시형 대전 부재(20)는 무단 벨트 부재일 수 있다. 또한, 로드, 정사각형 바아, 길이가 긴 판 등일 수 있다. 자성 브러시(23)는 전도성을 갖는 표면을 구비한 자석 부재로 자성 입자를 직접 끌어당김으로써 형성될 수 있다. 제2 대전 부재(40)는 회전 부재일 수 있다.
실시예 7 내지 9에서의 제1 대전 부재는 실시예 1 내지 3 및 6에서의 대전 부재일 수 있다. 실시예 7 내지 9에서의 감광 부재는 실시예 4 및 5에서의 감광 부재일 수 있다.
[실시예 10(제15도)]
대전 장치의 다른 예를 설명하기로 한다. 실시예 10 내지 13에서, 탄성부재가 제2 대전 부재로서 제1 대전 부재의 길이 방향 단부에 마련된다. 대전 장치를 제외한 화상 형성 장치의 구조는 실시예 1과 동일하므로 간결히 하기 위해 상세한 설명은 생략하기로 한다.
제15도를 참조하여 본 실시예에서의 대전 부재의 단부를 설명하기로 한다. 제15도는 대전 부재(20)의 길이 방향 단면도이고, 전기 전도성 스펀지 Q분(탄성 부재)(41)이 대전 슬리브(22)의 길이 방향 단부[자석(21)의 단부]에 마련된다. 제15도에서, 일 단부만이 도시되었으며, 스펀지 부분(41)은 다른 단부에도 마련된다. 스펀지 부분(41)의 외경은 대전을 위해 충분한 닙을 제공하도록 대전 슬리브(22)의 16㎜의 외경보다 2㎜만큼 더 크다. 이후에, 스펀지 부분은 감광 부재(1)와 슬리브(22)사이에서 간극을 유지하도록 가압되어 스펀지 부분이 접촉부에서 8.5㎜의 반경을 갖게 한다. 감광 부재(1)와의 접촉은 스펀지 부분이 예컨대 강성의 고무일 때보다 스펀지와 같은 탄성 부재일 때 안정하게 되어, 균일한 전하 주입을 성취하도록 한다. 바꿔 말하면, 탄성 부재의 사용에 의해, 감광 부재(1)와의 균일한 접촉이 이루어져 전하가 균일하게 주입될 수 있게 한다. 여기에서, 사용된 스펀지는 탄소 산포에 의해 1X106Ω·㎝의 조절된 저항치를 갖는 EPDM 발포 부재이지만, 이것으로 제한되지 않으며, 전기 전도성 재료는 탄소 또는 금속 산화물 산포 우레탄, 실리콘 고무, NBR, EPM, CR, SBR 등의 발포 부재일 수 있다.
전술한 구조에 의해, 대전 부재(20)의 길이 방향 단부는 전기 전도성 스펀지 부분(41)에 의해 대전되어서, 감광 부재(1)는 자성 입자와 동일한 전위로 대전되어 감광 부재(1)로의 자성 입자의 퇴적이 방지될 수 있도록 한다. 스펀지 부분(41)은 자성 입자를 위한 밀봉 부재로서 기능을 하여 자성 입자가 대전 닙부(n)에서 길이 방향으로 외측으로 쉽게 이동되지 않도록 한다. 따라서, 자성 입자의 감소가 방지될 수 있어 장기간 사용시에도 안정한 대전 특성을 성취하게 한다.
본 실시예에서, 탄성 부재는 스펀지이지만, 중간 펠트의 사용으로 동일한 효과를 제공할 수 있다.
[실시예 11(제16도)]
본 실시예에서, 자성 브러시의 단부, 즉 대전 슬리브의 단부는 섬뮤 브러시이다.
특히, 제16도에 도시된 바와 같이, 대전 슬리브(22)의 단부에는 탄소 산포 레이온 섬유로 구성된 섬유 브러시(42)가 마련된다. 섬유 브러시(42)는 5X106Ω·㎝의 저항치와 300데니어/50 섬사와, 1㎟당 155의 밀도를 갖는다.
섬유 브러시의 재료는 유니찌까 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 REC-B, REC-C, REC-M1, REC-M10과, 도라이 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 SA-7과, 니혼 사노 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 썬더론(THUNDERRON)과, 가네보 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 벨트론(BELLTRON)과, 구라레 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 클라카보(CLACATBO)와, 미쯔비시 레이온 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 탄소 산포 레이온 또는 로발(ROVAL) 등일 수 있다. 주변 조건 변화에 대한 안정성 관점에서, 유니찌까 가부시끼 가이샤로부터 입수 가능한 REC-B, REC-C, REC-M1, REC-M10이 바람직하다.
이러한 구조에 의해, 대전 부재(20)의 외측 길이 방향 단부는 섬유 브러시(42)에 의해 대전되어서, 감광 부재(1)는 자성 입자와 동일한 전위를 가지며, 따라서 감광부재(1) 상에서의 자성 입자의 퇴적을 방지한다. 따라서, 자성 브러시(23)의 자성 입자의 감소가 방지될 수 있어, 장기간 사용시 대전 특성이 안정하게 되도록 한다.
섬유 브러시(42)의 사용에 의해, 드럼(1)과의 접촉이 부드럽게 되어 요구되는 토크가 감소되도록 한다.
[실시예 12(제17도)]
본 실시예에서, 감광 부재의 화상 영역에 대응하는 대전 부재의 부분은 자성 브러시이고, 상기 단부에는 고정(회전 불능) 전기 전도성 스펀지가 마련된다.
제17도는 특정 구조를 도시한다. 전기 전도성 스펀지(43)는지지 부재(44)에 고정되어 대전 슬리브(22)와의 접촉에 의해 전기를 공급하는 자성 입자와 동일한 전위를 가져서 감광 부재(1)를 대전시키도록 한다. 본 실시예에서 사용된 전기 전도성 스펀지(43)는 실시예 10에 사용된 EPDM 발포 부재이다. 전기 전도성 스펀지(43)는 실시예 11에 사용된 섬유 브러시(42)일 수 있다.
이러한 구조에 의해, 실시예 10 및 11과 마찬가지로, 대전 부재(20)의 외측 길이 방향 단부는 전기 전도성 스펀지(43)에 의해 대전되어, 감광 부재가 자성 입자와 동일한 전위를 갖도록 하며, 따라서 감광 부재(1) 상으로의 자성 입자의 퇴적을 방지한다. 실시예 10 및 11에서, 단부의 스펀지 부분(41) 또는 섬유 브러시(42)와 같은 탄성 부재는 자성 브러시와 함께 유니트로서 회전된다. 자성 입자는 대전 닙부로부터 멀리 이격된 위치에서 탄성 부재의 표면 상에 퇴적될 수 있다. 따라서, 다음에 감광 부재(1) 및 대전 닙부가 서로 접촉될 때, 자성 입자는 감광 부재(1)와 탄성 부재 사이에 들어갈 수 있다. 이러한 것이 일어난다면, 감광 부재(1)의 표면이 손상된다. 본 실시예의 구조에 의해, 동일 표면은 항상 감광 부재와 접촉하여 있다. 따라서, 자성 입자는 감광 부재(1)와 탄성 부재 사이에 들어가지 않는다. 따라서, 감광드럼(1)에 대한 손상이 감소될 수 있다.
따라서, 자성 브러시(23)의 자성 입자는 감소되지 않아 장기간 사용시 안정한 대전 특성이 제공되고 감광 부재(1)에 대한 손상이 방지될 수 있게 한다.
[실시예 13]
본 실시예에서, 감광 부재의 화상 영역에 대응하는 대전 부재의 부분은 자성 브러시에 의해 형성되고, 상기 단부는 자성 브러시와 독립적으로 회전 가능한 전기 전도성 스펀지로 된 것이다.
제18도는 특정 구조를 도시한다. 전기 전도성 스펀지(45)는 대전 슬리브(22)의 소경부(small diameter portion, 22a)에 장착되어 자성 입자에 접촉되며, 따라서 자성 입자와 동일한 전위를 가져 감광 부재(1)를 대전시킨다. 제19도에 도시된 바와 같이, 전기 전도성 스펀지(45) 및 대전 슬리브(22)는 서로로부터 독립적으로 회전된다. 구체적으로, 대전 슬리브(22)는 화살표 R2의 방향으로 회전하고, 감광 부재(1)는 R1방향으로 회전하며, 전기 전도성 스펀지(45)는 (감광 부재와의 접촉에 의해 구동되어) 감광 부재(1)를 따라 R3 방향으로 회전한다. 본 실시예에서 사용된 전기 전도성 스펀지(45)는 실시예 10에 사용된 EPEM 발포 부재이다. 전기 전도성 스펀지(45) 대신에, 실시예 11에 사용된 섬유 브러시가 사용될 수 있다.
이러한 구조에 의해, 동일한 이점이 제공된다. 게다가, 단부의 전기 전도성 스펀지(탄성 부재)(45)는 감광 부재(1)에 의해 구동되며, 따라서 자성 입자가 탄성 전기 전도성 스펀지(45)와 감광 부재(1) 사이에 들어간다 할 지라도, 자성 입자는 그 지점에서 단순히 물리면서 통과하여 감광 드럼(1)이 손상되지 않도록 한다.
자성 입자의 감소가 방지될 수 있어, 장기간 작업시 대전 특성의 안정성이 유지되고 감광 부재(1)에 대한 손상이 방지될 수 있다.
실시예 10 내지 13의 대전 부재 및 실시예 4 및 5의 감광 부재는 조합될 수 있다. 실시예 10 내지 13의 대전 부재 및 실시예 7 내지 9의 제2 대전 부재는 조합될 수 있다.
자성 브러시 2상분 현상 장치에서와 같은 자성 브러시의 경우에, 현상 콘트라스트(현상 전위와 드럼 표면 전위 사이의 차이)는 대전 콘트라스트(대전 전위와 드럼 표면 전위 사이의 차이)보다 작다. 따라서, 드럼에의 자성 브러시의 캐리어 퇴적은 자성 브러시가 대전 장치로서 사용되는 때에도 그렇게 중요하지는 않다. 자성 브러시가 대전 장치를 위해 사용될 때, 토너는 자성 브러시에 있게 되어, 토너는 먼저 드럼 상에 퇴적되도록 한다. 이러한 것은 토너가 자성 브러시의 캐리어보다 더 가볍고 저항이 커서 보유 대전 전위가 더 높기 때문이다. 따라서, 토너는 보다 용이하게 드럼에 퇴적된다. 그래서, 자성 브러시의 캐리어는 드럼에 덜 퇴적된다.
전술한 실시예들에서, 대전 부재의 단부에서 감광 부재에 접촉된 자성 입자의 전위와, 감광 부재의 전위 사이의 차이는 감소되거나 제거되어서 감광 부재에의 자성 입자의 퇴적을 방지한다.

Claims (72)

  1. 피대전 부재를 대전시키도록 자성 입자들을 지지하는 대전 부재에 있어서, 전압이 인가될 수 있는 전기 전도성 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자의 단부에 있고 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재를 포함하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 제2 전기 전도성 부재인 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2 전기 전도성 부재는 전기적으로 접지된 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 자성 입자들을 지지하는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 상기 자성 입자들과 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 부재.
  6. 대전 장치에 있어서, 피대전 부재를 대전시키도록 자성 입자들을 지지하는 대전 부재를 포함하며, 상기 대전 부재는 전압이 인가될 수 있는 전기 전도성 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자의 단부에 있고 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 제2전기 전도성 부재인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  8. 제7항에 있어서, 제2 전기 전도성 부재는 전기적으로 접지된 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  9. 제6항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 자성 입자들을 지지하는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 상기 자성 입자들과 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  12. 제6항에 있어서, 상기 피대전 부재는 화상 담지 부재를 포함하며, 상기 화상 담지 부재 및 상기 대전 장치는 화상 형성 장치에 탈착 가능한 공정 카트리지내에 제공되는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  13. 화상 형성 장치에 있어서, 화상 담지 부재와, 상기 화상 담지 부재를 대전시키기 위한 대전 부재를 포함하며; 상기 대전 부재는 상기 화상 담지 부재에 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들과, 전압이 인가될 수 있는 전기 전도성 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에 있고 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 화상 담지 부재는 상기 자성 입자들과의 접촉에 의해 전하가 주입되는 전하 주입층을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 전하 주입층은 1X109내지 1X1015Ω·㎝의 체적 저항율을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  16. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 제2 전기 전도성 부재인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2 전기 전도성 부재는 전기적으로 접지된 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  18. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 자성 입자를 지지하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  19. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재로부터 전기적으로 절연된 부재는 상기 자성 입자들과 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 형서 장치.
  20. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  21. 대전 장치에 있어서, 전하를 보유하는 전하 보유층과 전기 전도성 기부를 갖는 피대전 부재와, 상기 피대전 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 피대전 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재를 포함하며; 상기 피대전 부재는 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에 대응하는 구역에서 상기 전기 전도성 기부로부터 전기적으로 절연된 전기 전도성 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 피대전 부재의 표면 상에 마련된 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  23. 제22항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 자성 입자들과 접촉 가능한 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  24. 제21항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  25. 제21항에 있어서, 상기 피대전 부재는 화상 담지 부재를 포함하며, 상기 화상 담지 부재 및 상기 대전 장치는 화상 형성 장치에 탈착 가능한 공정 카트리지 내에 제공되는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  26. 화상 형성 장치에 있어서, 전하는 보유하는 전하 보유층과 전기 전도성 기부를 갖는 화상 담지 부재와, 상기 화상 담지 부재와 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 화상 담지 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재를 포함하며; 상기 화상 담지 부재는 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에 대응하는 구역에서 상기 전기 전도성 기부로부터 전기적으로 절연된 전기 전도성 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  27. 제26항에 있어서, 상기 전하 보유층은 상기 자성 입자들과의 접촉에 의해 전하가 주이보디는 전하 주입층을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  28. 제27항에 있어서, 상기 전하 주입층은 1×109내지 1X1015Ω·㎝의 체적 저항율을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  29. 제26항 또는 제27항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 화상 담지 부재의 표면 상에 마련된 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  30. 제29항에 있어서, 상기 전기 전도성 부재는 상기 자성 입자들과 접촉가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  31. 제26항 또는 제27항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  32. 대전 장치에 있어서, 피대전 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 피대전 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 제1 대전 부재와, 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에 대응하는 피대전 부재의 구역을 대전시키는 제2 대전 부재를 포함하며; 상기 구역은 상기 구역이 상기 제1 대전 부재의 대전 위치에 도달할 때 상기 제2대전 부재에 의해 상기 전압과 동일한 대전 극성의 전위를 갖는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  33. 제32항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 상기 구역에 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  34. 제33항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 탄성재인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  35. 제34항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 스펀지인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  36. 제33항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 섬유 브러시인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  37. 제32항에 있어서, 상기 제1 대전 부재 및 제2 대전 부재에는 공통 전압이 공급되는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  38. 제32항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  39. 제32항에 있어서, 상기 피대전 부재는 화상 담지 부재를 포함하고, 상기 담지 부재 및 상기 대전 장치는 화상 형성 장치에 탈착 가능한 공정 카트리지내에 마련된 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  40. 화상 형성 장치에 있어서, 화상담지 부재와, 상기 화상 담지 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 화상 담지 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 제1 대전 부재와, 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자의 단부에 대응하는 상기 화상 담지 부재의 구역을 대전시키는 제2 대전 부재를 포함하며; 상기 구역은 상기 구역이 상기 제1 대전 부재의 대전 위치에 도달할 때 상기 제2 대전 부재에 의해 상기 전압과 동일한 대전 극성의 전위를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  41. 제40항에 있어서, 상기 화상 담지 부재는 상기 자성 입자들과의 접촉에 의해 전하가 주입되는 전하 주입층을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  42. 제41항에 있어서, 상기 전하 주입층은 1X109내지 1X1015Ω·㎝의 제척 저항율을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  43. 제40항 또는 제41항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 상기 구역에 접촉될 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  44. 제43항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 탄성재인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  45. 제44항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 스펀지인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  46. 제43항에 있어서, 상기 제2 대전 부재는 섬유 브러시인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  47. 제40항 또는 제41항에 있어서, 상기 제1 대전 부재 및 제2 대전 부재에는 공통 전압이 공급되는 것을 측징으로 하는 화상 형성 장치.
  48. 제40항 또는 제41항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  49. 대전 장치에 있어서, 피대전 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고, 상기 피대전 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재를 포함하며; 상기 대전 부재는 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에 있고 상기 피대전 부재에 접촉 가능한 전기 전도성 탄성 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  50. 제49항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자를 지지하는 지지 부재를 가지며, 상기 지지 부재 및 상기 탄성 부재는 회전 가능한 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  51. 제49항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자를 지지하는 지지 부재를 가지며, 상기 탄성 부재는 상기지지 부재의 회전에도 불구하고 회전되지 않는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  52. 제49항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자를 지지하는 지지 부재를 가지며, 상기 지지 부재 및 탄성 부재는 독립적으로 회전 가능한 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  53. 제49항에 있어서, 상기 탄성 부재는 스펀지인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  54. 제49항에 있어서, 상기 탄성 부재는 섬유 브러시인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  55. 제49항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  56. 제49항에 있어서, 상기 피대전 부재는 화상 담지 부재를 포함하고, 상기 화상 담지 부재 및 상기 대전 장치는 화상 형성 장치에 탈착 가능한 공정 카트리지 내에 마련된 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  57. 화상 형성 장치에 있어서, 화상 담지 부재와, 상기 화상 담지 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고, 상기 화상 담지 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재를 포함하며; 상기 대전 부재는 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에서 상기 화상 담지 부재에 접촉 가능한 전기 전도성 탄성 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  58. 제57항에 있어서, 상기 화상 담지 부재는 상기 자성 입자들과의 접촉에 의해 전하가 주입되는 전하 주입층을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  59. 제58항에 있어서, 상기 전하 주입층은 1X109내지 1X1015Ω·㎝의 체적 저항율을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  60. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자들을 지지하는 지지 부재를 가지며, 상기지지 부재 및 상기 탄성 부재는 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  61. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자들을 지지하는지지 부재를 가지며, 상기 탄성 부재는 상기지지 부재의 회전에도 불구하고 회전되지 않는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  62. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 대전 부재는 상기 자성 입자들을 지지하는 지지부재를 가지며, 상기지지 부재 및 상기 탄성 부재는 독립적으로 회전가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  63. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 탄성 부재는 스펀지인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  64. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 탄성 부재는 섬유 브러시인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  65. 제57항 또는 제58항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  66. 대전 장치에 있어서, 피대전 부재와 접촉가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 피대전 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에서 대전 부재로부터 상기 피대전 부재로의 방향으로 상기 자성 입자들에 작용하는 전기장의 힘을 감소시키거나 제거하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  67. 제66항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  68. 제66항에 있어서, 상기 피대전 부재는 화상 담지 부재를 포함하고, 상기 화상 담지 부재 및 상기 대전 장치는 화상 형성 장치에 탈착 가능한 공정 카트리지내에 마련된 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  69. 화상 형성 장치에 있어서, 화상 담지 부재와, 상기 화상 담지 부재와 접촉 가능한 자성 브러시 형태의 자성 입자들을 구비하고 상기 화상 담지 부재를 대전시키도록 전압이 공급될 수 있는 대전 부재와, 상기 대전 부재의 길이 방향으로의 상기 자성 입자들의 단부에서 대전 부재로부터 상기 화상 담지 부재로의 방향으로 상기 자성 입자들에 작용하는 전기장의 힘을 감소시키거나 제거하는 수단을 포함하는 것을 특징으로로 하는 화상 형성 장치.
  70. 제69항에 있어서, 상기 화상 담지 부재는 상기 자성 입자들과의 접촉에 의해 전하가 주입되는 전하 주입층을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  71. 제70항에 있어서, 상기 전하 주입층은 1X109내지 1X1015Ω·㎝의 체적 저항율을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  72. 제69항 또는 제70항에 있어서, 상기 자성 입자의 저항은 1X104내지 1X107Ω인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
KR1019950024391A 1994-08-08 1995-08-08 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치 KR100192892B1 (ko)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP94-205959 1994-08-08
JP6208066A JPH0850392A (ja) 1994-08-08 1994-08-08 帯電装置
JP20595994 1994-08-08
JP94-208066 1994-08-08
JP6205961A JPH0850396A (ja) 1994-08-08 1994-08-08 帯電装置、画像記録装置、及びプロセスカートリッジ
JP94-205961 1994-08-08
JP19499795A JP3126636B2 (ja) 1994-08-08 1995-07-31 帯電部材及び帯電装置及び画像形成装置
JP95-194997 1995-07-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960008448A KR960008448A (ko) 1996-03-22
KR100192892B1 true KR100192892B1 (ko) 1999-06-15

Family

ID=27475741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950024391A KR100192892B1 (ko) 1994-08-08 1995-08-08 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치

Country Status (7)

Country Link
US (3) US6061539A (ko)
EP (1) EP0696765B1 (ko)
KR (1) KR100192892B1 (ko)
CN (1) CN1081347C (ko)
DE (1) DE69526002T2 (ko)
ES (1) ES2172557T3 (ko)
HK (1) HK1014053A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220098452A (ko) 2021-01-04 2022-07-12 (주)제이엠씨 마스크 패치 및 이를 포함하는 마스크

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3119431B2 (ja) * 1994-08-08 2000-12-18 キヤノン株式会社 帯電装置及び画像形成装置
DE69629511T2 (de) * 1995-03-27 2004-06-17 Canon K.K. Aufladungsvorrichtung
DE69725364T2 (de) * 1996-03-04 2004-06-24 Canon K.K. Bilderzeugungsgerät
JP3279990B2 (ja) * 1999-01-12 2002-04-30 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3466956B2 (ja) * 1999-04-28 2003-11-17 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP4438031B2 (ja) 2000-01-06 2010-03-24 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP3847583B2 (ja) * 2000-08-31 2006-11-22 株式会社リコー 電子写真装置および電子写真装置用プロセスカートリッジ
US6549742B1 (en) 2000-10-25 2003-04-15 Canon Kabushiki Kaisha Charging apparatus employing charging particles, and image forming apparatus employing such a charging apparatus
US8452259B2 (en) * 2001-02-20 2013-05-28 Adidas Ag Modular personal network systems and methods
JP4194390B2 (ja) 2002-02-26 2008-12-10 キヤノン株式会社 帯電装置及び画像形成装置
JP2003307909A (ja) 2002-04-17 2003-10-31 Canon Inc 帯電部材、該帯電部材を用いる帯電装置、及び画像記録装置
US6909859B2 (en) * 2002-05-08 2005-06-21 Canon Kabushiki Kaisha Charging apparatus with plural charging means
US7035572B2 (en) * 2003-10-31 2006-04-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Hard imaging device charging systems, electrophotography charging systems, hard imaging apparatuses, and hard imaging device electrophotography charging methods
JP2005173484A (ja) 2003-12-15 2005-06-30 Canon Inc 画像形成装置及びプロセスカートリッジ
US7835668B2 (en) * 2004-11-24 2010-11-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Imaging methods, imaging member charging methods, and image engines
JP4861736B2 (ja) * 2005-05-02 2012-01-25 キヤノン株式会社 画像形成装置
CN101661246A (zh) * 2006-08-24 2010-03-03 佳能株式会社 充电装置和成像装置
JP2008077065A (ja) * 2006-08-24 2008-04-03 Canon Inc 帯電装置及び画像形成装置
US20080100534A1 (en) * 2006-10-26 2008-05-01 Hewlett-Packard Development Company Lp Switch
JP5342785B2 (ja) * 2008-01-15 2013-11-13 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 現像装置及び画像形成装置
US20120068082A1 (en) * 2009-06-05 2012-03-22 Yoshiyuki Noda Ion generation apparatus and electric equipment
JP5907414B2 (ja) * 2012-02-27 2016-04-26 富士ゼロックス株式会社 帯電装置および画像形成装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5440101B2 (ko) 1974-06-24 1979-12-01
EP0035745B1 (en) * 1980-03-10 1984-06-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Charging device
JPS60205550A (ja) * 1984-03-30 1985-10-17 Fuji Xerox Co Ltd 帯電装置
JPS60205551A (ja) * 1984-03-30 1985-10-17 Fuji Xerox Co Ltd 帯電装置
EP0314436B1 (en) * 1987-10-28 1993-12-29 Canon Kabushiki Kaisha A developing apparatus
JP2733609B2 (ja) * 1988-10-29 1998-03-30 キヤノン株式会社 転写装置
US5272505A (en) * 1990-10-24 1993-12-21 Canon Kabushiki Kaisha Charging device, process unit having same and image forming apparatus using process unit
JPH04268583A (ja) * 1991-02-22 1992-09-24 Canon Inc 帯電装置
JPH05100544A (ja) * 1991-06-25 1993-04-23 Fujitsu Ltd 導電ブラシ帯電器
EP0562857A2 (en) * 1992-03-26 1993-09-29 Mita Industrial Co. Ltd. Electrifying method and electrifying apparatus used therefor
EP0777156B1 (en) * 1992-04-21 2000-03-22 Sharp Kabushiki Kaisha Electrophotographic copier
JP3253367B2 (ja) * 1992-09-28 2002-02-04 富士通株式会社 ブラシ帯電器及び画像形成装置
JP3247164B2 (ja) * 1992-10-09 2002-01-15 キヤノン株式会社 画像形成装置
US5381215A (en) * 1992-10-15 1995-01-10 Konica Corporation Image forming apparatus having charger to charge image carrier with magnetic brush
US5357323A (en) * 1992-10-26 1994-10-18 Konica Corporation Magnetic brush charging device
EP0598483A1 (en) * 1992-11-16 1994-05-25 Konica Corporation Image forming apparatus with charger of image carrier using magnetic brush
JPH06289689A (ja) * 1993-04-01 1994-10-18 Hitachi Metals Ltd 画像形成方法
US5596394A (en) * 1993-05-20 1997-01-21 Kyocera Corporation Charging apparatus for charging a photo-sensitive member by magnetically holding magnetic particles in a charging zone
EP0672961B1 (en) * 1994-03-16 2006-05-10 Canon Kabushiki Kaisha Charging member and charging device
JPH0844152A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 帯電部材、帯電装置、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ
EP0790535A3 (en) * 1996-02-14 1999-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Charging apparatus and electrophotographic apparatus
KR200153521Y1 (ko) * 1996-02-17 1999-09-01 윤종용 전자 사진 인쇄장치의 보조 대전 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220098452A (ko) 2021-01-04 2022-07-12 (주)제이엠씨 마스크 패치 및 이를 포함하는 마스크

Also Published As

Publication number Publication date
US6061539A (en) 2000-05-09
HK1014053A1 (en) 1999-09-17
US6301459B1 (en) 2001-10-09
EP0696765A2 (en) 1996-02-14
DE69526002D1 (de) 2002-05-02
US6301455B1 (en) 2001-10-09
KR960008448A (ko) 1996-03-22
CN1140268A (zh) 1997-01-15
ES2172557T3 (es) 2002-10-01
DE69526002T2 (de) 2002-08-22
EP0696765B1 (en) 2002-03-27
CN1081347C (zh) 2002-03-20
EP0696765A3 (en) 1997-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100192892B1 (ko) 대전 부재, 대전 장치 및 화상 형성 장치
KR100362973B1 (ko) 충전장치
JPS63100482A (ja) トナ−担持体
JPH0711727B2 (ja) 交流誘導帯電装置
US6560419B2 (en) Charging device for applying AC voltage of a frequency to charged body and image forming apparatus including such a device
EP0785485A2 (en) Electrodes donor roll structures incorporating resistive networks
EP0800122B1 (en) An image forming apparatus
KR950013418B1 (ko) 기록장치
KR100404410B1 (ko) 발포 탄성부를 갖는 대전 부재, 대전 장치, 프로세스카트리지 및 화상 형성 장치
US5666192A (en) Charging member and image forming apparatus
JPH1073983A (ja) 画像形成装置
KR0156451B1 (ko) 충전 디바이스 및 이미지 형성 장치
JPH08211727A (ja) 現像剤供給ロール
KR100391875B1 (ko) 전기 도전성 입자가 현상 장치로부터 화상 담지 부재를거쳐 대전 수단으로 공급되는 화상 형성 장치
JP2004199052A (ja) 像形成部材等の被帯電部材の帯電装置及び方法
KR100340652B1 (ko) 전자사진감광부재,그를사용한프로세스카트리지및전자사진장치
KR100665163B1 (ko) 대전 장치, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치
JPH04142566A (ja) 帯電及びクリーニング装置
JPH06118855A (ja) 画像形成装置
JPH06274007A (ja) 接触帯電装置及び画像形成装置
JP3386234B2 (ja) 画像形成装置
JP3581492B2 (ja) 近接帯電装置
JPH06295117A (ja) 画像形成装置
JP2994175B2 (ja) 画像形成装置
JPH06222649A (ja) 帯電装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121221

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131226

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee