JPWO2021124723A5 - - Google Patents

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上記目的を達成するため、本発明の第1の態様は、気化器内で液体原料を加熱して気化させ、気化したガスを流量制御して供給先に供給する前記気化器を用いて、必要なガスの流量が得られるよう前記気化器内を加熱して圧力が所定値以上になるようにフィードバック制御をする、気化器の気化供給方法であって、気化された前記ガスの流量制御が始まった時点で前記フィーバック制御を停止し、前記フィードバック制御を停止する直前までに与えていた熱量よりも多い熱量を与えて前記気化器の液体原料を加熱することで、気化される前記ガスの蒸発量を前記フィードバック制御を行っている時よりも増加するステップと、気化された前記ガスの流量制御が始まってから一定時間経過後、気化器に与える熱量をフィードバック制御によって与えられる熱量に変更するステップと、を含む。
また、本発明の第7の態様は、気化供給装置であって、液体原料を加熱して気化させる気化器と、前記気化器からガス供給先に供給されるガスの流量を制御する流量制御装置と、必要なガスの流量が得られるよう前記気化器内を加熱して圧力が所定値以上になるようにフィードバック制御をするコントローラと、を備え、前記コントローラは、前記流量制御装置による流量制御が始まった時点で前記フィーバック制御を停止し、前記フィードバック制御を停止する直前までに与えていた熱量よりも多い熱量を前記気化器に与えて前記液体原料を加熱し、前記流量制御装置による流量制御が始まった時点から一定時間経過後、前記フィードバック制御に変更するように構成されている。
予熱器15、気化器2A、流量制御装置4を加熱するヒータ15A、3A、4aは、其々、異なる加熱温度に制御され得る。例えば、図示例において、予熱器15のヒータ5Aは180℃、気化器2Aのヒータ3Aは202℃、流量制御装置のヒータ4aは210℃に其々制御されている。また、気化供給装置1Aは、その外側を保温ジャケット3で覆うことができる。
また、実施例は、図4に示されるようにガス供給停止前の第3所定時間Δtb前から第4所定時間Δtcを第3制御モードM3で制御することにより、図5から分かるように、流量制御停止(ガス供給停止)後の温度上昇を比較例より低減し、比較例では所定の基準温度(この例では208℃)を超えたが実施例では205.6℃で前記基準温度を超えなかった。それにより、実施例は、ガス供給停止時に気化器の温度オーバーシュートを防止することができた。

Claims (2)

  1. 気化器内で液体原料を加熱して気化させ、気化したガスを流量制御して供給先に供給する前記気化器を用いて、必要なガスの流量が得られるよう前記気化器内を加熱して圧力が所定値以上になるようにフィードバック制御をする、気化器の気化供給方法であって、
    気化された前記ガスの流量制御が始まった時点で前記フィーバック制御を停止し、前記フィードバック制御を停止する直前までに与えていた熱量よりも多い熱量を与えて前記気化器の液体原料を加熱することで、気化される前記ガスの蒸発量を前記フィードバック制御を行っている時よりも増加するステップと、
    気化された前記ガスの流量制御が始まってから一定時間経過後、気化器に与える熱量をフィードバック制御によって与えられる熱量に変更するステップと、
    を含む、気化器の気化供給方法。
  2. 液体原料を加熱して気化させる気化器と、
    前記気化器からガス供給先に供給されるガスの流量を制御する流量制御装置と、
    必要なガスの流量が得られるよう前記気化器内を加熱して圧力が所定値以上になるようにフィードバック制御をするコントローラと、を備え、
    前記コントローラは、前記流量制御装置による流量制御が始まった時点で前記フィーバック制御を停止し、前記フィードバック制御を停止する直前までに与えていた熱量よりも多い熱量を前記気化器に与えて前記液体原料を加熱し、前記流量制御装置による流量制御が始まった時点から一定時間経過後、前記フィードバック制御に変更するように構成されている、気化供給装置。
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