JP2614026B2 - 気化ガス供給装置 - Google Patents

気化ガス供給装置

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JP2614026B2
JP2614026B2 JP6322664A JP32266494A JP2614026B2 JP 2614026 B2 JP2614026 B2 JP 2614026B2 JP 6322664 A JP6322664 A JP 6322664A JP 32266494 A JP32266494 A JP 32266494A JP 2614026 B2 JP2614026 B2 JP 2614026B2
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JP
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vaporized gas
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container
liquid source
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Inventor
忠広 小川
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山形日本電気株式会社
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は気化ガス供給装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の気化ガス供給装置は、図3に示す
ように、密閉され入力側のバルブ2を開いて注入された
液体ソース5をヒータ6で加熱して気化させ、気化ガス
を得るための気化容器15と、熱電対7により気化容器
15内の液体ソースの温度を検出する温度センサ8の信
号を用いヒータ6の温度を制御して気化容器15内の飽
和蒸気圧を一定に保つための温度調節器16と、出力側
のバルブ3を開いて反応炉に送出する気化ガスの流量を
制御するマスフローコントローラ4とを備えて構成され
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来の気化ガス供
給装置は、気化ガスの送出を停止している状態では、液
体ソースは一定温度に保持され、気化容器内はその温度
における液体ソースの飽和蒸気圧に保たれているが、図
4に示すように、気化ガスの送出を開始して気化容器内
の圧力降下が生じたときにも液体ソースの温度が殆ど変
化せず、加熱用ヒータの温度も変らず、その結果、蒸発
量が圧力降下を補償できないため、圧力変化に影響を受
け易いマスフローコントローラの流量制御に変調を来た
し送出ガスの流量が不足するという問題があった。この
現象は、枚葉式のCVD装置において特に大きな影響を
与えるという欠点があった。
【0004】本発明の目的は、気化容器内の圧力を一定
にしてマスフローコントローラを安定に作動させ気化ガ
スの流量制御の精度を向上させることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の気化ガス供給装
置は、密閉され且つ容積を可変できる容器内に注入され
た液体ソースをヒータで加熱して気化ガスを発生させる
気化容器と、前記気化容器から送られる気化ガスの流量
を制御して反応炉に供給するマスフローコントローラ
と、前記気化容器内の圧力を検出する圧力センサと、前
記液体ソースの温度を検出する温度センサと、前記圧力
センサおよび温度センサの信号により前記ヒータの温度
を制御する温度調節器と、前記圧力センサの信号により
前記気化容器の容積を制御するアクチュエータとを備え
ている。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0007】図1は本発明の一実施例を説明するための
模式的ブロック図である。
【0008】図1に示すように、密閉された容器の一部
にベローズ(bellows)等を設けて容積を可変で
きるようにした気化容器1内に入力側のバルブ2を開け
て注入したTEOS等の液体ソース5をヒータ6で加熱
して気化させ、気化ガスが所望の圧力を得るために見合
う液体ソース5の温度を熱電対7を用いた温度センサ8
の信号と圧力センサ9の信号により温度調節器10を作
動させてヒータ6に供給する電力を制御して気化容器1
内の圧力を一定に保持する。
【0009】この状態で出力側バルブ3を開きマスフロ
ーコントローラ4を介して反応炉へ気化ガスを送出する
と、図2(a)に示すように、気化容器1内の圧力が低
下し、送出ガス流量も低下するが、圧力センサ9の電位
変化量によりヒータ6の温度を上げて蒸発量を増加させ
て容器内圧力を上げることで送出ガス流量も回復させる
ことができるが、気化ガスの送出開始直後や停止直後の
圧力変動には追従しきれない。
【0010】そこで、圧力センサ9の信号でアクチュエ
ータコントローラ11を作動させアクチュエータ12を
制御することにより、図2(b)に示すように、気化容
器1内の圧力を一定に保持できるようになり、マスフロ
ーコントローラ4に一定圧力で気化ガスを供給できるた
め、送出ガス流量を変動させることなく安定に制御する
ことができるようになる。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、密閉容器
の容積を可変可能にした気化容器の圧力を検出する圧力
センサの信号により、アクチュエータを作動させて気化
容器の容積を調節し、且つ液体ソースの温度センサと圧
力センサの信号によりヒータの温度を制御することによ
り、気化容器内の気化ガスの圧力を一定にしてマスフロ
ーコントローラによる送出ガス流量の変動を抑えること
ができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を説明するための模式的ブロ
ック図。
【図2】本発明の気化ガス供給装置の動作を説明するた
めの波形図。
【図3】従来の気化ガス供給装置の一例を説明するため
の模式的ブロック図。
【図4】従来の気化ガス供給装置の動作を説明するため
の波形図。
【符号の説明】
1,15 気化容器 2,3 バルブ 4 マスフローコントローラ 5 液体ソース 6 ヒータ 7 熱電対 8 温度センサ 9 圧力センサ 10,16 温度調節器 11 アクチュエータコントローラ 12 アクチュエータ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 密閉され且つ容積を可変できる容器内に
    注入された液体ソースをヒータで加熱して気化ガスを発
    生させる気化容器と、前記気化容器から送られる気化ガ
    スの流量を制御して反応炉に供給するマスフローコント
    ローラと、前記気化容器内の圧力を検出する圧力センサ
    と、前記液体ソースの温度を検出する温度センサと、前
    記圧力センサおよび温度センサの信号により前記ヒータ
    の温度を制御する温度調節器と、前記圧力センサの信号
    により前記気化容器の容積を制御するアクチュエータと
    を備えたことを特徴とする気化ガス供給装置。
JP6322664A 1994-12-26 1994-12-26 気化ガス供給装置 Expired - Lifetime JP2614026B2 (ja)

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JPH08173791A JPH08173791A (ja) 1996-07-09
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WO2021124723A1 (ja) * 2019-12-16 2021-06-24 株式会社フジキン 気化供給方法及び気化供給装置

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JPH08173791A (ja) 1996-07-09

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