JPWO2020090338A1 - フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス - Google Patents
フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020090338A1 JPWO2020090338A1 JP2020553702A JP2020553702A JPWO2020090338A1 JP WO2020090338 A1 JPWO2020090338 A1 JP WO2020090338A1 JP 2020553702 A JP2020553702 A JP 2020553702A JP 2020553702 A JP2020553702 A JP 2020553702A JP WO2020090338 A1 JPWO2020090338 A1 JP WO2020090338A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- polymer
- group
- molecular weight
- film according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F120/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F120/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F120/10—Esters
- C08F120/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F120/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
- C08G64/06—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/20—General preparatory processes
- C08G64/30—General preparatory processes using carbonates
- C08G64/307—General preparatory processes using carbonates and phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D125/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D125/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C09D125/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C09D125/06—Polystyrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08J2325/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C08J2325/06—Polystyrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08J2333/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2369/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2409/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/003—Additives being defined by their diameter
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
したがって、ポリマー種の制限を受けずに、繰り返し折り曲げ耐性に優れるフィルムを製造する技術が求められている。
すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
重量平均分子量が下記式(1)で表されるMf1以上であるポリマーを含むフィルムであって、
上記ポリマーのガラス転移温度が60℃以上であり、
上記フィルム中の、粒径が10nm以上10μm以下の微粒子の含有量が上記ポリマー100質量部に対して、40質量部以下であるフィルム。
Mf1=6.60×10(4+Me/11400) (1)
式(1)において、Meは上記ポリマーの絡み合い点間分子量を表す。
<2>
上記ポリマーの重量平均分子量が下記式(2)で表されるMf2以上である<1>に記載のフィルム。
Mf2=1.02×10(5+Me/11400) (2)
<3>
フォルダブルデバイス用である<1>又は<2>に記載のフィルム。
<4>
上記ポリマーが非晶性ポリマーである<1>〜<3>のいずれか1項に記載のフィルム。
<5>
上記ポリマーが、ポリ(メタ)アクリレート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類、ポリビニルエーテル類、非晶性ポリアリレート類、ポリカーボネート類、及びこれらの共重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種のポリマーである<1>〜<4>のいずれか1項に記載のフィルム。
<6>
上記ポリマーが、下記一般式(X)で表される繰り返し単位を含むポリマーである<1>〜<5>のいずれか1項に記載のフィルム。
<7>
膜厚が50μm以下である<1>〜<6>のいずれか1項に記載のフィルム。
<8>
上記ポリマー及び溶媒を含む溶液を基板上にキャストして膜を形成し、上記膜中の上記溶媒の一部又は全部を除去した後、上記溶媒の一部又は全部が除去された膜を上記基板からはがし取る工程を有する<1>〜<7>のいずれか1項に記載のフィルムの製造方法。
<9>
<1>〜<7>のいずれか1項に記載のフィルムを備える光学デバイス。
<10>
<1>〜<7>のいずれか1項に記載のフィルムを備えるフォルダブルデバイス。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方または両方の意味で用いられる。また、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方の意味で用いられる。「(メタ)アクリル」は、アクリルとメタクリルの一方または両方の意味で用いられる。
溶媒 テトラヒドロフラン
装置名 TOSOH HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)
カラム TOSOH TSKgel Super HZM−H
TOSOH TSKgel Super HZ4000
TOSOH TSKgel Super HZ2000
を、この順に接続して使用(上記カラムはすべて東ソー株式会社製)。
カラム温度 25℃
試料濃度 0.1質量%
流速 0.35ml/min
校正曲線 標準ポリマーは、測定するポリマー構造に近しい構造のもので、想定される分子量範囲をカバーするよう選定する。例えば、ポリ(メタ)アクリレート類にはSIGMA−ALDRICH社製Poly(methylmethacrylate)standard ,Mp=2200000〜5050までの4サンプルによる校正曲線を使用した(MpはGPCチャート上のピークトップ分子量を表す)。ポリスチレン類には、SIGMA−ALDRICH社製Polystyrene standard, Mp=10300000〜1100までの5サンプルによる校正曲線を使用した。また、これら以外の構造のポリマーについても、SIGMA−ALDRICH社製Polystyrene standardによる校正曲線を用い、換算分子量を求めた。
本発明のフィルムは、
重量平均分子量が下記式(1)で表されるMf1以上であるポリマーを含むフィルムであって、
上記ポリマーのガラス転移温度が60℃以上であり、
上記フィルム中の微粒子の含有量が上記ポリマー100質量部に対して、40質量部以下であるフィルムである。
Mf1=6.60×10(4+Me/11400) (1)
式(1)において、Meは上記ポリマーの絡み合い点間分子量を表す。
本発明に用いるポリマー(以下、本発明のポリマーともいう)は、重量平均分子量(Mw)が上記式(1)で表されるMf1以上である。
ポリマーは、ある分子量以上でその分子鎖が互いに絡み合った状態で存在することが知られている。一般に、この分子量を絡み合い点間分子量(Me)という。Meはそのポリマーの物性を特徴付けるパラメータであり、例えば、POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, JUNE 1992,Vol.32,No.12 p.823−830には、多くのポリマーについてのMe値が報告されている。本発明におけるMe値は上記文献による値を用いる。
また、Me値が知られていないポリマー、及び2種以上のポリマーを用いたポリマーブレンド系については、そのMe値を実測して求めることも可能であり、その手法についても上記文献、及びそのリファレンスに示された文献に詳述されている。
そこで、ポリマーの絡み合い点間分子量(Me)及び重量平均分子量(Mw)と、繰り返し折り曲げ耐性との相関関係の有無を調べるため、ポリマー構造及び重量平均分子量を変化させて作成した各種フィルムサンプルについて、繰り返し折り曲げ耐性試験を行ったところ、これらの間に相関関係を見出し、本発明に至った。
上記式(1)は、繰り返し折り曲げ耐性試験を行った際に、60万回を超えても破断しないフィルムが得られる最小の重量平均分子量を実験的に求め、Meを用いた近似式として表したものである。
なお、式(1)を導出するためのフィルムサンプル及び繰り返し折り曲げ耐性試験の詳細については、後述の実施例において記載する。
Mf2=1.02×10(5+Me/11400) (2)
なかでも、ポリ(メタ)アクリレート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類、ポリビニルエーテル類、非晶性ポリアリレート類、ポリカーボネート類、及びこれらの共重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種のポリマーであることがより好ましい。
ポリ(メタ)アクリレート類とは、ポリアクリレート類及びポリメタクリレート類を合わせたポリマー群を表す。ポリ(メタ)アクリレート類は、(メタ)アクリレート類を重合して得られる。これらのうち、下記一般式(X)で表される繰り返し単位を含むポリマーが好ましい。
R2がアルキル基を表す場合、上記アルキル基は置換基を有していても良く、置換基は特に限定されない。置換基としては、例えば、アリール基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基などが挙げられる。置換アルキル基としては、例えば、ベンジル基などが挙げられる。
R2がシクロアルキル基を表す場合、上記シクロアルキル基は置換基を有していても良く、置換基は特に限定されない。置換基としては、例えば、アリール基、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基などが挙げられる。
R2がアリール基を表す場合、上記アリール基は置換基を有していても良く、置換基は特に限定されない。置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基などが挙げられる。
これらのモノマーに由来する繰り返し単位は、1種類単独でポリ(メタ)アクリレート類に導入されていてもよいし、2種類以上が組み合わされてポリ(メタ)アクリレート類に導入されていてもよい。
ポリスチレン類とは、置換又は無置換のスチレンを重合して得られるポリマー群を表す。例えば、ポリスチレン、ポリ(α-メチルスチレン)、ポリ(4−t−ブチルスチレン)、ポリ(4−クロロメチルスチレン)、ポリ(パラメチルスチレン)、ポリ(クロロメチルスチレン)が挙げられる。また、アクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)のような、スチレンと他の共重合可能なモノマーとの共重合体であってもよい。これらのうち、ポリスチレン及びポリ(α-メチルスチレン)が好ましい。
ポリビニルエステル類とは、ビニルエステルを重合して得られるポリマー及びその誘導体群を表す。例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール類等が挙げられる。
ポリビニルエーテル類とは、ビニルエーテルを重合して得られる構造を有するポリマー群を現す。例えば、ポリ(メチルビニルエーテル)、ポリ(エチルビニルエーテル)等が挙げられる。
非晶性ポリアリレート類とは、芳香族ジカルボン酸と二価フェノールとがエステル結合した全芳香族ポリエステルのうち、非晶性のものからなる群を表し、所謂LCP(Liquid Crystal Polymer)は含まない。
芳香族ジカルボン酸としては、特に限定されないが、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。
二価フェノールとしては、特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA等のジフェニルメタン誘導体(ビスフェノールA類ともいう)が好ましく、ビスフェノールA(2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン)、ビスフェノールAP(1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン)、ビスフェノールAF(1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン)、ビスフェノールBP(ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン)、ビスフェノールC(2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン)、ビスフェノールPH(5,5’−(1−メチルエチリデン)−ビス[1,1’−(ビスフェニル)−2−オール]プロパン)、ビスフェノールZ(1,1−Bis(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン)等が特に好ましい。
ポリカーボネート類とは、ビスフェノールA類の炭酸エステルの構造を有するポリマー群を表す。ビスフェノールA類の好ましい例としては、非晶性ポリアリレート類の項にて記載したものを挙げることができる。
本発明のポリマー、すなわち、重量平均分子量がMf1値以上の高分子量体を得る方法について説明する。本発明のポリマーの重合方法としては、公知のいかなる重合法をも適用することができる。
ポリ(メタ)アクリレート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類、ポリビニルエーテル類といったビニルポリマーを得るためのビニルモノマー類の重合方法としては、アニオン重合、カチオン重合、ラジカル重合、配位重合等が挙げられ、これらはモノマーの構造から適宜選択することができる。また、重合工程で溶媒を用いても良いし、用いなくても良い(バルク重合)。溶媒を用いる場合には、乳化重合、懸濁重合、沈殿重合が好ましい。
非晶性ポリアリレート類を得る方法としては、例えば、新高分子実験学3、高分子の合成・反応(2)、78〜95頁、共立出版(1996年)に記載の方法が挙げられ、より具体的には、酸ハライド法、エステル交換法、直接エステル化法、および、界面重合法が挙げられ、界面重合法が好ましい。また、日本油化学会誌第46巻第11号(1997)に記載されているように、一定分子量のプレポリマーを得た後、鎖延長反応を行い、分子量を伸長する方法も好ましく用いることができる。
ポリカーボネート類を得る方法としては、ビスフェノールA類とホスゲンを反応させてポリカーボネートを得る方法(ホスゲン法)、ビスフェノールA類とジフェニルカーボネートを高温・減圧下で反応させ、フェノールを除きつつ縮合を進める方法(エステル交換法)等が挙げられる。
本発明のポリマーのTgは60℃以上であり、80℃以上であることが好ましく、100℃以上であることが特に好ましい。Tgの上限には特に制限は無いが、300℃以下であることが一般的である。このような範囲にあることで、本発明のフィルムを各種フォルダブルデバイスに用いられるフィルムとして使用する際に、安定的に用いることができる。
本発明においてTgは、示差走査熱量計(SIIテクノロジー社製、DSC6200)を用いて下記の条件で測定した。測定は同一の試料で二回実施し、二回目の昇温時の測定結果を採用する。
・測定室内の雰囲気:窒素(50mL/min)
・昇温速度:10℃/min
・測定開始温度:0℃
・測定終了温度:200℃
・試料パン:アルミニウム製パン
・測定試料の質量:5mg
・Tgの算定:DSC(Differential scanning calorimetry)チャートの下降開始点と下降終了点の中間温度をTgとする
本発明のフィルムは、微粒子を含有しなくてもよいし、含有してもよい。
例えば、より高い耐傷性を付与したい場合には、硬質の微粒子を添加することが好ましい。このような微粒子としては、ダイヤモンドパウダー、サファイア粒子、炭化ホウ素粒子、炭化ケイ素粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、五酸化アンチモン粒子、シリカ粒子(市販品としては、例えばスノーテックスUP、MEK−ST−40、日産化学(株)製)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ケイ酸ソーダ、酸化鉄、硫酸バリウム、酸化錫、三酸化アンチモン、二硫化モリブデン等の無機微粒子:又は、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体等が挙げられる。
なお、本発明のフィルムは、粒径が10μmを超える粒子を含有しても良いし、含有しなくても良いが、上記と同様の観点から、含有する場合は、フィルム中の上記ポリマー100質量部に対して、40質量部以下であることが好ましく、20質量部以下であることがより好ましく、15質量部以下であることが更に好ましい。
本発明のフィルムは、溶液成膜法により製造されることが好ましい。
すなわち、本発明のフィルムの製造方法は、具体的には、上記ポリマー及び溶媒を含む溶液(ドープ組成物)を、基板上にキャストして膜を形成し、上記膜中の上記溶媒の一部又は全部を除去した後、上記溶媒の一部又は全部が除去された膜(流延膜)を上記基板からはがし取る工程を有する、フィルムの製造方法であることが好ましい。
ドープ組成物は、少なくとも、上記本発明のポリマー及び溶媒を含む組成物であり、必要に応じて、上記微粒子を含む。
ドープ組成物におけるポリマーの含有量は1〜50質量%であることが好ましく、3〜40質量%であることがより好ましく、5〜35質量%であることが更に好ましい。
ドープ組成物に含まれる溶媒としては有機溶媒が好ましい。
有機溶媒は、ポリマーと必要に応じて添加される添加剤を溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。
本発明において、複数の溶媒を用いる場合は、そのうち最も重量割合の高いものを主溶媒と表記することがある。
ドープ組成物には、本発明による効果を損なわない範囲で、上記微粒子以外の添加剤が添加されていてもよい。
可塑剤は、光学フィルムを製造する際に用いるドープ組成物の流動性や柔軟性を向上させる機能を有する。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、2−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類等が好ましい。
さらに、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤や、脆性改良剤、光学発現剤、ゴム弾性粒子等も添加剤として添加することができる。
本発明のフィルムは、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。
機能層としては、特に限定されるものではなく、たとえば、ハードコート層(HC層)、低屈折率層、高屈折率層、耐擦層、低反射率層、防汚層、無機酸化物層(AR層)、バリア層及びこれらの組み合わせなどが挙げられる。
本発明のフィルムを画像表示装置の表面保護フィルムとして用いる場合、耐傷性向上の観点から、機能層としてHC層を有することが好ましい。
機能層がHC層である場合、本発明に用いられるHC層は、HC層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射することにより硬化することで得ることができる。なお本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電離放射線をいい、X線、紫外線、可視光、赤外線、電子線、α線、β線、γ線等が包含される。
本発明のフィルムの膜厚は特に制限されず、膜強度、取り扱い性の点で、5μm以上の場合が多く、10μm以上が好ましい。上限は特に制限されないが、より優れた繰り返し折り曲げ耐性を付与し得る点、またデバイスの薄型化に有利である点から、100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましく、45μm以下がさらに好ましい。
上記フィルムの膜厚は平均値であり、フィルムの任意の10箇所以上の膜厚を測定して、得られた測定値を算術平均して得られる値である。
本発明のフィルムは繰り返し折り曲げ耐性に優れる。具体的には、小型卓上型面状体無負荷U字伸縮試験機(型式:DLDMLH−FS,ユアサシステム機器製)にて、曲率半径2mmでの繰り返し曲げ試験を行った際、フィルムに破断が生じるまでの回数が60万回超えであることが好ましく、80万回超えであることがより好ましく、100万回を超えても破断しないことが更に好ましい。
本発明のフィルムを、例えば後述のデバイス等の最表層として用いる場合、本発明のフィルムは耐傷性に優れることが好ましい。耐傷性の指標としては鉛筆硬度(JIS K5600−5−4(1999年))が知られている。本発明のフィルムの鉛筆硬度としては、B以上であることが好ましく、H以上であることが特に好ましい。
なお、本発明のフィルムをディスプレイ用フィルムとして用いる場合、最表層として本発明のフィルムを用いても良いし、最表層以外の層(例えばインナーフィルム)として本発明のフィルムを用いても良い。最表層として本発明のフィルムを用いる場合は、例えば、スマートデバイス(例えば、スマートフォンおよびタブレット)の表面保護層として用いられているガラスの代替品として用いることができる。
本発明のフィルムは、フォルダブルデバイス(フォルダブルディスプレイ)に用いられることが好ましい。フォルダブルデバイスとは、表示画面が変形可能であるフレキシブルディスプレイを採用したデバイスのことであり、表示画面の変形性を利用してデバイス本体(ディスプレイ)を折りたたむことが可能である。
フォルダブルデバイスとしては、例えば有機エレクトロルミネッセンスデバイスなどが挙げられる。
本発明は、上記の本発明のフィルムを備えた光学デバイス、上記の本発明のフィルムを備えたフォルダブルデバイスにも関する。
ポリメタクリル酸メチル(ポリマー1)の合成
撹拌装置、温度計、還流管を備えた容積1Lの三ツ口フラスコにイオン交換水300g、ポリアクリル酸ナトリウム(東亞合成株式会社製 A−20P)0.72gを加えて攪拌し、ポリアクリル酸ナトリウムを完全に溶解した後、メチルメタクリレート100g、ジメチル2,2’−アゾビス(イソブチレート)0.04gを添加し、85℃で6時間反応させた。得られた懸濁液をナイロン製ろ過布によりろ過、メタノール洗浄し、ろ過物を50℃で真空乾燥することで、目的のポリマー(ポリマー1)をビーズ状で得た。
ポリマー3(PAR)の合成
撹拌装置、窒素導入管、温度計、還流管および滴下装置を備えた容積1Lの三ツ口フラスコに、イオン交換水(407g)、水酸化ナトリウム(4.2g)、トリブチルベンジルアンモニウムクロライド(0.26g)、チオ硫酸ナトリウム(0.05g)、ビスフェノールA(9.59g)を加え、室温、窒素気流下で撹拌した。得られた懸濁液に塩化メチレン(153g)を加え、反応液の温度を15℃に維持しつつ、テレフタル酸クロライド(4.26g)およびイソフタル酸クロライド(4.26g)を塩化メチレン(50g)に溶解した溶液を30分間かけて滴下し、さらに1時間反応を継続した。反応溶液の水層を酢酸にて中和した後、回収した有機層は塩化メチレン(100g)で希釈し、イオン交換水(400g)にて洗浄した。有機層を回収し、塩化メチレン(100g)で希釈し、イオン交換水(400g)にて洗浄する操作をさらに2回実施し、得られた有機層を大過剰量のメタノールに再沈殿し、得られた粉末状のポリマーを50℃で真空乾燥することで目的のポリマー(ポリマー3)を得た。
ポリマー4(PC)の合成
減圧装置、攪拌装置、窒素導入管、温度計、還流管とを備えた容積500mLのセパラブルフラスコに、ビスフェノールA(100.0g)、炭酸ジフェニル(94.0g)、およびN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(7mg)を仕込み、窒素ガス気流下で攪拌しつつ、反応容器内の温度を120℃まで上昇させ、同温度にて10分間保持した。次いで反応容器内の温度を160℃まで上昇させ、同温度にて10分間保持した後、反応容器内の温度を180℃まで上昇させた後、窒素気流を停止し、反応容器内を10Torrまで減圧した。生じたフェノールを溜去しつつ40分間反応を継続し、反応容器内の温度を200℃まで上昇させ、30分間保持した。その後、ガラス容器内の温度を240℃まで上昇させた後、同温度で1時間反応を継続し、反応容器内を0.1Torrまで減圧し、さらに6時間反応を継続した。反応終了後、反応容器内に窒素ガスを加えて、常圧に戻し、室温まで冷却した。このようにして得られたポリカーボネートは、クロロホルムに溶解し、大過剰のメタノールにて2回再沈殿し、得られた粉末状のポリマーを50℃で真空乾燥することで目的のポリマー(ポリマー4)を得た。
1Torrは約133.322Paである。
PMMA:ポリメタクリル酸メチル
PSt:ポリスチレン
PAR:ビスフェノールAとテレフタル酸/イソフタル酸との重縮合体
(テレフタル酸とイソフタル酸とを等量で含有)
PC:ポリカーボネート
(ドープ組成物1の調製)
ポリマー1(381mg)をジクロロメタン(6.0g)に溶解し、孔径1μmのメンブレンフィルターにてろ過し、ドープ組成物1を得た。
得られたドープ組成物1を、内径117mmのシャーレ上にキャストし、室温、ジクロロメタン雰囲気下にて徐々に乾燥した。その後、室温にて減圧乾燥した後シャーレ底面から剥がし取り、得られたフィルムを120℃にて5分間加熱乾燥することでジクロロメタンを完全に除去し、フィルム1を得た。フィルム1の膜厚は30μmであった。
フィルムの作製に用いるポリマー種を表2に記載のポリマーに変更した以外は実施例1と同様にしてフィルム2〜8、比較用フィルム1〜4を作製した。
フィルムの膜厚を表2に記載の膜厚に変更した以外は実施例1と同様にしてフィルム9〜11を作製した。
上記実施例及び比較例で得られたフィルムについて、下記評価を行った。結果を表2に示す。
実施例および比較例で得られたフィルムを用いて、小型卓上型面状体無負荷U字伸縮試験機(型式:DLDMLH−FS,ユアサシステム機器株式会社製)にて、曲率半径2mmでの繰り返し曲げ試験を行い、破断が生じるまでの回数を測定し、以下の基準を用いて評価した。
A:100万回を超えても破断しなかった
B:80万回を超え、100万回以下で破断した
C:60万回を超え、80万回以下で破断した
D:60万回以下で破断した
ドープ組成物1中に、表3に記載の微粒子を、表3に記載の添加量で加えた以外は実施例1と同様にしてフィルム12〜17、及び比較用フィルム5、6を作製した。なお、表3に示した微粒子の添加量は、100質量部のポリマー1に対する質量部である。
作製したフィルムについて、上記繰り返し折り曲げ耐性及び下記の耐傷性(鉛筆硬度)の評価を行った。結果を実施例1の結果と共に表3に示す。
実施例および比較例で得られたフィルムを用いて、JIS K5600−5−4(1999年)に定められた手法に準じて鉛筆硬度を測定した(荷重:200g重)。試験は5回繰り返して実施し、傷がつかなかった回数が3回以上となった鉛筆硬度を採用し、以下の基準を用いて評価した。
A:鉛筆硬度がH以上
B:鉛筆硬度がB〜F
C:鉛筆硬度が2B以下
M−210:株式会社カネカ製 “カネエース M−210” (ゴム弾性粒子,粒径220nm)
MEK−ST:日産化学株式会社製 “MEK−ST−40” (硬質シリカ粒子,粒径12nm)
本出願は、2018年10月30日出願の日本特許出願(特願2018−204447)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
Claims (10)
- 重量平均分子量が下記式(1)で表されるMf1以上であるポリマーを含むフィルムであって、
前記ポリマーのガラス転移温度が60℃以上であり、
前記フィルム中の、粒径が10nm以上10μm以下の微粒子の含有量が前記ポリマー100質量部に対して、40質量部以下であるフィルム。
Mf1=6.60×10(4+Me/11400) (1)
式(1)において、Meは前記ポリマーの絡み合い点間分子量を表す。 - 前記ポリマーの重量平均分子量が下記式(2)で表されるMf2以上である請求項1に記載のフィルム。
Mf2=1.02×10(5+Me/11400) (2) - フォルダブルデバイス用である請求項1又は2に記載のフィルム。
- 前記ポリマーが非晶性ポリマーである請求項1〜3のいずれか1項に記載のフィルム。
- 前記ポリマーが、ポリ(メタ)アクリレート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類、ポリビニルエーテル類、非晶性ポリアリレート類、ポリカーボネート類、及びこれらの共重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種のポリマーである請求項1〜4のいずれか1項に記載のフィルム。
- 膜厚が50μm以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載のフィルム。
- 前記ポリマー及び溶媒を含む溶液を基板上にキャストして膜を形成し、前記膜中の前記溶媒の一部又は全部を除去した後、前記溶媒の一部又は全部が除去された膜を前記基板からはがし取る工程を有する請求項1〜7のいずれか1項に記載のフィルムの製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載のフィルムを備える光学デバイス。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載のフィルムを備えるフォルダブルデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018204447 | 2018-10-30 | ||
JP2018204447 | 2018-10-30 | ||
PCT/JP2019/039010 WO2020090338A1 (ja) | 2018-10-30 | 2019-10-02 | フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020090338A1 true JPWO2020090338A1 (ja) | 2021-09-30 |
JP7250040B2 JP7250040B2 (ja) | 2023-03-31 |
Family
ID=70464074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020553702A Active JP7250040B2 (ja) | 2018-10-30 | 2019-10-02 | フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210246296A1 (ja) |
JP (1) | JP7250040B2 (ja) |
CN (1) | CN112969761B (ja) |
TW (1) | TWI814928B (ja) |
WO (1) | WO2020090338A1 (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05222280A (ja) * | 1991-08-22 | 1993-08-31 | Eastman Kodak Co | ポリエステル及びポリカーボネートのブレンド |
WO2009090799A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 複合化高分子材料、これを含む光学材料および熱可塑性芳香族ポリマー |
JP2009191187A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ビニル芳香族炭化水素系樹脂シート |
JP2014070168A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Kaneka Corp | 新規な絶縁膜用樹脂組成物及びその利用 |
WO2015098676A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ドープ組成物、偏光板保護フィルム、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2015143754A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 透明フィルム及びその製造方法、透明導電フィルム、タッチパネル、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 |
WO2015141340A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
WO2016163554A1 (ja) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 透明フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2017036373A (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 出光興産株式会社 | 絶縁フィルム |
JP2018097270A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法、偏光板、液晶表示装置 |
JP2018158965A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | コニカミノルタ株式会社 | ポリアリレートフィルム及びその製造方法、並びに表示装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3967962A (en) * | 1973-11-23 | 1976-07-06 | Xerox Corporation | Developing with toner polymer having crystalline and amorphous segments |
FR2533709B1 (fr) * | 1982-09-23 | 1985-10-18 | Commissariat Energie Atomique | Fibres optiques en matiere plastique, notamment scintillantes et leur procede de fabrication |
US4550061A (en) * | 1984-04-13 | 1985-10-29 | International Business Machines Corporation | Electroerosion printing media using depolymerizable polymer coatings |
JP4524320B2 (ja) * | 2008-08-11 | 2010-08-18 | 日東電工株式会社 | 粘着剤組成物、粘着剤層、および粘着剤シート |
US20130183536A1 (en) * | 2010-06-01 | 2013-07-18 | Kaneka Corporation | Resin composition and molded product thereof |
JP6110184B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-04-05 | 株式会社日本触媒 | 二軸延伸フィルム、偏光板および画像表示装置ならびに二軸延伸フィルムの製造方法 |
-
2019
- 2019-10-02 CN CN201980071841.2A patent/CN112969761B/zh active Active
- 2019-10-02 WO PCT/JP2019/039010 patent/WO2020090338A1/ja active Application Filing
- 2019-10-02 JP JP2020553702A patent/JP7250040B2/ja active Active
- 2019-10-30 TW TW108139176A patent/TWI814928B/zh active
-
2021
- 2021-04-20 US US17/235,210 patent/US20210246296A1/en active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05222280A (ja) * | 1991-08-22 | 1993-08-31 | Eastman Kodak Co | ポリエステル及びポリカーボネートのブレンド |
WO2009090799A1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | 複合化高分子材料、これを含む光学材料および熱可塑性芳香族ポリマー |
JP2009191187A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ビニル芳香族炭化水素系樹脂シート |
JP2014070168A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Kaneka Corp | 新規な絶縁膜用樹脂組成物及びその利用 |
WO2015098676A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ドープ組成物、偏光板保護フィルム、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
JP2015143754A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 透明フィルム及びその製造方法、透明導電フィルム、タッチパネル、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 |
WO2015141340A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
WO2016163554A1 (ja) * | 2015-04-10 | 2016-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 透明フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2017036373A (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 出光興産株式会社 | 絶縁フィルム |
JP2018097270A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法、偏光板、液晶表示装置 |
JP2018158965A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | コニカミノルタ株式会社 | ポリアリレートフィルム及びその製造方法、並びに表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI814928B (zh) | 2023-09-11 |
TW202024199A (zh) | 2020-07-01 |
WO2020090338A1 (ja) | 2020-05-07 |
US20210246296A1 (en) | 2021-08-12 |
JP7250040B2 (ja) | 2023-03-31 |
CN112969761A (zh) | 2021-06-15 |
CN112969761B (zh) | 2023-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5623693B2 (ja) | メタクリル樹脂及びその製造方法 | |
JP2009538378A (ja) | 透明ポリカーボネートブレンド | |
TW200846380A (en) | (Meth)acrylate copolymer for syrup and resin composition thereof | |
CN109715722B (zh) | 树脂组合物和树脂成型体 | |
JP2019006881A (ja) | 防曇剤組成物、防曇塗膜を有する防曇性物品 | |
JP5019736B2 (ja) | アクリル系透明性フィルム又はシート | |
JP2006193708A (ja) | フルオレン骨格含有(メタ)アクリル系重合体およびその製造方法 | |
JP6438882B2 (ja) | 共重合体の製造方法 | |
KR20220038278A (ko) | 소수성 고열 광학 아크릴 공중합체 | |
TW201233689A (en) | Methyl methacrylate polymer production method | |
US8647739B2 (en) | Transparent flat article made of nanostructured acrylic materials | |
JP7250040B2 (ja) | フィルム、フィルムの製造方法、光学デバイス、及びフォルダブルデバイス | |
JP6040752B2 (ja) | フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸エステル−アクリレート共重合樹脂及びその製造方法 | |
JPS61151212A (ja) | メタクリル系共重合体の製造法 | |
JP2011046805A (ja) | 透明性樹脂組成物 | |
JP6859026B2 (ja) | ラクトン環含有重合体とそれを含む樹脂組成物および樹脂成形体 | |
JP6489895B2 (ja) | ラクトン環含有重合体の製造方法、ラクトン環含有重合体を含む樹脂組成物の製造方法および新規重合体 | |
JP2019052267A (ja) | 硬化性組成物 | |
JP2023137519A (ja) | ポリデカメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、重合体、樹脂組成物、単量体組成物、及び製造方法 | |
JP2017149932A (ja) | フマル酸ジエステル/(メタ)アクリレート共重合体及びその製造方法 | |
JP2017210503A (ja) | メタクリル酸エステル共重合体および成形体 | |
JP2002328240A (ja) | 導光体 | |
JP6269190B2 (ja) | 硬化型接着剤 | |
JP2002128837A (ja) | 共重合体の製造方法 | |
JP5102009B2 (ja) | 主鎖に環構造を有する非晶性耐熱樹脂の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211214 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220726 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220921 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230221 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230320 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7250040 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |