JPWO2020045074A1 - 分離膜シート、分離膜エレメント、分離膜モジュール、及び、分離膜シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第1多孔層と、
前記第1多孔層上に積層される樹脂組成物層と、を含み、
前記樹脂組成物層は、
濾過残渣分率が20%以上90%以下であり、
イオン性基又はその塩を有する樹脂を含み、濾過残渣における乾燥樹脂1g当たりのイオン交換容量が1ミリモル当量以上である、分離膜シート。
〔3〕 前記第2多孔層は、前記樹脂組成物層の前記第1多孔層とは反対側に積層されている、〔2〕に記載の分離膜シート。
〔9〕 有孔の中心管と、
〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の分離膜シートを含むエレメント用積層体とを含み、
前記エレメント用積層体は、前記中心管に巻回される、〔8〕に記載の分離膜エレメント。
前記分離膜シートに原料流体を供給するための原料流体供給口と、
前記分離膜シートを透過しなかった原料流体を排出するための非透過流体排出口と、
前記分離膜シートを透過した前記特定の流体成分を排出するための透過流体排出口と、を備える、分離膜モジュール。
〔12〕 〔10〕に記載の分離膜モジュールを少なくとも1つ備え、
前記原料流体は、水素及び二酸化炭素を含む原料ガスであり、
前記特定の流体成分は、二酸化炭素を含む、水素の製造装置。
第1多孔層上に樹脂組成物層を形成する工程を含み、
前記樹脂組成物層を形成する工程は、前記第1多孔層上に形成された塗布層に対して、照射量が10kGy以上1000kGy未満の電子線を照射する工程を含む、分離膜シートの製造方法。
前記電子線を照射する工程は、前記積層体が有する前記塗布層に対して電子線を照射する工程である、〔13〕又は〔14〕に記載の分離膜シートの製造方法。
本発明の分離膜シートは、特定の流体成分を選択的に透過する分離膜シートであって、第1多孔層と、第1多孔層上に積層される樹脂組成物層と、を含み、樹脂組成物層は、濾過残渣分率が20%以上90%以下である。濾過残渣分率は、後述する手順で測定することができ、25%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、また、80%以下であることが好ましく、75%以下であることがより好ましい。濾過残渣分率が低いと、流体成分の分離を行う過程で、樹脂組成物層の一部又は全部が第1多孔層の孔を通過して欠落することがあり、流体成分の透過性能及び分離性能(以下、両者をまとめて「透過分離性能」ということがある。)の性能寿命が低下する傾向にある。また、残渣濾過率が高いと、樹脂組成物層の柔軟性が低下し、樹脂組成物層と第1多孔層との密着性が低下しやすい傾向にある。
本発明の分離膜シートの製造方法は、特定の流体成分を選択的に透過する分離膜シートの製造方法であって、第1多孔層上に樹脂組成物層を形成する工程を含み、樹脂組成物層を形成する工程は、第1多孔層上に形成された塗布層に対して、照射量が10kGy以上1000kGy未満の電子線を照射する工程を含む。電子線の照射量は、14kGy以上であることが好ましく、18kGy以上であることがより好ましく、20kGy以上であることがさらに好ましく、また、800kGy以下であることが好ましく、600kGy以下であることがより好ましく、500kGy以下であることがさらに好ましい。電子線の照射量が上記の範囲内であることにより、樹脂組成物層の濾過残渣分率を20%以上90%以下に調整しやすい。また、電子線の加速電圧は、通常10keV以上500keV以下であり、100keV以上300keV以下であることが好ましい。
図1は、分離膜シートの一例を示す断面図である。本発明の分離膜シートの一例である酸性ガス分離膜シートは、図1に示すように、
酸性ガス(特定の流体成分)を選択的に透過する酸性ガス分離膜シート10(分離膜シート)であって、
第1多孔層11と、
親水性樹脂(樹脂)を含む層であって、第1多孔層11上に積層される親水性樹脂組成物層15(樹脂組成物層)と、を含み、
親水性樹脂組成物層15は、濾過残渣分率が20%以上90%以下であるものである。親水性樹脂組成物層15は、イオン性基又はその塩を有する樹脂を含み、濾過残渣における乾燥樹脂1g当たりのイオン交換容量は、1ミリモル当量以上である。
上記反応式(1)に示すように、CO2とCO2キャリアとの可逆反応には水分が必要である。すなわち、酸性ガスがCO2である酸性ガス分離膜シート10では、上記反応式(1)に示すように、膜材中の水分によって酸性ガスの透過量が変化し、膜材中の水分が高いほど酸性ガスの透過量が多くなる。
親水性樹脂組成物層15は、親水性樹脂を含むゲル状の層であってよい。親水性樹脂組成物層15は、酸性ガスキャリアを含んでいてもよく、必要に応じて、親水性樹脂や酸性ガスキャリア以外の添加剤を含んでいてもよい。
(1)酸性ガス分離膜シート10から5cm×5cmの大きさで切り出したサンプルを、温度20℃の水50mLに浸漬し、親水性樹脂組成物層15を十分に水中に分散させて親水性樹脂組成物分散水を得る。
(2)親水性樹脂組成物分散水を60メッシュの濾材(材質:ナイロン66PA、線径:165μm、目開き:258μm;例えば、東京スクリーン社からナイロンメッシュNB60(商品名)として入手可能)を用いて、撹拌及び加圧を行わない自然濾過を行い、濾過開始5min後の濾過残渣及び濾過液を得る。
(3)得られた濾過残渣及び濾過液を温度100℃の減圧オーブン(例えば、アズワン社製、商品名:真空乾燥器AVO−250N)で24hr真空乾燥させた後、真空乾燥後の濾過残渣及び濾過液の重量を測定し、固形分重量[g]とする。
(4)得られた固形分重量に基づき、下記式(I):
濾過残渣分率[%]={濾過残渣の固形分の重量[g]÷(濾過残渣の固形分の重量[g]+濾過液の固形分の重量[g])}×100 (I)
に基づいて、濾過残渣分率を算出する。
第1多孔層11は、後述するように、親水性樹脂組成物層15を形成するための塗布液が塗布される層であり得る。第1多孔層11は、酸性ガス分離膜シート10において、親水性樹脂組成物層15に供給された原料ガス、特に原料ガスに含まれるガス成分のうち親水性樹脂組成物層15を選択的に透過するガス成分の拡散抵抗とならないように、ガス透過性の高い多孔性を有することができる。第1多孔層11は、1層構造でもよく2層以上の積層構造であってもよい。第1多孔層11は、酸性ガス分離膜シート10の適用が想定されるプロセス条件に応じた耐熱性を有することが好ましい。本明細書において「耐熱性」とは、第1多孔層11等の部材をプロセス条件以上の温度条件下に2時間保存した後においてもこの部材の保存前の形態が維持され、熱収縮或いは熱溶融による、目視で確認し得るカールが生じないことを意味する。
以下、酸性ガス分離膜シート10の製造方法の一例について図面を参照しながら説明する。図2〜5は、酸性ガス分離膜シート10を製造するための製造装置の概略図である。酸性ガス分離膜シート10の製造方法は、
第1多孔層11上に親水性樹脂組成物層15を形成する工程を含み、
親水性樹脂組成物層15を形成する工程は、第1多孔層11上に形成された塗布層に対して、照射量が10kGy以上1000kGy未満の電子線を照射する工程(以下、「電子線照射工程」ということがある。)を含み、
親水性樹脂組成物層15は、親水性樹脂を含む。親水性樹脂組成物層15の濾過残渣における乾燥樹脂1g当たりのイオン交換容量は、1ミリモル当量以上であってもよい。
親水性樹脂組成物層15を形成する工程は、第1多孔層11上に、親水性樹脂を含む親水性樹脂組成物層15を形成する工程であり、第1多孔層11に塗布液を塗布して液層を形成する液層形成工程を含んでいてもよい。塗布液は、親水性樹脂組成物層15を形成するためのものであって、親水性樹脂組成物層15に含まれる親水性樹脂となり得る塗布液用重合体と媒質とを含み、酸性ガスと可逆的に反応する物質(酸性ガスキャリア)を含んでいてもよい。塗布液は、塗布液用重合体、媒質、酸性ガスキャリア等の原料を、原料組成が変化しない温度、例えば、常温(通常20℃)で混合することによって得ることができる。得られた塗布液は、図2に示すように、原料タンク31に貯留しておくことができる。また、図2に示す原料タンク31を省略し、撹拌タンク32に原料を仕込み混合して、塗布液を準備してもよい。
電子線照射工程は、第1多孔層11上に形成された塗布層に電子線を照射して、第1多孔層11上に親水性樹脂組成物層15を形成する工程である。電子線照射工程は、例えば図4に示すように、追乾燥工程を経た積層体巻回体18aから積層体18を連続的に巻出し、巻出された積層体18に対して、第2多孔層12側から電子線照射装置59から電子線を照射することにより、塗布層中の塗布液用重合体を、分子内又は分子間で架橋して親水性樹脂組成物層15を形成することができる。
酸性ガス分離膜シート10は、スパイラル型、平膜型、プリーツ型、プレートアンドフレーム型等の公知のガス分離膜エレメント(分離膜エレメント)に用いることができる。
酸性ガスを含む原料ガスが流れる供給側流路部材3と、
供給側流路部材3を流れる原料ガスに含まれる酸性ガスを選択的に分離して透過させる酸性ガス分離膜シート10と、
酸性ガス分離膜シート10を透過した酸性ガスを含む透過ガスが流れる透過側流路部材4と、
原料ガスと透過ガスとの混合を防止するための封止部と、
透過側流路部材4を流れる透過ガスを収集する中心管5と、を有し、
供給側流路部材3と、酸性ガス分離膜シート10と、透過側流路部材4とをそれぞれ少なくとも1以上積層したエレメント用積層体が、中心管5に巻回された巻回体を備えることができる。巻回体は、円筒状、角筒状等の任意の形状であってもよい。
ガス分離装置(分離装置)は、ガス分離膜モジュールを少なくとも1つ備える。ガス分離装置に備えられるガス分離膜モジュールの配列及び個数は、要求される処理量、特定のガスの回収率、ガス分離装置を設置する場所の大きさ等に応じて選択することができる。
上記した酸性ガス分離膜シート10は、酸性ガスが二酸化炭素(CO2)である場合、CO2及び水蒸気を含む原料ガスからCO2と同時に水蒸気も除去することができるため、酸性ガス分離膜シート10を含むガス分離装置は、種々の用途に用いることができる。具体的には、炭化水素の改質を行って得られ、水素の製造等のために用いる改質ガス;燃料電池等で発生する水素の電気化学的酸化反応ガス;バイオマスのメタン発酵等で得られるバイオガス;ボイラ等で発生する燃焼排ガス等に含まれるCO2や水蒸気を除去するために、上記した酸性ガス分離膜シート10、ガス分離膜モジュール、ガス分離装置等を用いることができる。
水素の製造装置は、ガス分離膜モジュール(分離膜モジュール)を少なくとも1つ備えることができる。この場合、ガス分離膜モジュールは、少なくとも水素及び二酸化炭素を含む原料ガス(原料流体)から、二酸化炭素ガスを含むガス成分(特定の流体成分)を選択的に透過させることができる。水素の製造装置に備えられるガス分離膜モジュールは、ガス分離膜モジュールを含むガス分離装置として備えられていてもよい。
図8(a)に示す水素の製造装置100aは、水蒸気改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により膜分離を行う。水素の製造装置100aは、混合器81a、水蒸気改質を行うための水蒸気改質器82a、酸性ガス分離膜シート10を有するガス分離膜モジュールを備えたガス分離装置20、凝縮器83a、減圧ポンプ84a、液抜きポンプ85aを有する。
CH4+H2O⇔CO+3H2 (2)
に示す水蒸気改質反応によって、CH4を一酸化炭素(CO)及び水素(H2)に改質する改質部と、反応式(3):
CO+H2O⇔CO2+H2 (3)
に示すCO転化反応によって、COをCO2及びH2に転化する転化部とを有することができる。
図8(b)に示す水素の製造装置100bは、水蒸気改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質の原料となるCH4として、水蒸気改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点において、上記の実施形態と異なっている。本変形例では、上記の実施形態よりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、水素の製造装置100bに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、先の実施形態で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図9(a)に示す水素の製造装置100cは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により膜分離を行う。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。水素の製造装置100cは、混合器81c、CO2改質を行うためのCO2改質器82c、酸性ガス分離膜シート10を有するガス分離膜モジュールを備えたガス分離装置20、凝縮器83a、減圧ポンプ84a、液抜きポンプ85aを有する。混合器81c及びCO2改質器82c以外の各部材の説明については、上記したとおりである。
CH4+CO2⇔2CO+2H2 (4)
に示すCO2改質によって、CH4をH2及びCOに改質する改質部を有することができる。
図9(b)に示す水素の製造装置100dは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、CO2改質の原料となるCH4として、CO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点において、上記の実施形態と異なっている。本変形例では、上記の実施形態よりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、水素の製造装置100dに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図10(a)に示す水素の製造装置100eは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、スイープ法により膜分離を行う。スイープガスとしては、CO2改質の原料であるCH4を用いる。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。製造装置100eは、混合器81c、CO2改質を行うためのCO2改質器82c、酸性ガス分離膜シート10を有するガス分離膜モジュールを備えたガス分離装置20、凝縮器83e、ブロア84e、液抜きポンプ85aを有する。凝縮器83e及びブロア84e以外の各部材の説明については、上記したとおりである。
図10(b)に示す水素の製造装置100fは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、CO2改質の原料となるCH4として、CO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点において、上記の実施形態と異なっている。本変形例では、上記の実施形態よりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100fに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図11(a)に示す水素の製造装置100gは、水蒸気改質及びCO2改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により膜分離を行う。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。水素の製造装置100gは、混合器81g、水蒸気改質及びCO2改質を行うための改質器82g、酸性ガス分離膜シート10を有するガス分離膜モジュールを備えたガス分離装置20、凝縮器83a、減圧ポンプ84a、液抜きポンプ85aを有する。混合器81g及び改質器82g以外の各部材の説明については、上記したとおりである。
図11(b)に示す水素の製造装置100hは、水蒸気改質及びCO2改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質及びCO2改質の原料となるCH4として、水蒸気改質反応及びCO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点において、上記の実施形態と異なっている。本変形例では、上記の実施形態よりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100hに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、先の実施形態で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図12(a)に示す水素の製造装置100iは、水蒸気改質及びCO2改質を行って水素を製造する装置であり、スイープ法により膜分離を行う。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。製造装置100iは、混合器81g、水蒸気改質及びCO2改質を行うための改質器82g、酸性ガス分離膜シート10を有するガス分離膜モジュールを備えたガス分離装置20、凝縮器83e、ブロア84e、液抜きポンプ85aを有する。
図12(b)に示す水素の製造装置100jは、水蒸気改質及びCO2改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質及びCO2改質の原料となるCH4として、水蒸気改質及びCO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点において、上記の実施形態と異なっている。本変形例では、上記の実施形態よりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100jに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、先の実施形態及び変形例で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
酸性ガス分離膜シートから5cm×5cmの大きさで切り出したサンプルを、温度20℃の水50mLに浸漬し、親水性樹脂組成物層を十分に水中に分散させて親水性樹脂組成物分散水を得た。得られた親水性樹脂組成物分散水を60メッシュの濾材(東京スクリーン社製、商品名:ナイロンメッシュNB60、材質:ナイロン66PA、線径:165μm、目開き:258μm)を用いて、撹拌及び加圧を行わない自然濾過を行い、濾過開始5min後の濾過残渣及び濾過液を得た。得られた濾過残渣及び濾過液を温度100℃の減圧オーブン(アズワン社製、商品名:真空乾燥器AVO−250N)で24hr真空乾燥させた後、真空乾燥後の濾過残渣及び濾過液の重量を測定し、それぞれを、濾過残渣の固形分重量[g]及び濾過液の固形分重量[g]とした。得られた固形分重量に基づき、式(I):
濾過残渣分率[%]={濾過残渣の固形分の重量[g]÷(濾過残渣の固形分の重量[g]+濾過液の固形分の重量[g])}×100 (I)
にしたがって濾過残渣分率を算出した。
親水性樹脂組成物層に含まれる親水性樹脂のイオン交換容量は、濾過残渣分率の測定時に得られる濾過残渣に対して測定した。具体的には、次の手順で親水性樹脂のイオン交換容量を測定した。濾過残渣分率を測定する際に得られた濾過残渣35mgを精製水180mLに分散させ、20mLを採取し、スターラーで撹拌しながら、0.1Mの塩酸を加えてpHを3.5程度にした後、0.2Mの水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和滴定を行った。この中和滴定の結果より、親水性樹脂のイオン交換容量は、次式:
イオン交換容量[ミリモル当量/濾過残渣における乾燥樹脂1g]=(水酸化ナトリウムの滴定量[mL]×水酸化ナトリウムの濃度[0.2ミリモル/mL]/乾燥洗浄濾過残渣[35mg])×1000
を用いて算出した。ここで、
水酸化ナトリウムの滴定量[mL]=第二中和点までに要した水酸化ナトリウムの滴下量[mL]−第一中和点までに要した水酸化ナトリウムの滴下量[mL]
とする。
図7に示す、ガス分離膜セル61を備えたガス分離装置を用いて、酸性ガス分離膜シート10のCO2パーミアンス及びN2パーミアンスを測定した。具体的には、作製した酸性ガス分離膜シート10を適切な大きさにカットして平膜形状とし、これをステンレス製のガス分離膜セル61の供給側室62と透過側室63の間に固定した。原料ガス(CO2:34.4%、N2:27.8%、H2O:37.8%)を1349.5NmL/minの流量でガス分離膜セル61の供給側室62に供給した。ここで、水を定量送液ポンプ68で送入し、加熱して蒸発させて、H2Oが上記混合比率となるように調整した。供給側室62の圧力は、非透過ガスの排出路の途中の冷却トラップ64の下流側に設けられた背圧調整器65によって900kPaA(絶対圧)に調整した。また、冷却トラップ66とガスクロマトグラフ67の間にも背圧調整器69が設けられており、これによって透過側室63の圧力を大気圧に調整した。
=146hr後のCO2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa)]/初期のCO2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa)]
CO2/N2選択率の性能寿命
=146hr後のCO2/N2選択率/初期のCO2/N2選択率
ここで、初期のCO2/N2選択率及び146hr後のCO2/N2選択率は、次式の計算式にしたがって計算した。
=初期のCO2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa)]/初期のN2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa)]
146hr後のCO2/N2選択率
=146hr後のCO2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa]/146hr後のN2パーミアンス[mol/(m2・s・kPa)]
〔実施例1〕
媒質としての水170.92重量部と、重合体としての架橋ポリアクリル酸(住友精化(株)製;商品名:アクペック「HV−501」、イオン交換容量13.5ミリモル当量/g)4重量部及び非架橋ポリアクリル酸(住友精化(株)製;商品名:アクパーナ「AP−40F(40%Na鹸化)」、イオン交換容量12.4ミリモル当量/g)0.8重量部とを原料タンク31に仕込み、これらの重合体を水に分散させた分散液を得た。この分散液に、酸性ガスキャリアとして50%水酸化セシウム水溶液38.09重量部を添加し混合した後、添加剤として10%亜テルル酸ナトリウム水溶液3.18重量部と10%界面活性剤(AGCセイミケミカル(株)製;商品名:サーフロン「S−242」)水溶液1.2重量部を加えて混合して、塗布液を得た。得られた塗布液を、脱泡装置((株)シンキー社製;商品名:「自転・公転ミキサーあわとり練太郎ARE−310」)を用いて脱泡した。
塗布液に用いた架橋ポリアクリル酸を、住友精化(株)製;商品名:アクペック「HV−501E」に変更したこと以外は、実施例1と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。
電子線照射の加速電圧及び線量を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。
塗布液に用いた架橋ポリアクリル酸、非架橋ポリアクリル酸、及び50%水酸化セシウム水溶液の添加量を、表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。
電子線照射装置59による電子線照射を行わなかったこと以外は、実施例2と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。
電子線照射量を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。なお、表2中の性能寿命の欄の「測定不能(損傷有)」は、酸性ガス分離膜シート10の第1多孔層11に損傷があり、性能寿命試験を行うことができなかったことを示す。
電子線照射装置59による電子線照射を行わなかったこと以外は、実施例4と同様にして酸性ガス分離膜シート10を得た。得られた酸性ガス分離膜シート10を用いて、濾過残渣分率及びイオン交換容量を測定し、性能寿命試験を行った。その結果を表1に示す。
Claims (23)
- 特定の流体成分を選択的に透過する分離膜シートであって、
第1多孔層と、
前記第1多孔層上に積層される樹脂組成物層と、を含み、
前記樹脂組成物層は、
濾過残渣分率が20%以上90%以下であり、
イオン性基又はその塩を有する樹脂を含み、濾過残渣における乾燥樹脂1g当たりのイオン交換容量が1ミリモル当量以上である、分離膜シート。 - さらに、第2多孔層を有する、請求項1に記載の分離膜シート。
- 前記第2多孔層は、前記樹脂組成物層の前記第1多孔層とは反対側に積層されている、請求項2に記載の分離膜シート。
- 前記イオン性基は、酸性を示すイオン性基である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の分離膜シート。
- 前記酸性を示すイオン性基は、カルボキシル基である、請求項4に記載の分離膜シート。
- 前記特定の流体成分は、酸性ガスである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の分離膜シート。
- 前記樹脂組成物層は、さらに、酸性ガスと可逆的に反応する物質を含む、請求項6に記載の分離膜シート。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の分離膜シートを含む分離膜エレメント。
- 有孔の中心管と、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の分離膜シートを含むエレメント用積層体とを含み、
前記エレメント用積層体は、前記中心管に巻回される、請求項8に記載の分離膜エレメント。 - 請求項8又は9に記載の分離膜エレメントを少なくとも1基と、
前記分離膜シートに原料流体を供給するための原料流体供給口と、
前記分離膜シートを透過しなかった原料流体を排出するための非透過流体排出口と、
前記分離膜シートを透過した前記特定の流体成分を排出するための透過流体排出口と、を備える、分離膜モジュール。 - 請求項10に記載の分離膜モジュールを少なくとも1つ備える、分離装置。
- 請求項10に記載の分離膜モジュールを少なくとも1つ備え、
前記原料流体は、水素及び二酸化炭素を含む原料ガスであり、
前記特定の流体成分は、二酸化炭素を含む、水素の製造装置。 - 特定の流体成分を選択的に透過する分離膜シートの製造方法であって、
第1多孔層上に樹脂組成物層を形成する工程を含み、
前記樹脂組成物層を形成する工程は、前記第1多孔層上に形成された塗布層に対して、照射量が10kGy以上1000kGy未満の電子線を照射する工程を含む、分離膜シートの製造方法。 - 前記樹脂組成物層は、濾過残渣分率が20%以上90%以下である、請求項13に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記樹脂組成物層を形成する工程は、さらに、前記塗布層の前記第1多孔層とは反対側に第2多孔層を積層して積層体を得る工程を有し、
前記電子線を照射する工程は、前記積層体が有する前記塗布層に対して電子線を照射する工程である、請求項13又は14に記載の分離膜シートの製造方法。 - 前記樹脂組成物層は、イオン性基又はその塩を有する樹脂を含み、濾過残渣における乾燥樹脂1g当たりのイオン交換容量が1ミリモル当量以上である、請求項13〜15のいずれか1項に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記イオン性基は、酸性を示すイオン性基である、請求項16に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記酸性を示すイオン性基は、カルボキシル基である、請求項17に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記塗布層は、非架橋型重合体を含む、請求項13〜18のいずれか1項に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記塗布層は、さらに架橋型重合体を含む、請求項19に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記特定の流体成分は、酸性ガスである、請求項13〜20のいずれか1項に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記塗布層は、さらに、酸性ガスと可逆的に反応する物質を含む、請求項21に記載の分離膜シートの製造方法。
- 前記塗布層に照射する電子線の照射量は、電子線の照射回数及び照射時間のうちの少なくとも一方によって調整される、請求項13〜22のいずれか1項に記載の分離膜シートの製造方法。
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