JPWO2019151028A1 - 組成物、位相差フィルム、及び位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含み、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす、組成物。｜λａ１−λｂ１｜≦２０ｎｍ （ｉ）λｃ１≦２５０ｎｍ （ｉｉ）（上記式において、λａ１は、前記重合性液晶化合物（Ａ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、λｂ１は、前記光重合開始剤（Ｂ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、λｃ１は、前記架橋剤（Ｃ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおける少なくとも一つの吸収極大の波長を表す。）

Description

本発明は、組成物、位相差フィルム、及び位相差フィルムの製造方法に関する。

位相差フィルムを製造するために、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を配合した組成物が開発されている（特許文献１〜４）。該組成物を、例えば基材フィルムに塗布して組成物層を形成し、組成物に所定の光を照射することにより、重合性液晶化合物を硬化させて、位相差フィルムを製造する。

国際公開第２０１４／０６５２４３号（対応公報：米国特許出願公開第２０１５／０２７７０１０号明細書） 国際公開第２０１４／０６９５１５号（対応公報：米国特許出願公開第２０１５／０２８５９７９号明細書） 特開２００９−０９８６６４号公報 特開２０１７−０２７０５６号公報（対応公報：米国特許出願公開第２０１７／００２２４１８号明細書）

位相差フィルムは、例えば画像表示装置などに備えられて、例えば自動車車室内などの、高温となる場所で使用されることがある。したがって、位相差フィルムは、高温下にさらされても、光学的性質が変化しにくいものであることが好ましく、特にレターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さいものであることが好ましい。
したがって、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さい位相差フィルム及びかかる位相差フィルムを製造しうる組成物が求められている。

本発明者らは、特許文献３及び４の技術のように、重合性液晶化合物の吸収極大波長と光重合開始剤の吸収極大波長との差が２０ｎｍを超える場合には、組成物を硬化させて得られる位相差フィルムの熱耐久性が不十分であり、熱耐久性試験においてレターデーションＲｅの変化が大きいことを見出した。

本発明者らは、この知見に基づき上記課題を解決すべく鋭意検討したところ、意外にも、重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び架橋剤を含み、重合性液晶化合物の所定の吸収極大波長と光重合開始剤の所定の吸収極大波長との差の絶対値が、２０ｎｍ以下である組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下を提供する。

［１］ 重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含み、
下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす、組成物。
｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜≦２０ｎｍ （ｉ）
λ_ｃ１≦２５０ｎｍ （ｉｉ）
（上記式において、
λ_ａ１は、前記重合性液晶化合物（Ａ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
λ_ｂ１は、前記光重合開始剤（Ｂ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
λ_ｃ１は、前記架橋剤（Ｃ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおける少なくとも一つの吸収極大の波長を表す。）
［２］ 更に下記式（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）を満たす、［１］に記載の組成物。
３００ｎｍ≦λ_ａ１≦３５５ｎｍ （ｉｉｉ）
５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ａ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｉｖ）
（上記式において、
λ_ａ１は上記と同義であり、
Ａ_ａは、前記重合性液晶化合物（Ａ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。）
［３］ 更に下記式（ｖ）及び（ｖｉ）を満たす、［１］又は［２］に記載の組成物。
３００ｎｍ≦λ_ｂ１≦３５５ｎｍ （ｖ）
１００００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ｂ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｖｉ）
（上記式において、
λ_ｂ１は上記と同義であり、
Ａ_ｂは前記光重合開始剤（Ｂ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。）
［４］ 更に下記式（ｖｉｉ）を満たす、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の組成物。
Ａ_ｃ＜Ａ_ａかつＡ_ｃ＜Ａ_ｂ （ｖｉｉ）
（上記式において、
Ａ_ａは、前記重合性液晶化合物（Ａ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表し、
Ａ_ｂは、前記光重合開始剤（Ｂ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表し、
Ａ_ｃは、前記架橋剤（Ｃ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表す。）
［５］ 前記重合性液晶化合物（Ａ）が、下記式（Ｉ）で表される化合物である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の組成物。

（上記式（Ｉ）において、
Ａｒは、下記式（II−１）〜式（II−７）のいずれかで表される基を示す。

（上記式（II−１）〜式（II−７）において、
＊は、Ｚ^１又はＺ^２との結合位置を表す。
Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立して、−ＣＲ^１１Ｒ^１２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。
Ｄ^１〜Ｄ^３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
Ｄ^４〜Ｄ^５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい非環状基を表す。Ｄ^４及びＤ^５は、一緒になって環を形成していてもよい。
Ｄ^６は、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、及び、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｒ^ｉからなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｆは、水素原子、及び炭素原子数１〜６のアルキル基からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｇは、水素原子、及び置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｈは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。Ｒ^ｉは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。）
Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２１−、−ＣＦ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２１は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、及び、置換基を有していてもよい芳香族基、からなる群より選ばれる基を表す。
Ｙ^１〜Ｙ^４は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、及び、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２３−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基；並びに、炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基（−ＣＨ_２−）の１以上が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｇ^１及びＧ^２の前記有機基に含まれる水素原子は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、又は、ハロゲン原子に置換されていてもよい。ただし、Ｇ^１及びＧ^２の両末端のメチレン基（−ＣＨ_２−）が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されることはない。
Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、重合性官能基を表す。
ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０又は１を表す。）
［６］ 前記重合性液晶化合物（Ａ）が、逆波長分散性重合性液晶化合物である、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の組成物。
［７］ 前記架橋剤（Ｃ）が、２官能性モノマーである、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の組成物。
［８］ 前記架橋剤（Ｃ）が、脂環式構造を有する化合物である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の組成物。
［９］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、Ｏ−アシルオキシム化合物である、［１］〜［８］のいずれか１項に記載の組成物。
［１０］ ［１］に記載の組成物の硬化物で形成され、５９０ｎｍにおけるレターデーションＲｅが１００ｎｍを超え１８０ｎｍ未満である位相差フィルム。
［１１］ 下記式（ｖｉｉｉ）を満たす、［１０］に記載の位相差フィルム。
｜Δｎ０−Δｎ１｜＜０．０２５ｎｍ （ｖｉｉｉ）
（上記式において、
Δｎ１は、前記位相差フィルムの５９０ｎｍにおける複屈折を表し、
Δｎ０は、［１］に記載の組成物から前記架橋剤（Ｃ）を除いた組成物（Ｘ_０）の硬化物で形成されるフィルムの、５９０ｎｍにおける複屈折を表す。）
［１２］ ［１］〜［９］のいずれか１項に記載の組成物の硬化物で形成された位相差フィルムの製造方法であって、下記工程（１）〜（３）をこの順で含む、位相差フィルムの製造方法。
工程（１）：［１］〜［９］のいずれか１項に記載の組成物で形成された組成物層を、乾燥する工程
工程（２）：乾燥された前記組成物層に紫外線を照射して硬化層を得る工程
工程（３）：前記硬化層を熱処理する工程
［１３］ 前記工程（２）において、水銀ランプにより紫外線を照射する、［１２］記載の位相差フィルムの製造方法。

本発明によれば、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さい位相差フィルム及びかかる位相差フィルムを製造しうる組成物を提供できる。

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

以下の説明において、ある層のレターデーションとは、別に断らない限り、面内レターデーションＲｅを表す。この面内レターデーションＲｅは、別に断らない限り、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。

以下の説明において、ある層の複屈折Δｎとは、別に断らない限り、Δｎ＝ｎｘ−ｎｙで表される値である。複屈折Δｎは、通常、面内レターデーションＲｅをｄで除した値（Ｒｅ／ｄ）である。

ここで、ｎｘは、層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｄは、層の厚みを表す。レターデーションの測定波長は、別に断らない限り、５９０ｎｍである。

以下の説明において、別に断らない限り、「逆波長分散特性」とは、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、下記の式（１）及び式（２）を満たす特性をいう。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ （１）
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１．００ （２）

「紫外線」とは、波長が１ｎｍ以上４００ｎｍ以下である光を意味する。

「１／４λ板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。

構成要素の方向が「平行」又は「垂直」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。

以下の説明において、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおける吸収極大は、通常、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最大吸光度を有するか、又は最大吸光度の１０％以上の吸光度を有する。

以下の説明において、「（メタ）アクリロイル」の文言は、「メタクリロイル」、「アクリロイル」、及びこれらの組み合わせを包含し、「（メタ）アクリレート」の文言は、「メタクリレート」、「アクリレート」、及びこれらの組み合わせを包含する。

［１．組成物］
本発明の組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含み、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす。
｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜≦２０ｎｍ （ｉ）
λ_ｃ１≦２５０ｎｍ （ｉｉ）

上記式において、
λ_ａ１は、前記重合性液晶化合物（Ａ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
λ_ｂ１は、前記光重合開始剤（Ｂ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
λ_ｃ１は、前記架橋剤（Ｃ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおける少なくとも一つの吸収極大の波長を表す。

［重合性液晶化合物（Ａ）］
液晶化合物とは、組成物に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。重合性液晶化合物とは、かかる液晶相を呈した状態で組成物中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。

重合性液晶化合物（Ａ）の分子量は、好ましくは３００以上、より好ましくは５００以上、特に好ましくは８００以上であり、好ましくは２０００以下、より好ましくは１７００以下、特に好ましくは１５００以下である。このような範囲の分子量を有する重合性液晶化合物（Ａ）を用いることにより、組成物の塗工性を良好にできる。

本発明の組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）を、１種単独で含んでいてもよく、２種以上の任意の比率の組み合わせとして含んでいてもよい。

重合性液晶化合物（Ａ）は、逆波長分散性重合性液晶化合物であってもよく、逆波長分散性重合性液晶化合物であることが好ましい。ここで、逆波長分散性重合性液晶化合物とは、ホモジニアス配向させて重合体とした場合に、得られた重合体が逆波長分散特性を示す重合性液晶化合物を示す。組成物が含む重合性液晶化合物（Ａ）の一部又は全部として、逆波長分散性重合性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散特性を有する位相差フィルムを容易に得ることができる。

重合性液晶化合物（Ａ）は、好ましくは下記式（Ｉ）で表される化合物である。式（Ｉ）で表される化合物は、逆波長分散特性を示しうる。

式（Ｉ）において、Ａｒは、下記式（II−１）〜式（II−７）のいずれかで表される基を示す。式（II−１）〜式（II−７）において、＊は、Ｚ^１又はＺ^２との結合位置を表す。

前記の式（II−１）〜式（II−７）において、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立して、−ＣＲ^１１Ｒ^１２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる基を表す。また、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。中でも、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立して、−Ｓ−であることが好ましい。

前記の式（II−１）〜式（II−７）において、Ｄ^１〜Ｄ^３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、または、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ｄ^１〜Ｄ^３が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、それぞれ独立して、通常、２〜１００である。

Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基の炭素原子数は、６〜３０が好ましい。Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基がより好ましい。

Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数１〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ_３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ａ；等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ａは、炭素原子数１〜６のアルキル基；並びに、炭素原子数１〜６のアルキル基若しくは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を置換基として有していてもよい、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；からなる群より選ばれる基を表す。

Ｒ^ｂは、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；及び、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基；からなる群より選ばれる基を表す。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基の炭素原子数は、好ましくは１〜１２、より好ましくは４〜１０である。Ｒ^ｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、およびｎ−イコシル基等が挙げられる。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；及び、ベンゾジオキサニル基；等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基の炭素原子数は、好ましくは２〜１２である。Ｒ^ｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、およびイコセニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒ^ｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が好ましい。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；等が挙げられる。中でも、シクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；および、フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基としては、フェニル基が好ましい。

Ｒ^ｂにおける炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；−ＯＣＦ_３；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；等が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素環基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；ニトロ基；フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ_２ＣＦ_３等の、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；−ＯＣＦ_３；が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族複素環基の炭素原子数は、２〜３０が好ましい。Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基としては、例えば、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、キノリル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、およびベンゾピラゾリル基等が挙げられる。中でも、芳香族複素環基としては、フラニル基、ピラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、フラザニル基、チアゾリル基、及びチアジアゾリル基等の、単環の芳香族複素環基；並びに、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キノリル基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、フタルイミド基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピラジニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、及びベンゾチアジアゾリル基等の、縮合環の芳香族複素環基；がより好ましい。

Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族複素環基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

前記の式（II−１）〜式（II−７）において、Ｄ^４〜Ｄ^５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい非環状基を表す。Ｄ^４及びＤ^５は、一緒になって環を形成していてもよい。Ｄ^４〜Ｄ^５が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、それぞれ独立して、通常、１〜１００である。

Ｄ^４〜Ｄ^５における非環状基の炭素原子数は、１〜１３が好ましい。Ｄ^４〜Ｄ^５における非環状基としては、例えば、炭素原子数１〜６のアルキル基；シアノ基；カルボキシル基；炭素原子数１〜６のフルオロアルキル基；炭素原子数１〜６のアルコキシ基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３；−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ^ｘ；が挙げられる。中でも、非環状基としては、シアノ基、カルボキシル基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣ_２Ｈ_５、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣ_４Ｈ_９、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＯＣＨ_３、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２−ＯＨ、及び−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−Ｃ_４Ｈ_９、が好ましい。前記のＰｈは、フェニル基を表す。また、前記のＲ^ｘは、炭素原子数１〜１２の有機基を表す。Ｒ^ｘの具体例としては、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、または、水酸基で置換されていてもよい炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げられる。

Ｄ^４〜Ｄ^５における非環状基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｄ^４及びＤ^５が一緒になって環を形成している場合、前記のＤ^４及びＤ^５によって環を含む有機基が形成される。この有機基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。下記式において、＊は、各有機基が、Ｄ^４及びＤ^５が結合する炭素と結合する位置を表す。

Ｒ^＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基を表す。
Ｒ^＊＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
Ｒ^＊＊＊は、炭素原子数１〜３のアルキル基、及び、置換基を有していてもよいフェニル基からなる群より選ばれる基を表す。
Ｒ^＊＊＊＊は、水素原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、水酸基、及び、−ＣＯＯＲ^１３からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^１３は、炭素原子数１〜３のアルキル基を表す。
フェニル基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基及びアミノ基が挙げられる。中でも、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基及びアルコキシ基が好ましい。フェニル基が有する置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

前記の式（II−１）〜式（II−７）において、Ｄ^６は、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、及び、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｒ^ｉからなる群より選ばれる基を表す。Ｄ^６が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、通常、３〜１００である。

Ｒ^ｆは、水素原子；並びに、メチル基、エチル基、プロピル基、及びイソプロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；からなる群より選ばれる基を表す。

Ｒ^ｇは、水素原子；並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基；からなる群より選ばれる基を表す。

Ｒ^ｇにおける置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ_２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキニル基；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基；−Ｇ^ｘ−Ｙ^ｘ−Ｆ^ｘ；−ＳＯ_２Ｒ^ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−ＣＳ−ＮＨ−Ｒ^ｂ；が挙げられる。Ｒ^ａ及びＲ^ｂの意味は、上述した通りである。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Ｒ^ｂにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基と同じである。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；トリアゾリル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の、炭素原子数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の、炭素原子数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の、炭素原子数６〜１４のアリールオキシ基；１個以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−ＳＯ_２Ｒ^ａ；−ＳＲ^ｂ；−ＳＲ^ｂで置換された炭素原子数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。Ｒ^ａ及びＲ^ｂの意味は、上述した通りである。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基の好ましい炭素原子数の範囲及び例示物は、Ｒ^ｂにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基と同じである。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒ^ｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒ^ｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、Ｒ^ｂにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基と同じ例が挙げられる。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が有しうる置換基としては、例えば、Ｒ^ｇにおける炭素原子数１〜２０のアルキル基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。

Ｒ^ｇにおける炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基が有しうる置換基としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における芳香族炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｇ^ｘは、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の２価の脂肪族炭化水素基；並びに、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０の２価の脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１４−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１４−、−ＮＲ^１４−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｒ^１４は、水素原子、又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。前記「２価の脂肪族炭化水素基」は、２価の鎖状の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。

Ｙ^ｘは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^１５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１５−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１５−、−ＮＲ^１５−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^１５は、水素原子、又は、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。中でも、Ｙ^ｘとしては、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−及び−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましい。

Ｆ^ｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する有機基を表す。この有機基の炭素原子数は、好ましくは２以上、より好ましくは７以上、更に好ましくは８以上、特に好ましくは１０以上であり、好ましくは３０以下である。前記の有機基の炭素原子数には、置換基の炭素原子を含まない。

Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、フルオレン環等の、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環が挙げられる。Ｆ^ｘが、複数の芳香族炭化水素環を有する場合、複数の芳香族炭化水素環は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環は、置換基を有していてもよい。Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ_３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；等が挙げられる。Ｒ^ｂの意味は、上述した通りである。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｆ^ｘにおける芳香族複素環としては、例えば、１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン環、１−ベンゾフラン環、２−ベンゾフラン環、アクリジン環、イソキノリン環、イミダゾール環、インドール環、オキサジアゾール環、オキサゾール環、オキサゾロピラジン環、オキサゾロピリジン環、オキサゾロピリダジル環、オキサゾロピリミジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、シンノリン環、チアジアゾール環、チアゾール環、チアゾロピラジン環、チアゾロピリジン環、チアゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、チオフェン環、トリアジン環、トリアゾール環、ナフチリジン環、ピラジン環、ピラゾール環、ピラノン環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピロール環、フェナントリジン環、フタラジン環、フラン環、ベンゾ［ｃ］チオフェン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアジン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾピラゾール環、ペンゾピラノン環等の、炭素原子数２〜３０の芳香族複素環が挙げられる。Ｆ^ｘが、複数の芳香族複素環を有する場合、複数の芳香族複素環は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

Ｆ^ｘにおける芳香族複素環は、置換基を有していてもよい。Ｆ^ｘにおける芳香族複素環が有しうる置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｆ^ｘの好ましい例としては、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい、炭素原子数２〜２０の環状基」が挙げられる。以下、この環状基を、適宜「環状基（ａ）」ということがある。

環状基（ａ）が有しうる置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

環状基（ａ）の好ましい例としては、少なくとも一つの炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０の炭化水素環基が挙げられる。この炭化水素環基を、以下、適宜「炭化水素環基（ａ１）」ということがある。

炭化水素環基（ａ１）としては、例えば、フェニル基（炭素原子数６）、ナフチル基（炭素原子数１０）、アントラセニル基（炭素原子数１４）、フェナントレニル基（炭素原子数１４）、ピレニル基（炭素原子数１６）、フルオレニル基（炭素原子数１３）、インダニル基（炭素原子数９）、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基（炭素原子数１０）、１，４−ジヒドロナフチル基（炭素原子数１０）等の、炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環基が挙げられる。

前記の炭化水素環基（ａ１）の具体例としては、下記式（１−１）〜（１−２１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙ^ｘとの結合手を表す。

環状基（ａ）の別の好ましい例としては、炭素原子数６〜１８の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜１８の芳香族複素環からなる群から選ばれる１以上の芳香環を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の複素環基が挙げられる。この複素環基を、以下、適宜「複素環基（ａ２）」ということがある。

複素環基（ａ２）としては、例えば、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジニル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基等の、炭素原子数２〜１８の芳香族複素環基；キサンテニル基；２，３−ジヒドロインドーリル基；９，１０−ジヒドロアクリジニル基；１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基；ジヒドロピラニル基；テトラヒドロピラニル基；ジヒドロフラニル基；およびテトラヒドロフラニル基；が挙げられる。

前記の複素環基（ａ２）の具体例としては、下記式（２−１）〜（２−５１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙ^ｘとの結合手を表す。下記式中、Ｘは、−ＣＨ_２−、−ＮＲ^ｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ_２−を表す。ＹおよびＺは、それぞれ独立して、−ＮＲ^ｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ_２−を表す。Ｅは、−ＮＲ^ｃ−、酸素原子または硫黄原子を表す。ここで、Ｒ^ｃは、水素原子；または、メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。（但し、各式中において酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−は、それぞれ隣接しないものとする。）。

Ｆ^ｘの好ましい別の例としては、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基で、少なくとも一つの水素原子が置換され、且つ、前記環状基以外の置換基を有していてもよい、炭素原子数１〜１８のアルキル基」が挙げられる。この置換されたアルキル基を、以下、適宜「置換アルキル基（ｂ）」ということがある。

置換アルキル基（ｂ）における炭素原子数１〜１８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。

置換アルキル基（ｂ）において、「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基」としては、例えば、環状基（ａ）として説明した範囲の基が挙げられる。

置換アルキル基（ｂ）において、「芳香族炭化水素環および芳香族複素環の少なくとも一方」は、炭素原子数１〜１８のアルキル基の炭素原子に、直接に結合していてもよく、連結基を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^１５−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１５などが挙げられる。Ｒ^１５の意味は、上述した通りである。よって、置換アルキル基（ｂ）における「芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の環状基」には、フルオレニル基、ベンゾチアゾリル基等の、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の少なくとも一方を有する基；置換されていてもよい芳香族炭化水素環基；置換されていてもよい芳香族複素環基；連結基を有する置換されていてもよい芳香族炭化水素環よりなる基；連結基を有する置換されていてもよい芳香族複素環よりなる基；が含まれる。

置換アルキル基（ｂ）における芳香族炭化水素環基の好ましい例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、およびフルオレニル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基が挙げられる。

置換アルキル基（ｂ）における芳香族炭化水素環基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

置換アルキル基（ｂ）における芳香族複素環基の好ましい例としては、フタルイミド基、１−ベンゾフラニル基、２−ベンゾフラニル基、アクリジニル基、イソキノリニル基、イミダゾリル基、インドリニル基、フラザニル基、オキサゾリル基、オキサゾロピラジニル基、オキサゾロピリジニル基、オキサゾロピリダジニル基、オキサゾロピリミジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、キノリル基、シンノリニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、チアゾロピラジニル基、チアゾロピリジル基、チアゾロピリダジニル基、チアゾロピリミジニル基、チエニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ナフチリジニル基、ピラジニル基、ピラゾリル基、ピラノンニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピロリル基、フェナントリジニル基、フタラジニル基、フラニル基、ベンゾ［ｃ］チエニル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾトリアジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ペンゾピラノンニル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。

置換アルキル基（ｂ）における芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

置換アルキル基（ｂ）における「連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基」及び「連結基を有する芳香族複素環よりなる基」としては、例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントラセニルチオ基、フェナントレニルチオ基、ピレニルチオ基、フルオレニルチオ基、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントラセニルオキシ基、フェナントレニルオキシ基、ピレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ベンゾイソオキサゾリルチオ基、ベンゾイソチアゾリルチオ基、ベンゾオキサジアゾリルチオ基、ベンゾオキサゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンゾチエニルチオ基、ベンゾイソオキサゾリルオキシ基、ベンゾイソチアゾリルオキシ基、ベンゾオキサジアゾリルオキシ基、ベンゾオキサゾリルオキシ基、ベンゾチアジアゾリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベンゾチエニルオキシ基、等が挙げられる。

置換アルキル基（ｂ）における「連結基を有する芳香族炭化水素環よりなる基」及び「連結基を有する芳香族複素環よりなる基」は、それぞれ、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

置換アルキル基（ｂ）が有しうる環状基以外の置換基としては、例えば、Ｆ^ｘにおける芳香族炭化水素環が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

置換アルキル基（ｂ）の具体例としては、下記式（３−１）〜（３−１１）で表される基が挙げられる。また、これらの基は、置換基を有していてもよい。下記式中、「−」は、環の任意の位置からのびる、Ｙ^ｘとの結合手を表す。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。

特に、Ａｒが式（II−５）で表される場合、Ｆ^ｘは、下記式（ｉ−１）〜（ｉ−９）のいずれかで表される基であることが好ましい。また、特に、Ａｒが式（II−６）又は式（II−７）で表される場合、Ｆ^ｘは、下記式（ｉ−１）〜（ｉ−１３）のいずれかで表される基であることが好ましい。下記式（ｉ−１）〜（ｉ−１３）で表される基は、置換基を有していてもよい。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。

更には、Ａｒが式（II−５）で表される場合、Ｆ^ｘは、下記式（ii−１）〜（ii−１８）のいずれかで表される基であることが特に好ましい。また、Ａｒが式（II−６）又は式（II−７）で表される場合、Ｆ^ｘは、下記式（ii−１）〜（ii−２４）のいずれかで表される基であることが特に好ましい。下記式（ii−１）〜（ii−２４）で表される基は、置換基を有していてもよい。下記の式において、Ｙの意味は、上述した通りである。また、下記式中、＊は、結合位置を表す。

Ａｒが式（II−５）で表される場合、Ｆ^ｘ中の環構造に含まれるπ電子の総数は、８以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。また、Ａｒが式（II−６）又は式（II−７）で表される場合、Ｆ^ｘ中の環構造に含まれるπ電子の総数は、４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、２０以下であることが好ましく、１８以下であることがより好ましい。

上述したものの中でも、Ｒ^ｇとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ_２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基；並びに、−Ｇ^ｘ−Ｙ^ｘ−Ｆ^ｘ；が好ましい。その中でも、Ｒ^ｇとしては、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基；炭素原子数１〜２０のアルキル基に含まれる−ＣＨ_２−の少なくとも一つが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基（ただし、−Ｏ−または−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く）；置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基；並びに、−Ｇ^ｘ−Ｙ^ｘ−Ｆ^ｘ；が特に好ましい。

Ｒ^ｈは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。

Ｒ^ｈの好ましい例としては、（１）一以上の炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数６〜４０の炭化水素環基、が挙げられる。この芳香族炭化水素環を有する炭化水素環基を、以下、適宜「（１）炭化水素環基」ということがある。（１）炭化水素環基の具体例としては、下記の基が挙げられる。

（１）炭化水素環基は、置換基を有していてもよい。（１）炭化水素環基が有しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；−ＯＣＦ_３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ａ；等が挙げられる。Ｒ^ａ及びＲ^ｂの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、および、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｈの別の好ましい例としては、（２）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、炭素原子数２〜４０の複素環基が挙げられる。この芳香環を有する複素環基を、以下、適宜「（２）複素環基」ということがある。（２）複素環基の具体例としては、下記の基が挙げられる。Ｒは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。

（２）複素環基は、置換基を有していてもよい。（２）複素環基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｈの更に別の好ましい例としては、（３）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げられる。この置換されたアルキル基を、以下、適宜「（３）置換アルキル基」ということがある。

（３）置換アルキル基における「炭素原子数１〜１２のアルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。
（３）置換アルキル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（３）置換アルキル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。

（３）置換アルキル基は、更に置換基を有していてもよい。（３）置換アルキル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｈの更に別の好ましい例としては、（４）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数２〜１２のアルケニル基が挙げられる。この置換されたアルケニル基を、以下、適宜「（４）置換アルケニル基」ということがある。

（４）置換アルケニル基における「炭素原子数２〜１２のアルケニル基」としては、例えば、ビニル基、アリル基などが挙げられる。
（４）置換アルケニル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（４）置換アルケニル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。

（４）置換アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。（４）置換アルケニル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｈの更に別の好ましい例としては、（５）炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基からなる群より選ばれる１以上の基で置換された、炭素原子数２〜１２のアルキニル基が挙げられる。この置換されたアルキニル基を、以下、適宜「（５）置換アルキニル基」ということがある。

（５）置換アルキニル基における「炭素原子数２〜１２のアルキニル基」としては、例えば、エチニル基、プロピニル基などが挙げられる。
（５）置換アルキニル基における「炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環基と同じ例が挙げられる。
（５）置換アルキニル基における「炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基」としては、例えば、Ｄ^１〜Ｄ^３における炭素原子数２〜３０の芳香族複素環基と同じ例が挙げられる。

（５）置換アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。（５）置換アルキニル基が有しうる置換基としては、例えば、（１）炭化水素環基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｈの好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。

Ｒ^ｈの更に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。

Ｒ^ｈの特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。

上述したＲ^ｈの具体例は、更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等の、ハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の、炭素原子数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の、炭素原子数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の、炭素原子数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；−ＯＣＦ_３；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^ｂ；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^ｂ；−ＳＯ_２Ｒ^ａ；等が挙げられる。Ｒ^ａ及びＲ^ｂの意味は、上述した通りである。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、および、炭素原子数１〜６のアルコキシ基が好ましい。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^ｉは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。

Ｒ^ｉの好ましい例としては、一以上の炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環を有する、炭素原子数６〜４０の炭化水素環基が挙げられる。
また、Ｒ^ｉの別の好ましい例としては、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、炭素原子数２〜４０の複素環基が挙げられる。

Ｒ^ｉの特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。Ｒの意味は、上述した通りである。

式（II−１）〜式（II−７）のいずれかで表される基は、Ｄ^１〜Ｄ^６以外に更に置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数１〜６のアルキルスルフィニル基、カルボキシル基、炭素原子数１〜６のチオアルキル基、炭素原子数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素原子数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｉ）におけるＡｒの好ましい例としては、下記の式（III−１）〜式（III−１０）で表される基が挙げられる。また、式（III−１）〜式（III−１０）で表される基は、置換基として炭素原子数１〜６のアルキル基を有していてもよい。下記式中、＊は、結合位置を表す。

式（III−１）および式（III−４）の特に好ましい具体例としては、下記の基が挙げられる。下記式中、＊は、結合位置を表す。

式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２１−、−ＣＦ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２１は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。

式（Ｉ）において、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、及び、置換基を有していてもよい芳香族基、からなる群より選ばれる基を表す。Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２が表す基の炭素原子数（置換基の炭素原子数を含む。）は、それぞれ独立して、通常、３〜１００である。中でも、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素原子数５〜２０の環状脂肪族基、または、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の芳香族基が好ましい。

Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２における環状脂肪族基としては、例えば、シクロペンタン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−シクロヘプタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等の、炭素原子数５〜２０のシクロアルカンジイル基；デカヒドロナフタレン−１，５−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基等の、炭素原子数５〜２０のビシクロアルカンジイル基；等が挙げられる。中でも、置換されていてもよい炭素原子数５〜２０のシクロアルカンジイル基が好ましく、シクロヘキサンジイル基がより好ましく、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が特に好ましい。環状脂肪族基は、トランス体であってもよく、シス体であってもよく、シス体とトランス体との混合物であってもよい。中でも、トランス体がより好ましい。

Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２における環状脂肪族基が有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２における芳香族基としては、例えば、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、４，４’−ビフェニレン基等の、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基；フラン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基等の、炭素原子数２〜２０の芳香族複素環基；等が挙げられる。中でも、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環基が好ましく、フェニレン基がさらに好ましく、１，４−フェニレン基が特に好ましい。

Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２における芳香族基が有しうる置換基としては、例えば、Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２における環状脂肪族基が有しうる置換基と同じ例が挙げられる。置換基の数は、一つでもよく、複数でもよい。また、複数の置換基は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｉ）において、Ｙ^１〜Ｙ^４は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、及び、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２３−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。

式（Ｉ）において、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基；並びに、炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基（−ＣＨ_２−）の１以上が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｇ^１及びＧ^２の前記有機基に含まれる水素原子は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または、ハロゲン原子に置換されていてもよい。ただし、Ｇ^１及びＧ^２の両末端のメチレン基（−ＣＨ_２−）が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されることはない。

Ｇ^１及びＧ^２における炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数１〜２０のアルキレン基が挙げられる。

Ｇ^１及びＧ^２における炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基の具体例としては、炭素原子数３〜２０のアルキレン基が挙げられる。

式（Ｉ）において、Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、重合性官能基を表す。Ｐ^１及びＰ^２における重合性官能基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等の、ＣＨ_２＝ＣＲ^３１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基；ビニル基；ビニルエーテル基；ｐ−スチルベン基；アクリロイル基；メタクリロイル基；カルボキシル基；メチルカルボニル基；水酸基；アミド基；炭素原子数１〜４のアルキルアミノ基；アミノ基；エポキシ基；オキセタニル基；アルデヒド基；イソシアネート基；チオイソシアネート基；等が挙げられる。Ｒ^３１は、水素原子、メチル基、又は塩素原子を表す。中でも、ＣＨ_２＝ＣＲ^３１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基が好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（アクリロイルオキシ基）、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（メタクリロイルオキシ基）がより好ましく、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。

式（Ｉ）において、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０又は１を表す。

化合物（Ｉ）は、例えば、国際公開第２０１２／１４７９０４号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。

重合性液晶化合物（Ａ）としては、具体的には、例えば、下記の式で表される化合物が挙げられる。

重合性液晶化合物（Ａ）の波長λ_ａ１は、上記式（ｉ）を満たす。
本発明の組成物が、重合性液晶化合物（Ａ）を複数種含む場合、複数種のうち少なくとも１種の重合性液晶化合物の波長λ_ａ１が、上記式（ｉ）を満たす。

上記式（ｉ）において、｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜の値は通常０以上である。
｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜の値は、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１９ｎｍ以下、更に好ましくは１６ｎｍ以下である。

重合性液晶化合物（Ａ）は、好ましくは下記式（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）を満たす。
３００ｎｍ≦λ_ａ１≦３５５ｎｍ （ｉｉｉ）
５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ａ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｉｖ）

Ａ_ａは、重合性液晶化合物（Ａ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。

λ_ａ１は、好ましくは３４０ｎｍ以上、より好ましくは３４５ｎｍ以上、更に好ましくは３５０ｎｍ以上であり、好ましくは３５４ｎｍ以下、より好ましくは３５３ｎｍ以下、更に好ましくは３５２ｎｍ以下である。

Ａ_ａは、好ましくは６０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上、より好ましくは６５００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上、更に好ましくは７０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上であり、好ましくは２４０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下、より好ましくは２３５００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下、更に好ましくは２３０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下である。

本発明の組成物が、重合性液晶化合物（Ａ）を複数種含む場合、好ましくは複数種のうち少なくとも１種の重合性液晶化合物（Ａ）が、上記式（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）を満たす。

組成物における重合性液晶化合物（Ａ）の量は、好ましくは１重量％以上、より好ましくは５重量％以上、更に好ましくは１０重量％以上であり、また、好ましくは８５重量％以下、より好ましくは８０重量％以下、更に好ましくは６０重量％以下である。

［光重合開始剤（Ｂ）］
光重合開始剤とは、光の照射により、重合性化合物の重合を開始させる重合開始作用を発揮する剤をいう。光重合開始剤に重合開始作用を発揮させるための光としては、紫外線、可視光線、赤外線、及びその他のエネルギー線が挙げられる。光重合開始剤（Ｂ）は、好ましくは、紫外線の照射により、重合開始作用を発揮しうる光重合開始剤である。

光重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、Ｏ−アシルオキシム化合物、α−アミノアルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、及びトリアジン化合物が挙げられる。

光重合開始剤（Ｂ）としては、なかでも、Ｏ−アシルオキシム化合物が好ましい。
光重合開始剤（Ｂ）として用いられうるＯ−アシルオキシム化合物の具体例としては、１−〔４−（フェニルチオ）フェニル〕−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−エタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−[４−[３−[４−[[２−（アセチルオキシ）エチル]スルホニル]−２−メチルベンゾイル]−６−[１−[（アセチルオキシ）イミノ]エチル]−９Ｈ−カルバゾール]−９−イル]フェニル１−オクタノン１−（Ｏ−アセチルオキシム）が挙げられる。

Ｏ−アシルオキシム化合物として、市販品を使用してもよい。市販品としては、例えば：「ＮＣＩ−７００」、「ＮＣＩ−７３０」、「ＮＣＩ−８３１」、「ＮＣＩ−９３０」（ＡＤＥＫＡ社製）；「ＤＦＩ−０２０」、「ＤＦＩ−０９１」（ダイトーケミックス社製）；及び「ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０３」、「ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０４」（ＢＡＳＦ社製）；が挙げられる。

本発明の組成物は、光重合開始剤（Ｂ）を、１種単独で含んでいてもよく、２種以上の任意の比率の組み合わせとして含んでいてもよい。
本発明の組成物が、光重合開始剤（Ｂ）を複数種含む場合、複数種のうち少なくとも１種の光重合開始剤（Ｂ）の波長λ_ｂ１が、上記式（ｉ）を満たしていれば、他の光重合開始剤（Ｂ）の波長λ_ｂ１は、上記式（ｉ）を満たしていなくてもよい。

光重合開始剤（Ｂ）は、好ましくは下記式（ｖ）及び（ｖｉ）を満たす。
３００ｎｍ≦λ_ｂ１≦３５５ｎｍ （ｖ）
１００００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ｂ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｖｉ）

Ａ_ｂは光重合開始剤（Ｂ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。

λ_ｂ１は、好ましくは３２５ｎｍ以上、より好ましくは３２８ｎｍ以上、更に好ましくは３３１ｎｍ以上であり、好ましくは３５０ｎｍ以下、より好ましくは３４５ｎｍ以下、更に好ましくは３４０ｎｍ以下である。

Ａ_ｂは、好ましくは１００００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上、より好ましくは１１０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上、更に好ましくは１２０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以上であり、好ましくは２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下、より好ましくは２４５００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下、更に好ましくは２４０００ｃｍ^２／ｍｏｌ以下である。

本発明の組成物が、光重合開始剤（Ｂ）を複数種含む場合、好ましくは複数種のうち少なくとも１種の光重合開始剤（Ｂ）が、上記式（ｖ）及び（ｖｉ）を満たす。

組成物における光重合開始剤（Ｂ）の重合性液晶化合物（Ａ）に対する重量比率は、好ましくは１／１００以上、より好ましくは２／１００以上、更に好ましくは３／１００以上であり、好ましくは１４／１００以下、より好ましくは１２／１００以下、更に好ましくは１０／１００以下である。

［架橋剤（Ｃ）］
架橋剤とは、重合性化合物に、橋かけ結合を形成しうる剤をいう。架橋剤には、上記重合性液晶化合物（Ａ）は含まれない。

本発明の組成物は、架橋剤（Ｃ）を、１種単独で含んでいてもよく、２種以上の任意の比率の組み合わせとして含んでいてもよい。

架橋剤（Ｃ）は、好ましくは多官能性モノマーである。多官能性モノマーとは、重合性の基を一分子中に２個以上有する化合物を意味する。

多官能性モノマーが有しうる重合性の基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基が挙げられる。

多官能性モノマーとしては、例えば、２官能性モノマー（例、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート）、３官能性以上の、多官能性モノマー（例、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート）が挙げられる。

架橋剤は、より好ましくは、２官能性モノマーである。２官能性モノマーとは、重合性の基を一分子中に２個有する化合物を意味する。２官能性モノマーを使用することにより、重合性液晶化合物（Ａ）の配向の乱れを抑制し、配向欠陥が抑制された位相差フィルムを得ることができる。

架橋剤（Ｃ）は、好ましくは脂環式構造を有する化合物であり、より好ましくは脂環式構造を有する、２官能性モノマーである。

脂環式構造としては、例えば、単環の脂環式構造（例、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環）、２環以上の多環の脂環式構造（例、ビシクロヘプタン環、トリシクロデカン環、ビシクロデカン環）が挙げられる。

架橋剤（Ｃ）の具体例としては、下記の式で表される化合物が挙げられる。

上記式（Ｃ−３）において、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは、それぞれ独立して、１以上２以下の整数を表す。Ｙは、アクリロイル基又はヒドロキシ基を表す。Ｘは、下記式により表される基である。

Ｙは、好ましくはアクリロイル基である。式（Ｃ−３）で表される化合物であってＹがアクリロイル基である化合物は、プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと称される。

架橋剤（Ｃ）の波長λ_ｃ１は、上記式（ｉｉ）を満たす。
架橋剤（Ｃ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて、吸収極大が２以上存在するときは、２以上の吸収極大のうちの少なくとも一つの吸収極大が、上記式（ｉｉ）を満たしていれば、他の吸収極大は、上記式（ｉｉ）を満たしていなくてもよい。
本発明の組成物が、架橋剤（Ｃ）を複数種含む場合、複数種のうち少なくとも１種の架橋剤（Ｃ）の波長λ_ｃ１が、上記式（ｉｉ）を満たしていれば、他の架橋剤（Ｃ）の波長λ_ｃ１が、上記式（ｉｉ）を満たしていなくてもよい。
波長λ_ｃ１は、通常２００ｎｍ以上である。

架橋剤（Ｃ）は、好ましくは下記式（ｖｉｉ）を満たす。
Ａ_ｃ＜Ａ_ａかつＡ_ｃ＜Ａ_ｂ （ｖｉｉ）

上記式（ｖｉｉ）において、Ａ_ａは、上記と同義であり、Ａ_ｂは、上記と同義であり、Ａ_ｃは、架橋剤（Ｃ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表す。

架橋剤（Ｃ）は、好ましくは２５℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下であり、より好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上３５０ｍＰａ・ｓ以下である。粘度が前記範囲内である架橋剤（Ｃ）を用いることにより、重合性液晶化合物（Ａ）の配向の乱れを抑制し、配向欠陥が抑制された位相差フィルムを得ることができる。
粘度は、例えば、装置：京都電子工業株式会社製のＥＭＳ粘度計「ＥＭＳ−１０００」により、条件：回転数７００ｒｐｍ、球状プローブΦ２ｍｍにより測定しうる。

組成物における架橋剤（Ｃ）の重合性液晶化合物（Ａ）に対する重量比率は、好ましくは１／１００以上、より好ましくは３／１００以上、更に好ましくは５／１００以上であり、好ましくは３０／１００以下、より好ましくは２５／１００以下、更に好ましくは２０／１００以下である。

組成物は、上記の重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）以外に、任意の成分を含んでいてもよい。かかる任意の成分としては、例えば、溶媒、界面活性剤、及び紫外線吸収剤が挙げられる。

組成物に含まれうる溶媒は、通常有機溶媒である。組成物に含まれうる有機溶媒としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチルピロリドン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒；及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０℃〜２５０℃であることが好ましく、６０℃〜１５０℃であることがより好ましい。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

組成物における溶媒の割合は、重合性液晶化合物（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以上１０００重量部以下である。

組成物に含まれうる界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。ノニオン系界面活性剤の具体例としては、ＤＩＣ社製「メガファック」シリーズ、ＡＧＣセイミケミカル社製「サーフロン」シリーズが挙げられる。界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

組成物における界面活性剤の割合は、重合性液晶化合物（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上１０重量部以下、より好ましくは０．１重量部以上２重量部以下である。

組成物におけるその他の任意の各成分の割合は、重合性液晶化合物（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部以上２０重量部以下である。

［２．位相差フィルム］
上記組成物の層を形成し、重合性液晶化合物（Ａ）を配向させて硬化させることにより、例えば１／４λ板などとして機能しうる、位相差フィルムを製造することができる。

位相差フィルムは、好ましくは上記組成物を硬化させて得られる硬化物で形成され、より好ましくは、上記組成物を紫外線により硬化させて得られる硬化物で形成され、さらに好ましくは、上記組成物を水銀ランプ（例えば、アイグラフィックス社製「水銀ランプ」）からの紫外線により硬化させて得られる硬化物で形成されている。

位相差フィルムは、好ましくは５９０ｎｍにおけるレターデーションＲｅが１００ｎｍを超え１８０ｎｍ未満である。

位相差フィルムは、５９０ｎｍにおけるレターデーションＲｅが、より好ましくは１３０ｎｍ以上、更に好ましくは１３５ｎｍ以上であり、より好ましくは１５０ｎｍ以下、更に好ましくは１４７ｎｍ以下である。

上記位相差フィルムは、好ましくは下記式（ｖｉｉｉ）を満たす。
｜Δｎ０−Δｎ１｜＜０．０２５ｎｍ （ｖｉｉｉ）

上記式において、
Δｎ１は、前記位相差フィルムの５９０ｎｍにおける複屈折を表し、
Δｎ０は、上記組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう。）から架橋剤（Ｃ）を除いた組成物（Ｘ_０）の紫外線による硬化物で形成されるフィルムの５９０ｎｍにおける複屈折を表す。

複屈折Δｎ１と、複屈折Δｎ０との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜は、好ましくは０．０２５ｎｍ未満であり、より好ましくは０．０２３ｎｍ以下であり、更に好ましくは０．０２２ｎｍ以下であり、通常０ｎｍ以上である。

一般に、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含む組成物に、更に架橋剤を含有させると、組成物から製造される位相差フィルムの複屈折Δｎは低下する傾向があるが、本発明の組成物（Ｘ）から製造される位相差フィルムの複屈折Δｎ１は、組成物（Ｘ）から架橋剤（Ｃ）を除いた組成物（Ｘ_０）から製造される位相差フィルムの複屈折Δｎ０と比較して、大きく低下しない。かつ本発明の組成物（Ｘ）から製造される位相差フィルムは、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さい。

｜Δｎ０−Δｎ１｜の値を０．０２５ｎｍ未満とすることは、上記［１．組成物］の項で説明した所定の重合性液晶化合物（Ａ）、所定の光重合開始剤（Ｂ）、及び所定の架橋剤（Ｃ）を含む組成物（Ｘ）を用いて、位相差フィルムを形成することにより実現できる。

位相差フィルムは、任意の層と組み合わせて、任意の層及び位相差フィルムを有する光学積層体としうる。任意の層としては、例えば、粘着層、及び接着層が挙げられる。

［３．位相差フィルムの製造方法］
上記位相差フィルムは、例えば、下記工程（１）〜（３）をこの順で含む方法により製造されうる。
工程（１）：重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含む組成物から形成された組成物層を、乾燥する工程
工程（２）：乾燥された前記組成物層に紫外線を照射して硬化層を得る工程
工程（３）：前記硬化層を熱処理する工程

［工程（１）］
工程（１）では、重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含む組成物から形成された組成物層を乾燥する。
ここで、重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含む組成物の例及び好ましい例は、上記［１．組成物］の項目において説明された例及び好ましい例と同様である。

組成物層は、例えば、塗工基材の表面に、組成物を塗工することにより形成されうる。塗工基材は、配向規制力をその表面に付与するための処理が行われていてもよい。かかる処理としては、例えば、ラビング処理、配向層形成処理、イオンビーム配向処理、及び延伸処理が挙げられ、なかでも延伸処理が好ましい。

組成物を塗工基材の表面に塗工する方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。

組成物層を乾燥する方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法が挙げられる。組成物層を乾燥することにより、組成物層に含まれる溶媒などの揮発性成分を除去できる。

［工程（２）］
工程（２）では、乾燥された前記組成物層に紫外線を照射して硬化層を得る。組成物層に紫外線を照射することにより、組成物層が硬化して、硬化層が形成される。
紫外線の積算光量は、好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ^２以上、より好ましくは６００ｍＪ／ｃｍ^２以上であり、好ましくは１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、より好ましくは９００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。

紫外線の光源としては、例えば、水銀ランプ（例、アイグラフィックス社製「水銀ランプ」）、ヘレウス社製「Ｈバルブ」が挙げられ、好ましくは水銀ランプである。

［工程（３）］
工程（３）では、硬化層を熱処理する。熱処理の温度は、好ましくは６５℃以上、より好ましくは７０℃以上、更に好ましくは７５℃以上であり、好ましくは９０℃以下、より好ましくは８８℃以下、更に好ましくは８５℃以下である。熱処理の時間は、好ましくは５時間以上、より好ましくは１２時間以上、更に好ましくは２４時間以上であり、好ましくは２１６時間以下、より好ましくは１４４時間以下、更に好ましくは９６時間以下である。

硬化層を熱処理することにより、得られる位相差フィルムの熱耐久性をより向上させることができる。

位相差フィルムを製造する方法は、上記工程（１）〜（３）以外に、任意の工程を含んでいてもよい。任意の工程としては、例えば、工程（１）の前に、塗工基材の表面に、組成物を塗工して組成物層を形成する工程を含んでいてもよく、工程（２）の後に、形成された硬化層を、塗工基材から剥離する工程を含んでいてもよい。

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。

［評価方法］
［光吸収スペクトル］
組成物を構成する各成分の光吸収スペクトルを、日本分光社製「Ｖ−５００」により測定した。測定波長範囲は、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下とした。
光吸収スペクトルより、吸収極大を検出し、検出した吸収極大のうち、最も長波長側にある吸収極大の波長を、重合性液晶化合物（Ａ）についてはλ_ａ１、光重合開始剤（Ｂ）についてはλ_ｂ１、架橋剤（Ｃ）については、λ_ｃ１とした。２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下において、吸収極大を一つのみ有する場合は、この吸収極大の波長を、λ_ａ１、λ_ｂ１、又はλ_ｃ１とする。

各成分の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数として、測定に用いた各成分のモル濃度、光路長（１ｃｍ）から、モル吸光係数を算出し、３００ｎｍ以上３５５ｎｍにおける平均を求めた。

［レターデーション及び複屈折］
位相差フィルムの５９０ｎｍにおけるレターデーションＲｅを、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」により測定した。測定したレターデーションＲｅ及び位相差フィルムの厚みｄ（ｎｍ）から、下式より複屈折Δｎを算出した。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ

［厚み］
フィルムの厚みを、膜厚測定装置（フィルメトリクス社製「フィルメトリクス」）により求めた。

［熱耐久性］
位相差フィルムの熱耐久性を、下記に従い試験した。
（実施例１〜８、比較例１及び２の熱耐久性）
基材上に形成された位相差フィルムを、粘着剤付きスライドガラス（粘着剤：日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）に貼り合せた。その後、基材を剥離して試験片を作成し、試験片の位相差フィルムにつきレターデーションＲｅ（０ｈｒ）を測定した。

試験片を、８５℃の恒温槽に投入し、投入してから１００時間後に恒温槽から取り出して、試験片の位相差フィルムにつきレターデーションＲｅ（１００ｈｒ）を測定した。

Ｒｅの変化率ΔＲｅ（％）を、下式に基づき算出した。ΔＲｅ（％）の絶対値が小さいほど、位相差フィルムの熱耐久性が高い。
ΔＲｅ（％）＝（Ｒｅ（１００ｈｒ）−Ｒｅ（０ｈｒ））／Ｒｅ（０ｈｒ）×１００

（実施例９〜１５の熱耐久性）
前記と同様にして試験片を作成し、レターデーションＲｅ（０ｈｒ）を測定した。試験片を８５℃の恒温槽に投入し、投入してから５００時間後に恒温槽から取り出して、試験片の位相差フィルムにつきレターデーションＲｅ（５００ｈｒ）を測定した。Ｒｅの変化率ΔＲｅ（５００ｈｒ）（％）を、下式に基づき算出した。
ΔＲｅ（５００ｈｒ）（％）＝（Ｒｅ（５００ｈｒ）−Ｒｅ（０ｈｒ））／Ｒｅ（０ｈｒ）×１００

［架橋剤の粘度］
実施例９〜１５で用いた架橋剤の２５℃における粘度としては、新中村化学工業株式会社のカタログ値を使用した。

［実施例１］
（１−１．組成物の調製）
重合性液晶化合物として、下記式（Ａ−１）で表される化合物を１９．１８部、架橋剤（商品名「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」、新中村化学工業社製、前記式（Ｃ−１）で表される化合物）１．９２部（重合性液晶化合物１００部に対して１０部）、界面活性剤（商品名「メガファックＦ−５６２」、ＤＩＣ社製）０．０６部、光重合開始剤（商品名「アデカクルーズＮＣＩ−７３０」、ＡＤＥＫＡ社製）０．８４部（重合性液晶化合物１００部に対して４部）、及びシクロペンタノンおよび１，３−ジオキソランの混合溶媒７８部を混合し、組成物（Ｘ１）を調製した。下記式（Ａ−１）で表される化合物は、逆波長分散性重合性液晶化合物である。

（１−２．延伸前基材の製造）
脂環式構造を有する重合体を含む樹脂である、熱可塑性ノルボルネン樹脂（日本ゼオン株式会社製、Ｔｇ １２６℃）のペレットを、９０℃で５時間乾燥させた。乾燥させたペレットを押し出し機に供給し、押し出し機内で溶融させ、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Ｔダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出し、冷却し、マスキングフィルム（トレデガー社製「ＦＦ１０２５」）で保護しながら巻取り、厚み８０μｍ、幅１４９０ｍｍの延伸前基材のロールを得た。

（１−３．基材の製造）
（１−２）で得られた延伸前基材のロールから、延伸前基材を引き出し、連続的にマスキングフィルムを剥離してテンター延伸機に供給し、基材フィルムの遅相軸が幅手方向に対して４５°（長手方向に対して４５°）となるように斜め延伸を行い、さらに基材フィルム幅手方向の両端をトリミングし、幅１３５０ｍｍで長尺状の、基材を得た。得られた基材のＲｅは１４３ｎｍ、膜厚は７７μｍであった。得られた基材は、新たなマスキングフィルム（トレデガー社製「ＦＦ１０２５」）で保護しながら巻取り、基材のロールを得た。

（１−４．組成物層の形成）
（１−３）で得られた基材のロールから、基材を繰り出し、マスキングフィルムを剥離して搬送した。室温２５℃において、搬送される基材の一方の面（マスキングフィルムが貼合されていた側の面）に、（１−１）で得られた組成物（Ｘ１）を、ダイコーターを用いて直接塗布し、組成物（Ｘ１）の層を形成した。

（１−５．乾燥工程（配向処理））
（１−４）で形成した、基材上の組成物の層を、１１０℃で２．５分間乾燥させた。これにより、基材上の組成物の層が配向処理された。

（１−６．硬化層の形成（重合））
その後、窒素雰囲気下で、（１−５）で乾燥させた組成物の層に、積算照度７００ｍＪ／ｃｍ^２（照射強度３５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射時間２秒）以上の紫外線をアイグラフィックス社製「水銀ランプ」より照射して、組成物中の重合性液晶化合物を重合させて、硬化液晶分子を形成した。これにより、乾燥膜厚２．４μｍの、ホモジニアス配向した組成物の硬化物で形成された硬化層を得て、（基材）／（硬化層）の層構成を有する複層フィルムを得た。

（１−７．硬化層の熱処理）
（１−６）で得られた複層フィルムを、８５℃で２４時間加熱し、硬化層（位相差フィルム）を熱処理した。

熱処理後の硬化層（位相差フィルム）について、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表１に示す。また、以下の参考例１で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表１に示した。

［参考例１］
架橋剤を０部とした以外は実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例２］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして、複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表１に示す。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。
また、以下の参考例２で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表１に示した。

［参考例２］
架橋剤を０部とした以外は実施例２と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例３］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表１に示す。また、以下の参考例３で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表１に示した。
・架橋剤の配合部数を１．９２部から３．８４部（重合性液晶化合物１００部に対して２０部）へ変更し、光重合開始剤の配合部数を０．８４部から１．５３部（重合性液晶化合物１００部に対して８部）へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［参考例３］
架橋剤を０部とした以外は実施例３と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例４］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表１に示す。また、以下の参考例４で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表１に示した。
・光重合開始剤を、「アデカクルーズＮＣＩ−７３０」からＢＡＳＦ社製「ＩｒｇａｃｕｒｅＯｘｅ０４」へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［参考例４］
架橋剤を０部とした以外は実施例４と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例５］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表２に示す。また、以下の参考例５で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表２に示した。
・重合性液晶化合物を、上記式（Ａ−１）で表される化合物から下記式（Ａ−２）で表される化合物へ変更した。下記式（Ａ−２）で表される化合物は、逆波長分散性重合性液晶化合物である。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［参考例５］
架橋剤を０部とした以外は実施例５と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例６］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表２に示す。また、以下の参考例６で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表２に示した。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ」（前記式（Ｃ−２）で表される化合物）へ変更し、架橋剤の配合部数を１．９２部から１．３４部（重合性液晶化合物１００部に対して７部）へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［参考例６］
架橋剤を０部とした以外は実施例６と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例７］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表２に示す。また、以下の参考例７で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表２に示した。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ−６Ｐ」（プロポキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート）へ変更し、架橋剤の配合部数を１．９２部から０．９６部（重合性液晶化合物１００部に対して５部）へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［参考例７］
架橋剤を０部とした以外は実施例７と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［実施例８］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表２に示す。また、以下の参考例８で求めたΔｎ０とΔｎ１との差の絶対値｜Δｎ０−Δｎ１｜を算出し、表２に示した。
・架橋剤の配合部数を１．９２部から３．８４部（重合性液晶化合物１００部に対して２０部）へ変更し、光重合開始剤の配合部数を０．８４部から１．５３部（重合性液晶化合物１００部に対して８部）へ変更した。

［参考例８］
架橋剤を０部とした以外は実施例８と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ０を求めた。

［比較例１］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表３に示す。
・架橋剤の配合部数を、１．９２部から０部へ変更した。
・光重合開始剤を、「アデカクルーズＮＣＩ−７３０」からＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９」へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［比較例２］
以下の事項を変更した以外は、実施例１と同様にして複層フィルムを得て、複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、レターデーションＲｅを測定して複屈折Δｎ１を求め、また熱耐久性を評価した。結果を表３に示す。
・重合性液晶化合物を、上記式（Ａ−１）で表される化合物から上記式（Ａ−２）で表される化合物へ変更した。
・架橋剤の配合部数を、１．９２部から０部へ変更した。
・光重合開始剤を、「アデカクルーズＮＣＩ−７３０」からＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９」へ変更した。
・（１−７．硬化層の熱処理）を行わず、（１−６）で得られた硬化層（位相差フィルム）について、熱耐久性を評価した。

［実施例９］
以下の事項を変更した以外は、実施例５と同様にして、複層フィルムを得た。
・硬化層の形成において、配向処理された組成物の層への紫外線照射を４０℃で実施した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、下記の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表４に示す。
（配向面状の観察）
偏光顕微鏡を用い、接眼レンズ倍率：１０倍、対物レンズ倍率：２０倍とし、「偏光子」と「検光子」とをクロスニコル状態として観察した。
（評価基準）
Ａ：目視で白濁無、顕微鏡で配向欠陥無
Ｂ：目視で白濁無、顕微鏡で配向欠陥あり
Ｃ：目視で白濁あり、顕微鏡で配向欠陥あり

［実施例１０］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表４に示す。

［実施例１１］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表４に示す。

［実施例１２］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表４に示す。

［実施例１３］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ３Ｌ」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表５に示す。

［実施例１４］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表５に示す。

［実施例１５］
以下の事項を変更した以外は、実施例９と同様にして、複層フィルムを得た。
・架橋剤を、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」から、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−２０」へ変更した。
得られた複層フィルムを構成する位相差フィルムについて、熱耐久性を評価した。また、実施例９と同様の方法により、位相差フィルムの配向面状を観察し、評価した。結果を表５に示す。

以下の表において、
「Ａ−１」は、式（Ａ−１）で表される化合物を意味し、
「Ａ−２」は、式（Ａ−２）で表される化合物を意味し、
「Ａ−ＤＣＰ」は、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ」を意味し、
「Ａ−ＴＭＭＴ」は、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ」を意味し、
「Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ」は、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ−６Ｐ」を意味し、
「ＮＣＩ−７３０」は、ＡＤＥＫＡ社製「アデカクルーズＮＣＩ−７３０」を意味し、
「官能基数」は、一分子に含まれる重合性基（アクリロイル基）の数を意味し、
「添加部数」は、重合性液晶化合物（Ａ）１００部に対する添加部数を意味し、
「モル吸光係数」は、吸収極大波長λ_ａ１、吸収極大波長λ_ｂ１、又は吸収極大波長λ_ｃ１におけるモル吸光係数を意味し、
「平均モル吸光係数」は、３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を意味する。

以下の表４及び５において、「Ａ−ＴＭＰＴ」、「ＡＴＭ−４Ｅ」、「Ａ−ＤＯＧ」、「Ａ−ＴＭＭ３Ｌ」、「Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」、及び「Ａ−ＢＰＥ−２０」は、それぞれ新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ」、「ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ」、「ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ」、「ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ３Ｌ」、「ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」、及び「ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−２０」をそれぞれ表す。
「Ａ−ＴＭＰＴ」、「ＡＴＭ−４Ｅ」、「Ａ−ＤＯＧ」、「Ａ−ＴＭＭ３Ｌ」、「Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」、及び「Ａ−ＢＰＥ−２０」はそれぞれ、下記の式で表される化合物である。

以上の結果によれば、実施例の組成物から製造された位相差フィルムは、式（ｉ）：｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜≦２０ｎｍを満たさない比較例１及び比較例２の組成物から製造された位相差フィルムと比較して、Ｒｅの変化率の絶対値が小さいことが分かる。
また、熱処理を行った実施例８に係る位相差フィルムは、熱処理を行わなかった実施例３に係る位相差フィルムと比較して、Ｒｅの変化率の絶対値が小さいことがわかる。

これらの結果は、本発明の組成物から、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さい位相差フィルムを製造しうること；本発明の位相差フィルムが、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さいこと；本発明の位相差フィルムの製造方法により、熱耐久性試験の前後において、レターデーションＲｅの変化率の絶対値が小さい位相差フィルムを製造できること；を示している。

Claims (13)

1. 重合性液晶化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び架橋剤（Ｃ）を含み、
   下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす、組成物。
   ｜λ_ａ１−λ_ｂ１｜≦２０ｎｍ （ｉ）
   λ_ｃ１≦２５０ｎｍ （ｉｉ）
   （上記式において、
   λ_ａ１は、前記重合性液晶化合物（Ａ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
   λ_ｂ１は、前記光重合開始剤（Ｂ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおいて最も長波長である、吸収極大の波長を表し、
   λ_ｃ１は、前記架橋剤（Ｃ）の２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光吸収スペクトルにおける少なくとも一つの吸収極大の波長を表す。）
2. 更に下記式（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）を満たす、請求項１に記載の組成物。
   ３００ｎｍ≦λ_ａ１≦３５５ｎｍ （ｉｉｉ）
   ５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ａ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｉｖ）
   （上記式において、
   λ_ａ１は上記と同義であり、
   Ａ_ａは、前記重合性液晶化合物（Ａ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。）
3. 更に下記式（ｖ）及び（ｖｉ）を満たす、請求項１又は２に記載の組成物。
   ３００ｎｍ≦λ_ｂ１≦３５５ｎｍ （ｖ）
   １００００ｃｍ^２／ｍｏｌ≦Ａ_ｂ≦２５０００ｃｍ^２／ｍｏｌ （ｖｉ）
   （上記式において、
   λ_ｂ１は上記と同義であり、
   Ａ_ｂは前記光重合開始剤（Ｂ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数を表す。）
4. 更に下記式（ｖｉｉ）を満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
   Ａ_ｃ＜Ａ_ａかつＡ_ｃ＜Ａ_ｂ （ｖｉｉ）
   （上記式において、
   Ａ_ａは、前記重合性液晶化合物（Ａ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表し、
   Ａ_ｂは、前記光重合開始剤（Ｂ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表し、
   Ａ_ｃは、前記架橋剤（Ｃ）の３００ｎｍ以上３５５ｎｍ以下における平均モル吸光係数（ｃｍ^２／ｍｏｌ）を表す。）
5. 前記重合性液晶化合物（Ａ）が、下記式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   （上記式（Ｉ）において、
   Ａｒは、下記式（II−１）〜式（II−７）のいずれかで表される基を示す。
   

   

   （上記式（II−１）〜式（II−７）において、
   ＊は、Ｚ^１又はＺ^２との結合位置を表す。
   Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立して、−ＣＲ^１１Ｒ^１２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１１−、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｄ^１〜Ｄ^３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基、又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。
   Ｄ^４〜Ｄ^５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい非環状基を表す。Ｄ^４及びＤ^５は、一緒になって環を形成していてもよい。
   Ｄ^６は、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｇ）Ｒ^ｈ、及び、−Ｃ（Ｒ^ｆ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｒ^ｉからなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｆは、水素原子、及び炭素原子数１〜６のアルキル基からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｇは、水素原子、及び置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３０の有機基からなる群より選ばれる基を表す。Ｒ^ｈは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。Ｒ^ｉは、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素環及び炭素原子数２〜３０の芳香族複素環からなる群より選ばれる１以上の芳香環を有する、有機基を表す。）
   Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２１−、−ＣＦ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＦ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＦ_２−ＣＦ_２−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、及び、−Ｃ≡Ｃ−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２１は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
   Ａ^１、Ａ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい環状脂肪族基、及び、置換基を有していてもよい芳香族基、からなる群より選ばれる基を表す。
   Ｙ^１〜Ｙ^４は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２２−、及び、−ＮＲ^２２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２３−、からなる群より選ばれるいずれかを表す。Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基；並びに、炭素原子数３〜２０の脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基（−ＣＨ_２−）の１以上が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換された基；からなる群より選ばれる有機基を表す。Ｇ^１及びＧ^２の前記有機基に含まれる水素原子は、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、又は、ハロゲン原子に置換されていてもよい。ただし、Ｇ^１及びＧ^２の両末端のメチレン基（−ＣＨ_２−）が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されることはない。
   Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立して、重合性官能基を表す。
   ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０又は１を表す。）
6. 前記重合性液晶化合物（Ａ）が、逆波長分散性重合性液晶化合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記架橋剤（Ｃ）が、２官能性モノマーである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
8. 前記架橋剤（Ｃ）が、脂環式構造を有する化合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
9. 前記光重合開始剤（Ｂ）が、Ｏ−アシルオキシム化合物である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
10. 請求項１に記載の組成物の硬化物で形成され、５９０ｎｍにおけるレターデーションＲｅが１００ｎｍを超え１８０ｎｍ未満である位相差フィルム。
11. 下記式（ｖｉｉｉ）を満たす、請求項１０に記載の位相差フィルム。
    ｜Δｎ０−Δｎ１｜＜０．０２５ｎｍ （ｖｉｉｉ）
    （上記式において、
    Δｎ１は、前記位相差フィルムの５９０ｎｍにおける複屈折を表し、
    Δｎ０は、請求項１に記載の組成物から前記架橋剤（Ｃ）を除いた組成物（Ｘ_０）の硬化物で形成されるフィルムの、５９０ｎｍにおける複屈折を表す。）
12. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物の硬化物で形成された位相差フィルムの製造方法であって、下記工程（１）〜（３）をこの順で含む、位相差フィルムの製造方法。
    工程（１）：請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物で形成された組成物層を、乾燥する工程
    工程（２）：乾燥された前記組成物層に紫外線を照射して硬化層を得る工程
    工程（３）：前記硬化層を熱処理する工程
13. 前記工程（２）において、水銀ランプにより紫外線を照射する、請求項１２記載の位相差フィルムの製造方法。