JPWO2019117088A1 - 窒素含有環を含むシラン化合物を含むコーティング組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】透明性、硬度、耐擦傷性、密着性、さらには耐候性にも優れる硬化膜を形成できる組成物であって、該組成物自体の安定性にも優れるコーティング組成物及び該コーティング組成物により形成される硬化膜を有する光学部材を提供する。【解決手段】（Ｓ）成分：有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質、及び（Ｔ）成分：２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子、を含むコーティング組成物であって、前記（Ｓ）成分の有機ケイ素化合物が、（Ｓ１）成分：アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及びアシルオキシ基からなる群から選択される少なくとも一種の加水分解性基を含み、且つ含窒素複素環構造を含まない、有機ケイ素化合物、及び（Ｓ２）成分：含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物、を含むことを特徴とする、コーティング組成物、並びに該組成物より形成される硬化膜を有する光学部材。【選択図】 なし

Description

本願発明は、コーティングによって得られる被膜が硬度、透明性、耐擦傷性、密着性及び耐候性に優れ、メガネレンズなどの光学部材として有用な硬化膜を形成できるコーティング組成物及び光学部材に関する。

プラスチック成形体は、軽量、易加工性、耐衝撃性等の長所を生かして多量に使用されている反面、硬度が不十分で傷が付きやすい、溶媒に侵されやすい、帯電して埃を吸着する、耐熱性が不十分等であるといった短所を有する。そのため、プラスチック成形体を眼鏡レンズ、窓材等として使用するには、無機ガラス成形体に比べて、上述のような実用上の欠点があった。そこでプラスチック成形体に保護コート（保護被膜）を施すことが提案されている。保護コートに使用されるコーティング組成物は、実に多数の種類が提案されている。

無機系に近い硬い被膜を与えるものとして、有機ケイ素化合物又はその加水分解物を主成分（樹脂成分又は塗膜形成成分）とするコーティング組成物が眼鏡レンズ用として使用されている（特許文献１）。
上記コーティング組成物も未だ耐擦傷性が不満足であるため、更にこれにコロイド状に分散した二酸化珪素ゾルを添加したものが提案され、これも眼鏡レンズ用として実用化されている（特許文献２）。

ところで、従来プラスチック製眼鏡レンズは、大半がジエチレングリコールビスアリルカーボネートを注型重合することによって製造されていた。しかし、このレンズは、屈折率が約１．５０であり、ガラスレンズの屈折率約１．５２に比べ低いことから、近視用レンズの場合、縁の厚さがより厚肉なものになるという欠点を有している。そのため近年、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートより屈折率の高いモノマーの開発が進められ、高屈折率樹脂材料が提案されている（特許文献３〜４）。
このような高屈折率樹脂レンズに対して、Ｓｂ、Ｔｉの金属酸化物微粒子のコロイド分散体をコーティング材料に用いる方法も提案されている（特許文献５〜６）。

また、シランカップリング剤と、２〜６０ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物（Ｂ）で被覆して得られた粒子（Ｃ）を含有し、且つ（Ｃ）を金属酸化物に換算して２〜５０質量％の割合で含み、そして２〜１００ｎｍの一次粒子径を有する安定な変性金属酸化物ゾルからなるコーティング組成物が開示されている。そして、用いられるコロイド粒子の具体例としては、アルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド等が開示されている（特許文献７）。また、アルキルアミン、オキシカルボン酸で安定化された酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合コロイド等が開示されている（特許文献８）。

特開昭５２−１６５８６号公報 特開昭５３−１１１３３６号公報 特開昭５５−１３７４７号公報 特開昭６４−５４０２１号公報 特開昭６２−１５１８０１号公報 特開昭６３−２７５６８２号公報 特開２００１−１２３１１５号公報 特開平１０−３０６２５８号公報

これまで提案された二酸化珪素ゾルを添加したコーティング組成物は、塗膜に干渉縞が生じ、レンズの見栄えが悪いという問題点があった。
更に、酸化チタンゾルを使用したコーティング組成物の場合、酸化チタンゾルのシランカップリング剤やその加水分解物に対する相溶性に問題があり、安定性が悪く、またこのコーティング組成物により形成したコーティング層（硬化膜）は紫外線照射により酸化チタンが光励起されて青色に着色するという問題があった。また、高屈折率樹脂レンズはコーティング組成物との密着性に劣り、膜剥れ等の課題があった。

本発明の課題は、屈折率ｎ_Ｄが１．５８〜１．７６といった高屈折率プラスチック成形物に対して適用した場合においても、塗膜に干渉縞が生じず透明性が高いだけでなく、硬度、耐擦傷性、密着性、さらには耐候性にも優れる硬化膜を形成できる組成物であって、該組成物自体の安定性にも優れるコーティング組成物及び該コーティング組成物により形成される硬化膜を有する光学部材を提供することにある。

上記課題を解決するために本発明者らが鋭意検討した結果、特にバインダとして窒素原子を含む環状構造を有する有機ケイ素化合物を用いることにより、高い透明性や耐擦傷性を備えるだけでなく、硬度、密着性及び耐候性に優れる硬化膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち本発明は、第１観点として、（Ｓ）成分：有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質、及び
（Ｔ）成分：２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子、
を含むコーティング組成物であって、
前記（Ｓ）成分の有機ケイ素化合物が、
（Ｓ１）成分：アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及びアシルオキシ基からなる群から選択される少なくとも一種の加水分解性基を含み、且つ含窒素複素環構造を含まない、有機ケイ素化合物、及び
（Ｓ２）成分：含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物、
を含むことを特徴とする、
コーティング組成物に関する。
第２観点として、前記（Ｓ２）成分が、１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物である、第１観点に記載のコーティング組成物に関する。
第３観点として、前記（Ｓ２）成分が、１乃至３個の窒素原子を含み、環形成原子数５乃至３０の含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物である、第２観点に記載のコーティング組成物に関する。
第４観点として、前記（Ｓ２）成分が、下記式（ＩＩＩ）：

（式（ＩＩＩ）中、Ｒ^５は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、Ｒ^６はメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、Ｒ^７は１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を表し、ｎは１乃至３の整数を表す。）で表される化合物である、第１観点又は第２観点に記載のコーティング組成物に関する。
第５観点として、前記Ｒ^７は、１乃至３個の窒素原子を含み、環形成原子数５乃至３０の含窒素複素環基である、第４観点に記載のコーティング組成物に関する。
第６観点として、前記含窒素複素環基における含窒素複素環が、ピロール環、ピロリドン環、インドール環、インドリン環、カルバゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、又はトリアジン環である、第１観点乃至第５観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第７観点として、前記（Ｓ１）成分が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物及び下記一般式（ＩＩ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の有機ケイ素化合物である、第１観点乃至第６観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
（Ｒ^１）_ａ（Ｒ^３）_ｂＳｉ（ＯＲ^２）_{４−（ａ＋ｂ）} （Ｉ）
（式中、Ｒ^１及びＲ^３は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基又はアルケニル基を表すか、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、アミノ基若しくはシアノ基を有する１価の有機基であり且つＳｉ−Ｃ結合によりケイ素原子と結合している有機基を表し、Ｒ^２は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、ａ及びｂは、それぞれ独立して、０、１、又は２の整数を表し、且つ、ａ＋ｂは０、１、又は２の整数である。）
〔（Ｒ^４）_ｃＳｉ（ＯＸ）_３−ｃ〕_２Ｙ （ＩＩ）
(式中、Ｒ^４は炭素原子数１乃至５のアルキル基を表し、Ｘは炭素原子数１乃至４のアルキル基又はアシル基を表し、Ｙはメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、ｃは０又は１の整数を表す。）
第８観点として、前記（Ｓ２）成分が、前記（Ｓ１）成分の総質量１００質量部に対して、３〜１２００質量部の質量割合にて含有してなる、第１観点乃至第７観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第９観点として、（Ｔ）成分の変性金属酸化物コロイド粒子１００質量部に対して、（Ｓ）成分が２５〜３００質量部にて含まれる、第１観点乃至第８観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第１０観点として、（Ｔ）成分が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）であって、前記コロイド粒子（Ｃ）が、２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有する無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる、第１観点乃至第９観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第１１観点として、（Ｔ）成分が、前記核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と前記被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の間に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ及びＷからなる群から選ばれる少なくとも１種の原子の単独酸化物、同群から選ばれる２種以上の原子の複合酸化物、又は該単独酸化物及び該複合酸化物の混合物のいずれか１種からなる中間薄膜層が１層以上介在してなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）である、第１０観点に記載のコーティング組成物に関する。
第１２観点として、前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）が、その表面の少なくとも一部に、上記（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合してなる、第１０観点又は第１１観点に記載のコーティング組成物に関する。
第１３観点として前記有機ケイ素化合物が、ウレイド基を有する有機ケイ素化合物である、第１２観点に記載のコーティング組成物に関する。
第１４観点として、前記金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）が、Ｔｉの酸化物を主成分とし、さらに、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅから成る群から選択される１種以上の金属の酸化物を含む複合酸化物のコロイド粒子である、第１０観点乃至第１３観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第１５観点として、前記無機酸化物のコロイド粒子（Ｂ）が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｓｂ及びＷからなる群から選ばれた１種又は２種以上の原子の酸化物のコロイド粒子である、第１０観点乃至第１４観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第１６観点として、さらに、金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物からなる群から選ばれる１種又は２種以上の硬化触媒を含有してなる、第１観点乃至第１５観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物に関する。
第１７観点として、光学基材表面に第１観点乃至第１６観点のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材に関する。
第１８観点として、第１７観点に記載の光学基材表面に形成された硬化膜の表面に、更に反射防止膜を有することを特徴とする光学部材に関する。

本発明のコーティング組成物は、安定性に優れ、耐擦傷性、表面硬度、透明性、耐候性及び基板（基材）との密着性のいずれにも優れる硬化膜を形成させることができ、特に高屈折樹脂レンズとの密着性に優れたコーティング層を形成することができる。

本発明の光学部材は、耐擦傷性、表面硬度、透明性、耐候性に優れ、また前記コーティング組成物の硬化物である硬化膜と基材との密着性にも優れるものであり、屈折率が１．５８以上の高屈折率の部材を用いた場合においても干渉縞の見られない高透明性で外観良好な光学部材を得られる。
そのため、本発明のコーティング組成物により作製される硬化膜を有する光学部材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓ガラス、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどに付設する光学フィルターなどに使用することができる。

〔コーティング組成物〕
本発明のコーティング組成物（コーティング液ともいう）は（Ｓ）成分：有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質、及び、（Ｔ）成分：２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子を含みて構成される。
以下、本発明のコーティング組成物を構成する各成分について詳述する。

《（Ｓ）成分》
本発明に係る（Ｓ）成分は、有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質である。具体的には、有機ケイ素化合物として、後述する（Ｓ１）成分：アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及びアシルオキシ基からなる群から選択される少なくとも一種の加水分解性基を含み、且つ含窒素複素環構造を含まない、有機ケイ素化合物、及び、（Ｓ２）成分：含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物を含む。

［（Ｓ１）成分］
（Ｓ１）成分は、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及びアシルオキシ基からなる群から選択される少なくとも一種の加水分解性基を含み、且つ含窒素複素環構造を含まない、有機ケイ素化合物である。上記含窒素環構造とは、例えば後述する（Ｓ２）成分に含まれる含窒素複素環基における含窒素複素環を指し、すなわち、（Ｓ１）成分は、窒素原子をヘテロ原子として含む複素環構造（ヘテロ環構造）は含まないが、窒素原子以外のヘテロ原子を含む複素環構造は含んでもよい有機ケイ素化合物をいう。
中でも上記（Ｓ１）成分は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物及び下記一般式（ＩＩ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の有機ケイ素化合物であることが好ましい。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞
（Ｒ^１）_ａ（Ｒ^３）_ｂＳｉ（ＯＲ^２）_{４−（ａ＋ｂ）} （Ｉ）
式中、
Ｒ^１及びＲ^３は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基又はアルケニル基を表すか、又は
エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、アミノ基若しくはシアノ基を有する１価の有機基であり且つＳｉ−Ｃ結合によりケイ素原子と結合している有機基を表し、
Ｒ^２は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立して、０、１、又は２の整数を表し、且つ、ａ＋ｂは０、１、又は２の整数である。

上記一般式（Ｉ）で表される有機ケイ素化合物は、Ｒ^１とＲ^３が同一の有機基又は異なる有機基である場合や、ａとｂが同一の整数又は異なる整数である場合の有機ケイ素化合物を含む。

上記一般式（Ｉ）で表される有機ケイ素化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトメチルジエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ウレイドメチルトリメトキシシラン、２−ウレイドエチルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドメチルトリエトキシシラン、２−ウレイドエチルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。

＜一般式（ＩＩ）で表される化合物＞
〔（Ｒ^４）_ｃＳｉ（ＯＸ）_３−ｃ〕_２Ｙ （ＩＩ）
式中、
Ｒ^４は炭素原子数１乃至５のアルキル基を表し、
Ｘは炭素原子数１乃至４のアルキル基又はアシル基を表し、
Ｙはメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、
ｃは０又は１の整数を表す。

上記式（ＩＩ）で表される有機ケイ素化合物としては、例えば、メチレンビスメチルジメトキシシラン、エチレンビスエチルジメトキシシラン、プロピレンビスエチルジエトキシシラン、ブチレンビスメチルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。

上記（Ｓ１）成分は、好ましくは一般式（Ｉ）で表される有機ケイ素化合物である。特に、Ｒ^１及びＲ^３のうちいずれか一方がエポキシ基を有する有機基であり、Ｒ^２がアルキル基又はアリール基であり、より好ましくはアルキル基であり、且つａ及びｂがそれぞれ０又は１であり、ａ＋ｂが１又は２の条件を満たす一般式（Ｉ）の有機ケイ素化合物が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される有機ケイ素化合物の好ましい例としては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシランである。更に好ましくは、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランであり、これらを単独で又は混合物として使用することができる。

また、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランを使用する場合、更に一般式（Ｉ）においてａ＋ｂ＝０に相当する４官能の化合物を併用することが好ましい。４官能に相当する化合物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ−ブトキシシラン等が挙げられる。

［（Ｓ２）成分］
（Ｓ２）成分は含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物であり、好ましくは１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物である。
中でも前記（Ｓ２）成分が、下記式（ＩＩＩ）：

（式（ＩＩＩ）中、
Ｒ^５は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、
Ｒ^６はメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、
Ｒ^７は１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を表し、
ｎは１乃至３の整数を表す。）で表される化合物であることが好ましい。
上記において、１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基が、１乃至３個の窒素原子を含み、且つ環形成原子数５乃至３０の含窒素複素環基であることが好ましく、さらに環形成原子数５乃至１０、特に環形成原子数５乃至８の含窒素複素環基であることが好ましい。なお環形成原子数とは、原子が環状に結合した構造（例えば単環、縮合環、環集合）の化合物（例えば単環化合物、縮合環化合物、架橋化合物、炭素環化合物、複素環化合物）の当該環自体を構成する原子の数を表し、環を構成しない原子（例えば環を構成する原子の結合手を終端する水素原子）や、当該環が置換基によって置換される場合の該置換基に含まれる原子は環形成原子数には含まないものとする。

前記含窒素複素環基における含窒素複素環としては、ピロール環、ピロリドン環、インドール環、インドリン環、カルバゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、及びトリアジン環等が挙げられる。
上記式（ＩＩＩ）中のＲ^７の定義における「１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基」としては、上記含窒素複素環から誘導される１価の基が挙げられる。

上記Ｒ^６としては、好ましくは炭素原子数２乃至１０のアルキレン基が挙げられ、すなわち、炭素原子数２、３、４、５、６、７、８、９又は１０のアルキレン基が挙げられる。
また上記Ｒ^７における好ましい含窒素複素環基としては、ベンゾイミダゾール基、ベンゾトリアゾリル基が挙げられる。
さらに、上記ｎは好ましくは１を表す。

［（Ｓ）成分］
本発明のコーティング組成物における（Ｓ）成分において、前述の（Ｓ１）成分の総質量１００質量部に対して、前述の（Ｓ２）成分が３〜１２００質量部、又は３〜１００質量部、又は３〜５０質量部の質量割合にて含有してなることが好ましい。
なお、本発明のコーティング組成物に使用される（Ｓ）成分における「有機ケイ素化合物の加水分解物」とは、上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）からなる群から選択される有機ケイ素化合物、並びに上記一般式（ＩＩＩ）の有機ケイ素化合物が加水分解されることにより、上記Ｒ^２（式（Ｉ））、Ｘ（式（ＩＩ））、Ｒ^５（式（ＩＩＩ））の一部又は全部が水素原子に置換された化合物となる。これらの一般式（Ｉ）、一般式（ＩＩ）、一般式（ＩＩＩ）の有機ケイ素化合物の加水分解物は、それぞれ単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。加水分解は、上記の有機ケイ素化合物に、塩酸水溶液、硫酸水溶液、酢酸水溶液等の酸性水溶液を添加し撹拌することにより行われる。

《（Ｔ）成分》
本発明のコーティング組成物に含まれる（Ｔ）成分は、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子である。

上記（Ｔ）成分は、好ましくは、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）であって、前記コロイド粒子（Ｃ）が、２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有する無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる、コロイド粒子である。
本発明において、核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）、並びに、被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）は、その平均一次粒子径が透過型電子顕微鏡による観察で測定される。そして前記核となる粒子（Ａ）の表面が粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆された変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、その平均粒子径を動的光散乱法（ＤＬＳ法）によって測定することができる。
なお、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面を無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）で被覆する際、粒子同士の界面の反応によって、得られる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の粒子径の値は変化し得る。そのため、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の粒子径を透過型電子顕微鏡による観察により測定した一次粒子径で評価した場合には、この値が、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の平均一次粒子径の和に必ずしも一致しないことがある。
以下本明細書において、透過型電子顕微鏡観察により測定された粒子径を「平均一次粒子径」、動的光散乱法（ＤＬＳ法）により測定された粒子径を「平均粒子径（動的光散乱法粒子径）」と称する。

＜金属酸化物コロイド粒子（Ａ）＞
上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）は２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する粒子である。
このような金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）としては、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物のコロイド粒子が挙げられる。この金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）は原子価２〜６の金属の酸化物のコロイド粒子であり、それら金属の酸化物の形態として、例えばＴｉＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＰｂＯ、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２等を例示することができる。そしてこれらの金属酸化物は単独で用いることも複数種を組み合わせて用いることもできる。組み合わせ方法としては、上記金属酸化物を数種類混合する方法や、上記金属酸化物を複合化させる方法、又は上記金属酸化物を原子レベルで固溶体化する方法が挙げられる。
前記金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、解膠法、加水分解法、反応法により製造することができる。上記のイオン交換法の例としては、上記金属の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法、あるいは上記金属の塩基性塩を水酸基型陰イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。上記解膠法の例としては、上記金属の酸性塩を塩基で中和するか、あるいは上記金属の塩基性塩を酸で中和させることによって得られるゲルを洗浄した後、酸又は塩基で解膠する方法が挙げられる。上記加水分解法の例としては、上記金属のアルコキシドを加水分解する方法、あるいは上記金属の塩基性塩を加熱下加水分解した後、不要の酸を除去する方法が挙げられる。上記反応法の例としては、上記金属の粉末と酸とを反応させる方法が挙げられる。

好ましい態様において、上記金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）は、Ｔｉの酸化物（酸化チタン）を主成分とし、さらに、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅからなる群から選択される１種以上の金属の酸化物を含む複合酸化物のコロイド粒子である。なお粒子（Ａ）において「主成分である」とは、当該成分（Ｔｉの酸化物）を必須として５０質量％以上含むことを意味する。酸化チタン含有量を５０質量％以上とすることで、これらの粒子を含む組成物を用いて得られる硬化膜において屈折率の向上が期待でき、また、基材の屈折率によって発生し得る干渉縞の生成を抑えることができる。
上記複合酸化物のコロイド粒子としては、例えば、ＴｉＯ_２粒子とＳｎＯ_２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＴｉＯ_２−ＳｎＯ_２複合酸化物コロイド粒子、ＴｉＯ_２とＳｎＯ_２とＺｒＯ_２とが原子レベルで固溶体を形成して得られたＴｉＯ_２−ＳｎＯ_２−ＺｒＯ_２複合酸化物コロイド粒子が挙げられる。
また、上記金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）が酸化チタンを主成分とする複合酸化物のコロイド粒子であるとき、該粒子は無定形でも、アナタース型、ルチル型、ブルッカイト型等の結晶であってもよい。更には、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ_３又はＢａＯ・ＴｉＯ_２で表される。）のようなペロブスカイト型チタン化合物であってもよい。中でも、酸化チタンを主成分とする複合酸化物のコロイド粒子の結晶型はルチル型であることが好ましい。

＜無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）＞
上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）は１〜４ｎｍの平均一次粒子径を有する粒子である。
このような無機酸化物のコロイド粒子（Ｂ）としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｓｂ及びＷからなる群から選ばれた１種又は２種以上の原子の酸化物のコロイド粒子である。
上記原子の酸化物（無機酸化物）の形態として、例えばＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２、ＭｏＯ_３、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３等を例示することができる。
そしてこれらの無機酸化物は単独で用いることも組み合わせて用いることもできる。組み合わせとしては、前記無機酸化物を数種類混合する方法や、前記無機酸化物を複合化させる方法、又は前記無機酸化物を原子レベルで固溶体化する方法が挙げられる。

例えば、ＳｎＯ_２粒子とＷＯ_３粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ_２−ＷＯ_３複合コロイド粒子、ＳｎＯ_２粒子とＳｉＯ_２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ_２−ＳｉＯ_２複合コロイド粒子、ＳｎＯ_２粒子とＷＯ_３粒子とＳｉＯ_２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ_２−ＷＯ_３−ＳｉＯ_２複合コロイド粒子、ＳｎＯ_２粒子とＭｏＯ_３粒子とＳｉＯ_２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ_２−ＭｏＯ_３−ＳｉＯ_２複合コロイド粒子、Ｓｂ_２Ｏ_５粒子とＳｉＯ_２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｂ_２Ｏ_５−ＳｉＯ_２複合コロイド粒子が挙げられる。

前記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、酸化法により製造することができる。上記のイオン交換法の例としては、上記原子の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。上記酸化法の例としては、原子又は無機酸化物の粉末と過酸化水素とを反応させる方法が挙げる。

＜変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）＞
上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）（無機酸化物コロイド粒子被覆−金属酸化物コロイド粒子）において、被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の量（質量割合）は、核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）に対して、好ましくは０．０１〜１．０の範囲である。
なお、前記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の平均一次粒子径の値は、前記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の平均一次粒子径の値より小さいことが好ましい。変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）において、静電的な作用により、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面に無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）が被覆されるものと考えられる。金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）との間に後述する中間薄膜層が形成される場合、中間薄膜層は溶液状態で金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面を被覆することができる。金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）、更には中間薄膜層を含めた各層は、金属酸化物の構成（成分）が異なることが好ましい。

前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）、すなわち、上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなるコロイド粒子を得るには、従来公知の方法を採用することができる。
例えば、核としての金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を含有する水性ゾルと、被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）を含有する水性ゾルとを、その金属酸化物及び無機酸化物の質量として換算した際の（Ｂ）／（Ａ）の質量割合で０．０１〜１．０にて混合した後、その水性媒体を加熱する方法が挙げられる。
金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）との混合は０〜１００℃の温度、好ましくは室温から６０℃で行うことができる。そして混合後の加熱は、例えば７０〜３００℃で行われる。
上記手順により得られる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルの形態として得られ、該水性ゾル又は後述するように該ゾルの水性媒体を有機溶媒で置換したオルガノゾルの形態として、後述するコーティング組成物に好適に使用できる。

＜中間薄膜層＞
前述したように、上記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、核となる上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）とその表面を被覆してなる上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物との間に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ及びＷからなる群から選ばれる少なくとも１種の原子の単独酸化物、同群から選ばれる２種以上の原子の複合酸化物、又は該単独酸化物及び該複合酸化物の混合物のいずれか１種からなる中間薄膜層が１層以上介在していてもよい。該中間薄膜層は１層であっても、２層以上の多層であってもよい。

核となる上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と被覆物となる上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）との間に、中間薄膜層を少なくとも１層介在させることによって、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の屈折率を調整することができるほか、このコロイド粒子（Ｃ）を含むコーティング組成物を用いて得られる被膜の耐光性、耐候性、被膜と基材との密着性等の諸物性を向上させることができる。更に前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の着色を抑制し、被膜の透明性を向上させることができる。

また、中間薄膜層の層の数、層の厚さは、前述した核となる上記金属酸化物コロイド粒子（Ａ）に対して被覆物となる上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の量（質量割合）が０．０１〜１．０の範囲にありさえすれば、特に制限はない。

また、前記中間薄膜層としては、特に二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）及び酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）の少なくとも１種からなることが好適であり、例えば、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムが各成分毎に積層して薄膜層を形成していてもよく、また、例えば酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合体のように複合化して薄膜層を形成していてもよい。

一例として、中間薄膜層を構成する酸化物として二酸化ケイ素を含むことで、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）のゾルの安定性が向上し、かつ後述するコーティング組成物のポットライフが長くなる。このため、該コーティング組成物より得られる透明被膜（硬化膜）の硬度の向上と透明被膜（硬化膜）の上に形成される反射防止膜との密着性の向上を図ることができ、耐候性、耐光性、基材との密着性、膜硬度、耐擦傷性、可撓性等が向上する。例えば、中間薄膜層として、二酸化ケイ素と酸化ジルコニウムおよび／または酸化アルミニウムとを用いると、優れた耐候性、耐光性、基材との密着性、膜硬度、耐擦傷性、可撓性等を有する透明被膜（硬化膜）を形成可能な、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）を得ることができる。
また、中間薄膜層を構成する酸化物として酸化ジルコニウムを用いることにより、得られる変性酸化物コロイド粒子（Ｃ）の変色を抑制することができる。これは、平均一次粒子径が小さな酸化チタン（酸化チタンゾル）は、酸化チタンが紫外線により部分的にＴｉＯ_２からＴｉＯへの還元反応が起こり、前述の通り濃青色に呈するという問題を持っている。酸化第二スズ（ＳｎＯ_２）においても、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下、特に３０ｎｍ以下のゾルになると、紫外線により部分的にＳｎＯ_２からＳｎＯへの還元反応が起こるため褐色あるいは青緑色を呈するという問題がある。このとき、変性酸化物コロイド粒子（Ｃ）の中間薄膜層に酸化ジルコニウムが存在することにより、酸化物コロイド粒子を構成する酸化チタンや酸化第二スズのＴｉＯやＳｎＯへの還元が抑制され、変色を抑制することができる。

中間薄膜層を介する場合、先ず中間薄膜層の構成成分となる原子の水溶液又はコロイド粒子分散液を用意し、その中に金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を投入し、該金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の表面に中間薄膜層を形成させる。中間薄膜層を形成させる際は加熱することが好ましく、４０℃以上、又は２００℃以下が好ましい。
次いで中間薄膜層を形成させた金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の水性ゾルに、上記無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の水性ゾルを添加して、前述の方法により被覆層を形成させればよい。前述の通り、無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の添加量は、金属酸化物コロイド粒子（Ａ）に対して０．０１〜１．０（質量割合）の範囲である。

＜変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾル＞
上記の方法で得られた無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）で金属酸化物コロイド粒子（Ａ）が被覆されてなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルは、必要に応じて洗浄処理して不純物を除去してもよい。また、限外濾過、蒸発濃縮等の方法により水性ゾル中の全金属酸化物濃度を調整したり、水性ゾルのｐＨや温度を適宜調節することができる。さらに必要に応じて、例えば４０℃乃至２００℃に加熱してもよい。なお本明細書において、コロイド粒子（Ｃ）における“全金属酸化物濃度”とは、コロイド粒子（Ａ）、コロイド粒子（Ｂ）に含まれるＴｉＯ_２やＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２等の酸化物はもちろん、コロイド粒子（Ｂ）がＳｉＯ_２を含みて構成される場合にはＳｉＯ_２も含めた濃度として定義される。
水性ゾルの濃度を更に高めたいときは、最大約５０質量％まで常法、例えば蒸発法、限外濾過法等により濃縮することができる。またこのゾルのｐＨを調整したいときには、濃縮後に、後述するアルカリ金属、有機塩基（アミン）、オキシカルボン酸等をゾルに加えることによって行うことができる。
特に、金属酸化物の合計濃度（全金属酸化物濃度）が１０〜４０質量％であるゾルが実用的に好ましい。

前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の水性ゾルにおいて、該水性ゾルの分散媒である水を親水性有機溶媒で置換することにより、有機溶媒分散ゾル（オルガノゾル）が得られる。この置換は、蒸留法、限外濾過法等通常の方法により行うことができる。この親水性有機溶媒の例としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の環状アミド類、エチルセロソルブ、エチレングリコール等のグリコール類が挙げられる。

上記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）のゾルは、本発明の目的が達成される限り、他の任意の成分を含有することができる。特にオキシカルボン酸類を全金属酸化物の合計量に対し約３０質量％以下の割合で含有させると、分散性等の性能が更に改良されたコロイドが得られる。用いられるオキシカルボン酸の例としては、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、グリコール酸等が挙げられる。

また変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）のゾルは、アルカリ成分を含有することができ、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等のアルカリ金属の水酸化物；アンモニア、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンなどの有機塩基である。これらは２種以上を混合して含有することができる。これらを全金属酸化物の合計量に対し約３０質量％以下の割合で含有させることができる。また前記のオキシカルボン酸と併用することができる。

＜表面の少なくとも一部に、上記（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合してなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）＞
本発明に用いられる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）は、その表面の少なくとも一部に上記（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合したものであってもよい。この場合、より詳細には、変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）において被覆物である無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）に由来するヒドロキシ基に、（Ｓ１）有機ケイ素化合物の加水分解性基が結合した構造を有する。

変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物を結合させるには、例えば、（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物のアルコール溶液に、上記のコロイド粒子（Ｃ）（例えばコロイド粒子（Ｃ）のゾル）を所定量混合し、（必要であれば）所定量の水、必要に応じて希塩酸等の加水分解触媒を加えた後、所定時間常温で放置する、あるいは、加熱処理を行えばよい。

変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に結合させる（Ｓ１）有機ケイ素化合物は、１種を単独で使用しても２種以上を混合して使用してもよい。
また、前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に（Ｓ１）有機ケイ素化合物を結合させる表面改質処理を行う際に、事前に前記（Ｓ１）有機ケイ素化合物の部分的な加水分解を行ってもよいし、加水分解を行わないままで表面改質処理を行ってもよい。
さらに表面改質処理後は、（Ｓ１）有機ケイ素化合物の加水分解性基が前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面のヒドロキシ基と反応した状態が好ましいが、一部のヒドロキシ基が未処理のまま残存した状態でも何ら差し支えない。

また前記金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面への（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物の結合量は特に限定されないが、例えば、金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の全金属酸化物の総質量に対して０．１〜４０質量％、例えば３〜３０質量％であり、好ましくは５〜２０質量％である。

なお変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面の少なくとも一部に結合させる（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物は、前述の例示した化合物から適宜選択され得、特に限定されるものではない。
好ましくは、ウレイド基を有する有機ケイ素化合物が挙げられ、ウレイドメチルトリメトキシシラン、２−ウレイドエチルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、ウレイドメチルトリエトキシシラン、２−ウレイドエチルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。ウレイド基を有する有機ケイ素化合物を変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の表面に結合させたものとすることにより、基板（基材）に対する密着性を改善することができる。

［コーティング組成物］
本発明のコーティング組成物は、上記の（Ｓ）成分：有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質、及び、（Ｔ）成分：２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子を含む。
上記（Ｓ）成分と（Ｔ）成分の割合は特に限定されないが、例えば、（Ｔ）成分の変性金属酸化物コロイド粒子１００質量部に対して、（Ｓ）成分が２５〜３００質量部にて含むことができる。

＜その他成分＞
本発明のコーティング組成物には、硬化反応を促進するために硬化触媒（硬化剤）を含有させることができる。硬化触媒（硬化剤）としては、たとえば、アミン類、アミノ酸類、金属アルコキシド、金属キレート化合物、有機酸金属塩、過塩素酸類又はその塩、酸類又はその塩、及び金属塩化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬化触媒を挙げることができる。
硬化触媒（硬化剤）は、コーティング組成物に含まれる（Ｓ）有機ケイ素化合物、特に上記の（Ｓ１）成分及び（Ｓ２）成分が有するシラノール基（場合によりさらにエポキシ基）の硬化を促進するために用いられる。これらの硬化触媒（硬化剤）を用いることにより、被膜形成反応を速めることが可能となる。

これらの具体例としては、エチルアミン、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、アリルアミン、グアニジン、ビグアニジド等のアミン類；グリシン等のアミノ酸類；アルミニウム、ジルコニウム又はチタニウム等の金属のアルコキシド；アルミニウムアセチルアセトネート、クロムアセチルアセトネート、チタニウムアセチルアセトネート、コバルトアセチルアセトネート等の金属キレート化合物；酢酸ナトリウム、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズ等の有機酸金属塩類；過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネシウム等の過塩素酸類又はその塩；塩酸、リン酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸、炭酸、有機カルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の無機酸、有機酸、又はそれらの塩；ＳｎＣｌ_２、ＡｌＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３、ＴｉＣｌ_４、ＺｎＣｌ_２、ＳｂＣｌ_３等のルイス酸である金属塩化物等が挙げられる。

これらの硬化触媒（硬化剤）は、本発明のコーティング組成物の組成等によりその種類と使用量を適宜調整して用いることができる。硬化触媒（硬化剤）を使用する場合、その使用量の上限としては、前記コーティング組成物中の全固形分に対して５質量％以下で用いるのが望ましい。なお本明細書において、“全固形分”とは、コーティング組成物から溶媒を除いた全成分を言及し、液状成分であっても便宜的に“固形分”として扱うものとする。

また本発明のコーティング組成物には、流動性の付与、固形分濃度の調整、表面張力、粘度、蒸発速度等を調整する目的で溶媒を用いてもよい。用いられる溶媒は、水又は有機溶媒である。
用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、エチレングリコール等のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げられる。
なお、本発明のコーティング組成物における全固形分の濃度は、例えば２０〜８０質量％、２０〜４０質量％、又は３０〜７０質量％とすることができる。

更に、本発明のコーティング組成物には、後述するように、基材上に該組成物より硬化膜を形成する際、基材に対する濡れ性を向上させ、硬化膜の平滑性を向上させる目的で各種の界面活性剤を含有させることができる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤等も硬化膜の物性に影響を与えない限り添加することが可能である。さらには、分散染料、油溶染料、蛍光染料、顔料、フォトクロミック化合物、チキソトロピー剤等を添加してもよい。

また、基板（基材、例えばレンズ）との屈折率を合わせるために種々の微粒子状金属酸化物を本発明のコーティング組成物に含有させることができる。微粒子状金属酸化物としては、平均一次粒子径２〜６０ｎｍの酸化アルミニウム、酸化チタン、五酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素、酸化セリウムなどの微粒子が挙げられる。

〔硬化膜、光学部材〕
本発明のコーティング組成物は、基材表面に塗布し、硬化膜を形成させることができる。そして、更に光学用途に適した透明性の基材（光学基材）を用いることにより、硬化膜を有する光学部材を得ることができる。該光学部材も本発明の対象である。

用いられる基材としては、ガラス、プラスチック等からなる各種基材が用いられ、具体的には、眼鏡レンズ、カメラ等の各種光学レンズ、各種表示素子フィルター、ルッキンググラス、窓ガラス、自動車等の塗料膜、自動車等に用いられるライトカバー等が挙げられる。この基材表面に、ハードコート膜として、本発明のコーティング組成物から硬化膜（透明被膜）が形成される。又はハードコート膜としての用途以外にも、プラスチックレンズのプライマー用膜等として形成されることがある。

コーティング組成物の硬化は、熱風乾燥又は活性エネルギー線照射によって行うことができる。熱風乾燥の硬化条件としては７０〜２００℃の熱風中で行うことがよく、特に９０〜１５０℃が好ましい。また、活性エネルギー線としては赤外線、紫外線、電子線等が挙げられ、特に遠赤外線は熱による損傷を低く抑えることができる。

本発明のコーティング組成物を基材表面に塗布する方法としてはディッピング法、スピン法、スプレー法等の通常行われる方法が適用できる。中でも面積度の観点からディッピング法、スピン法が特に好ましい。

また前記コーティング組成物を基材表面に塗布する前に、基材表面を酸、アルカリ又は各種有機溶剤若しくは洗剤による化学的処理、プラズマ、紫外線等による物理的処理を行うことにより、基材と硬化膜との密着性を向上させることができる。さらに基材表面を各種樹脂を用いたプライマー処理を行うことにより、基材と硬化膜との密着性をより向上させることができる。

また本発明のコーティング組成物より形成される硬化膜は、高屈折率膜として反射膜に使用でき、さらに、防曇、フォトクロミック、防汚等の機能成分を加えることにより、多機能膜として使用することもできる。

本発明のコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓ガラス、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどに付設する光学フィルターなどに使用することができる。

また本発明の光学部材は、光学基材の表面に本発明のコーティング組成物から形成される硬化膜を有しているが、その硬化膜上に無機酸化物の蒸着膜からなる反射防止膜を形成させることができる。該反射防止膜は特に限定されず、従来から知られている無機酸化物の単層又は多層の蒸着膜を使用することができる。反射防止膜の例としては、特開平２−２６２１０４号公報、特開昭５６−１１６００３号公報に開示されている反射防止膜などが挙げられる。

以下、本発明について、参考例、製造例、実施例及び比較例に基づきさらに詳述するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。

分散液の諸物性は、以下の測定方法により求めた。
〔比重〕浮き秤法にて求めた。
〔粘度〕オストワルド粘度計にて求めた（２０℃）。
〔水分〕カールフィッシャー滴定法にて求めた。
〔動的光散乱による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）〕ゾルを分散溶媒で希釈し、溶媒のパラメーターを用いて、動的光散乱法測定装置：Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ製ゼータ−サイザーで測定した。
〔透過型電子顕微鏡による平均一次粒子径〕ゾルを銅メッシュ上に滴下し乾燥させ、透過型電子顕微鏡（日本電子社製 ＪＥＭ−１０２０）を用いて加速電圧１００ｋＶにて観察し、１００個の粒子を測定し平均化した値を平均一次粒子径として求めた。

また実施例および比較例で得られた硬化膜を有する光学部材について、以下に示す測定方法により諸物性を測定し評価した。

（１）硬度試験
ダイナミック超微小硬度計 ＤＵＨ−２１１（（株）島津製作所製）を用いて、ガラス基板上に形成した硬化膜を測定した。判断基準は下記の通りである。
Ａ：比較例に比べ、１０％以上硬度が向上
Ｂ：比較例に比べ、±１０％以内の硬度
Ｃ：比較例に比べ、１０％以上の硬度低下

（２）耐擦傷性試験
スチールウール＃００００で、ウレタン系プラスチックレンズ基板上に形成した硬化膜表面を擦り、傷の付きにくさを目視で判断した。なお耐擦傷性試験の条件は１回／１０秒、荷重１ｋｇ以上とした。判断基準は下記の通りである。
Ａ：全く傷が確認できない
Ｂ：若干の傷が確認できる
Ｃ：目立った傷が確認できる

（３）密着性試験
ガラス基板上に形成した硬化膜に１ｍｍ間隔で１００目クロスカットを施し、このクロスカットした部分に粘着テープ（セロハンテープ、ニチバン（株）製品）を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は下記の通りである。
Ａ：全く剥離が無いか、又は１００目中５目未満の剥離が確認できる。
Ｂ：１００目中５〜３０目の剥離が確認できる
Ｃ：１００目中３１〜６０目の剥離が確認できる
Ｄ：１００目中６１〜９０目の剥離が確認できる
Ｅ：１００目中９１目以上の剥離が確認できる

（４）耐候性試験後の密着性試験
ウレタン系プラスチックレンズ基板上に形成した硬化膜に対して、キセノンウェザーメーター（照射強度４０ｍＷ／ｍ^２）を用いて、１００時間露光を個行った。露光後の硬化膜にクロスカットを施し、（３）密着性試験と同様の試験を行ない、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。評価基準は（３）密着性試験を用いた。

（５）透明性試験
暗室内、蛍光灯下で、ウレタン系プラスチック基板上に形成した硬化膜の曇りの有無を目視で調べた。判断基準は次の通りである。
Ａ：曇りの発生がほとんど無いもの
Ｂ：曇りが発生するが透明硬化膜として問題がない程度のもの
Ｃ：白化が顕著に表れるもの

（６）耐候性試験
得られた光学部材（ウレタン系プラスチック基板上に硬化膜を形成したもの）について１ヶ月間屋外暴露を行い、暴露後の光学部材の外観の変化を目視で判断した。

参考例１：被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）：酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子（Ｂ０）の水性ゾルの調製
珪酸ナトリウム水溶液（ＳｉＯ_２として１５．０質量％含有、日産化学工業（株）製）５５．７ｇを純水３５４．８ｇにて希釈を行った後、撹拌下にスズ酸ナトリウム粉末（ＳｎＯ_２として５５．７質量％含有、昭和化工（株）製）７．５ｇを混合して１時間撹拌を続け、珪酸ナトリウムとスズ酸ナトリウムとの混合溶液を得た。得られた珪酸ナトリウムとスズ酸ナトリウムとの混合水溶液７３０ｇを、水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ、オルガノ（株）製）を充填したカラムに通液した。陽イオン交換後、得られたスズ酸−珪酸水溶液にジイソプロピルアミンを撹拌下で２．５ｇ添加し、酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子の水性ゾル７３３ｇを得た。
得られた酸化第二スズ−二酸化珪素の複合コロイド粒子（Ｂ０）は、全金属酸化物（ＳｎＯ_２＋ＳｉＯ_２）濃度２．０％、ＳｉＯ_２／ＳｎＯ_２質量比で２／１、透過型電子顕微鏡による観察で平均一次粒子径は１〜４ｎｍであった。

参考例２：核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）：酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ａ０）の水性ゾルの調製
次の（ａ）〜（ｃ）工程を経て、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ａ０）の水性ゾルを調製した。
（ａ）工程：オキシ塩化チタン１５０．０ｇ（ＴｉＯ_２として２８．０質量％含有、住友チタニウム（株）製）、炭酸ジルコニウム１２ｇ（ＺｒＯ_２として４０．８質量％含有、第一稀元素化学工業（株）製）及び純水３５７ｇを３Ｌのガラス製容器に投入し、オキシ塩化チタンとオキシ塩化ジルコニウムとの混合水溶液５３１ｇ（ＴｉＯ_２ ７．９１質量％、ＺｒＯ_２ ０．９２質量％）を調製した。この混合水溶液を撹拌下で６０℃まで加熱した後、液温を６０〜７０℃に保持しながら３５質量％過酸化水素水（工業用）５．２５ｇと金属スズ粉末（山石金属（株）製ＡＴ−Ｓｎ、Ｎｏ．２００）３．１５ｇを均等に１０回に分けて添加した。過酸化水素水と金属スズ粉末の添加は、始めに過酸化水素水を、次いで金属スズ粉末を徐々に加え、金属スズの溶解反応が終了してから（５〜１０分）、引き続き過酸化水素水と金属スズの添加を繰り返す方法で行った。この反応は発熱反応のため、容器を冷却しながら行い、液温を６０〜７０℃に保持した。添加の際、過酸化水素水と金属スズの割合は、Ｈ_２Ｏ_２／Ｓｎモル比２．０で行った。過酸化水素水と金属スズ粉末の添加に要した時間は１時間であった。反応終了後、得られた水溶液に更に炭酸ジルコニウムを１２ｇ（ＺｒＯ_２として４０．８質量％含有、第一稀元素化学工業（株）製）を溶解し、８５℃で２時間熟成して、淡黄色透明の塩基性塩化チタン−ジルコニウム−スズ複合塩水溶液５５７．４ｇを得た。得られた塩基性塩化チタン−ジルコニウム−スズ複合塩水溶液中の酸化チタン濃度は７．５質量％、酸化ジルコニウム濃度は１．８質量％、酸化スズ濃度は０．７質量％であり、ＳｎＯ_２／ＴｉＯ_２モル比０．０５、ＺｒＯ_２／ＴｉＯ_２モル比０．１５であった。
（ｂ）工程：（ａ）工程で得られた塩基性塩化チタン−ジルコニウム−スズ複合塩水溶液５５７．４ｇに純水２２２７ｇを添加し、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２及びＳｎＯ_２の合計で２．０質量％の水溶液とした。この水溶液を９５〜９８℃で１０時間加水分解を行い、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の凝集体スラリーを得た。
（ｃ）工程：（ｂ）工程で得られた酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の凝集体スラリーを限外濾過装置により純水で洗浄を行い、過剰な電解質を除去して解膠させて、酸性の酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ａ０）の水性ゾル１１０２ｇを得た。得られた水性ゾルのｐＨは２．９、電導度は１７４０μＳ／ｃｍ、全金属酸化物（ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２及びＳｎＯ_２の合計）濃度は５．０４質量％、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の平均一次粒子径は６〜１０ｎｍであった。

参考例３：変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）：酸化第二スズ−二酸化珪素被覆−酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ｃ１）のメタノールゾルの調製
参考例１で得られた酸化第二スズ−二酸化珪素複合酸化物コロイド粒子（Ｂ０）の水性ゾル５０３ｇに純水１３２３ｇ、ジイソプロピルアミン２．４ｇを添加した後、撹拌下で、参考例２の（ｃ）工程に従い得られた酸性の酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ａ０）の水性ゾル１１９０ｇ添加した後、０．５時間撹拌し、濃度２．５質量％の酸化第二スズ−二酸化珪素被覆−酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の水性ゾルを得た。
得られた酸化第二スズ−二酸化珪素被覆−酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の水性ゾル３０１８ｇを、水酸基型陰イオン交換樹脂（アンバーライトＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）を充填したカラムに通液し、酸化第二スズ−二酸化珪素被覆−酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の水性ゾル３６２０ｇを得た。得られた水性ゾルのｐＨは１０．２、全金属酸化物濃度は２．１質量％であった。上記で得られた酸化第二スズ−二酸化珪素被覆酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子の水性ゾル３６２０ｇを、ＳＵＳ容器にて、撹拌下で１５０℃、圧力０．３ＭＰａで５時間、水熱処理し、３６２０ｇの水性ゾルを得た。得られたゾルを限外濾過装置にて濃縮を行った。得られたゾルは、比重１．１９３、粘度３，７ｍＰａ・ｓ、ｐＨ７．８、透過型電子顕微鏡観察による平均一次粒子径５〜６ｎｍ、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）６４ｎｍ、全金属酸化物濃度２１．５質量％であった。上記濃縮された水性ゾル３４９ｇを、ナス型フラスコ付きエバポレータを用いて６００ｔｏｒｒでメタノールを添加しながら水を留去することにより水性ゾルの水をメタノールで置換して、酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性（被覆）された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ｃ１）のメタノールゾルを得た。得られたゾルは比重１．０５８、粘度２．５ｍＰａ・ｓ、ｐＨ６．９（同質量の水で希釈）、透過型電子顕微鏡観察による平均一次粒子径８〜１２ｎｍ、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）５１ｎｍ、水分１．０％、透過率４５％、全金属酸化物濃度３０．５質量％であった。

製造例１：表面に（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合してなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の調製
参考例３で得た酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性（被覆）された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｃ１）のメタノールゾル１０００ｇを、減圧下で濃縮し、濃縮ゾル９６５ｇを得た。これに、ウレイドプロピルトリエトキシシランのメタノール溶液（濃度５０質量％、信越化学工業（株）製：ＫＢＥ５８５）５２．５ｇを撹拌下で添加し、還流下で５時間反応を行い、エバポレータを用いた減圧濃縮工程を経て、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子を核として、酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイドで全体的に被覆された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子の表面にウレイドプロピルトリエトキシシランが結合されているコロイド粒子（Ｃ２）のメタノールゾル１０１７．５ｇを得た。得られたゾルは、比重１．０７０、粘度１．６ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物濃度３０．５質量％、水分０．７質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１７ｎｍであった。

実施例１
（コーティング組成物の作製）
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５８．７質量部、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤（信越化学工業製Ｘ−１２−１２１４Ａ）２．８質量部を加え、撹拌しながら０．０１規定の塩酸１９．３質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物を得た。
次いでプロピレングリコールモノメチルエーテル６９．６質量部、メタノール５９．１質量部、製造例１で得たウレイドプロピルトリエトキシシランが結合した酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイドで変性（被覆）された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｃ２）のメタノールゾル（全金属酸化物に換算して３０．５質量％を含有する）８８．３質量部、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート２．３質量部を、前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物８０．８質量部に加え、十分に撹拌してハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を作製した。
（硬化膜の形成及び評価）
ウレタン系のプラスチックレンズ（屈折率ｎ_Ｄ＝１．６０）基板とガラス基板を用意し、これらにディップコート法でハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で１０分間溶媒を揮発させた後１２０℃で２時間加熱処理して、塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。
上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表１に示す。なお、硬度は比較例３のデータと比較評価した。

実施例２
実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を５５．６質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を５．５質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例３
実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を４９．４質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を１１．１質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例４
実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を４３．２質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を１６．６質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例５
実施例３において、製造例１で得たコロイド粒子（Ｃ２）の代わりに、参考例３で得た酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子（Ｃ１）のメタノールゾル（表面にウレイドプロピルトリエトキシシランが結合していないコロイド粒子のゾル）（全金属酸化物に換算して３０．５質量％を含有する）を用いた以外は、実施例３と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。
なお、硬度は比較例３のデータと比較評価した。

実施例６
（コーティング組成物の作製）
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２７．７質量部、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤（信越化学工業製Ｘ−１２−１０７８）６．０質量部を加え、撹拌しながら０．０１規定の塩酸７．９質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾイミダゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物を得た。
次いでプロピレングリコールモノメチルエーテル２１．９質量部、メタノール１１．３質量部、製造例１で得たウレイドプロピルトリエトキシシランが結合した酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイドで変性（被覆）された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｃ２）のメタノールゾル（全金属酸化物に換算して３０．５質量％を含有する）８８．３質量部、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート２．０質量部を、前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物４１．６質量部に加え、十分に撹拌してハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を作製した。
（硬化膜の形成及び評価）
ウレタン系のプラスチックレンズ（屈折率ｎ_Ｄ＝１．６７）基板とガラス基板を用意し、これらにディップコート法でハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で１０分間溶媒を揮発させた後１２０℃で２時間加熱処理して、塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。
上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表１に示す。なお、硬度は比較例３のデータと比較評価した。

実施例７
実施例６において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を２４．２質量部に、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤の添加量を９．０質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例６と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例８
実施例６において、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤を添加せず、代わりにベンゾトリアゾール系シランカップリング剤（信越化学工業Ｘ−１２−１２１４Ａ）を６．２質量部添加した以外は、実施例６と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

比較例１
実施例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を６１．７質量部に変更し、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。なお、硬度は比較例３のデータと比較評価した。

比較例２
実施例３において、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加せず、代わりにアミノプロピルトリエトキシシランを１６．８質量部添加した以外は、実施例３と同様にコーティング組成物を作製した。撹拌後のハードコート用コーティング液（コーティング組成物）にゲル化が見られたため、塗膜の作製は実施しなかった。

比較例３
実施例５において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を６１．７質量部に変更し、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例５と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

比較例４
実施例６において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を３４．６質量部に変更し、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例６と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。なお、硬度は比較例３のデータと比較評価した。

製造例２：変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の調製
＜核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）の調製＞
２リットルの容器に純水５６８．３ｇを入れ、２５質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液１９１．７ｇ、メタスズ酸８．９ｇ（ＳｎＯ_２換算で７．５ｇ含有）、チタンテトライソプロポキシド１４２ｇ（ＴｉＯ_２換算で４０ｇ含有）、及びシュウ酸二水和物４９．２ｇ（シュウ酸換算で３５．１ｇ）を撹拌下に添加した。得られた混合溶液において、シュウ酸／チタン原子のモル比は０．７８、水酸化テトラメチルアンモニウム／チタン原子のモル比は１．０５であった。該混合溶液９５０ｇを、８０℃で２時間保持し、更に５８０Ｔｏｒｒまで減圧して２時間保持し、チタン混合溶液を調製した。調製後のチタン混合溶液のｐＨは５．１、電導度は３０．９ｍＳ／ｃｍ、全金属酸化物濃度（ＴｉＯ_２、及びＳｎＯ_２の合計）５．０質量％であった。３リットルのガラスライニングされたオートクレーブ容器に、上記チタン混合溶液９５０ｇを投入し、１４０℃で５時間水熱処理を行った。室温に冷却後、取り出された水熱処理後の溶液は淡い乳白色の酸化チタン−酸化スズコロイド粒子の水分散ゾルであった。得られたゾルは、ｐＨ３．９、電導度３２．６ｍＳ／ｃｍ、全金属酸化物濃度（ＴｉＯ_２、及びＳｎＯ_２の合計）５．０質量％、水酸化テトラメチルアンモニウム５．０質量％、シュウ酸３．７質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）１６ｎｍ、透過型電子顕微鏡観察では、平均一次粒子径５〜１０ｎｍの楕円粒子が観察された。得られたゾルを１１０℃で乾燥させた粉末のＸ線回折分析を行い、ルチル型結晶であることが確認された。得られた酸化チタン−酸化スズコロイド粒子を酸化チタン−酸化スズの複合酸化物コロイド粒子（Ａ１）とした。
次いで、オキシ塩化ジルコニウム（ＺｒＯ_２として２１．１９質量％含有、第一稀元素化学工業（株）製）７０．８ｇを純水４２９．２ｇで希釈して、オキシ塩化ジルコニウム水溶液５００ｇ（ＺｒＯ_２として３．０質量％含有、）を調製し、前記で得られた酸化チタン−酸化スズ複合コロイド（Ａ１）の水分散ゾル１２９８．７ｇを撹拌下に添加した。次いで９５℃に加熱することにより加水分解を行って、表面に酸化ジルコニウムの薄膜層が形成された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子（Ａ２）の水分散ゾルを得た。

＜被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の調製＞
ＪＩＳ３号珪酸ナトリウム（ＳｉＯ_２として２９．８質量％含有、富士化学（株）製）７７．２ｇを純水１２８２ｇに溶解し、次いでスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ_３・Ｈ_２Ｏ（ＳｎＯ_２として５５．１質量％含有、昭和化工（株）製）２０．９ｇを溶解した。得られた水溶液を水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ−１２０Ｂ）を充填したカラムに通すことにより、酸性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合コロイド粒子の水分散ゾル（ｐＨ２．４、ＳｎＯ_２として０．４４質量％、ＳｉＯ_２として０．８７質量％を含有、ＳｉＯ_２／ＳｎＯ_２質量比２．０、透過型電子顕微鏡観察による平均一次粒子径１〜４ｎｍ）２６３４ｇを得た。次いで得られた水分散ゾルにジイソプロピルアミンを６．９ｇ添加し、アルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾルを得た。

＜変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の調製＞
上記得られたアルカリ性の二酸化珪素−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾルに前記の酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子の水分散ゾル（Ａ２）を撹拌下で添加した。次いでアニオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）５００ミリリットルを詰めたカラムに通液した。次いで通液後の水分散ゾルを９５℃で３時間加熱した後、限外濾過膜法で濃縮し、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子の水分散ゾルを得た。得られた水分散ゾルの全金属酸化物濃度は２０質量％であり、このゾルの透過型電子顕微鏡観察による平均一次粒子径は６〜１２ｎｍであった。
次いで、得られた水分散ゾルの分散媒をロータリーエバポレーターを用いてメタノールに置換して、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）（核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ：Ａ２）と被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ：Ｂ１）の間に中間薄膜層が介在してなるコロイド粒子（Ｃ：Ｃ３））のメタノール分散ゾルを得た。このメタノール分散ゾルは、全金属酸化物濃度３０質量％、粘度１．８ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法（ＤＬＳ）による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）２０ｎｍ、水分１．５質量％であった。

製造例３：表面に（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合してなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）の調製
製造例２で得た二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル１０００ｇを、減圧下で濃縮し、濃縮ゾル９６５ｇを得た。これに、ウレイドプロピルトリエトキシシランのメタノール溶液（濃度５０質量％、信越化学工業（株）製：ＫＢＥ５８５）５２．５ｇを撹拌下で添加し、還流下で５時間反応を行い、エバポレータを用いた減圧濃縮工程を経て、二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子の表面にウレイドプロピルトリエトキシシランが結合されているコロイド粒子（Ｃ４）のメタノール分散ゾル１０１７．５ｇを得た。得られたゾルは、比重１．０７０、粘度１．６ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物濃度３０．５質量％、水分０．７質量％、動的光散乱法による平均粒子径（動的光散乱法粒子径）は１７ｎｍであった。

実施例９
（コーティング組成物の作製）
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５８．７質量部、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤（信越化学工業製Ｘ−１２−１２１４Ａ）２．８質量部を加え、撹拌しながら０．０１規定の塩酸１９．３質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物を得た。次いでプロピレングリコールモノメチルエーテル６９．６質量部、メタノール５９．１質量部、製造例３で得たウレイドプロピルトリエトキシシランが結合した酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｃ４）のメタノールゾル（全金属酸化物に換算して３０．５質量％を含有する）８８．３質量部、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート２．３質量部を前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物８０．８質量部に加え、十分に撹拌してハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を作製した。
（硬化膜の形成及び評価）
ウレタン系のプラスチックレンズ（屈折率ｎ_Ｄ＝１．６０）基板とガラス基板を用意し、これらにディップコート法でハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で１０分間溶媒を揮発させた後１２０℃で２時間加熱処理して、塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。
上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表２に示す。なお、硬度は比較例７のデータと比較評価した。

実施例１０
実施例９において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を５５．６質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を５．５質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例９と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例１１
実施例９において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を４９．４質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を１１．１質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例９と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例１２
実施例９において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を４３．２質量部に、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の添加量を１６．６質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例９と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例１３
実施例１１において、製造例３で得たコロイド粒子の代わりに、製造例２で得た二酸化珪素−酸化第二スズ複合酸化物で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウムの複合酸化物コロイド粒子（Ｃ３）のメタノール分散ゾル（表面にウレイドプロピルトリエトキシシランが結合していないゾル）（全金属酸化物に換算して３０．０質量％を含有する）を用いた以外は、実施例１１と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。なお、硬度は比較例７のデータと比較評価した。

実施例１４
（コーティング組成物の作製）
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２７．７質量部、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤（信越化学工業製Ｘ−１２−１０７８）６．０質量部を加え、撹拌しながら０．０１規定の塩酸７．９質量部を３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾイミダゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物を得た。次いでプロピレングリコールモノメチルエーテル２１．９質量部、メタノール１１．３質量部、製造例３で得たウレイドプロピルトリエトキシシランが結合した酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイドで変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｃ４）のメタノールゾル（全金属酸化物に換算して３０．５質量％を含有する）８８．３質量部、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート２．０質量部を前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとベンゾトリアゾール系シランカップリング剤の部分加水分解物４１．６質量部に加え、十分に撹拌してハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を作製した。
（硬化膜の形成及び評価）
ウレタン系のプラスチックレンズ（屈折率ｎ_Ｄ＝１．６７）基板とガラス基板を用意し、これらにディップコート法でハードコート用コーティング液（コーティング組成物）を塗布（膜厚３μｍ）し、８０℃で１０分間溶媒を揮発させた後１２０℃で２時間加熱処理して、塗膜を硬化させ、硬化膜を有する光学部材を形成した。
上記（１）〜（６）に示す試験を実施した。評価結果を表２に示す。なお、硬度は比較例７のデータと比較評価した。

実施例１５
実施例１４において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を２４．２質量部に、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤の添加量を９．０質量部にそれぞれ変更した以外は、実施例１４と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

実施例１６
実施例１４において、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤を添加せず、代わりにベンゾトリアゾール系シランカップリング剤（信越化学工業Ｘ−１２−１２１４Ａ）を６．２質量部添加した以外は、実施例１４と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

比較例５
実施例９において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を６１．７質量部に変更し、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例９と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。なお、硬度は比較例７のデータと比較評価した

比較例６
実施例１１において、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加せず、代わりにアミノプロピルトリエトキシシランを１６．８質量部添加した以外は、実施例１１と同様にコーティング組成物を作製した。撹拌後のハードコート用コーティング液（コーティング組成物）にゲル化が見られたため、塗膜の作製は実施しなかった。

比較例７
実施例１３において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を６１．７質量部に変更し、ベンゾトリアゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例１３と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。

比較例８
実施例１４において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの添加量を３４．６質量部に変更し、ベンゾイミダゾール系シランカップリング剤を添加しない以外は、実施例１４と同様にコーティング組成物の作製及び硬化膜の形成・評価を実施した。なお、硬度は比較例７のデータと比較評価した

実施例１〜８、９〜１６のいずれも、ハードコート用コーティング液調製後に、該液はゲル化や相分離などを生じず、安定性に優れるコーティング組成物であることが確認された。
また表１及び表２に示すように、実施例１〜８、９〜１６のいずれも、該ハードコート用コーティング液（コーティング組成物）の硬化物である硬化膜を有する光学部材において、硬化膜の硬度、耐擦傷性、基材との密着性、耐候性試験後の密着性、透明性及び耐候性に優れるものであった。
一方、比較例１、３、５、７は、実施例と比べて硬度に劣り、また密着性、耐候性試験後の密着性にも欠けるものとなり、比較例４、８は耐候性試験後の密着性に劣るものとなった。また比較例２及び６は調製後にゲル化が生じ、ハードコート用コーティング液（コーティング組成物）の安定性において十分なものとは言えなかった。

本願発明のコーティング組成物よりなる硬化膜を有する光学部材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓ガラス、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどに付設する光学フィルターなどに使用することができる。

Claims (18)

1. （Ｓ）成分：有機ケイ素化合物、及び／又はその加水分解物であるケイ素含有物質、及び
   （Ｔ）成分：２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物のコロイド粒子、
   を含むコーティング組成物であって、
   前記（Ｓ）成分の有機ケイ素化合物が、
   （Ｓ１）成分：アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及びアシルオキシ基からなる群から選択される少なくとも一種の加水分解性基を含み、且つ含窒素複素環構造を含まない、有機ケイ素化合物、及び
   （Ｓ２）成分：含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物、
   を含むことを特徴とする、
   コーティング組成物。
2. 前記（Ｓ２）成分が、１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物である、請求項１に記載のコーティング組成物。
3. 前記（Ｓ２）成分が、１乃至３個の窒素原子を含み、環形成原子数５乃至３０の含窒素複素環基を有する有機ケイ素化合物である、請求項２に記載のコーティング組成物。
4. 前記（Ｓ２）成分が、下記式（ＩＩＩ）：
   

   

   （式（ＩＩＩ）中、
   Ｒ^５は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、
   Ｒ^６はメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、
   Ｒ^７は１乃至３個の窒素原子を含む含窒素複素環基を表し、
   ｎは１乃至３の整数を表す。）で表される化合物である、
   請求項１又は請求項２に記載のコーティング組成物。
5. 前記Ｒ^７は、１乃至３個の窒素原子を含み、環形成原子数５乃至３０の含窒素複素環基である、請求項４に記載のコーティング組成物。
6. 前記含窒素複素環基における含窒素複素環が、ピロール環、ピロリドン環、インドール環、インドリン環、カルバゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、又はトリアジン環である、請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
7. 前記（Ｓ１）成分が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物及び下記一般式（ＩＩ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の有機ケイ素化合物である、
   請求項１乃至請求項６のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
   （Ｒ^１）_ａ（Ｒ^３）_ｂＳｉ（ＯＲ^２）_{４−（ａ＋ｂ）} （Ｉ）
   （式中、
   Ｒ^１及びＲ^３は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基又はアルケニル基を表すか、又は
   エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、ウレイド基、アミノ基若しくはシアノ基を有する１価の有機基であり且つＳｉ−Ｃ結合によりケイ素原子と結合している有機基を表し、
   Ｒ^２は炭素原子数１乃至８のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基を表し、
   ａ及びｂは、それぞれ独立して、０、１、又は２の整数を表し、且つ、ａ＋ｂは０、１、又は２の整数である。）
   〔（Ｒ^４）_ｃＳｉ（ＯＸ）_３−ｃ〕_２Ｙ （ＩＩ）
   (式中、
   Ｒ^４は炭素原子数１乃至５のアルキル基を表し、
   Ｘは炭素原子数１乃至４のアルキル基又はアシル基を表し、
   Ｙはメチレン基又は炭素原子数２乃至２０のアルキレン基を表し、
   ｃは０又は１の整数を表す。）
8. 前記（Ｓ２）成分が、前記（Ｓ１）成分の総質量１００質量部に対して、３〜１２００質量部の質量割合にて含有してなる、請求項１乃至請求項７のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
9. （Ｔ）成分の変性金属酸化物コロイド粒子１００質量部に対して、（Ｓ）成分が２５〜３００質量部にて含まれる、請求項１乃至請求項８のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
10. （Ｔ）成分が、２〜１００ｎｍの平均粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）であって、前記コロイド粒子（Ｃ）が、
    ２〜６０ｎｍの平均一次粒子径を有する金属酸化物コロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を、
    １〜４ｎｍの平均一次粒子径を有する無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）からなる被覆物で被覆されてなる、
    請求項１乃至請求項９のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
11. （Ｔ）成分が、前記核となる金属酸化物コロイド粒子（Ａ）と前記被覆物となる無機酸化物コロイド粒子（Ｂ）の間に、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ及びＷからなる群から選ばれる少なくとも１種の原子の単独酸化物、同群から選ばれる２種以上の原子の複合酸化物、又は該単独酸化物及び該複合酸化物の混合物のいずれか１種からなる中間薄膜層が１層以上介在してなる変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）である、
    請求項１０に記載のコーティング組成物。
12. 前記変性金属酸化物コロイド粒子（Ｃ）が、その表面の少なくとも一部に、上記（Ｓ１）成分の有機ケイ素化合物が結合してなる、請求項１０又は請求項１１に記載のコーティング組成物。
13. 前記有機ケイ素化合物が、ウレイド基を有する有機ケイ素化合物である、請求項１２に記載のコーティング組成物。
14. 前記金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）が、Ｔｉの酸化物を主成分とし、さらに、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅから成る群から選択される１種以上の金属の酸化物を含む複合酸化物のコロイド粒子である、請求項１０乃至請求項１３のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
15. 前記無機酸化物のコロイド粒子（Ｂ）が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｓｂ及びＷからなる群から選ばれた１種又は２種以上の原子の酸化物のコロイド粒子である、請求項１０乃至請求項１４のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
16. さらに、金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物からなる群から選ばれる１種又は２種以上の硬化触媒を含有してなる、請求項１乃至請求項１５のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物。
17. 光学基材表面に請求項１乃至請求項１６のうちいずれか一項に記載のコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材。
18. 請求項１７に記載の光学基材表面に形成された硬化膜の表面に、更に反射防止膜を有することを特徴とする光学部材。