JPWO2018180256A1 - 洗浄液組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
近年は、層数の増加に伴い高速研磨が求められる。特に、微細化による記憶容量の向上が困難となってきていることから開発が進められているメモリーセルを立体的に積層した三次元NANDフラッシュメモリーでは、さらに多くの層の絶縁膜を研磨するため、スループット向上やコスト低減には高速研磨が必須である。
さらに、基板上に素子分離領域を形成する工程においては、予め基板表面に溝を設け、この溝を埋めるように絶縁膜がCVDなどによって形成される。その後、絶縁膜表面をCMPによって平坦化することによって、素子分離領域が形成される。素子分離領域の狭幅化に対応するため、シャロー・トレンチ分離(STI)を採用した場合、基板上に形成した絶縁膜の不要な部分を高速研磨で除去することが要求される。
これらのプロセスでは、酸化セリウム、水酸化セリウムなどのセリウム化合物を砥粒としたスラリーの導入が進んでいる。このスラリーは、絶縁膜を高速研磨できることに加えて、研磨時に表面に生じるスクラッチと呼ばれる疵が従来のシリカ系スラリーと比較して低減でき、ストップ膜として使用される窒化シリコン膜との研磨選択性が高いことも利点である。
特許文献1には、酸化セリウムが表面に付着した基板に使用する酸性洗浄液としてフッ化水素酸−アンモニウム塩系洗浄液が提案されている。しかしながら、十分な洗浄性を得るためには、フッ化水素酸の濃度を高くしたり処理時間を長くする必要があるため、汚染物を除去するのみでなく、基板表面の層を形成するSiO2、Si3N4およびSi等のエッチングも生じ、基板へのダメージが加わる恐れがある。また、フッ化水素酸は高い毒性を有するため、作業の際に十分な注意が必要となるなどの安全上の問題もある。
<1> 半導体基板またはガラス基板表面を洗浄するための洗浄液組成物であって、構造内にフッ素原子を含んだ無機酸またはその塩を1種または2種以上、水、還元剤を1種または2種以上、およびアニオン性界面活性剤を1種または2種以上含有し、かつ、水素イオン濃度(pH)が7未満である、前記洗浄液組成物。
<2> 構造内にフッ素原子を含んだ無機酸が、フッ化水素酸、ヘキサフルオロケイ酸もしくはテトラフルオロホウ酸またはこれらの組み合わせである、<1>に記載の洗浄液組成物。
<3> フッ素原子を含んだ無機酸の塩が、アンモニウム塩、アミン塩もしくは第四級アンモニウム塩またはこれらの組み合わせである、<1>に記載の洗浄液組成物。
<4> 還元剤が、2以上のヒドロキシル基を有する五員環または六員環化合物からなる群から選択される、<1>〜<3>のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
<5> 2以上のヒドロキシル基を有する五員環または六員環化合物が、アスコルビン酸、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロールまたはメチルカテコールである、<4>に記載の洗浄液組成物。
<6> アニオン性界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合物またはその塩である、<1>〜<5>のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
<7> セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて、半導体基板またはガラス基板表面の化学的機械研磨(CMP)を行った際に、前記半導体基板またはガラス基板表面に残留したセリウム化合物を洗浄するための、<1>〜<6>のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
<8> <1>〜<7>のいずれか一項に記載の洗浄液組成物用の原液組成物であって、10倍〜1000倍に希釈することにより前記洗浄液組成物を得るために用いられる、前記原液組成物。
<9> セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて半導体基板またはガラス基板表面の化学的機械研磨(CMP)を行い、次いで<1>〜<7>のいずれか一項に記載の洗浄液組成物を用いて前記半導体基板またはガラス基板表面に残留したセリウム化合物を洗浄する工程を含む、電子デバイスの製造方法。
[1] 半導体基板またはガラス基板表面を洗浄するための洗浄液組成物であって、構造内にフッ素原子を含んだ無機酸(ただし、フッ化水素酸を除く)またはその塩を1種または2種以上と水とを含有し、水素イオン濃度(pH)が7未満である、前記洗浄液組成物。
[2] 構造内にフッ素原子を含んだ無機酸がヘキサフルオロケイ酸もしくはテトラフルオロホウ酸またはこれらの組み合わせである、[1]に記載の洗浄液組成物。
[3] 界面活性剤を1種または2種以上含有する、[1]または[2]に記載の洗浄液組成物。
[4] 界面活性剤がナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合物またはその塩である、[3]に記載の洗浄液組成物。
[5] 水素イオン濃度(pH)が3未満である、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の洗浄液組成物。
[6] 過酸化物を1種または2種以上含有する、[1]〜[5]のいずれか一つに記載の洗浄液組成物。
[7] 過酸化物が過酸化水素である、[6]に記載の洗浄液組成物。
[9] [1]〜[8]のいずれか一つに記載の洗浄液組成物用の原液組成物であって、10倍〜1000倍に希釈することにより前記洗浄液組成物を得るために用いられる、前記原液組成物。
[10] セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて半導体基板またはガラス基板表面の化学的機械研磨(CMP)を行い、次いで[1]〜[8]のいずれか一つに記載の洗浄液組成物を用いて前記半導体基板またはガラス基板表面に残留したセリウム化合物を洗浄する工程を含む、電子デバイスの製造方法。
まず、本発明の洗浄液組成物について説明する。
本発明の洗浄液組成物は、半導体基板またはガラス基板表面を洗浄するための洗浄液組成物であって、構造内にフッ素原子を含んだ無機酸またはその塩を1種または2種以上、水、還元剤を1種または2種以上、およびアニオン性界面活性剤を1種または2種以上含有し、かつ、水素イオン濃度(pH)が7未満である、前記洗浄液組成物である。
前記構造内にフッ素原子を含んだ無機酸またはその塩を含有しない洗浄液組成物は、スラリー中の砥粒由来の化合物を溶解させる能力に乏しいため、基板表面の洗浄能力が十分でない恐れがある。また、フッ化水素酸を含有する洗浄液組成物は、基板表面の洗浄能力が十分でないのみでなく、フッ化水素酸の高い毒性による安全上の問題が生じる恐れがある。
本発明の洗浄液組成物における、前記構造内にフッ素原子を含んだ無機酸またはその塩の含有量には特に制限がないが、5〜100mMであることが好ましく、20〜50mMであることがより好ましい。
2以上のヒドロキシル基を有する化合物を構成する五員環または六員環は、飽和または不飽和の五員環または六員環であることができ、また、芳香族五員環または六員環であることもできる。さらに、前記五員環または六員環は炭素原子のみにより構成されていてもよく、あるいは、炭素原子とヘテロ原子(窒素原子、酸素原子、硫黄原子等)とにより構成されていてもよい。例えば、2以上のヒドロキシル基を有する六員環化合物、特に、2以上のヒドロキシル基を有する芳香族六員環化合物、である還元剤は、本発明において好ましく用いられる。
還元剤の含有量には特に制限がないが、0.01〜500mMであることが好ましく、0.1〜50mMであることがより好ましい。
本発明の洗浄液組成物における、アニオン性界面活性剤の含有量には特に制限がないが、5〜1000ppmであることが好ましく、50〜100ppmであることがより好ましい。
例えば、酸化セリウム、水酸化セリウム等のセリウム(Ce)化合物を砥粒としたスラリーを用いた場合における該化合物の除去には、セリウム−水系のpH−電位図を考慮する必要がある(図1)。セリウム−水系においては、高いpH領域(アルカリ領域)でセリウム化合物は固体となりやすく、低いpH領域(酸性領域)ではイオン化しやすい。このため、セリウム化合物を溶解させて除去するためには、溶液は低いpH領域にあることが好ましいと理解することができる。
本発明の洗浄液組成物のpHに特に下限はないが、1.0以上が好ましく、1.5以上がより好ましい。
また、本発明の洗浄液組成物は、過酸化水素、特に過酸化水素水、を含有しないことが好ましい。
セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて基板表面(半導体基板、ガラス基板等の表面)の化学的機械研磨(CMP)を行うと、基板表面にはセリウム化合物のみでなく、セリウム化合物と基板とがCe−O−Si結合を形成した反応物(以下、「セリウム−基板反応物」ともいう)が残留すると考えられている。特に、セリウム−基板反応物は基板との間に化学結合を形成するため、除去がきわめて困難である。
砥粒として用いられたセリウム化合物についても同様に、セリウム化合物中のセリウムが還元剤によってCe3+に還元されて洗浄液組成物への溶解性が向上し、その結果、洗浄性が向上すると考えられる。
本態様における洗浄液組成物が含有する成分およびその好ましい態様は、本発明の洗浄液組成物が含有する成分およびその好ましい態様と同様である。
本発明の原液組成物は、希釈することにより本発明の洗浄液組成物を得られるものであり、該原液組成物を、例えば、10倍以上、好ましくは10〜1000倍、より好ましくは50〜200倍に希釈することにより本発明の洗浄液組成物を得ることができるが、希釈の度合は構成される組成により適宜決められるものであって、これに限定されない。
各表に示した洗浄液組成物の実施例および比較例ならびに参考例および参考比較例において、含量(mM)は、各実施例および比較例ならびに参考例および参考比較例における洗浄液組成物中での含量(濃度)を示す。別途記載がない限り、洗浄液組成物は、表に示した成分を水(超純水(DIW))に溶解した後、pHの調整のためメタンスルホン酸(関東化学)を添加することにより得られる。また、別途記載がない限り、各表に記載される「アニオン性界面活性剤」および「界面活性剤」は、ナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合物(三洋化成)である。
<評価A:還元剤の還元力(還元電位の測定)>
(セリア基板の作成)
直径200mmのシリコン基板上に、蒸着法により厚さ50nmのセリア(CeO2)膜を成膜し、セリア基板を得た。
(還元電位測定用溶液の作成)
塩化水素水溶液(10mM;pH=2)に対して還元剤を添加し、還元電位測定用溶液をそれぞれ調製した。なお、還元剤を添加しなかった塩化水素水溶液を、参照の還元電位測定用溶液とした。
(還元電位の測定)
上記セリア基板を還元電位測定用溶液に浸漬し、それぞれの溶液についてポテンショガルバノスタット(Solartron Analytical社製、型番:SI1287)を用いて還元電位を測定した。測定される還元電位が低いほど、還元剤の還元力が強いと評価される。
表1および図3に還元電位測定用溶液の組成および結果を示す。
(CMP研磨液の調製)
平均粒径が0.1μmの酸化セリウムスラリー(スラリーP、日立化成製)を10倍希釈して、CMP研磨液を得た。
(研磨対象ウエハの作成)
直径200mmのシリコン基板上に、プラズマCVD法により厚さ1000nmのTEOS(Si(OC2H5)4)ウエハを得た。
上記CMP研磨液を用いて、研磨装置(マット社製のCMP研磨装置、型番:ARW−681MSII)により30秒間、上記研磨対象ウエハを研磨した。研磨終了後、ウエハを回転させながら超純水(DIW)100mLを用いて10秒間リンスした。表2の組成を有する洗浄液組成物を用いて、リンスしたウエハを回転させながらポリビニルアルコール製のブラシ(ソフエンジニアリング社製)を転がすことにより、ウエハの洗浄を所定時間行った。洗浄されたウエハを回転させながら超純水(DIW)300mLを用いて30秒間リンスし、さらに回転させながら25℃で30秒乾燥することによって、測定用のウエハを得た。
上記測定用のウエハ表面のCe濃度を、TXRF(全反射蛍光X線分析装置)(リガク社製、型番:3800e)により測定し、洗浄液組成物の洗浄性を評価した。Ce濃度はウエハ表面1cm2当たりのCe原子数で評価した。各洗浄液組成物および洗浄時間に対応する結果を、表2および図4に示す。
得られた結果は、還元剤の還元電位が低いほど、すなわち、還元剤の還元力が強いほど洗浄性が高いことを示唆している。
(ウエハ(浸漬前)の作成)
直径200mmのシリコン基板上に、プラズマCVD法により厚さ1000nmの酸化ケイ素膜を成膜し、TEOS(Si(OC2H5)4)ウエハ(浸漬前)を得た。
(洗浄液組成物へのウエハの浸漬)
上記TEOSウエハ(浸漬前)を、表3の組成を有する洗浄液組成物100mL中に浸漬し、5分間室温にて静置した。その後ウエハを取り出し、超純水(DIW)5000mLを用いて1分間リンスすることにより、TEOSウエハ(浸漬後)を得た。
上記TEOSウエハ(浸漬前)の膜厚を反射分光膜厚計(大塚電子製、型番:FE−3000)で測定し、上記TEOSウエハ(浸漬後)の膜厚を反射分光膜厚計(大塚電子製、型番:FE−3000)で測定することで、浸漬前後の膜厚差より、洗浄液組組成物のTEOSに対するエッチングレート(E.R.)を算出した。
表4および図5に結果を示す。
表3の組成を有する洗浄液組成物50gに酸化セリウム(平均粒径10μm 関東化学製)0.1gを浸漬し、30分間室温にて静置した。固体をろ過後、ろ液中のセリウム濃度をICP−AES(誘導結合プラズマ発光分析装置)(アジレントテクノロジー社製、型番:Agilent720)により分析した。
表4および図6に結果を示す。
平均粒径0.6μmの酸化セリウム球状粉末0.05gを超純水20mLと混合し、超音波装置を用いて10分間撹拌させ均一に分散させた後、この溶液0.05mLを採取し表3の組成を有する洗浄液組成物20mLに加えた。これらの溶液をさらに撹拌、均一にし、ゼータ電位測定装置(大塚電子社製、型番:ELS−Z2)を用いて酸化セリウムのゼータ電位を測定した。
酸化ケイ素および窒化ケイ素の各粒子についても、酸化セリウムと同様の方法でゼータ電位(mV)を測定した。
表4および図7に結果を示す。
(研磨対象ウエハの作成)
直径200mmのシリコン基板上に、プラズマCVD法により厚さ1000nmのTEOS膜または厚さ100nmのSi3N4膜を成膜し、研磨対象ウエハを得た。
(ウエハの研磨およびウエハ表面のCe濃度の測定)
実施例6および7ならびに比較例2および3については、表3の組成を有する洗浄液組成物を用いて、上記評価Bで述べたウエハの研磨およびウエハ表面のCe濃度の測定を行った。なお、洗浄工程における洗浄時間は40秒であった。
比較例4については、ウエハの洗浄工程として、表3の組成を有する洗浄液組成物を用いて洗浄時間10秒の洗浄の後、0.3MのNH4OHおよび1.4MのH2O2を含有する水溶液(SC−1)を用いて30秒の洗浄を行ったほかは、実施例6および7ならびに比較例2および3と同様に、ウエハの研磨およびウエハ表面のCe濃度の測定を行った。
表4および図8に結果を示す。
また、比較例2の洗浄液組成物は、砥粒の溶解性およびTEOSウエハに対するエッチングレートが低く、かつ、洗浄性も劣っていた。
洗浄液組成物の組成と結果を表5および図9に示す。
<評価1:洗浄液組成物への砥粒(CeO2粒子)の溶解性(酸依存性)>
洗浄液組成物50gに酸化セリウム(平均粒径10μm 関東化学製)0.5gを浸漬し、30分間室温にて静置した。固体をろ過後、ろ液中のセリウム濃度をICP−MS(誘導結合プラズマ質量分析装置)(アジレントテクノロジー社製、型番:7500cs)により分析した。表6および図10に洗浄液組成物の組成および結果を示す。
表6、7の組成を有する洗浄液組成物を使用した以外は、評価1と同様の方法を用いて酸化セリウムの溶解量を算出した。表7および図11に結果を示す。
平均粒径0.6μmの酸化セリウム球状粉末0.05gを超純水20mLと混合し、超音波装置を用いて10分間撹拌させ均一に分散させた後、この溶液0.05mLを採取し表8の組成を有する洗浄液組成物20mLに加えた。これらの溶液をさらに撹拌、均一にし、ゼータ電位測定装置(大塚電子社製、型番:ELS−Z2)を用いて酸化セリウムのゼータ電位を測定した。
酸化ケイ素、窒化ケイ素およびケイ素の各粒子についても、酸化セリウムと同様の方法でゼータ電位(mV)を測定した。
表8および図12〜15に結果を示す。
平均粒径0.6μmの酸化セリウム球状粉末0.05gを超純水20mLと混合し、超音波装置を用いて10分間撹拌させ均一に分散させた後、この溶液0.05mLを採取し表9の組成を有する洗浄液組成物20mLに加えた。これらの溶液をさらに撹拌、均一にし、ゼータ電位測定装置(大塚電子社製、型番:ELS−Z2)を用いて酸化セリウムのゼータ電位を測定した。
表9および図16に結果を示す。
(CMP研磨液の調製)
平均粒径が0.1μmの酸化セリウムスラリー(スラリーP、日立化成製)を10倍希釈して、CMP研磨液を得た。
(研磨対象ウエハの作成)
直径200mmのシリコン基板上に、プラズマCVD法により厚さ1000nmの酸化ケイ素膜を成膜し、研磨対象ウエハを得た。
上記CMP研磨液を用いて、研磨装置(マット社製のCMP研磨装置、型番:ARW−681MSII)により30秒間、上記研磨対象ウエハを研磨した。研磨終了後、ウエハを回転させながら超純水(DIW)100mLを用いて10秒間リンスした。表10の組成を有する洗浄液組成物を用いて、リンスしたウエハを回転させながらポリビニルアルコール製のブラシ(ソフエンジニアリング社製)を転がすことにより、ウエハの洗浄を所定時間行った。洗浄されたウエハを回転させながら超純水(DIW)300mLを用いて30秒間リンスし、さらに回転させながら25℃で30秒乾燥することに
用のウエハを得た。
上記測定用のウエハ表面のCe濃度および欠陥数を、それぞれ、TXRF(全反射蛍光X線分析装置)(リガク社製、型番:3800e)および表面検査装置(トプコン社製、型番:WM−10)により測定し、洗浄液組成物の洗浄性を評価した。Ce濃度はウエハ表面1cm2当たりのCe原子数で評価し、欠陥数はウエハ表面に存在する80nm超の欠陥の数を散乱光により測定して求めた。各洗浄液組成物および洗浄時間に対応する結果を、表11に示す。
(ウエハ(浸漬前)の作成)
直径200mmのシリコン基板上に、プラズマCVD法により厚さ1000nmの酸化ケイ素膜を成膜し、SiO2ウエハ(浸漬前)を得た。
また、LP−CVD法により、Si3N4ウエハ(浸漬前)を得た。
(洗浄液組成物へのウエハの浸漬)
上記SiO2ウエハ(浸漬前)を、表12の組成を有する洗浄液組成物100mL中に浸漬し、60分間室温にて静置した。その後ウエハを取り出し、超純水(DIW)5000mLを用いて1分間リンスすることにより、SiO2ウエハ(浸漬後)を得た。
Si3N4ウエハ(浸漬前)に対しても、上記と同様の方法で、洗浄液組成物への浸漬およびリンスを行うことにより、Si3N4ウエハ(浸漬後)を得た。
上記SiO2またはSi3N4ウエハ(浸漬前)の膜厚を反射分光膜厚計(大塚電子製、型番:FE−3000)で測定し、上記SiO2またはSi3N4ウエハ(浸漬後)の膜厚を反射分光膜厚計(大塚電子製、型番:FE−3000)で測定することで、浸漬前後の膜厚差より、洗浄液組組成物のSiO2またはSi3N4に対するエッチングレート(E.R.)を算出した。結果を表12および13に示す。
(ウエハ(浸漬後)の表面ラフネスの測定)
上記SiO2またはSi3N4ウエハ(浸漬後)それぞれについて、走査型プローブ顕微鏡(SIIナノテクノロジー、型番:SPA400)を用いてウエハ表面の三次元像を得た。さらに、走査型プローブ顕微鏡による測定データをもとにウエハ表面のRa(平均面粗さ)を求め、表面ラフネスの評価を行った。結果を表12および13ならびに図17および18に示す。
Claims (9)
- 半導体基板またはガラス基板表面を洗浄するための洗浄液組成物であって、構造内にフッ素原子を含んだ無機酸またはその塩を1種または2種以上、水、還元剤を1種または2種以上、およびアニオン性界面活性剤を1種または2種以上含有し、かつ、水素イオン濃度(pH)が7未満である、前記洗浄液組成物。
- 構造内にフッ素原子を含んだ無機酸が、フッ化水素酸、ヘキサフルオロケイ酸もしくはテトラフルオロホウ酸またはこれらの組み合わせである、請求項1に記載の洗浄液組成物。
- フッ素原子を含んだ無機酸の塩が、アンモニウム塩、アミン塩もしくは第四級アンモニウム塩またはこれらの組み合わせである、請求項1に記載の洗浄液組成物。
- 還元剤が、2以上のヒドロキシル基を有する五員環または六員環化合物からなる群から選択される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
- 2以上のヒドロキシル基を有する五員環または六員環化合物が、アスコルビン酸、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ピロガロールまたはメチルカテコールである、請求項4に記載の洗浄液組成物。
- アニオン性界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合物またはその塩である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
- セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて、半導体基板またはガラス基板表面の化学的機械研磨(CMP)を行った際に、前記半導体基板またはガラス基板表面に残留したセリウム化合物を洗浄するための、請求項1〜6のいずれか一項に記載の洗浄液組成物。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の洗浄液組成物用の原液組成物であって、10倍〜1000倍に希釈することにより前記洗浄液組成物を得るために用いられる、前記原液組成物。
- セリウム化合物を砥粒としたスラリーを用いて半導体基板またはガラス基板表面の化学的機械研磨(CMP)を行い、次いで請求項1〜7のいずれか一項に記載の洗浄液組成物を用いて前記半導体基板またはガラス基板表面に残留したセリウム化合物を洗浄する工程を含む、電子デバイスの製造方法。
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