JPWO2018056326A1 - 電子写真感光体並びにそれを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置 - Google Patents
電子写真感光体並びにそれを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018056326A1 JPWO2018056326A1 JP2018540273A JP2018540273A JPWO2018056326A1 JP WO2018056326 A1 JPWO2018056326 A1 JP WO2018056326A1 JP 2018540273 A JP2018540273 A JP 2018540273A JP 2018540273 A JP2018540273 A JP 2018540273A JP WO2018056326 A1 JPWO2018056326 A1 JP WO2018056326A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- poly
- polyester resin
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 CCC(C)(*)[N+](C)[O-] Chemical compound CCC(C)(*)[N+](C)[O-] 0.000 description 3
- SYCHHZWCPLPJDC-UHFFFAOYSA-N CCC(C(C)C)[O](C)C1C(C)=CC(C)=CC1 Chemical compound CCC(C(C)C)[O](C)C1C(C)=CC(C)=CC1 SYCHHZWCPLPJDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/056—Polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/12—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/16—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
- C08G63/18—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the acids or hydroxy compounds containing carbocyclic rings
- C08G63/181—Acids containing aromatic rings
- C08G63/183—Terephthalic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/12—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/16—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
- C08G63/18—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the acids or hydroxy compounds containing carbocyclic rings
- C08G63/181—Acids containing aromatic rings
- C08G63/185—Acids containing aromatic rings containing two or more aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/60—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from the reaction of a mixture of hydroxy carboxylic acids, polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/64—Polyesters containing both carboxylic ester groups and carbonate groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/66—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups
- C08G63/668—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/672—Dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
本発明は耐摩耗性に優れたポリエステル樹脂を含有することで、実用上の負荷に対する耐摩耗性及び初期の電気特性に優れ、好ましくは、さらに層同士の接着性にも優れた電子写真感光体を提供することを目的とする。本発明は、数平均分子量が１５０００以下の特定構造α、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含むポリエステル樹脂を含有する感光層と、導電性支持体とを含有する電子写真感光体に関する。
Description
本発明はポリエステル樹脂を含む電子写真感光体、並びに、それを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置に関する。
電子写真技術は、即時性、高品質の画像が得られることから、近年では複写機の分野にとどまらず、各種プリンターの分野でも広く使われ応用されている。電子写真技術の中核となる電子写真感光体は、無公害で製造が容易である等の利点から有機系の光導電材料を使用した感光体が多く利用されている。
電子写真感光体（以下、単に「感光体」と称することがある。）は、電子写真プロセスにおいて、帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電等のサイクルで繰り返し使用されるため、その間の様々なストレスを受けて劣化する。感光体の劣化は、感光体の寿命を制限する大きな要因となっているため、いかに劣化を抑制できるかが重要である。また、近年では１００，０００枚以上印刷する高速機種が開発されており、多量の印刷においても実用可能な長寿命感光体が求められている。
電子写真感光体（以下、単に「感光体」と称することがある。）は、電子写真プロセスにおいて、帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電等のサイクルで繰り返し使用されるため、その間の様々なストレスを受けて劣化する。感光体の劣化は、感光体の寿命を制限する大きな要因となっているため、いかに劣化を抑制できるかが重要である。また、近年では１００，０００枚以上印刷する高速機種が開発されており、多量の印刷においても実用可能な長寿命感光体が求められている。
感光体の劣化としては、例えば、帯電器として通常用いられるコロナ帯電器から発生する強酸化性のオゾンやＮＯｘによるダメージ、除電光及び外部からの光に起因する感光層組成物の化学的な劣化、像露光で生成したキャリアー（電流）が感光層内を流れること、帯電や転写の際に高電圧がかかること等による感光体に使用している化合物の電気的劣化がある。さらに、クリーニングブレード、磁気ブラシ等の摺擦、現像剤、紙との接触等による感光層表面の摩耗、傷の発生、膜の剥がれ等の機械的劣化がある。また、このような機械的なストレスを継続的に受けることにより、感光層が支持体から剥がれてしまうおそれがあるため、長寿命感光体には感光層の接着性も求められる。
上記のような負荷は感光体の表面層である感光層が受け易い。感光層は、通常、バインダー樹脂と光導電性物質とからなり、実質的に機械強度および支持体との接着性を決めるのはバインダー樹脂であるが、光導電性物質のドープ量が相当多いため充分な機械強度を持たせるには至っていない。近年、感光層のバインダー樹脂として、感度や塗布液溶解性、耐摩耗性に優れているポリエステル樹脂が使用されている（特許文献１〜３）。
ポリエステル樹脂の製造方法は種々知られているが、分子量が高く、且つ着色が少なく、純度の高いポリエステル樹脂が得られる界面重合が広く利用されている。
しかしながら、例えば、脂肪族２価アルコールを界面重合法により共重合しようとした場合、脂肪族アルコール水酸基の酸解離定数が水と同等であることから、水中でアルコキシドになりづらく反応性が悪い。そのため、ポリエステル樹脂中に脂肪族２価アルコールを導入することができず、２価アルコール残基を共重合したポリエステル樹脂の特性は不明であった。
本発明者の検討によると、前記特許文献１〜３に記載のポリエステル樹脂を使用した感光体では、１００，０００枚以上印刷するような高寿命・高速機種においては、機械強度は十分なものではなかった。また、支持体や下引き層との接着性（層同士の接着性）も十分ではなかった。
さらに、前記特許文献３に記載の技術により、脂肪族２価カルボン酸残基を導入することにより耐クラック性を向上させることは可能であるが、十分な耐摩耗性は得られない。
さらに、前記特許文献３に記載の技術により、脂肪族２価カルボン酸残基を導入することにより耐クラック性を向上させることは可能であるが、十分な耐摩耗性は得られない。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、特に耐摩耗性に優れたポリエステル樹脂を含有することで、実用上の負荷に対する耐摩耗性及び初期の電気特性に優れ、好ましくは、さらに層同士の接着性にも優れた電子写真感光体を提供することである。
本発明者は、上記の課題を解決しうる電子写真感光体について鋭意検討を行なった結果、感光層に特定の部分構造、並びに、２価フェノール残基および２価カルボン酸残基を含むポリエステル樹脂を用いることにより、耐摩耗性および初期の電気特性に優れ、好ましくは、さらに層同士の接着性にも優れた電子写真感光体を得ることができることを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成させるに至った。即ち、発明の要旨は、以下［１］〜［８］に存する。
［１］
導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造及び下記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量は１５０００以下であり、かつ
前記ポリエステル樹脂は、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有する、電子写真感光体。
［１］
導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造及び下記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量は１５０００以下であり、かつ
前記ポリエステル樹脂は、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有する、電子写真感光体。
（式（１）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、ｎ１は１以上１００以下の整数である。
式（２）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ３は１以上１００以下の整数である。
式（３）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に１以上１００以下の整数である。）
式（２）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ３は１以上１００以下の整数である。
式（３）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に１以上１００以下の整数である。）
（式（５）中、Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｎ２は１以上１０以下の整数である。）
［２］
前記構造αが、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる前記［１］に記載の電子写真感光体。
［３］
前記２価フェノール残基が下記式（６）で表される構造を含む前記［１］又は［２］に記載の電子写真感光体。
前記構造αが、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる前記［１］に記載の電子写真感光体。
［３］
前記２価フェノール残基が下記式（６）で表される構造を含む前記［１］又は［２］に記載の電子写真感光体。
（式（６）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ１は、単結合、―ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ６とＲ７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。）
［４］
前記２価カルボン酸残基が下記式（７）で表される構造を含む前記［１］乃至［３］の何れか一に記載の電子写真感光体。
前記２価カルボン酸残基が下記式（７）で表される構造を含む前記［１］乃至［３］の何れか一に記載の電子写真感光体。
（式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、下記式（８）で表される構造を有する２価の基又は下記式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。ｋは０以上５以下の整数を表す。）
（式（８）中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ８とＲ９とは、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。）
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。）
［５］
導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、
前記２価フェノール残基は下記式（６）で表される構造を含有し、
前記２価カルボン酸残基は下記式（７）で表される構造を含有し、かつ
少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と、少なくとも一部の前記式（７）で表される構造とが直接結合している、電子写真感光体。
導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、
前記２価フェノール残基は下記式（６）で表される構造を含有し、
前記２価カルボン酸残基は下記式（７）で表される構造を含有し、かつ
少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と、少なくとも一部の前記式（７）で表される構造とが直接結合している、電子写真感光体。
（式（４）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は上記式（５）で表される２価の基を表し、ｎ６は２以上１００以下の整数である。
式（５）中、Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｎ２は１以上１０以下の整数である。
式（６）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ１は、単結合、―ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ６とＲ７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、下記式（８）で表される構造を有する２価の基又は下記式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。ｋは０以上５以下の整数を表す。）
式（５）中、Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｎ２は１以上１０以下の整数である。
式（６）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ１は、単結合、―ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ６とＲ７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、下記式（８）で表される構造を有する２価の基又は下記式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。ｋは０以上５以下の整数を表す。）
（式（８）中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ８とＲ９とは、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。）
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。）
［６］
前記式（４）で表される構造が、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる前記［５］に記載の電子写真感光体。
［７］
前記［１］乃至［６］の何れか一に記載の電子写真感光体を含む電子写真カートリッジ。
［８］
前記［１］乃至［６］の何れか一に記載の電子写真感光体を含む画像形成装置。
前記式（４）で表される構造が、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる前記［５］に記載の電子写真感光体。
［７］
前記［１］乃至［６］の何れか一に記載の電子写真感光体を含む電子写真カートリッジ。
［８］
前記［１］乃至［６］の何れか一に記載の電子写真感光体を含む画像形成装置。
本発明で使用されるポリエステル樹脂は、感光層形成用塗布液に用いる溶媒に対して高い溶解性及び優れた塗布液安定性を有し、それを用いた感光体は耐摩耗性や電気特性に優れ、好ましくは、さらに層同士の接着性等の諸特性にも優れたものとなる。
この耐摩耗性の向上の理由については明らかではないが、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造はいずれも前記ポリエステル樹脂中で比較的柔軟な部位であるため、ポリエステル樹脂が機械的なストレスを受けた際にストレスエネルギーを緩和させることができ、結果として感光体の耐摩耗性を向上できるものと考えられる。
また、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造はいずれも前記ポリエステル樹脂中で比較的運動性が高いと考えられ、より好ましい態様を採用することにより、前記ポリエステル樹脂を含む感光層は、導電性支持体（以下、単に「支持体」と称することがある。）や下引き層と絡み合いやすく、層同士の接着性も向上すると考えられる。
この耐摩耗性の向上の理由については明らかではないが、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造はいずれも前記ポリエステル樹脂中で比較的柔軟な部位であるため、ポリエステル樹脂が機械的なストレスを受けた際にストレスエネルギーを緩和させることができ、結果として感光体の耐摩耗性を向上できるものと考えられる。
また、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造はいずれも前記ポリエステル樹脂中で比較的運動性が高いと考えられ、より好ましい態様を採用することにより、前記ポリエステル樹脂を含む感光層は、導電性支持体（以下、単に「支持体」と称することがある。）や下引き層と絡み合いやすく、層同士の接着性も向上すると考えられる。
また後述するように、前記ポリエステル樹脂を製造する際には、原料化合物のうち比較的反応性が低い、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコールと、２価カルボン酸クロリドとをあらかじめ反応させる第１工程と、該第１工程の反応生成物と２価フェノールを反応させる第２工程とをこの順に行うことにより、前記ポリエステル樹脂を効率的に得ることが可能となる。
本発明によれば、特に耐摩耗性に優れ、初期の電気特性にも優れた電子写真感光体が得られる。また、さらに好ましい態様を採用することにより、さらに層同士の接着性にも優れた電子写真感光体が得られる。
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。なお、本明細書において‘質量％’と‘重量％’とは同義であり、‘質量部’、‘重量部’、及び単に‘部’とした場合はいずれも同義である。また、‘ｐｐｍ’は質量百万分率を示し、‘重量ｐｐｍ’と同義である。
≪ポリエステル樹脂≫
本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有し、前記感光層は特定のポリエステル樹脂を含有する。
本発明におけるポリエステル樹脂は下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造、下記式（３）で表される構造及び下記式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を含む。
本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有し、前記感光層は特定のポリエステル樹脂を含有する。
本発明におけるポリエステル樹脂は下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造、下記式（３）で表される構造及び下記式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を含む。
ポリエステル樹脂の第１の態様は、下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造及び下記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量が１５０００以下であり、さらに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含む。
ポリエステル樹脂の第２の態様は、下記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、前記２価フェノール残基が下記式（６）を含み、前記２価カルボン酸残基が下記式（７）を含み、かつ少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合している。
ポリエステル樹脂の第２の態様は、下記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、前記２価フェノール残基が下記式（６）を含み、前記２価カルボン酸残基が下記式（７）を含み、かつ少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合している。
（式（１）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、ｎ１は１以上１００以下の整数である。
式（２）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ３は１以上１００以下の整数である。
式（３）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に１以上１００以下の整数である。
式（４）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、ｎ６は２以上１００以下の整数である。）
式（２）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ３は１以上１００以下の整数である。
式（３）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に１以上１００以下の整数である。
式（４）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、ｎ６は２以上１００以下の整数である。）
（式（５）中、Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｎ２は１以上１０以下の整数である。）
Ｒ１の置換基を有してもよいアルキレン基として直鎖状、分岐状、環状のものが挙げられ、好ましくは直鎖状、分岐状のものであり、更に好ましくは直鎖状のものである。直鎖状である方が、柔軟性構造となり易く耐摩耗性が良好となる。
アルキレン基の炭素数に特に制限はないが、通常１以上、好ましくは２以上であり、一方通常８以下、好ましくは６以下、更に好ましくは５以下である。
直鎖状の場合、炭素数は通常２以上であり、一方、通常８以下であり、溶解性の観点から６以下が好ましく、耐摩耗性の観点から４以下がより好ましい。
分岐状の場合、電気特性の観点から炭素数は通常２以上、好ましくは３以上、さらに好ましくは４以上であり、一方通常８以下、好ましくは６以下である。
環状の場合、炭素数は通常５以上であり、一方通常８以下、好ましくは７以下である。
それぞれ上記範囲内の炭素数にすることにより、前記式（１）で表される構造、前記式（２）で表される構造、前記式（３）で表される構造及び前記式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造部分と、２価フェノール残基や２価カルボン酸残基との相溶性が良く、電荷輸送層の透明性に優れたり、良好な電気特性が得られたりする。
直鎖状の場合、炭素数は通常２以上であり、一方、通常８以下であり、溶解性の観点から６以下が好ましく、耐摩耗性の観点から４以下がより好ましい。
分岐状の場合、電気特性の観点から炭素数は通常２以上、好ましくは３以上、さらに好ましくは４以上であり、一方通常８以下、好ましくは６以下である。
環状の場合、炭素数は通常５以上であり、一方通常８以下、好ましくは７以下である。
それぞれ上記範囲内の炭素数にすることにより、前記式（１）で表される構造、前記式（２）で表される構造、前記式（３）で表される構造及び前記式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造部分と、２価フェノール残基や２価カルボン酸残基との相溶性が良く、電荷輸送層の透明性に優れたり、良好な電気特性が得られたりする。
アルキレン基の置換基として、ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基、芳香族基等が挙げられる。置換基の具体例は、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキシル基等が挙げられる。芳香族基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ハロゲン化フェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、アントラセン基等が挙げられる。置換基は、耐摩耗性の観点から無置換が好ましい。
アルキレン基の具体例としては、直鎖状のものとしてエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等が挙げられる。分岐状のものとしてメチルエチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、２−メチル−２−エチル−トリメチレン基、２‐ブチル−２−エチル−トリメチレン基、２−メチルテトラメチレン基、１−メチル−ペンタメチレン基、１，２−ジメチル−ペンタメチレン基、１，３−ジメチルペンタメチレン基、１−メチルヘキサメチレン基、２−メチルヘキサメチレン基、３−メチルヘキサメチレン基等が挙げられる。環状のものとして、１，２−シクロペンチレン基、１，３−シクロペンチレン基、１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキサンジメチレン基等が挙げられる。
Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基であり、前記Ｒ１が置換基を有してもよいアルキレン基である場合と同様のものが好ましい。
Ｒ３は、２価の基であれば特に制限はされないが、電気特性の観点から前記Ｒ１と同様の基又は置換基を有してもよいアリーレン基が好ましい。
置換基を有してもよいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基、ピレニレン基、ビフェニレン基等が挙げられる。電気特性の観点からフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基が好ましく、溶解性の観点からフェニレン基が好ましい。
置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ベンジル基等が挙げられる。これらの置換基のうち、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基の炭素数は、通常１以上であり、一方通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下である。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、クロロアルキル基、フルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。より好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ３は、耐摩耗性の観点から置換基を有していないアリーレン基がより好ましい。
置換基を有してもよいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基、ピレニレン基、ビフェニレン基等が挙げられる。電気特性の観点からフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基が好ましく、溶解性の観点からフェニレン基が好ましい。
置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ベンジル基等が挙げられる。これらの置換基のうち、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基の炭素数は、通常１以上であり、一方通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下である。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、クロロアルキル基、フルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。より好ましくはメチル基、エチル基である。
Ｒ３は、耐摩耗性の観点から置換基を有していないアリーレン基がより好ましい。
ｎ１は繰返し単位の繰返し数を表し、１以上１００以下の整数である。好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは５以上であり、一方、好ましくは５０以下、より好ましくは３０以下、更に好ましくは２０以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に対し適度な柔軟性を与えることができ、ポリエステル樹脂の耐摩耗性が良好となる。
ｎ２は繰返し単位の繰返し数を表し、１以上１０以下の整数である。耐摩耗性及び電気特性の観点から、好ましくは５以下、より好ましくは４以下、更に好ましくは３以下、一層好ましくは２以下であり、特に好ましくは１である。
ｎ３は繰返し単位の繰返し数を表し、１以上１００以下の整数である。好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは５以上であり、一方、好ましくは５０以下、より好ましくは３０以下、更に好ましくは２０以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に対し適度な柔軟性を与えることができ、ポリエステル樹脂の耐摩耗性が良好となる。
ｎ３は繰返し単位の繰返し数を表し、１以上１００以下の整数である。好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは５以上であり、一方、好ましくは５０以下、より好ましくは３０以下、更に好ましくは２０以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に対し適度な柔軟性を与えることができ、ポリエステル樹脂の耐摩耗性が良好となる。
ｎ４、ｎ５はそれぞれ、繰返し単位の繰返し数を表し、それぞれ独立して１以上１００以下の整数である。好ましくは２以上、より好ましくは３以上、さらに好ましくは５以上であり、一方、好ましくは３０以下、より好ましくは２０以下、更に好ましくは１５以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に対し適度な柔軟性を与えることができ、ポリエステル樹脂の耐摩耗性が良好となる。
ｎ６は繰り返し単位の繰返し数を表し、２以上１００以下の整数である。好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、一方、好ましくは８０以下、より好ましくは５０以下、更に好ましくは３０以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に対し適度な柔軟性を与えることができ、ポリエステル樹脂の耐摩耗性が良好となる。
式（１）で表される構造を誘導する２価ポリカーボネートジオールの具体例としては、例えば、ポリ（１，２−エタンジオールカーボネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールカーボネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールカーボネート）、ポリ（１，８−オクタンジオールカーボネート）、ポリ（１，１０−デカンジオールカーボネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールカーボネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールカーボネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールカーボネート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）カーボネート］等が挙げられる。
これらの中でも、接着性の観点から、ポリ（１，２−エタンジオールカーボネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールカーボネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールカーボネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールカーボネート）が好ましい。
耐摩耗性の観点からポリ（１，２−エタンジオールカーボネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）が特に好ましい。
これらのポリカーボネートジオールは、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
これらの中でも、接着性の観点から、ポリ（１，２−エタンジオールカーボネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールカーボネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールカーボネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールカーボネート）が好ましい。
耐摩耗性の観点からポリ（１，２−エタンジオールカーボネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールカーボネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）が特に好ましい。
これらのポリカーボネートジオールは、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
式（２）で表される構造を誘導する２価ポリエステルジオールの具体例としては、例えば、ポリ（１，２−エタンジオールマロネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールマロネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールマロネート）、ポリ（１，８−オクタンジオールマロネート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールマロネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールマロネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールマロネート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）マロネート］、ポリ（１，２−エタンジオールスクシネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールスクシネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールスクシネート）、ポリ（１，８−オクタンジオールスクシネート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールスクシネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールスクシネート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールスクシネート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）スクシネート］、ポリ（１，２−エタンジオールグルタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールグルタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールグルタレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールグルタレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールグルタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールグルタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールグルタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）グルタレート］、ポリ（１，２−エタンジオールアジペート）、ポリ（１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールアジペート）、ポリ（１，８−オクタンジオールアジペート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールアジペート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールアジペート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］、ポリ（１，２−エタンジオールピメレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールピメレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールピメレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールピメレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールピメレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールピメレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールピメレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールピメレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールピメレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールピメレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールピメレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールピメレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールピメレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）ピメレート］、ポリ（１，２−エタンジオールスベレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールスベレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールスベレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールスベレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールスベレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールスベレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールスベレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールスベレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールスベレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールスベレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールスベレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールスベレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールスベレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）スベレート］、ポリ（１，２−エタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールテレフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）テレフタレート］、ポリ（１，２−エタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールイソフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）イソフタレート］、ポリ（１，２−エタンジオールフタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）、ポリ（１，８−オクタンジオールフタレート）、ポリ（１，１０−オクタンジオールフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールフタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールフタレート）、ポリ（１，４−シクロヘキサンジオールフタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）フタレート］等が挙げられる。
これらの中でも、溶解性の観点から、ポリ（１，２−エタンジオールマロネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールマロネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールマロネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールマロネート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールマロネート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）マロネート］、ポリ（１，２−エタンジオールスクシネート）、ポリ（１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（１，４−ブタンジオールスクシネート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールスクシネート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールスクシネート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールスクシネート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）スクシネート］、ポリ（１，２−エタンジオールグルタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールグルタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールグルタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールグルタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールグルタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）グルタレート］、ポリ（１，２−エタンジオールアジペート）、ポリ（１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］、ポリ（１，２−エタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）テレフタレート］、ポリ（１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，２−エタンジオールフタレート）、ポリ（１，３−プロパンジオールフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）が好ましい。
接着性の観点から、ポリ（１，２−エタンジオールアジペート）、ポリ（１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールアジペート）、ポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］、ポリ（１，４−ブタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールイソフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）がより好ましい。
耐摩耗性の観点からポリ（１，２−エタンジオールアジペート）、ポリ（１，３−プロパンジオールアジペート）、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）、ポリ（１，４−ブタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）が特に好ましい。
電気特性の観点から、ポリ（１，４−ブタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロパンジオールテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールイソフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールイソフタレート）、ポリ（１，４−ブタンジオールフタレート）、ポリ（１，５−ペンタンジオールフタレート）、ポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）、ポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールフタレート）がさらに好ましい。
これらのポリエステルジオールは、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
これらのポリエステルジオールは、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
式（３）で表される構造の具体例として以下に示す。
電気特性および耐摩耗性の観点から以下の具体例に示すようなポリカプロラクトンジオール残基が特に好ましい。
式（４）で表される構造を誘導する２価ポリ（アルキレングリコール）の具体例としては、例えば、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（１，２−プロピレングリコール）、ポリ（１，３−プロピレングリコール）、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＧ）、ポリ（１，５−ペンチレングリコール）等が挙げられる。電気特性及び耐摩耗性の観点から、ポリテトラメチレンエーテルグリコールが特に好ましい。
これらのポリ（アルキレングリコール）は、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
これらのポリ（アルキレングリコール）は、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよく、また複数種を重合した共重合体を用いてもよい。
下記に前記式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造が２価カルボン酸残基と連結する基を例示するが、これらに限定されず、本発明の効果を著しく損なわない限り任意のものを用いることができる。中でも、原料の製造の簡便性を鑑みると下記式（１−１）、式（２−１）、式（３−１）、及び式（４−１）からなる群より選ばれる少なくとも１の式で表される基を有することが好ましい。
本発明におけるポリエステル樹脂は、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種を有すればよく、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造及び式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造αを有することが好ましい。これらは、必要に応じて複数の構造を組み合わせて用いることも可能である。なお複数の構造を組合わせて使用する場合、異なる構造中のＲ１やＲ２は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
また、本発明におけるポリエステル樹脂は式（４）で表される構造を含むことも好ましく、その場合には、２価フェノール残基が式（６）で表される構造を含有し、２価カルボン酸残基が式（７）で表される構造を有し、かつ、少なくとも一部の式（６）で表される構造と、少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合していることが好ましい。
また、本発明におけるポリエステル樹脂は式（４）で表される構造を含むことも好ましく、その場合には、２価フェノール残基が式（６）で表される構造を含有し、２価カルボン酸残基が式（７）で表される構造を有し、かつ、少なくとも一部の式（６）で表される構造と、少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合していることが好ましい。
前記式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造や前記構造αの含有量に特に制限はないが、ポリエステル樹脂中において、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは０．５質量％以上、より更に好ましくは１質量％以上である。一方、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、さらに好ましくは３５質量％以下、より更に好ましくは２０質量％以下である。上記の範囲とすることにより、ポリエステル樹脂に適度な柔軟性を与えポリエステル樹脂の耐摩耗性を向上させることができ、また、電荷輸送物質と相溶性に優れるため良好な電気特性を得ることができる。
本発明におけるポリエステル樹脂は式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造以外に、任意の非芳香族の２価アルコール残基を含むことが可能である。該非芳香族２価アルコール残基の元なる２価アルコールとして、具体的には、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール等の直鎖アルキレンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の分岐アルキレンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の環状アルキレンジオール、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテン、パーフルオロアルキル含有ジオール、ポリシロキサン含有ジオール等が挙げられる。
式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群より選ばれる少なくとも１の構造の数平均分子量は、通常１６０００以下であり、好ましくは１５０００以下であり、より好ましくは１４０００以下であり、さらに好ましくは１２０００以下であり、より更に好ましくは１００００以下であり、一層好ましくは８０００以下であり、特に好ましくは６０００以下であり、最も好ましくは４０００以下である。上記の範囲内であると、塗膜にした際相分離の発生が抑制され、電荷の輸送を妨げる局所構造が生じにくくなり、良好な電気特性が得られやすい。
一方、下限に特に制限はないが、通常３００以上、好ましくは５００以上、より好ましくは８００以上、更に好ましくは１０００以上である。上記範囲とすることにより、ポリエステル樹脂の応力緩和能力を高めることができ、良好な耐摩耗性が得られやすい。
一方、下限に特に制限はないが、通常３００以上、好ましくは５００以上、より好ましくは８００以上、更に好ましくは１０００以上である。上記範囲とすることにより、ポリエステル樹脂の応力緩和能力を高めることができ、良好な耐摩耗性が得られやすい。
本発明において、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造の数平均分子量を直接測定することはできないが、その部分構造を誘導する原料（プレポリマー）の数平均分子量は、ＪＩＳ Ｋ １５５７−１：２００７年に準拠して測定した水酸基価に基づいて算出することができる。
具体的には、水酸基価を測定し、末端基定量法により、｛（５６．１×１０００×価数）／水酸基価｝［ｍｇＫＯＨ／ｇ］で算出する。前記式において、価数は１分子中の水酸基の数である。
具体的には、水酸基価を測定し、末端基定量法により、｛（５６．１×１０００×価数）／水酸基価｝［ｍｇＫＯＨ／ｇ］で算出する。前記式において、価数は１分子中の水酸基の数である。
本明細書における数平均分子量は、水酸基換算分子量（ＯＨ基換算分子量）と同義である。なお、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造自体の数平均分子量は、通常、これらプレポリマーの数平均分子量から２（両末端の水素原子の原子量）を引いた値になる。
本発明におけるポリエステル樹脂は２価フェノール残基を含有する。２価フェノール残基としては特に構造は制限されないが、例えば、下記式（６）で表される構造が挙げられる。また、式（６）で表される構造以外の２価フェノール残基として、２価フェノール残基の元となる２価フェノールを例示すると、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、レソルシノール、カテコール、１，６−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、４−ヒドロキシフェニル４−ヒドロキシベンゾエート、１，４−ビス（４−ヒドロキシ安息香酸）フェニル、４，４’−ビス（４−ヒドロキシ安息香酸）ビフェニル、４，４’−ビス（４−ヒドロキシ安息香酸）−３，３’，５，５’−テトラメチル−ビフェニル等が挙げられる。
これらの中で、電気特性、耐摩耗性および溶解性の観点から２価フェノール残基としては下記式（６）で表される構造を含むことが好ましい。
これらの中で、電気特性、耐摩耗性および溶解性の観点から２価フェノール残基としては下記式（６）で表される構造を含むことが好ましい。
式（６）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ１は、単結合、−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。また、前記Ｒ６とＲ７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
Ｒ４、Ｒ５のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフッ素原子である。
Ｒ４、Ｒ５の炭化水素基に特に制限はないが、その具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基等が挙げられ、好ましくはアルキル基、アリール基である。
炭化水素基の炭素数に特に制限はないが通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、より更に好ましくは１０以下、一層好ましくは８以下、特に好ましくは６以下である。
アルキル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは１である。アルケニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは２である。アルキニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは２である。アリール基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常６以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１４以下、より更に好ましくは１２以下、一層好ましくは１０以下、特に好ましくは８以下、最も好ましくは６である。
上記の範囲であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Ｒ４、Ｒ５の炭化水素基に特に制限はないが、その具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基等が挙げられ、好ましくはアルキル基、アリール基である。
炭化水素基の炭素数に特に制限はないが通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、より更に好ましくは１０以下、一層好ましくは８以下、特に好ましくは６以下である。
アルキル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは１である。アルケニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは２である。アルキニル基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常１以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、更に好ましくは１０以下、より更に好ましくは８以下、一層好ましくは６以下、特に好ましくは４以下、最も好ましくは２である。アリール基の場合、その炭素数に特に制限はないが、通常６以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましくは１４以下、より更に好ましくは１２以下、一層好ましくは１０以下、特に好ましくは８以下、最も好ましくは６である。
上記の範囲であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Ｒ４、Ｒ５のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。
一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されているアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられ、好ましくはフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。
アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されているアリール基としては、ハロゲン化フェニル基等が挙げられ、好ましくはフルオロフェニル基である。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。
上記の置換基であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されているアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられ、好ましくはフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくはトリフルオロメチル基である。
アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されているアリール基としては、ハロゲン化フェニル基等が挙げられ、好ましくはフルオロフェニル基である。
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等が挙げられる。
上記の置換基であれば、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましい。
Ｒ６及びＲ７がそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基の場合、Ｒ６及びＲ７は、Ｒ４又はＲ５と同義である。
Ｒ６とＲ７が互いに結合して環を形成している場合、その炭素数に特に制限はないが、通常５以上、好ましくは６以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましく１２以下、更に好ましくは１０以下であり、より更に好ましくは８以下である。Ｒ６とＲ７が互いに結合して環を形成している場合の具体例としては、シクロアルキリデン基等が挙げられ、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロへプチリデン基が好ましい。これらの置換基に更に前記炭化水素基が置換されている場合も好ましく、その具体例としては、２，２，４−トリメチルペンチリデン基が好ましい。
Ｒ６とＲ７が互いに結合して環を形成している場合、その炭素数に特に制限はないが、通常５以上、好ましくは６以上であり、一方通常２０以下、好ましくは１６以下、より好ましく１２以下、更に好ましくは１０以下であり、より更に好ましくは８以下である。Ｒ６とＲ７が互いに結合して環を形成している場合の具体例としては、シクロアルキリデン基等が挙げられ、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロへプチリデン基が好ましい。これらの置換基に更に前記炭化水素基が置換されている場合も好ましく、その具体例としては、２，２，４−トリメチルペンチリデン基が好ましい。
ｍ１、ｍ２は、耐摩耗性の観点から０以上２以下が好ましく、より好ましくは０または１である。
なお、ｍ１、ｍ２が０〜３の整数である場合、無置換部位は水素原子を表す。例えば、ｍ１＝４かつＲ４がすべて水素原子であることと、ｍ１＝０であることは同義である。同様にｍ２＝４かつＲ５がすべて水素原子であることと、ｍ２＝０であることは同義である。
なお、ｍ１、ｍ２が０〜３の整数である場合、無置換部位は水素原子を表す。例えば、ｍ１＝４かつＲ４がすべて水素原子であることと、ｍ１＝０であることは同義である。同様にｍ２＝４かつＲ５がすべて水素原子であることと、ｍ２＝０であることは同義である。
前記式（６）で表される構造は、耐摩耗性の観点から下記式（６−１）で表される構造であることが好ましい。
式（６）で表される２価フェノール残基の元となる２価フェノールとして具体的に例示すると、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキー３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。
この中でも、二価フェノール成分の製造の簡便性及び溶解性、電気特性を考慮すれば、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルが好ましい。
さらに機械物性を考慮すれば、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンがより好ましい。
この中でも、二価フェノール成分の製造の簡便性及び溶解性、電気特性を考慮すれば、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルが好ましい。
さらに機械物性を考慮すれば、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンがより好ましい。
式（６）で表される２価フェノール残基の含有量は、全２価フェノール残基の合計量に対し、５０モル％以上が好ましく、溶解性の観点から、７０モル％以上がより好ましい。
本発明におけるポリエステル樹脂は２価カルボン酸残基を含有する。２価カルボン酸残基としては特に構造は制限されないが、例えば、下記式（７）で表される構造を有する２価芳香族カルボン酸残基が挙げられる。また、式（７）で表される構造以外の２価カルボン酸残基として、２価カルボン酸残基の元となる２価カルボン酸を例示すると、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸等の２価脂肪族カルボン酸、ピリジン−２，３−ジカルボン酸、ピリジン−２，４−ジカルボン酸、ピリジン−２，５−ジカルボン酸、ピリジン−２，６−ジカルボン酸、ピリジン−３，４−ジカルボン酸、ピリジン−３，５−ジカルボン酸等が挙げられる。
２価カルボン酸残基は、電気特性および耐摩耗性の観点から下記式（７）で表される構造を含むことが好ましい。
式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ２は、単結合、酸素原子（−Ｏ−）、硫黄原子（−Ｓ−）、下記式（８）で表される構造を有する２価の基又は下記式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。ｋは０以上５以下の整数を表す。
式（８）中のＲ８及びＲ９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。また、Ｒ８とＲ９とは、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。
式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、炭素数６〜２０のアリーレン基が好ましく、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基、ピレニレン基等が挙げられる。中でも、溶解性と機械物性を両立される観点から、フェニレン基、ナフチレン基、又はビフェニレン基がより好ましい。
前記アリーレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、縮合多環基、ハロゲン原子が挙げられる。
感光層用バインダー樹脂としての機械的特性と感光層形成用塗布液に対する溶解性を勘案すれば、アルキル基の炭素数は、通常１以上であり、一方通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下、より更に好ましくは２以下である。特に好ましくはメチル基である。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基が好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフッ素原子である。
Ａｒ１、Ａｒ２それぞれの置換基の数に特に制限は無いが、３個以下であることが好ましく、２個以下であることがより好ましく、１個以下であることが特に好ましい。
電気特性、溶解性の観点から、Ａｒ１とＡｒ２は同じ置換基を有する同じアリーレン基であることが好ましく、耐摩耗性の観点から無置換のフェニレン基であることがより好ましい。
感光層用バインダー樹脂としての機械的特性と感光層形成用塗布液に対する溶解性を勘案すれば、アルキル基の炭素数は、通常１以上であり、一方通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下、より更に好ましくは２以下である。特に好ましくはメチル基である。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基が好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、製造上の簡便性、耐摩耗性の観点から好ましくはフッ素原子である。
Ａｒ１、Ａｒ２それぞれの置換基の数に特に制限は無いが、３個以下であることが好ましく、２個以下であることがより好ましく、１個以下であることが特に好ましい。
電気特性、溶解性の観点から、Ａｒ１とＡｒ２は同じ置換基を有する同じアリーレン基であることが好ましく、耐摩耗性の観点から無置換のフェニレン基であることがより好ましい。
式（７）中、Ｘ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、式（８）で表される構造を有する２価の基又は式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。Ｘ２は、耐摩耗性の観点から、酸素原子であることが好ましい。
式（８）中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ８とＲ９とは、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ８及びＲ９は、式（６）におけるＸ１中のＲ６及びＲ７と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は式（１０）で表される基であって、式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。Ｒ１０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基等が挙げられ、Ｒ１０のアリーレン基としては、フェニレン基、テルフェニレン基等が挙げられる。式（１０）で表される基としては、具体的には下記式（１１）で表される基等が挙げられる。
式（８）中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ８とＲ９とは、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ８及びＲ９は、式（６）におけるＸ１中のＲ６及びＲ７と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は式（１０）で表される基であって、式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。Ｒ１０のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基等が挙げられ、Ｒ１０のアリーレン基としては、フェニレン基、テルフェニレン基等が挙げられる。式（１０）で表される基としては、具体的には下記式（１１）で表される基等が挙げられる。
式（７）中、ｋは０以上５以下の整数であり、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、更に好ましくは１以下であり、特に好ましくは１である。上記の範囲であれば、耐摩耗性の観点から好ましい。
ｋが０の場合、２価カルボン酸残基を誘導する２価カルボン酸化合物の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、ブロモテレフタル酸、テトラフルオロテレフタル酸、５−メチルイソフタル酸、５−ｔｅｒｔ−ブチルイソフタル酸等が挙げられる。溶解性、耐摩耗性の観点からテレフタル酸、イソフタル酸が好ましい。ｋが１である場合、式（７）で表される構造は、下記一般式（１２）で表される構造であることが特に好ましい。
ｋが０の場合、２価カルボン酸残基を誘導する２価カルボン酸化合物の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、ブロモテレフタル酸、テトラフルオロテレフタル酸、５−メチルイソフタル酸、５−ｔｅｒｔ−ブチルイソフタル酸等が挙げられる。溶解性、耐摩耗性の観点からテレフタル酸、イソフタル酸が好ましい。ｋが１である場合、式（７）で表される構造は、下記一般式（１２）で表される構造であることが特に好ましい。
式（１２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。ｍ３及びｍ４は、それぞれ独立に０以上４以下の整数である。
式（１２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、式（６）中のＲ４及びＲ５と同義であり、好ましい態様も同様である。式（１２）で表される構造を有する２価カルボン酸残基を誘導する２価カルボン酸化合物の製造上の簡便性を考慮すれば、Ｒ１３及びＲ１４は、水素原子、メチル基がより好ましい。
ｍ３及びｍ４は、それぞれ独立に０以上４以下の整数であり、特に好ましくは、ｍ３＝ｍ４＝０である。
式（１２）中、Ｒ１３及びＲ１４は、式（６）中のＲ４及びＲ５と同義であり、好ましい態様も同様である。式（１２）で表される構造を有する２価カルボン酸残基を誘導する２価カルボン酸化合物の製造上の簡便性を考慮すれば、Ｒ１３及びＲ１４は、水素原子、メチル基がより好ましい。
ｍ３及びｍ４は、それぞれ独立に０以上４以下の整数であり、特に好ましくは、ｍ３＝ｍ４＝０である。
式（１２）で表される構造を有する２価カルボン酸残基を誘導する２価カルボン酸化合物の具体例としては、例えば、ジフェニルエーテル−２，２’−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−２，４’−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸等が挙げられる。これらの中でも、機械物性を考慮すれば、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸が特に好ましい。
前記ポリエステル樹脂における２価カルボン酸残基は、必要に応じて複数の化合物を組み合わせて用いることも可能である。組み合わせる場合、２価カルボン酸残基に特に制限はないが、溶解性、電気特性および耐摩耗性の観点から、２価カルボン酸残基の元となる２価カルボン酸として、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及びビフェニル−４，４’−ジカルボン酸から選ばれるいずれか２種以上を組み合わせることが好ましい。
前記ポリエステル樹脂において、式（７）で表される構造を有する２価カルボン酸残基の合計含有量に特に制限はないが、全２価カルボン酸成分に対し７０モル％以上であることが好ましい。耐摩耗性の観点から、好ましくは９０モル％以上であり、特に好ましくは１００モル％である。
前記ポリエステル樹脂は、式（６）で表される構造を有する２価フェノール残基及び式（７）で表される構造を有する２価カルボン酸残基の両方を有していることが好ましく、少なくとも一部の式（６）で表される構造と少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合していることがより好ましい。
式（６）で表される構造と式（７）で表される構造が直接結合した部分を有することにより電気特性や耐摩耗性の観点から好ましい。
前記ポリエステル樹脂は、式（６）で表される構造を有する２価フェノール残基及び式（７）で表される構造を有する２価カルボン酸残基の両方を有していることが好ましく、少なくとも一部の式（６）で表される構造と少なくとも一部の式（７）で表される構造とが直接結合していることがより好ましい。
式（６）で表される構造と式（７）で表される構造が直接結合した部分を有することにより電気特性や耐摩耗性の観点から好ましい。
前記ポリエステル樹脂において、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を含み、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を、その合計量でポリエステル樹脂中において８０質量％以上含有することが好ましく、９０質量％以上含有することがより好ましい。上記合計量とすることにより、生産性が良く、電気特性及び溶解性、機械特性に優れたポリエステル樹脂を得ることができる。
前記ポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）に特に制限はないが、通常、１０，０００以上であり、機械的強度の観点から、好ましくは２５，０００以上、さらに好ましくは３５，０００以上である。また、通常、２００，０００以下であり、塗布性の観点から、好ましくは１５０，０００以下である。
前記ポリエステル樹脂の末端に存在するカルボン酸クロリド基量に特に制限はないが、通常０．１μ当量／ｇ以下、好ましくは０．０５μ当量／ｇ以下である。一方、好ましくは０．００１μ当量／ｇ以上、より好ましくは０．００３μ当量／ｇ以上である。末端カルボン酸クロリド基量が上記範囲であれば、ポリエステル樹脂を電子写真感光体用塗布液とした際の保存安定性が良い。
前記ポリエステル樹脂のカルボキシル酸価に特に制限はないが、３００μ当量／ｇ以下とすることが好ましく、より好ましくは１５０μ当量／ｇ以下、特に好ましくは１００μ当量／ｇ以下である。一方、０．１μ当量／ｇ以上が好ましく、０．５μ当量／ｇ以上がより好ましい。カルボキシル酸価が上記範囲内であれば、これを用いて得られる電子写真感光体の感度等の電気特性が良好であり、さらに該ポリエステル樹脂を電子写真感光体用塗布液とした際の保存安定性が良い。
前記ポリエステル樹脂の末端に存在するＯＨ基量は、通常１００μ当量／ｇ以下、好ましくは５０μ当量／ｇ以下、特に好ましくは３０μ当量／ｇ以下である。一方、０．１μ当量／ｇ以上が好ましく、０．５μ当量／ｇ以上がより好ましい。末端ＯＨ基量が上記範囲内であれば、良好な電気特性が得られる。
前記ポリエステル樹脂に含まれる全窒素量（Ｔ−Ｎ量）は、５００ｐｐｍ以下が好ましく、３００ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、２００ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。一方、０．１ｐｐｍ以上が好ましく、０．５ｐｐｍ以上がより好ましい。上記範囲とすることにより、良好な電気特性が得られる。
前記ポリエステル樹脂に含まれる遊離の２価カルボン酸量は、特に限定されないが、感光体の電気特性や画像特性の観点から、好ましくは５０ｐｐｍ以下、より好ましくは１０ｐｐｍ以下である。ポリエステル樹脂の安定性の観点から、０．０１ｐｐｍ以上であることが好ましく、０．１ｐｐｍ以上であることがより好ましい。
前記ポリエステル樹脂に含有される遊離の２価フェノールについては、その量は特に限定されないが、感光体の電気特性や透明性の観点から好ましくは１００ｐｐｍ以下、より好ましくは５０ｐｐｍ以下である。ポリエステル樹脂の安定性の観点から、０．０１ｐｐｍ以上であることが好ましく、０．１ｐｐｍ以上であることがより好ましい。
前記ポリエステル樹脂に含有される遊離の２価アルコールについては、その量は特に限定されないが、感光体の電気特性や透明性の観点から好ましくは１００ｐｐｍ以下、より好ましくは５０ｐｐｍ以下である。ポリエステル樹脂の安定性の観点から、０．０１ｐｐｍ以上であることが好ましく、０．１ｐｐｍ以上であることがより好ましい。
本発明に係る電子写真感光体における感光層には、前記ポリエステル樹脂が含まれていればよいが、前記ポリエステル樹脂と他の樹脂とを混合して用いることも可能である。ここで混合される他の構造を有する樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体及びその共重合体；ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂及び種々の熱硬化性樹脂等及びこれらの共重合体が挙げられる。これら樹脂のなかでもポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂とシリコーン樹脂の共重合体及びポリエステル樹脂とシリコーン樹脂の共重合体が好ましい。
また、混合される他の樹脂の混合割合は、特に限定されないが、前記式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造が、本発明のポリエステル樹脂中において０．０１質量％以上１０質量％以下の割合で含まれる場合、前記ポリエステル樹脂の割合を超えない範囲で併用することが好ましい。具体的には前記ポリエステル樹脂以外の樹脂の含有量は、感光層に含まれる全バインダー樹脂１００質量部に対して、通常５０質量部以下であり、耐摩耗性の観点から、３０質量部以下が好ましい。
一方、前記式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造が、本発明におけるポリエステル樹脂中において、１０質量％より多く５０質量％以下の割合で含まれる場合、前記ポリエステル樹脂に対する他の樹脂の含有量は前記全バインダー樹脂を１００質量部とすると、５０質量部以上が好ましく、電気特性の観点から、６０質量部以上が好ましく、さらに７０質量部以上が好ましい。一方、通常９９．９質量部以下、好ましくは９９質量部以下、より好ましくは９５質量部以下であり、更に好ましくは９０質量部以下、一層好ましくは８５質量部以下である。上記範囲とすることにより、良好な電気特性および耐摩耗性が得られる。
前記他の樹脂としては下記式（１４）で表される繰返し構造を有するポリカーボネート樹脂や、下記式（１５）で表される繰返し構造を有するポリエステル樹脂が好ましい。
式（１４）中、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ３は、単結合、―ＣＲ１７Ｒ１８−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ１７、Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ１７とＲ１８とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ５及びｍ６は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
式（１５）中、Ａｒ４及びＡｒ５は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ４は、単結合、酸素原子、硫黄原子、下記式（１６）で表される構造を有する２価の基又は下記式（１７）で表される構造を有する２価の基を表す。ｌは０以上５以下の整数を表す。Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ５は、単結合、―ＣＲ２６Ｒ２７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ２６及びＲ２７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ２６とＲ２７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ７及びｍ８は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
式（１６）中、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。また、Ｒ２１とＲ２２とは、互いに結合して環を形成していてもよい。
式（１７）中、Ｒ２３は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１８）で表される基であり、式（１８）中、Ｒ２４及びＲ２５は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ６はアリーレン基を表す。
式（１７）中、Ｒ２３は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１８）で表される基であり、式（１８）中、Ｒ２４及びＲ２５は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ６はアリーレン基を表す。
式（１４）又は式（１５）におけるＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に上記式（６）におけるＲ４及びＲ５と同様の基から選択することが好ましい。
式（１４）又は式（１５）におけるｍ５、ｍ６、ｍ７及びｍ８は、それぞれ独立に上記式（６）におけるｍ１及びｍ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるＡｒ４及びＡｒ５は、それぞれ独立に上記式（７）におけるＡｒ１及びＡｒ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるＸ４は、上記式（７）におけるＸ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるｌは、上記式（７）におけるｋと同様の範囲が好ましい。
式（１４）又は式（１５）におけるｍ５、ｍ６、ｍ７及びｍ８は、それぞれ独立に上記式（６）におけるｍ１及びｍ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるＡｒ４及びＡｒ５は、それぞれ独立に上記式（７）におけるＡｒ１及びＡｒ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるＸ４は、上記式（７）におけるＸ２と同様の基から選択することが好ましい。
式（１５）におけるｌは、上記式（７）におけるｋと同様の範囲が好ましい。
本発明における感光層におけるバインダー樹脂として、前記ポリエステル樹脂以外に含まれていてもよい前記他の樹脂の好適な構造の具体例を以下に表す。これら具体例は例示のために示したものであり、本発明の趣旨に反しない限りはいかなるバインダー樹脂を混合して用いてもよい。
これらの中でも、ｒｅｓｉｎ１、ｒｅｓｉｎ２、ｒｅｓｉｎ３、ｒｅｓｉｎ６、ｒｅｓｉｎ８、ｒｅｓｉｎ９、ｒｅｓｉｎ１２がより好ましい。
≪ポリエステル樹脂の製造方法≫
次に、本発明に係る電子写真感光体の感光層に含まれるポリエステル樹脂（以下、「電子写真感光体用ポリエステル樹脂」と称することがある。）の製造方法について説明する。
電子写真感光体用ポリエステル樹脂は一般的には不純物の含有量が少ない界面重合法で製造される。しかしながら、本発明におけるポリエステル樹脂を製造する場合、前記式（１）〜（４）のいずれかで表される構造を誘導する原料（プレポリマー）として２価アルコールを使用する場合、当該２価アルコールは２価フェノールに比べ反応性が劣るため、界面重合法では２価の酸クロリドとのエステル化反応が十分に進行しない。そこで、２価アルコールでもエステル化反応が進行しやすい溶液重合法、又は溶液重合法と界面重合法を組み合わせた重合方法を使用することが好ましい。
次に、本発明に係る電子写真感光体の感光層に含まれるポリエステル樹脂（以下、「電子写真感光体用ポリエステル樹脂」と称することがある。）の製造方法について説明する。
電子写真感光体用ポリエステル樹脂は一般的には不純物の含有量が少ない界面重合法で製造される。しかしながら、本発明におけるポリエステル樹脂を製造する場合、前記式（１）〜（４）のいずれかで表される構造を誘導する原料（プレポリマー）として２価アルコールを使用する場合、当該２価アルコールは２価フェノールに比べ反応性が劣るため、界面重合法では２価の酸クロリドとのエステル化反応が十分に進行しない。そこで、２価アルコールでもエステル化反応が進行しやすい溶液重合法、又は溶液重合法と界面重合法を組み合わせた重合方法を使用することが好ましい。
また、本発明におけるポリエステル樹脂は、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群より選ばれる少なくとも１の構造を有する２価アルコールと、２価フェノールを原料として用いて製造される。前記２価アルコールと２価フェノールとは大きく反応性が異なる。これら式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコールと、２価フェノールとを同時に反応させた場合、反応性の高い２価フェノールのみ反応が優先的に進行し、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコールがポリエステル樹脂中にほとんど導入されず、目的物が得られない。そのため、予め反応性が劣る式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコールを２価カルボン酸クロリド等の２価酸クロリドと反応させる第１工程を経た後に、第１工程の反応生成物に対し反応性の高い２価フェノールを反応させる第２工程とをこの順に行うことにより目的とする共重合体ポリエステル樹脂が得られる。以下に溶液重合法によるポリエステル樹脂の製造法の一例を説明する。
＜溶液重合法による製造方法＞
溶液重合法による製造の場合は、例えば、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコール（以下、単に「２価アルコール」と称することがある）及び２価酸クロリドとして２価カルボン酸クロリドを溶媒に溶解させ、トリエチルアミン等の塩基を添加し、２価アルコールのエステル化の第１工程を経た後に、２価フェノールを反応させる第２工程を経ることで製造することができる。重合温度は−１０℃〜４０℃の範囲、重合時間は０．５時間〜１０時間の範囲であるのが生産性の点で好ましい。重合終了後、有機相中に溶解しているポリエステル樹脂を、洗浄、回収することにより、目的とするポリエステル樹脂が得られる。
溶液重合法による製造の場合は、例えば、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び／又は式（４）で表される構造を有する２価アルコール（以下、単に「２価アルコール」と称することがある）及び２価酸クロリドとして２価カルボン酸クロリドを溶媒に溶解させ、トリエチルアミン等の塩基を添加し、２価アルコールのエステル化の第１工程を経た後に、２価フェノールを反応させる第２工程を経ることで製造することができる。重合温度は−１０℃〜４０℃の範囲、重合時間は０．５時間〜１０時間の範囲であるのが生産性の点で好ましい。重合終了後、有機相中に溶解しているポリエステル樹脂を、洗浄、回収することにより、目的とするポリエステル樹脂が得られる。
溶液重合法で用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルジエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン等の３級アミンや、ピリジン、４−メチルピリジン等のピリジン類及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。また、フォスファゼン塩基、無機塩基等エステル化反応に使用されるような塩基ならば特に制限されない。これらの塩基の中で、エステル化反応の反応性の観点からトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルメチルアミン、ピリジンが好ましく、酸クロリドの分解抑制や洗浄における除去の容易さの観点からトリエチルアミンが特に好ましい。
塩基の使用量としては、２価アルコールと反応させる第１工程では、２価アルコールの１〜３倍当量の範囲が好ましく、第２工程では反応系中に含まれるカルボン酸クロリド基の１．０１倍当量〜２倍当量の範囲が好ましい。
塩基の使用量としては、２価アルコールと反応させる第１工程では、２価アルコールの１〜３倍当量の範囲が好ましく、第２工程では反応系中に含まれるカルボン酸クロリド基の１．０１倍当量〜２倍当量の範囲が好ましい。
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素化合物、トルエン、アニソール、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素化合物、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル化合物、酢酸エチル、安息香酸メチル、酢酸ベンジル等のエステル化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド化合物等が挙げられる。また、ピリジンを塩基かつ溶媒として使用してもよい。これらの中で、モノマーや生成するオリゴマーの溶解性及びエステル化反応の反応性の観点から、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンが好ましい。さらに洗浄効率及び電気特性の観点からジクロロメタンが特に好ましい。
使用する２価の酸クロリドの純度は９８．０％以上が好ましく、９９．０％以上がさらに好ましく、９９．５％以上が特に好ましい。純度が低い場合、２価の酸クロリドが加水分解し１つがカルボン酸となった１価の酸クロリドおよび両方カルボン酸になった２価のカルボン酸が含まれ、この不純物が停止剤の役割を果たす可能性がある。そのため、上記範囲の純度とすることにより十分に伸長したポリエステル樹脂を得ることができる。
使用する２価フェノールの純度は９８．０％以上が好ましく、９８．５％以上がさらに好ましく、９９．０％以上が特に好ましい。９８．０％以上の純度とすることにより、ポリエステル樹脂の分子量を十分伸長させることができ、また、良好な電気特性が得られる。
使用する２価アルコールの純度は９５．０％以上が好ましく、９８．０％以上がさらに好ましい。９５．０％以上の純度とすることにより良好な電気特性が得られやすい。
使用する２価アルコールの純度は９５．０％以上が好ましく、９８．０％以上がさらに好ましい。９５．０％以上の純度とすることにより良好な電気特性が得られやすい。
溶液重合法においてポリエステル樹脂を製造する場合、２価アルコール及び２価フェノールと２価カルボン酸クロリドの比率は特に決まりがないが、高分子量のポリエステル樹脂の製造及び末端基の制御の観点から、２価アルコール及び２価フェノールの合計量：２価カルボン酸クロリドはモル比率で１：０．９５〜１：１．０５が好ましく、さらに好ましくは１：０．９９〜１：１．０１、特に好ましくは１：０．９９２〜１：１．００８である。
ポリエステル樹脂を製造する際には、分子量調節剤を使用することができる。分子量調節剤としては、例えば、フェノール、ｏ−，ｍ−，ｐ−クレゾール、ｏ−，ｍ−，ｐ−エチルフェノール、ｏ−，ｍ−，ｐ−プロピルフェノール、ｏ−，ｍ−，ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、ペンチルフェノール、ヘキシルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、２，６−ジメチルフェノール誘導体、２−メチルフェノール誘導体等のアルキルフェノール類；ｏ−，ｍ−，ｐ−フェニルフェノール等の１官能性のフェノール；酢酸クロリド、酪酸クロリド、オクチル酸クロリド、塩化ベンゾイル、ベンゼンスルホニルクロリド、ベンゼンスルフィニルクロリド、スルフィニルクロリド、ベンゼンホスホニルクロリドやそれらの置換体等の１官能性酸ハロゲン化物等が挙げられる。
また、メタノール、エタノール、プロパノール等の１官能脂肪族アルコールや、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート等のアクリル類を有する１官能アルコール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−１−ｎ−オクタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロ−１−デカノール等のパーフルオロアルキルを有する１官能アルコール、シロキサンを有する１官能アルコール等が挙げられる。
これらの分子量調節剤の中でも、分子量調節能が高く、かつ溶液安定性の点で好ましいのは、ｏ−，ｍ−，ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，６−ジメチルフェノール誘導体、２−メチルフェノール誘導体である。特に好ましくは、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，３，６−トリメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノールである。
また、メタノール、エタノール、プロパノール等の１官能脂肪族アルコールや、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート等のアクリル類を有する１官能アルコール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−１−ｎ−オクタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロ−１−デカノール等のパーフルオロアルキルを有する１官能アルコール、シロキサンを有する１官能アルコール等が挙げられる。
これらの分子量調節剤の中でも、分子量調節能が高く、かつ溶液安定性の点で好ましいのは、ｏ−，ｍ−，ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，６−ジメチルフェノール誘導体、２−メチルフェノール誘導体である。特に好ましくは、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，３，６−トリメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノールである。
また、２価フェノールを酸化させないために、重合反応中や洗浄液中に酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、例えば、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイト（次亜硫酸ナトリウム）、二酸化硫黄、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素ナトリウム等が挙げられる。これらの中でも、酸化防止の効果及び環境負荷の低減からもハイドロサルファイトが特に好ましい。
酸化防止剤の使用量に特に制限はないが、全２価フェノールに対して、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．１質量％以上であり、一方通常１０．０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。
酸化防止剤の使用量に特に制限はないが、全２価フェノールに対して、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．１質量％以上であり、一方通常１０．０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。
ポリエステル樹脂の重合後の洗浄方法は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の方法を用いることができるが、例えば、ポリエステル樹脂の溶液を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液；塩酸、硝酸、リン酸等の酸水溶液；水等で洗浄した後、静置分離、遠心分離等により分液する方法が挙げられる。
洗浄後のポリエステル樹脂溶液は、ポリエステル樹脂が不溶の水、アルコールその他有機溶媒中に析出させるか、ポリエステル樹脂の溶液を温水又はポリエステル樹脂が不溶の分散媒中で溶媒を留去するか、加熱、減圧等により溶媒を留去することにより取り出してもよいし、スラリー状で取り出した場合は遠心分離器、濾過器等により固体を取り出すこともできる。
洗浄後のポリエステル樹脂溶液は、ポリエステル樹脂が不溶の水、アルコールその他有機溶媒中に析出させるか、ポリエステル樹脂の溶液を温水又はポリエステル樹脂が不溶の分散媒中で溶媒を留去するか、加熱、減圧等により溶媒を留去することにより取り出してもよいし、スラリー状で取り出した場合は遠心分離器、濾過器等により固体を取り出すこともできる。
ポリエステル樹脂の乾燥は、通常ポリエステル樹脂の分解温度以下の温度で乾燥するが、好ましくは２０℃以上、ポリエステル樹脂の溶融温度以下で乾燥することができる。このとき減圧下で乾燥することが好ましい。
乾燥時間は残存溶媒等の不純物の純度が一定以下になるまでの時間以上行うことが好ましく、具体的には、残存溶媒が通常１０００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１００ｐｐｍ以下になる時間以上乾燥する。
乾燥時間は残存溶媒等の不純物の純度が一定以下になるまでの時間以上行うことが好ましく、具体的には、残存溶媒が通常１０００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１００ｐｐｍ以下になる時間以上乾燥する。
≪電子写真感光体≫
本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、前記導電性支持体上に設けた感光層を少なくとも有し、前記感光層が、前記ポリエステル樹脂を含有するものである。
前記ポリエステル樹脂の一態様としては、前記式（１）で表される構造、前記式（２）で表される構造及び前記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量は１５０００以下であり、かつ前記ポリエステル樹脂は、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有する。
また、前記ポリエステル樹脂の他の一態様としては、前記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、前記２価フェノール残基は前記式（６）で表される構造を含有し、前記２価カルボン酸残基は前記式（７）で表される構造を含有し、かつ少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と、少なくとも一部の前記式（７）で表される構造とが直接結合している。
なお、本発明に係る電子写真感光体の感光層におけるポリエステル樹脂の好ましい態様は、上記≪ポリエステル樹脂≫に記載された好ましい態様と同様である。
本発明に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、前記導電性支持体上に設けた感光層を少なくとも有し、前記感光層が、前記ポリエステル樹脂を含有するものである。
前記ポリエステル樹脂の一態様としては、前記式（１）で表される構造、前記式（２）で表される構造及び前記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量は１５０００以下であり、かつ前記ポリエステル樹脂は、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有する。
また、前記ポリエステル樹脂の他の一態様としては、前記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、前記２価フェノール残基は前記式（６）で表される構造を含有し、前記２価カルボン酸残基は前記式（７）で表される構造を含有し、かつ少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と、少なくとも一部の前記式（７）で表される構造とが直接結合している。
なお、本発明に係る電子写真感光体の感光層におけるポリエステル樹脂の好ましい態様は、上記≪ポリエステル樹脂≫に記載された好ましい態様と同様である。
感光層の具体的な構成としては、例えば、導電性支持体上に、電荷発生物質を主成分とする電荷発生層と、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を主成分とする電荷輸送層と、を積層した積層型感光体；導電性支持体上に、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する層中に電荷発生物質を分散させた感光層を有する分散型（単層型）感光体；等が挙げられる。
前記ポリエステル樹脂は、通常、バインダー樹脂として電荷輸送物質を含有する層に用いられ、好ましくは積層型感光体の電荷輸送層に用いられる。
前記ポリエステル樹脂は、通常、バインダー樹脂として電荷輸送物質を含有する層に用いられ、好ましくは積層型感光体の電荷輸送層に用いられる。
＜導電性支持体＞
導電性支持体について特に制限は無いが、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料や、金属、カーボン、酸化錫等の導電性粉体を添加して導電性を付与した樹脂材料、アルミニウム、ニッケル、ＩＴＯ（酸化インジウム酸化錫）等の導電性材料をその表面に蒸着又は塗布した樹脂、ガラス、紙等が主として使用される。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
導電性支持体について特に制限は無いが、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料や、金属、カーボン、酸化錫等の導電性粉体を添加して導電性を付与した樹脂材料、アルミニウム、ニッケル、ＩＴＯ（酸化インジウム酸化錫）等の導電性材料をその表面に蒸着又は塗布した樹脂、ガラス、紙等が主として使用される。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
導電性支持体の形態としては、ドラム状、シート状、ベルト状等のものが用いられる。更には、金属材料の導電性支持体の上に、導電性・表面性等の制御や欠陥被覆のために、適当な抵抗値を有する導電性材料を塗布したものを用いてもよい。
また、導電性支持体としてアルミニウム合金等の金属材料を用いた場合、陽極酸化被膜を施してから用いてもよい。陽極酸化被膜を施した場合には、公知の方法により封孔処理を施すのが望ましい。
支持体表面は、平滑であってもよいし、特別な切削方法を用いたり、研磨処理を施したりすることにより、粗面化されていてもよい。また、支持体を構成する材料に適当な粒径の粒子を混合することによって、粗面化されたものでもよい。また、安価化のためには、切削処理を施さず、引き抜き管をそのまま使用することも可能である。
＜下引き層＞
導電性支持体と後述する感光層との間には、接着性・ブロッキング性等の改善のため、下引き層を設けてもよい。下引き層としては、樹脂や、樹脂に金属酸化物等の粒子を分散したもの等が用いられる。また、下引き層は、単一層からなるものであっても、複数層からなるものであってもよい。下引き層には、公知の酸化防止剤等、顔料粒子、樹脂粒子等を含有させて用いてもよい。
導電性支持体と後述する感光層との間には、接着性・ブロッキング性等の改善のため、下引き層を設けてもよい。下引き層としては、樹脂や、樹脂に金属酸化物等の粒子を分散したもの等が用いられる。また、下引き層は、単一層からなるものであっても、複数層からなるものであってもよい。下引き層には、公知の酸化防止剤等、顔料粒子、樹脂粒子等を含有させて用いてもよい。
下引き層の膜厚は、電子写真感光体の電気特性、強露光特性、画像特性、繰り返し特性、及び製造時の塗布性を向上させる観点から、通常は０．０１μｍ以上、好ましくは０．１μｍ以上であり、また、通常３０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下である。
下引き層に用いる金属酸化物粒子の例としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化鉄等の１種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子等が挙げられる。これらは一種類の粒子を単独で用いてもよいし、複数の種類の粒子を混合して用いてもよい。これらの金属酸化物粒子の中で、酸化チタン及び／又は酸化アルミニウムの粒子が好ましく、特に酸化チタンの粒子が好ましい。
酸化チタン粒子は、その表面に、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、又はステアリン酸、ポリオール、シリコン等の有機物による処理を施されていてもよい。酸化チタン粒子の結晶型としては、ルチル、アナターゼ、ブルッカイト、アモルファスのいずれも用いることができる。また、複数の結晶状態のものが含まれていてもよい。
酸化チタン粒子は、その表面に、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、又はステアリン酸、ポリオール、シリコン等の有機物による処理を施されていてもよい。酸化チタン粒子の結晶型としては、ルチル、アナターゼ、ブルッカイト、アモルファスのいずれも用いることができる。また、複数の結晶状態のものが含まれていてもよい。
金属酸化物粒子の粒径としては種々のものが利用できるが、中でも特性及び液の安定性の点から、その平均一次粒径は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましい。この平均一次粒径は、ＴＥＭ写真等から得ることができる。
下引き層は、金属酸化物粒子をバインダー樹脂に分散した形で形成するのが望ましい。下引き層に用いられるバインダー樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース等のセルロースエステル樹脂、セルロースエーテル樹脂、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物等の有機ジルコニウム化合物、チタニルキレート化合物、チタンアルコキシド化合物等の有機チタニル化合物、シランカップリング剤等の公知のバインダー樹脂が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、或いは２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、硬化剤とともに硬化した形で使用してもよい。中でも、アルコール可溶性の共重合ポリアミド、変性ポリアミド等は、良好な分散性、塗布性を表すことから好ましい。
下引き層に用いられるバインダー樹脂に対する無機粒子の使用比率は任意に選ぶことが可能であるが、分散液の安定性、塗布性の観点から、バインダー樹脂に対して、通常は１０質量％以上、５００質量％以下の範囲で使用することが好ましい。
＜感光層＞
感光層の形式としては、電荷発生物質と電荷輸送物質とが同一層に存在し、バインダー樹脂中に分散された単層型と、電荷発生物質がバインダー樹脂中に分散された電荷発生層及び電荷輸送物質がバインダー樹脂中に分散された電荷輸送層の二層からなる機能分離型（積層型）とが挙げられるが、何れの形式であってもよい。
積層型感光層としては、導電性支持体側から電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層して設ける順積層型感光層と、逆に電荷輸送層、電荷発生層の順に積層して設ける逆積層型感光層とがあり、いずれを採用することも可能であるが、最もバランスの取れた光導電性を発揮できる順積層型感光層が好ましい。
感光層の形式としては、電荷発生物質と電荷輸送物質とが同一層に存在し、バインダー樹脂中に分散された単層型と、電荷発生物質がバインダー樹脂中に分散された電荷発生層及び電荷輸送物質がバインダー樹脂中に分散された電荷輸送層の二層からなる機能分離型（積層型）とが挙げられるが、何れの形式であってもよい。
積層型感光層としては、導電性支持体側から電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層して設ける順積層型感光層と、逆に電荷輸送層、電荷発生層の順に積層して設ける逆積層型感光層とがあり、いずれを採用することも可能であるが、最もバランスの取れた光導電性を発揮できる順積層型感光層が好ましい。
［電荷発生層−積層型］
積層型感光体（機能分離型感光体）の場合、電荷発生層は、電荷発生物質をバインダー樹脂で結着することにより形成される。その膜厚は通常０．１μｍ以上、好ましくは０．１５μｍ以上であり、また、通常１０μｍ以下、好ましくは０．６μｍ以下の範囲である。
積層型感光体（機能分離型感光体）の場合、電荷発生層は、電荷発生物質をバインダー樹脂で結着することにより形成される。その膜厚は通常０．１μｍ以上、好ましくは０．１５μｍ以上であり、また、通常１０μｍ以下、好ましくは０．６μｍ以下の範囲である。
電荷発生物質としては、セレニウム及びその合金、硫化カドミウム等の無機系光導電材料と、有機顔料等の有機系光導電材料とが挙げられるが、有機系光導電材料の方が好ましく、特に有機顔料が好ましい。有機顔料としては、例えば、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、スクアレン（スクアリリウム）顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料等が挙げられる。これらの中でも、特にフタロシアニン顔料又はアゾ顔料が好ましい。電荷発生物質として有機顔料を使用する場合、通常はこれらの有機顔料の微粒子を、各種のバインダー樹脂で結着した分散層の形で使用する。
電荷発生物質として無金属フタロシアニン化合物、金属含有フタロシアニン化合物を用いた場合は比較的長波長のレーザー光、例えば７８０ｎｍ近辺の波長を有するレーザー光に対して高感度の感光体が得られ、またモノアゾ、ジアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料を用いた場合には、白色光、又は６６０ｎｍ近辺の波長を有するレーザー光、もしくは比較的短波長のレーザー光、例えば４５０ｎｍ、４００ｎｍ近辺の波長を有するレーザーに対して十分な感度を有する感光体を得ることができる。
電荷発生物質として有機顔料を使用する場合、特にフタロシアニン顔料又はアゾ顔料が好ましい。フタロシアニン顔料は、比較的長波長のレーザー光に対して高感度の感光体が得られる点で、また、アゾ顔料は、白色光及び比較的短波長のレーザー光に対し十分な感度を持つ点で、それぞれ優れている。
電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を使用する場合、具体的には無金属フタロシアニン、銅、インジウム、ガリウム、スズ、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム等の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、水酸化物、アルコキシド等の配位したフタロシアニン類の各結晶型を持ったもの、酸素原子等を架橋原子として用いたフタロシアニンダイマー類等が使用される。特に、感度の高い結晶型であるＸ型、τ型無金属フタロシアニン、Ａ型（別称β型）、Ｂ型（別称α型）、Ｄ型（別称Ｙ型）等のチタニルフタロシアニン（別称：オキシチタニウムフタロシアニン）、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ヒドロキシインジウムフタロシアニン、ＩＩ型等のクロロガリウムフタロシアニン、Ｖ型等のヒドロキシガリウムフタロシアニン、Ｇ型、Ｉ型等のμ−オキソ−ガリウムフタロシアニン二量体、ＩＩ型等のμ−オキソ−アルミニウムフタロシアニン二量体が好適である。
電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を使用する場合、具体的には無金属フタロシアニン、銅、インジウム、ガリウム、スズ、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム等の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、水酸化物、アルコキシド等の配位したフタロシアニン類の各結晶型を持ったもの、酸素原子等を架橋原子として用いたフタロシアニンダイマー類等が使用される。特に、感度の高い結晶型であるＸ型、τ型無金属フタロシアニン、Ａ型（別称β型）、Ｂ型（別称α型）、Ｄ型（別称Ｙ型）等のチタニルフタロシアニン（別称：オキシチタニウムフタロシアニン）、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、ヒドロキシインジウムフタロシアニン、ＩＩ型等のクロロガリウムフタロシアニン、Ｖ型等のヒドロキシガリウムフタロシアニン、Ｇ型、Ｉ型等のμ−オキソ−ガリウムフタロシアニン二量体、ＩＩ型等のμ−オキソ−アルミニウムフタロシアニン二量体が好適である。
また、これらフタロシアニンの中でも、Ａ型（別称β型）、Ｂ型（別称α型）、及び粉末Ｘ線回折の回折角２θ（±０．２゜）が２７．１゜、もしくは２７．３゜に明瞭なピークを表すことを特徴とするＤ型（Ｙ型）チタニルフタロシアニン、ＩＩ型クロロガリウムフタロシアニン、Ｖ型及び２８．１゜に最も強いピークを有すること、また２６．２゜にピークを持たず２８．１゜に明瞭なピークを有し、かつ２５．９゜の半値幅Ｗが０．１゜≦Ｗ≦０．４゜であることを特徴とするヒドロキシガリウムフタロシアニン、Ｇ型μ−オキソ−ガリウムフタロシアニン二量体等が特に好ましい。これらの中でも、Ｄ型（Ｙ型）チタニルフタロシアニンが良好な感度を表すため好ましい。
フタロシアニン化合物は単一の化合物のものを用いてもよいし、幾つかの混合又は混晶状態のものを用いてもよい。ここでのフタロシアニン化合物ないしは結晶状態に置ける混合状態としては、それぞれの構成要素を後から混合したものを用いてもよいし、合成、顔料化、結晶化等のフタロシアニン化合物の製造・処理工程において混合状態を生じさせたものでもよい。このような処理としては、酸ペースト処理・磨砕処理・溶剤処理等が知られている。混晶状態を生じさせるためには、日本国特開平１０−４８８５９号公報記載のように、２種類の結晶を混合後に機械的に磨砕、不定形化した後に、溶剤処理によって特定の結晶状態に変換する方法が挙げられる。
電荷発生層に用いるバインダー樹脂は特に制限されないが、例としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールや、アセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、変性エーテル系ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、カゼインや、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシ変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体等の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アルキッド樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂等の絶縁性樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルペリレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、何れか１種を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の組み合わせで混合して用いてもよい。
電荷発生層において、バインダー樹脂と電荷発生物質との配合比（質量）は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質が通常１０質量部以上、好ましくは３０質量部以上であり、また、通常１０００質量部以下、好ましくは５００質量部以下の範囲である。
［電荷輸送層−積層型］
積層型感光体の電荷輸送層は、電荷輸送物質を含有するとともに、通常はバインダー樹脂と、必要に応じて使用されるその他の成分とを含有する。電荷輸送層は、単一の層から成ってもよいし、構成成分あるいは組成比の異なる複数の層を重ねたものでもよい。その膜厚は、通常、５μｍ〜５０μｍであり、好ましくは１０μｍ〜４５μｍである。
積層型感光体の電荷輸送層は、電荷輸送物質を含有するとともに、通常はバインダー樹脂と、必要に応じて使用されるその他の成分とを含有する。電荷輸送層は、単一の層から成ってもよいし、構成成分あるいは組成比の異なる複数の層を重ねたものでもよい。その膜厚は、通常、５μｍ〜５０μｍであり、好ましくは１０μｍ〜４５μｍである。
電荷輸送物質としては特に限定されず、任意の物質を用いることが可能である。電荷輸送物質の例としては、２，４，７−トリニトロフルオレノン等の芳香族ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタン等のシアノ化合物、ジフェノキノン等のキノン化合物等の電子吸引性物質、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンゾフラン誘導体等の複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体及びこれらの化合物の複数種が結合したもの、あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等の電子供与性物質等が挙げられる。これらの中でも、カルバゾール誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体、エナミン誘導体、及びこれらの化合物の複数種が結合したものが好ましい。これらの電荷輸送物質は単独で用いてもよいし、いくつかを混合してもよい。電荷輸送物質の好適な構造の具体例を以下に表す。
上記の電荷輸送物質のうち、好ましくは、ＨＴＭ６、ＨＴＭ１０、ＨＴＭ２５、ＨＴＭ２６、ＨＴＭ２９、ＨＴＭ３１、ＨＴＭ３２、ＨＴＭ３３、ＨＴＭ３４、ＨＴＭ３５、ＨＴＭ３７、ＨＴＭ３９、ＨＴＭ４０、ＨＴＭ４１、ＨＴＭ４２、ＨＴＭ４３及びＨＴＭ４４からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくは、ＨＴＭ６、ＨＴＭ２６、ＨＴＭ２９、ＨＴＭ３４、ＨＴＭ３９、ＨＴＭ４０、ＨＴＭ４１、ＨＴＭ４２、ＨＴＭ４３及びＨＴＭ４４からなる群から選ばれる少なくとも１種である。上記の電荷輸送物質であれば、本発明のポリエステル樹脂を用いた場合においても良好な電気特性を得られるため好ましい。
前記ポリエステル樹脂は、電荷輸送層のバインダー樹脂として用いられることが好ましい。前記バインダー樹脂は、前記ポリエステル樹脂とその他の構造を有する樹脂を混合してもよく、他の樹脂としては、前記感光層において混合される他の樹脂として記載したものが挙げられる。
バインダー樹脂全体において、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造の含有量に特に制限はないが、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上であり、一方、通常５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、さらに好ましくは１５質量％以下である。上記範囲とすることで良好な電気特性や耐摩耗性が得られるだけでなく、良好な耐フィルミング性が得られる。
バインダー樹脂全体において、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造の含有量に特に制限はないが、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上であり、一方、通常５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、さらに好ましくは１５質量％以下である。上記範囲とすることで良好な電気特性や耐摩耗性が得られるだけでなく、良好な耐フィルミング性が得られる。
バインダー樹脂全体と電荷輸送物質との割合としては、通常同一層中のバインダー樹脂１００質量部に対して電荷輸送物質を１０質量部以上の比率で使用する。中でも、残留電位低減の観点から２０質量部以上が好ましく、繰り返し使用した際の安定性や電荷移動度の観点から３０質量部以上がより好ましい。一方、通常電荷輸送物質を１５０質量部以下、感光層の熱安定性の観点から好ましくは１２０質量部以下の比率で使用する。中でも、電荷輸送物質とバインダー樹脂との相溶性の観点から１００質量部以下がより好ましく、耐摩耗性の観点から８０質量部以下がさらに好ましい。
尚、電荷輸送層には成膜性、可撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性等を向上させるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、電子吸引性化合物、染料、顔料、レベリング剤等の添加剤を含有させてもよい。
可塑剤の例としては、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物、チオエーテル化合物等が挙げられる。電気特性の観点から、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物が好ましく、炭化水素化合物、エーテル化合物がより好ましい。可塑剤は、バインダー樹脂へ相溶性の観点から、芳香族基を有することが好ましい。
可塑剤の例としては、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物、チオエーテル化合物等が挙げられる。電気特性の観点から、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物が好ましく、炭化水素化合物、エーテル化合物がより好ましい。可塑剤は、バインダー樹脂へ相溶性の観点から、芳香族基を有することが好ましい。
可塑剤の分子量は、１５０以上が好ましく、１７０以上がより好ましく、２００以上がさらに好ましく、一方、４００以下が好ましく、３８０以下がより好ましく、３５０以下がさらに好ましい。上記範囲内の分子量とすることで、成膜／乾燥時における昇華を抑えつつ、バインダー樹脂と馴染むことにより耐クラック性や耐ガス性を向上させることが可能となる。
これらの可塑剤は単独で用いてもよいし、いくつかを混合してもよい。可塑剤の好適な構造の具体例を以下に表す。
これらの可塑剤の中でも、好ましくはＡＤ−２、ＡＤ−４、ＡＤ−５、ＡＤ−６、ＡＤ−８、ＡＤ−１０、ＡＤ−１１、ＡＤ−１３であり、より好ましくは、ＡＤ−２、ＡＤ−６、ＡＤ−８、ＡＤ−１０、ＡＤ−１１、ＡＤ−１３である。上記の可塑剤であれば、電気特性を悪化させることなく、耐ガス性や耐クラック性を向上させることができる。
酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、トリアルキルアミン、ジアルキルアリールアミン等が挙げられる。また染料、顔料の例としては、各種の色素化合物、アゾ化合物等が挙げられる。
電荷輸送層には、感光体表面の摩擦抵抗や、摩耗を低減、トナーの感光体から転写ベルト、紙への転写効率を高める等の目的で、アルミナ、シリカ等の無機粒子、フッ素樹脂粒子、シリコーン粒子、ポリエチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋（メタ）アクリレート粒子等の有機粒子等を含有させてもよい。
＜単層型感光層＞
単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質に加えて、積層型感光体の電荷輸送層と同様に、膜強度確保のためにバインダー樹脂を使用して形成する。具体的には、電荷発生物質と電荷輸送物質と各種バインダー樹脂とを溶剤に溶解又は分散して塗布液を作製し、導電性支持体上（下引き層を設ける場合は下引き層上）に塗布、乾燥して得ることができる。
単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質に加えて、積層型感光体の電荷輸送層と同様に、膜強度確保のためにバインダー樹脂を使用して形成する。具体的には、電荷発生物質と電荷輸送物質と各種バインダー樹脂とを溶剤に溶解又は分散して塗布液を作製し、導電性支持体上（下引き層を設ける場合は下引き層上）に塗布、乾燥して得ることができる。
電荷輸送物質及びバインダー樹脂の種類並びにこれらの使用比率は、積層型感光体の電荷輸送層について説明したものと同様である。これらの電荷輸送物質及びバインダー樹脂からなる電荷輸送媒体中に、さらに電荷発生物質が分散される。
電荷発生物質は、積層型感光体の電荷発生層について説明したものと同様のものが使用できる。但し、単層型感光体の感光層の場合、電荷発生物質の粒子径を充分に小さくする必要がある。具体的には、通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の範囲とする。
電荷発生物質は、積層型感光体の電荷発生層について説明したものと同様のものが使用できる。但し、単層型感光体の感光層の場合、電荷発生物質の粒子径を充分に小さくする必要がある。具体的には、通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の範囲とする。
単層型感光層内に分散される電荷発生物質の量は、少な過ぎると充分な感度が得られない一方で、多過ぎると帯電性の低下、感度の低下等の弊害があることから、単層型感光層全体に対して通常０．５質量％以上、好ましくは１質量％以上であり、また、通常５０質量％以下、好ましくは２０質量％以下の範囲で使用される。
また、単層型感光層におけるバインダー樹脂と電荷発生物質との使用比率は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質が通常０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上であり、また、通常３０質量部以下、好ましくは１０質量部以下である。
また、単層型感光層におけるバインダー樹脂と電荷発生物質との使用比率は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質が通常０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上であり、また、通常３０質量部以下、好ましくは１０質量部以下である。
単層型感光層の膜厚は、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また、通常１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下の範囲である。この場合にも成膜性、可撓性、機械的強度等を改良するための公知の可塑剤、残留電位を抑制するための添加剤、分散安定性向上のための分散補助剤、塗布性を改善するためのレベリング剤、保存安定性を向上させる酸化防止剤、界面活性剤、例えばシリコ−ンオイル、フッ素系オイルその他の添加剤が添加されていてもよい。また、アルミナ、シリカ等の無機粒子、フッ素樹脂粒子、シリコーン粒子、ポリエチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋（メタ）アクリレート粒子等の有機粒子等を含有させてもよい。
＜その他の機能層＞
耐摩耗性を向上させる目的で最表面に保護層を有してもよい。保護層のバインダー樹脂として本発明のポリエステル樹脂を含有させてもよい。
さらにその他の層として必要に応じて、バリアー層、接着層、ブロッキング層等の中間層、透明絶縁層等、電気特性、機械特性の改良のための層を有していてもよい。
耐摩耗性を向上させる目的で最表面に保護層を有してもよい。保護層のバインダー樹脂として本発明のポリエステル樹脂を含有させてもよい。
さらにその他の層として必要に応じて、バリアー層、接着層、ブロッキング層等の中間層、透明絶縁層等、電気特性、機械特性の改良のための層を有していてもよい。
＜各層の形成方法＞
これらの感光体を構成する各層は、含有させる物質を溶剤に溶解又は分散させて得られた塗布液を、支持体上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗布、バーコート、ロールコート、ブレード塗布等の公知の方法により、各層ごとに順次塗布・乾燥工程を繰り返すことにより形成される。
これらの感光体を構成する各層は、含有させる物質を溶剤に溶解又は分散させて得られた塗布液を、支持体上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗布、バーコート、ロールコート、ブレード塗布等の公知の方法により、各層ごとに順次塗布・乾燥工程を繰り返すことにより形成される。
塗布液の作製に用いられる溶媒又は分散媒に特に制限は無いが、具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、テトラクロロエタン、１，２−ジクロロプロパン、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、ｎ−ブチルアミン、イソプロパノールアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン等の含窒素化合物類、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤類等が挙げられる。これらの溶剤の中で、環境配慮の観点から非ハロゲン系溶剤が好ましく、溶解性の観点から、トルエン、キシレン、アニソール、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンが特に好ましい。これらは何れか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。
溶媒又は分散媒の使用量は特に制限されないが、各層の目的や選択した溶媒・分散媒の性質を考慮して、塗布液の固形分濃度や粘度等の物性が所望の範囲となるように適宜調整するのが好ましい。
例えば、単層型感光体、及び機能分離型感光体の電荷輸送層の場合には、塗布液の固形分濃度を通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上とし、また、通常４０質量％以下、好ましくは３５質量％以下の範囲とする。また、塗布液の粘度を通常１０ｃｐｓ以上、好ましくは５０ｃｐｓ以上とし、また、通常５００ｃｐｓ以下、好ましくは４００ｃｐｓ以下の範囲とする。
例えば、単層型感光体、及び機能分離型感光体の電荷輸送層の場合には、塗布液の固形分濃度を通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上とし、また、通常４０質量％以下、好ましくは３５質量％以下の範囲とする。また、塗布液の粘度を通常１０ｃｐｓ以上、好ましくは５０ｃｐｓ以上とし、また、通常５００ｃｐｓ以下、好ましくは４００ｃｐｓ以下の範囲とする。
また、積層型感光体の電荷発生層の場合には、塗布液の固形分濃度は、通常０．１質量％以上、好ましくは１質量％以上とし、また、通常１５質量％以下、好ましくは１０質量％以下の範囲とする。また、塗布液の粘度は、通常０．０１ｃｐｓ以上、好ましくは０．１ｃｐｓ以上とし、また、通常２０ｃｐｓ以下、好ましくは１０ｃｐｓ以下の範囲とする。
塗布液の塗布方法としては、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられるが、他の公知のコーティング法を用いることも可能である。
塗布液の乾燥は、室温における指触乾燥後、通常３０℃以上、２００℃以下の温度範囲で、１分から２時間の間、静止又は送風下で加熱乾燥させることが好ましい。また、加熱温度は一定であってもよく、乾燥時に温度を変更させながら加熱を行なってもよい。
＜画像形成装置＞
本発明に係る電子写真感光体を含む画像形成装置（本発明に係る画像形成装置）の実施の形態について、装置の要部構成を表す図１を用いて説明する。但し、実施の形態は以下の説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り任意に変形して実施することができる。
本発明に係る電子写真感光体を含む画像形成装置（本発明に係る画像形成装置）の実施の形態について、装置の要部構成を表す図１を用いて説明する。但し、実施の形態は以下の説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り任意に変形して実施することができる。
図１に表すように、画像形成装置は、電子写真感光体１、帯電装置２、露光装置３及び現像装置４を備えて構成され、更に、必要に応じて転写装置５、クリーニング装置６及び定着装置７が設けられる。
電子写真感光体１は、上述した本発明に係る電子写真感光体であれば特に制限はないが、図１ではその一例として、円筒状の導電性支持体の表面に上述した感光層を形成したドラム状の感光体を示している。この電子写真感光体１の外周面に沿って、帯電装置２、露光装置３、現像装置４、転写装置５及びクリーニング装置６がそれぞれ配置されている。
電子写真感光体１は、上述した本発明に係る電子写真感光体であれば特に制限はないが、図１ではその一例として、円筒状の導電性支持体の表面に上述した感光層を形成したドラム状の感光体を示している。この電子写真感光体１の外周面に沿って、帯電装置２、露光装置３、現像装置４、転写装置５及びクリーニング装置６がそれぞれ配置されている。
なお、電子写真感光体１を、帯電装置２、露光装置３、現像装置４、転写装置５、クリーニング装置６、及び定着装置７のうち１つ又は２つ以上と組み合わせて、一体型のカートリッジ（以下適宜「電子写真感光体カートリッジ」という）として構成し、この電子写真感光体カートリッジを複写機やレーザービームプリンタ等の電子写真装置本体に対して着脱可能な構成にしてもよい。すなわち、本発明は前記電子写真感光体を含む電子写真カートリッジにも関する。
この場合、例えば電子写真感光体１やその他の部材が劣化した場合に、この電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体から取り外し、別の新しい電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体に装着することにより、画像形成装置の保守・管理が容易となる。
この場合、例えば電子写真感光体１やその他の部材が劣化した場合に、この電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体から取り外し、別の新しい電子写真感光体カートリッジを画像形成装置本体に装着することにより、画像形成装置の保守・管理が容易となる。
以下に、本発明の具体的態様を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施例によって限定されるものではない。
［ポリエステル樹脂の製造］
合成例１（ポリエステル樹脂（１）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１１．６４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．４１ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
合成例１（ポリエステル樹脂（１）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１１．６４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．４１ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．２４ｇ）を加えた。その後、トリエチルアミン（７．９５ｇ）とジクロロメタン（２０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（１９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３８，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（１）の構造式を以下に表す。
［粘度平均分子量（Ｍｖ）の測定］
ポリエステル樹脂をジクロロメタンに溶解し濃度Ｃが６．００ｇ／Ｌの溶液を調製した。溶媒（ジクロロメタン）の流下時間ｔ０が１３６．１６秒のウベローデ型毛細管粘度計を用いて、２０．０℃に設定した恒温水槽中で試料溶液の流下時間ｔを測定した。以下の式に従って粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。
ａ＝０．４３８×ηｓｐ＋１
ηｓｐ＝ｔ／ｔ０−１
ｂ＝１００×ηｓｐ／Ｃ
Ｃ＝６．００（ｇ／Ｌ）
η＝ｂ／ａ
Ｍｖ＝３２０７×η１．２０５
ポリエステル樹脂をジクロロメタンに溶解し濃度Ｃが６．００ｇ／Ｌの溶液を調製した。溶媒（ジクロロメタン）の流下時間ｔ０が１３６．１６秒のウベローデ型毛細管粘度計を用いて、２０．０℃に設定した恒温水槽中で試料溶液の流下時間ｔを測定した。以下の式に従って粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。
ａ＝０．４３８×ηｓｐ＋１
ηｓｐ＝ｔ／ｔ０−１
ｂ＝１００×ηｓｐ／Ｃ
Ｃ＝６．００（ｇ／Ｌ）
η＝ｂ／ａ
Ｍｖ＝３２０７×η１．２０５
合成例２（ポリエステル樹脂（２）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１２．１７ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．１２ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１２．１７ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．１２ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．８２ｇ）を加えた。その後、トリエチルアミン（８．７７ｇ）とジクロロメタン（２０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（１９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（２）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４８，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（２）の構造式を以下に表す。
合成例３（ポリエステル樹脂（３）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）（１．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１２．２３ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．２６ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）（１．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１２．２３ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．２６ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．７６ｇ）を加えた。その後、トリエチルアミン（８．７４ｇ）とジクロロメタン（２０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（１９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（３）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（３）中に含まれるポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（３）の構造式を以下に表す。
合成例４（ポリエステル樹脂（４）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（４）中に含まれるポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（４）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（４）中に含まれるポリ（２，２−ジメチル１，３−プロパンジオールカーボネート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（４）の構造式を以下に表す。
合成例５（ポリエステル樹脂（５）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（１，１０−デカンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（５）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（５）中に含まれるポリ（１，１０−デカンジオールカーボネート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（５）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（１，１０−デカンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（５）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（５）中に含まれるポリ（１，１０−デカンジオールカーボネート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（５）の構造式を以下に表す。
合成例６（ポリエステル樹脂（６）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］（分子量２５００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（６）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４１，０００であった。また、ポリエステル樹脂（６）中に含まれるポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（６）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］（分子量２５００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（６）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４１，０００であった。また、ポリエステル樹脂（６）中に含まれるポリ［ジ（エチレングリコール）アジペート］残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（６）の構造式を以下に表す。
合成例７（ポリエステル樹脂（７）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ［カプロラクトンジオール］（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（７）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４４，０００であった。また、ポリエステル樹脂（７）中に含まれるポリ［カプロラクトンジオール］残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（７）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ［カプロラクトンジオール］（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（７）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４４，０００であった。また、ポリエステル樹脂（７）中に含まれるポリ［カプロラクトンジオール］残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（７）の構造式を以下に表す。
合成例８（ポリエステル樹脂（８）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（８）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（８）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（８）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（８）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（８）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（８）の構造式を以下に表す。
合成例９（ポリエステル樹脂（９）の製造）
合成例２のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例２と同様に操作しポリエステル樹脂（９）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は５０，０００であった。また、ポリエステル樹脂（９）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（９）の構造式を以下に表す。
合成例２のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例２と同様に操作しポリエステル樹脂（９）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は５０，０００であった。また、ポリエステル樹脂（９）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（９）の構造式を以下に表す。
合成例１０（ポリエステル樹脂（１０）の製造）
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量３０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（１０）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は５２，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１０）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（１０）の構造式を以下に表す。
合成例１のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量３０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例１と同様に操作しポリエステル樹脂（１０）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は５２，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１０）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（１０）の構造式を以下に表す。
合成例１１（ポリエステル樹脂（１１）の製造）
合成例３のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量６５０：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例３と同様に操作しポリエステル樹脂（１１）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１１）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（１１）の構造式を以下に表す。
合成例３のポリ（１，４−ブタンジオールカーボネート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）をポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量６５０：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例３と同様に操作しポリエステル樹脂（１１）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１１）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は５質量％である。ポリエステル樹脂（１１）の構造式を以下に表す。
合成例１２（ポリエステル樹脂（１２）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．４８ｇ）およびテレフタロイルクロリド（６．２４ｇ）、イソフタロイルクロリド（６．２４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．３１ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．４８ｇ）およびテレフタロイルクロリド（６．２４ｇ）、イソフタロイルクロリド（６．２４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．３１ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（１４．３５ｇ）および２，３，５−トリメチルフェノール（０．１６ｇ）を加え、ジクロロメタン（７０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（１３．３４ｇ）とジクロロメタン（６０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分間撹拌した後、ジクロロメタン（１００ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、さらに３時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（２４０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（２００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２５００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１２）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３１，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１２）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）残基量は１０質量％である。ポリエステル樹脂（１２）の構造式を以下に表す。
比較合成例１（ポリエステル樹脂（１３）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．００ｇ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．２４ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１１．６５ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（８０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（８．５５ｇ）とジクロロメタン（２０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ３０分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１時間撹拌を続けた。続いて、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）で希釈した後、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（１９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量２０００：ＯＨ基換算）（２．００ｇ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．２４ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１１．６５ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（８０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（８．５５ｇ）とジクロロメタン（２０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ３０分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１時間撹拌を続けた。続いて、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）で希釈した後、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（１９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（１９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１３）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は１０２，０００であった。なお、ＮＭＲ測定の結果、ポリテトラメチレンエーテルグリコールは共重合されておらず、未反応のポリテトラメチレングリコールが２．５質量％含まれていた。
比較合成例２（ポリエステル樹脂（１４）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にバイロン２００（東洋紡（株）社製、非晶性ポリエチレンテレフタレート変性樹脂、分子量１７０００：ＯＨ基換算）（３．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１７．２４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．０７ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にバイロン２００（東洋紡（株）社製、非晶性ポリエチレンテレフタレート変性樹脂、分子量１７０００：ＯＨ基換算）（３．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１７．２４ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．０７ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（１３．９４ｇ）、２，３，５−トリメチルフェノール（０．０８ｇ）を加え、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（１２．６９ｇ）とジクロロメタン（１００ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分撹拌後、ジクロロメタン（５０ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（２９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（２９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（２９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（２００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２５００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は５３，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１４）中に含まれるバイロン２００残基量は１０質量％である。
＜感光体シート（電子写真感光体）の作製＞
［実施例１３］
１０質量部のオキシチタニウムフタロシアニンと、１５０質量部の４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンとを混合し、サンドグラインドミルにて粉砕分散処理を行い顔料分散液を製造した。尚、オキシチタニウムフタロシアニンは、ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２）９．３゜、１０．６゜、１３．２゜、１５．１゜、１５．７゜、１６．１゜、２０．８゜、２３．３゜、２６．３゜及び２７．１゜に強い回折ピークを表す。
［実施例１３］
１０質量部のオキシチタニウムフタロシアニンと、１５０質量部の４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンとを混合し、サンドグラインドミルにて粉砕分散処理を行い顔料分散液を製造した。尚、オキシチタニウムフタロシアニンは、ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２）９．３゜、１０．６゜、１３．２゜、１５．１゜、１５．７゜、１６．１゜、２０．８゜、２３．３゜、２６．３゜及び２７．１゜に強い回折ピークを表す。
この顔料分散液に、ポリビニルブチラール（電気化学工業株式会社製、商品名デンカブチラール♯６０００Ｃ）の５質量％１，２−ジメトキシエタン溶液を５０質量部、フェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド株式会社製、商品名ＰＫＨＨ）の５質量％１，２−ジメトキシエタン溶液を５０質量部混合し、更に、適量の１，２−ジメトキシエタンを加え、固形分濃度４．０％の電荷発生層形成用塗布液を調製した。この電荷発生層形成用塗布液を、表面にアルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシート上に、乾燥後の膜厚が０．４μｍになるように塗布、乾燥して電荷発生層を設けた。
次に、電荷輸送物質として、下記に表す構造を主成分とする、幾何異性体の化合物群からなる、日本国特開２００２−０８０４３２号公報の実施例１に記載の方法で製造した混合物（ＨＴＭ３９）を５０質量部、前記合成例１で製造したポリエステル樹脂（１）を１００質量部、酸化防止剤（イルガノックス１０７６）８質量部、レベリング剤としてシリコーンオイル０．０５質量部を、テトラヒドロフランとトルエンとの混合溶媒（テトラヒドロフラン８０質量％、トルエン２０質量％）６４０質量部に混合し、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
この電荷輸送層形成用塗布液を上述の電荷発生層上に、乾燥後の膜厚が２５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１２５℃で２０分間乾燥して電荷輸送層を形成して、感光体シート（以下、単に「感光体」と称することがある。）を作製した。
［実施例１４〜２４］
表−１に示すように、ポリエステル樹脂（１）を合成例２〜１２で製造したポリエステル樹脂（２）〜（１２）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
表−１に示すように、ポリエステル樹脂（１）を合成例２〜１２で製造したポリエステル樹脂（２）〜（１２）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
［比較例３］
ポリエステル樹脂（１）を日本国特開２００６−５３５４９号公報の実施例６に記載の方法により製造した以下に表す構造を有するポリエステル樹脂（１５）（粘度平均分子量３６，２００）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
ポリエステル樹脂（１）を日本国特開２００６−５３５４９号公報の実施例６に記載の方法により製造した以下に表す構造を有するポリエステル樹脂（１５）（粘度平均分子量３６，２００）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
［比較例４］
ポリエステル樹脂（１）を比較合成例１で製造したポリエステル樹脂（１３）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
ポリエステル樹脂（１）を比較合成例１で製造したポリエステル樹脂（１３）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
［比較例５］
ポリエステル樹脂（１）を比較合成例２で製造したポリエステル樹脂（１４）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
ポリエステル樹脂（１）を比較合成例２で製造したポリエステル樹脂（１４）に代えた以外は実施例１３と同様にして、感光体シートを作製した。
［電気特性評価］
電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（電子写真学会編「続電子写真技術の基礎と応用」、コロナ社、１９９６年１１月１５日発行、４０４−４０５頁記載）を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラムを一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、初期表面電位を−７００Ｖとし、露光は７８０ｎｍ、除電は６６０ｎｍの単色光を用い、露光光を２．４μＪ／ｃｍ２照射した時点の表面電位（ＶＬ）を測定した。
ＶＬ測定に際しては、露光から電位測定に要する時間を１３９ｍｓとした。また、表面電位が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）となる時の照射エネルギー（半減露光エネルギー：μＪ／ｃｍ２）を感度（Ｅ１／２）として測定した。ＶＬの値の絶対値が小さいほど電気特性が良好であることを示し、Ｅ１／２の値が小さいほど高感度であることを示す。測定環境は、温度２５℃、相対湿度５０％下（Ｎ／Ｎ）で行った。結果を表−１に示す。
電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（電子写真学会編「続電子写真技術の基礎と応用」、コロナ社、１９９６年１１月１５日発行、４０４−４０５頁記載）を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラムを一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、初期表面電位を−７００Ｖとし、露光は７８０ｎｍ、除電は６６０ｎｍの単色光を用い、露光光を２．４μＪ／ｃｍ２照射した時点の表面電位（ＶＬ）を測定した。
ＶＬ測定に際しては、露光から電位測定に要する時間を１３９ｍｓとした。また、表面電位が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）となる時の照射エネルギー（半減露光エネルギー：μＪ／ｃｍ２）を感度（Ｅ１／２）として測定した。ＶＬの値の絶対値が小さいほど電気特性が良好であることを示し、Ｅ１／２の値が小さいほど高感度であることを示す。測定環境は、温度２５℃、相対湿度５０％下（Ｎ／Ｎ）で行った。結果を表−１に示す。
［摩耗試験］
感光体フィルムを直径１０ｃｍの円状に切断しテーバー摩耗試験機（東洋精機社製）により、摩耗評価を行った。試験条件は、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用いて、荷重５００ｇで１０００回回転後の摩耗量を試験前後の質量を比較することにより測定した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。結果を表−１に示す。
感光体フィルムを直径１０ｃｍの円状に切断しテーバー摩耗試験機（東洋精機社製）により、摩耗評価を行った。試験条件は、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用いて、荷重５００ｇで１０００回回転後の摩耗量を試験前後の質量を比較することにより測定した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。結果を表−１に示す。
［接着性試験］
上記各実施例１３〜２４、比較例３〜５における感光体フィルムの作製において、アルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシートに代えて、厚さ１ｍｍのアルミ板にした以外は同様にアルミ板上に電荷発生層および実施例、比較例に応じた電荷輸送層を塗布した感光層を作製した。
アルミ板上の感光層に対してＮＴカッターを用いて、２ｍｍ間隔で縦に６本、横に６本切り込みを入れ、５×５の２５マスを作製した。その上からセロハンテープ（３Ｍ）を密着して貼り付け、接着面に対し９０゜に引き上げることで、感光層（電荷発生層）と下引き層の接着性を試験した。これを２箇所行い、計５０マスのうち、支持体上に残存した感光層のマス数の割合を残存率として評価した。評価結果は、残存率９０％以上を◎、７０〜９０％以上を○、残存率２０〜７０％を△、残存率２０％以下を×とした。結果を表−１に示す。
上記各実施例１３〜２４、比較例３〜５における感光体フィルムの作製において、アルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシートに代えて、厚さ１ｍｍのアルミ板にした以外は同様にアルミ板上に電荷発生層および実施例、比較例に応じた電荷輸送層を塗布した感光層を作製した。
アルミ板上の感光層に対してＮＴカッターを用いて、２ｍｍ間隔で縦に６本、横に６本切り込みを入れ、５×５の２５マスを作製した。その上からセロハンテープ（３Ｍ）を密着して貼り付け、接着面に対し９０゜に引き上げることで、感光層（電荷発生層）と下引き層の接着性を試験した。これを２箇所行い、計５０マスのうち、支持体上に残存した感光層のマス数の割合を残存率として評価した。評価結果は、残存率９０％以上を◎、７０〜９０％以上を○、残存率２０〜７０％を△、残存率２０％以下を×とした。結果を表−１に示す。
以上から、式（１）で表される構造、式（２）で表される構造、式（３）で表される構造及び式（４）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を含み、２価フェノール、及び２価カルボン酸を共重合させたポリエステル樹脂をバインダー樹脂に用いることにより、電子写真感光体の電気特性を維持しながら耐摩耗性を向上させることができる（実施例１３〜２４）。特に式（１）で表される構造、式（２）で表される構造及び式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも一種の構造αを含有するポリエステル樹脂をバインダー樹脂に用いることで、感光層の接着性も向上させることができる（実施例１３〜１９、２４）。一方で、原料の２価アルコールが共重合されず未反応のまま残存する場合は、電気特性、耐摩耗性、接着性のいずれも悪化した（比較例３）。また、数平均分子量を１７０００とすると、膜中で相分離してしまうためか電気特性が大幅に悪化した（比較例５）。
［感光体ドラム用ポリエステル樹脂の製造］
合成例２５（ポリエステル樹脂（１６）の製造）
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．５０ｇ）、２，３，５−トリメチルフェノール（０．１５ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１６．００ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．３３ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ添加し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
合成例２５（ポリエステル樹脂（１６）の製造）
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．５０ｇ）、２，３，５−トリメチルフェノール（０．１５ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１６．００ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．３３ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ添加し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１６．００ｇ）、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メタン（２１．８０ｇ）を加えた。その後、トリエチルアミン（１７．５６ｇ）とジクロロメタン（１６０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。
５分撹拌した後、４−ヒドロキシ安息香酸４−ヒドロキシフェニル（２．４６ｇ）を加えた。その後、トリエチルアミン（５．８０ｇ）とジクロロメタン（１９０ｍｌ）との混合溶液を１０分かけて滴下した。その後内温を１８〜２３℃に保ちながら３０分撹拌した後、ジクロロメタン（２３０ｍＬ）で希釈を行った。続いて、３時間撹拌した後、ジクロロメタン（２５０ｍＬ）で再度希釈を行った。
その後、脱塩水（７００ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（７００ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（７００ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（５０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は６５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１６）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）残基量は３質量％である。ポリエステル樹脂（１６）の構造式を以下に表す。
比較合成例６（ポリエステル樹脂（１７）の製造）
合成例２５においてポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）を添加しない以外は同様にして、粘度平均分子量（Ｍｖ）が６５，０００のポリエステル樹脂（１７）を製造した。ポリエステル樹脂（１７）の構造式を以下に表す。
合成例２５においてポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）を添加しない以外は同様にして、粘度平均分子量（Ｍｖ）が６５，０００のポリエステル樹脂（１７）を製造した。ポリエステル樹脂（１７）の構造式を以下に表す。
合成例２６（ポリエステル樹脂（１８）の製造）
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，２−エタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．７５ｇ）、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（３２．６２ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（１１５ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．２７ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ添加し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，２−エタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１．７５ｇ）、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（３２．６２ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（１１５ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．２７ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ添加し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、２，３，５−トリメチルフェノール（０．１８ｇ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（１０．４９ｇ）およびビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（１３．００ｇ）を加えた後、ジクロロメタン（７０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（２４．０９ｇ）とジクロロメタン（１００ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。その後、内温を１８〜２３℃に保ちながら３０分撹拌した後、ジクロロメタン（３００ｍＬ）で希釈を行った。続いて、３時間撹拌した後、ジクロロメタン（３１０ｍＬ）で再度希釈を行った。
その後、脱塩水（７００ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（７００ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（７００ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（３００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（５０００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（１８）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は６５，０００であった。また、ポリエステル樹脂（１８）中に含まれるポリ（１，２−エタンジオールアジペート）残基量は３．５質量％である。ポリエステル樹脂（１８）の構造式を以下に表す。
＜電子写真感光体ドラムの作製＞
＜下引き層形成用塗布液の製造＞
平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業株式会社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、ヘンシェルミキサーにて混合して得られた表面処理酸化チタン５０部と、メタノール１２０部を混合してなる原料スラリー１ｋｇを、直径約１００μｍのジルコニアビーズ（株式会社ニッカトー製 ＹＴＺ）を分散メディアとして、ミル容積約０．１５Ｌの寿工業株式会社製ウルトラアペックスミル（ＵＡＭ−０１５型）を用い、ロータ周速１０ｍ／秒、液流量１０ｋｇ／時間の液循環状態で１時間分散処理し、酸化チタン分散液を作製した。
＜下引き層形成用塗布液の製造＞
平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業株式会社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、ヘンシェルミキサーにて混合して得られた表面処理酸化チタン５０部と、メタノール１２０部を混合してなる原料スラリー１ｋｇを、直径約１００μｍのジルコニアビーズ（株式会社ニッカトー製 ＹＴＺ）を分散メディアとして、ミル容積約０．１５Ｌの寿工業株式会社製ウルトラアペックスミル（ＵＡＭ−０１５型）を用い、ロータ周速１０ｍ／秒、液流量１０ｋｇ／時間の液循環状態で１時間分散処理し、酸化チタン分散液を作製した。
前記酸化チタン分散液と、メタノール／１−プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、ε−カプロラクタム［下記式（Ｆ）で表される化合物］／ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン［下記式（Ｇ）で表される化合物］／ヘキサメチレンジアミン［下記式（Ｈ）で表される化合物］／デカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｉ）で表される化合物］／オクタデカメチレンジカルボン酸［下記式（Ｊ）で表される化合物］の組成モル比率が、６０％／１５％／５％／１５％／５％からなる共重合ポリアミドのペレットを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた。その後、出力１２００Ｗの超音波発信器による超音波分散処理を１時間行い、更に孔径５μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルター（アドバンテック製 マイテックス ＬＣ）により濾過し、表面処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比が３／１であり、メタノール／１−プロパノール／トルエンの混合溶媒の質量比が７／１／２であって、含有する固形分の濃度が１８．０質量％の下引き層形成用塗布液を作製した。
＜電荷発生層形成用塗布液の製造＞
電荷発生物質として、図２のＣｕＫα特性Ｘ線によるＸ線回折スペクトルを示すオキシチタニウムフタロシアニン２０部と１，２−ジメトキシエタン２８０部とを混合し、サンドグラインドミルで１時間粉砕して微粒化分散処理を行なった。続いてこの微細化処理液に、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）１０部を、１，２−ジメトキシエタンの２５５部と４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンの８５部との混合液に溶解させて得られた結着液、及び２３０部の１，２−ジメトキシエタンを混合して電荷発生層形成用塗布液Ａを調製した。
電荷発生物質として、図２のＣｕＫα特性Ｘ線によるＸ線回折スペクトルを示すオキシチタニウムフタロシアニン２０部と１，２−ジメトキシエタン２８０部とを混合し、サンドグラインドミルで１時間粉砕して微粒化分散処理を行なった。続いてこの微細化処理液に、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）１０部を、１，２−ジメトキシエタンの２５５部と４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンの８５部との混合液に溶解させて得られた結着液、及び２３０部の１，２−ジメトキシエタンを混合して電荷発生層形成用塗布液Ａを調製した。
電荷発生物質として、図３のＣｕＫα特性Ｘ線によるＸ線回折スペクトルを示すオキシチタニウムフタロシアニン２０部と１，２−ジメトキシエタン２８０部とを混合し、サンドグラインドミルで４時間粉砕して微粒化分散処理を行なった。続いてこの微細化処理液に、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）１０部を、１，２−ジメトキシエタンの２５５部と４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノンの８５部との混合液に溶解させて得られた結着液、及び２３０部の１，２−ジメトキシエタンを混合して電荷発生層形成用塗布液Ｂを調製した。
電荷発生層形成用塗布液Ａと電荷発生層形成用塗布液Ｂを５５：４５の質量比で混合し、本実施例で用いる電荷発生層形成用塗布液を作製した。
＜電荷輸送層形成用塗布液の製造＞
［塗布液Ｃ１］
合成例２５で製造したポリエステル樹脂（１６）９７．５部、下記に示す繰り返し構造、及び末端構造を有するポリアリレート樹脂（１９）２．５部（粘度平均分子量３５，０００、ポリマー中のポリシロキサン構造の含有量１２．５質量％）、下記ＨＴＭ３４で表される電荷輸送物質を４０部、添加剤ＡＤ−１３を１０部、酸化防止剤２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノールを２部、トリベンジルアミンを１部、ジメチルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６−１０ＣＳ）０．０５部をテトラヒドロフラン／トルエン（８／２（質量比））混合溶媒６５０部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１を調製した。
［塗布液Ｃ１］
合成例２５で製造したポリエステル樹脂（１６）９７．５部、下記に示す繰り返し構造、及び末端構造を有するポリアリレート樹脂（１９）２．５部（粘度平均分子量３５，０００、ポリマー中のポリシロキサン構造の含有量１２．５質量％）、下記ＨＴＭ３４で表される電荷輸送物質を４０部、添加剤ＡＤ−１３を１０部、酸化防止剤２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノールを２部、トリベンジルアミンを１部、ジメチルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６−１０ＣＳ）０．０５部をテトラヒドロフラン／トルエン（８／２（質量比））混合溶媒６５０部に溶解させて電荷輸送層形成用塗布液Ｃ１を調製した。
［塗布液Ｃ２］
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を比較合成例６で製造したポリエステル樹脂（１７）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ２を作製した。
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を比較合成例６で製造したポリエステル樹脂（１７）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ２を作製した。
［塗布液Ｃ３］
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を合成例２６で製造したポリエステル樹脂（１８）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ３を作製した。
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を合成例２６で製造したポリエステル樹脂（１８）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ３を作製した。
［塗布液Ｃ４］
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を下記に示す構造を有するポリエステル樹脂（２０）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ４を作製した。
前記塗布液においてポリエステル樹脂（１６）を下記に示す構造を有するポリエステル樹脂（２０）に変更した以外は塗布液Ｃ１と同様にして塗布液Ｃ４を作製した。
＜感光体ドラムの製造＞
表面が切削加工された外径２４ｍｍ、長さ２４８ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダーに、塗布液の製造例で作製した下引き層形成用塗布液、電荷発生層形成用塗布液、電荷輸送層形成用塗布液を浸漬塗布法により順次塗布、乾燥し、乾燥後の膜厚がそれぞれ、１．５μｍ、０．４μｍ、３６μｍとなるように、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成し、感光体ドラムを製造した。なお、電荷輸送層の乾燥は、１２５℃で２４分間行なった。
表面が切削加工された外径２４ｍｍ、長さ２４８ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダーに、塗布液の製造例で作製した下引き層形成用塗布液、電荷発生層形成用塗布液、電荷輸送層形成用塗布液を浸漬塗布法により順次塗布、乾燥し、乾燥後の膜厚がそれぞれ、１．５μｍ、０．４μｍ、３６μｍとなるように、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成し、感光体ドラムを製造した。なお、電荷輸送層の乾燥は、１２５℃で２４分間行なった。
＜画像試験＞
得られた感光体を、Ｓａｍｓｕｎｇ社製モノクロプリンタ Ｍ４５８０（非磁性１成分非接触現像）の感光体カートリッジに搭載して、気温２５℃、相対湿度５０％下において、印字率５％で、４００，０００枚の連続印刷を行った。印刷後の電荷輸送層の膜厚を測定し、印刷前後の電荷輸送層の膜厚比較することにより膜減り量を確認し、耐刷性を評価した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。
得られた感光体を、Ｓａｍｓｕｎｇ社製モノクロプリンタ Ｍ４５８０（非磁性１成分非接触現像）の感光体カートリッジに搭載して、気温２５℃、相対湿度５０％下において、印字率５％で、４００，０００枚の連続印刷を行った。印刷後の電荷輸送層の膜厚を測定し、印刷前後の電荷輸送層の膜厚比較することにより膜減り量を確認し、耐刷性を評価した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。
［実施例２７、２８、比較例７、８］
表−２に示す感光体ドラムを作製し、耐刷性、及び電子写真感光体の評価を行った。結果を表−２に示す。
表−２に示す感光体ドラムを作製し、耐刷性、及び電子写真感光体の評価を行った。結果を表−２に示す。
以上から、本発明に係る電子写真感光体は、耐摩耗性に非常に優れることを明らかとした。
［ポリエステル樹脂の製造（式（１）〜式（４）の含有量増量）］ 合成例２９（ポリエステル樹脂（２１）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量６５０：ＯＨ基換算）（８．８７ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１５．５８ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（２．９０ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリテトラメチレンエーテルグリコール（分子量６５０：ＯＨ基換算）（８．８７ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１５．５８ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（２．９０ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．４０ｇ）を加え、ジクロロメタン（５０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（８．８０ｇ）とジクロロメタン（７０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分撹拌した後、ジクロロメタン（１０５ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（２４０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（１００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２５００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（２１）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は１８，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２１）中に含まれるポリテトラメチレンエーテルグリコール残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２１）の構造式を以下に表す。
合成例３０（ポリエステル樹脂（２２）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）（８．９７ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１４．７９ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（１．９５ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量１０００：ＯＨ基換算）（８．９７ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１４．７９ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（１．９５ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（９．８９ｇ）を加え、ジクロロメタン（５０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（９．０９ｇ）とジクロロメタン（７０ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分撹拌した後、ジクロロメタン（１０５ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（２４０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（２４０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（１００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２５００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（２２）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３１，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２２）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２２）の構造式を以下に表す。
合成例３１（ポリエステル樹脂（２３）の製造）
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１２．０１ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１８．７３ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（１．３３ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
窒素置換した１０００ｍＬ４つ口反応容器にポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）（１２．０１ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１８．７３ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（１．３３ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら１．５時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（１３．８９ｇ）を加え、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（１２．６７ｇ）とジクロロメタン（１００ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分撹拌した後、ジクロロメタン（８０ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（３２０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（３２０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（３２０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（２００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（４００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（２３）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３６，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２３）中に含まれるポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２３）の構造式を以下に表す。
合成例３２（ポリエステル樹脂（２４）の製造）
合成例３１のポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）および１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタンを、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンに変更した以外は、合成例３１と同様に操作しポリエステル樹脂（２４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２４）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２４）の構造式を以下に表す。
合成例３１のポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）および１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタンを、ポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンに変更した以外は、合成例３１と同様に操作しポリエステル樹脂（２４）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４７，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２４）中に含まれるポリ（１，４−ブタンジオールアジペート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２４）の構造式を以下に表す。
合成例３３（ポリエステル樹脂（２５）の製造）
合成例３１のポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例３１と同様に操作しポリエステル樹脂（２５）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４４，３００であった。また、ポリエステル樹脂（２５）中に含まれるポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２５）の構造式を以下に表す。
合成例３１のポリ（１，６−ヘキサンジオールフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）をポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）（分子量２０００：ＯＨ基換算）に変更した以外は、合成例３１と同様に操作しポリエステル樹脂（２５）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は４４，３００であった。また、ポリエステル樹脂（２５）中に含まれるポリ（３−メチル−１，５−ペンタンジオールテレフタレート）残基量は３０質量％である。ポリエステル樹脂（２５）の構造式を以下に表す。
比較合成例９（ポリエステル樹脂（２６）の製造）
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にバイロン２００（東洋紡（株）社製、非晶性ポリエチレンテレフタレート変性樹脂、分子量１７０００：ＯＨ基換算）（９．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１３．４７ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．１６ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
窒素置換した５００ｍＬ４つ口反応容器にバイロン２００（東洋紡（株）社製、非晶性ポリエチレンテレフタレート変性樹脂、分子量１７０００：ＯＨ基換算）（９．００ｇ）およびジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸クロリド（１３．４７ｇ）を秤取り、ジクロロメタン（７０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（０．１６ｇ）とジクロロメタン（１０ｍＬ）との混合溶液を５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ５分かけて滴下し、その後内温を１８〜２３℃に保ちながら２時間撹拌を続けた。
続いて上記反応容器内へ、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン（１０．８５ｇ）を加え、ジクロロメタン（１５０ｍＬ）で希釈した。その後、トリエチルアミン（９．８９ｇ）とジクロロメタン（１００ｍＬ）との混合溶液を反応容器内へ５〜１５℃へ冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。３０分撹拌後、ジクロロメタン（５０ｍＬ）で希釈し、反応内温を１８〜２３℃に保ちながら、４時間攪拌を続けた。その後、脱塩水（２９０ｍＬ）にて洗浄を行い、３０分間静置した後に有機層を分離した。この有機層を続いて０．２Ｎ塩酸（２９０ｍＬ）にて洗浄を３回行い、さらに、脱塩水（２９０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。
洗浄後の有機層にジクロロメタン（２００ｍｌ）を加えて希釈し、メタノール（２５００ｍｌ）に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥して目的のポリエステル樹脂（２６）を得た。得られたポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は３１，０００であった。また、ポリエステル樹脂（２６）中に含まれるバイロン２００残基量は３０質量％である。
＜感光体シートの作製＞
［実施例３４］
平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、高速流動式混合混練機（（株）カワタ社製「ＳＭＧ３００」）に投入し、回転周速３４．５ｍ／秒で高速混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール／１−プロパノールのボールミルにより分散させることにより、疎水化処理酸化チタンの分散スラリーとした。該分散スラリーと、メタノール／１−プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、前記感光体ドラム作製時の下引き層形成用塗布液作製時に使用した同様のポリアミド樹脂のペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた。その後、超音波分散処理を行なうことにより、メタノール／１−プロパノール／トルエンの質量比が７／１／２で、疎水性処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層分散液とした。この下引き層用分散液を、表面にアルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシート上に、乾燥後の膜厚が１．５μｍになるように塗布、乾燥し下引き層を設けた。
［実施例３４］
平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、高速流動式混合混練機（（株）カワタ社製「ＳＭＧ３００」）に投入し、回転周速３４．５ｍ／秒で高速混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール／１−プロパノールのボールミルにより分散させることにより、疎水化処理酸化チタンの分散スラリーとした。該分散スラリーと、メタノール／１−プロパノール／トルエンの混合溶媒、及び、前記感光体ドラム作製時の下引き層形成用塗布液作製時に使用した同様のポリアミド樹脂のペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた。その後、超音波分散処理を行なうことにより、メタノール／１−プロパノール／トルエンの質量比が７／１／２で、疎水性処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層分散液とした。この下引き層用分散液を、表面にアルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートシート上に、乾燥後の膜厚が１．５μｍになるように塗布、乾燥し下引き層を設けた。
ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２）が２７．３゜に強い回折ピークを示し、図２に示す粉末Ｘ線回折スペクトルを有するオキシチタニウムフタロシアニン１０部を１，２−ジメトキシエタン１５０部に加え、サンドグラインドミルにて粉砕分散処理を行い顔料分散液を作製した。こうして得られた顔料分散液１６０質量部と、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名＃６０００Ｃ）の５％１，２−ジメトキシエタン溶液１００質量部と、適量の１，２−ジメトキシエタンとを混合して、最終的に固形分濃度４．０％の電荷発生層塗布液を作製した。この電荷発生層用塗布液を、上述の下引き層上に、乾燥後の膜厚が０．４μｍになるように塗布、乾燥して電荷発生層を設けた。
次に、下記に示す構造からなる電荷輸送物質（ＨＴＭ３４）を４０質量部、合成例２９で製造したポリエステル樹脂（２１）を１００質量部、酸化防止剤２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノールを２部、トリベンジルアミンを１部、レベリング剤としてシリコーンオイル０．０５質量部を、テトラヒドロフランとトルエンとの混合溶媒（テトラヒドロフラン８０質量％、トルエン２０質量％）６４０質量部に混合し、電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
この電荷輸送層形成用塗布液を上述の電荷発生層上に、乾燥後の膜厚が２０μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１２５℃で２０分間乾燥して電荷輸送層を形成して、感光体シートを作製した。
［実施例３５〜３８］
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）を合成例３０〜３３で製造したポリエステル樹脂（２２）〜（２５）に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）を合成例３０〜３３で製造したポリエステル樹脂（２２）〜（２５）に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
［実施例３９］
ポリエステル樹脂（２１）１００質量部を、ポリエステル樹脂（２１）３０質量部とポリエステル樹脂（１５）７０質量部の混合物（３０：７０（質量比））に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
ポリエステル樹脂（２１）１００質量部を、ポリエステル樹脂（２１）３０質量部とポリエステル樹脂（１５）７０質量部の混合物（３０：７０（質量比））に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
［実施例４０〜４７］
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）〜（２５）とポリエステル樹脂（１５）または以下に構造を示すポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）の混合物（混合比は表−４に示す）とした以外は、実施例３９と同様にして感光体シートを作製した。
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）〜（２５）とポリエステル樹脂（１５）または以下に構造を示すポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）の混合物（混合比は表−４に示す）とした以外は、実施例３９と同様にして感光体シートを作製した。
［比較例１０〜１１］
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）をポリエステル樹脂（２６）、（１５）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
表−４に示すように、ポリエステル樹脂（２１）をポリエステル樹脂（２６）、（１５）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）に代えた以外は実施例３４と同様にして、感光体シートを作製した。
［電気特性評価］
電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（電子写真学会編「続電子写真技術の基礎と応用」、コロナ社、１９９６年１１月１５日発行、４０４−４０５頁記載）を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラムを一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、初期表面電位を−７００Ｖとし、露光は７８０ｎｍ、除電は６６０ｎｍの単色光を用い、露光光を１．０μＪ／ｃｍ２照射した時点の表面電位（ＶＬ）を測定した。
ＶＬ測定に際しては、露光から電位測定に要する時間を１３９ｍｓとした。また、表面電位が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）となる時の照射エネルギー（半減露光エネルギー：μＪ／ｃｍ２）を感度（Ｅ１／２）として測定した。ＶＬの値の絶対値が小さいほど電気特性が良好であることを示し、Ｅ１／２の値が小さいほど高感度であることを示す。なお、ＶＬの値が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）に未達の場合は、Ｅ１／２の測定が不可能であるため（−）で記載する。測定環境は、温度２５℃、相対湿度５０％下（Ｎ／Ｎ）で行った。結果を表−４に示す。
電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（電子写真学会編「続電子写真技術の基礎と応用」、コロナ社、１９９６年１１月１５日発行、４０４−４０５頁記載）を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラムを一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、初期表面電位を−７００Ｖとし、露光は７８０ｎｍ、除電は６６０ｎｍの単色光を用い、露光光を１．０μＪ／ｃｍ２照射した時点の表面電位（ＶＬ）を測定した。
ＶＬ測定に際しては、露光から電位測定に要する時間を１３９ｍｓとした。また、表面電位が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）となる時の照射エネルギー（半減露光エネルギー：μＪ／ｃｍ２）を感度（Ｅ１／２）として測定した。ＶＬの値の絶対値が小さいほど電気特性が良好であることを示し、Ｅ１／２の値が小さいほど高感度であることを示す。なお、ＶＬの値が初期表面電位の半分（−３５０Ｖ）に未達の場合は、Ｅ１／２の測定が不可能であるため（−）で記載する。測定環境は、温度２５℃、相対湿度５０％下（Ｎ／Ｎ）で行った。結果を表−４に示す。
［摩耗試験］
感光体フィルムを直径１０ｃｍの円状に切断しテーバー摩耗試験機（東洋精機社製）により、摩耗評価を行った。試験条件は、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用いて、荷重１０００ｇで７００回回転後の摩耗量を試験前後の質量を比較することにより測定した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。結果を表−４〜表−６に示す。
感光体フィルムを直径１０ｃｍの円状に切断しテーバー摩耗試験機（東洋精機社製）により、摩耗評価を行った。試験条件は、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用いて、荷重１０００ｇで７００回回転後の摩耗量を試験前後の質量を比較することにより測定した。値が小さい方が耐摩耗性に優れる。結果を表−４〜表−６に示す。
以上のように本発明における式（１）〜式（４）の少なくともいずれか１で表される構造を有するポリエステル樹脂を含む電子写真感光体は電気特性および耐摩耗性に優れる（実施例３４〜３８）。一方、分子量が１５，０００より大きいジオール残基を含有するポリエステル樹脂を含む電子写真感光体は電気特性が悪い（比較例１０）。さらに、本発明におけるポリエステル樹脂と他のポリエステル樹脂と混合することにより、良好な電気特性を維持しつつ、耐摩耗性がより優れたものとなる（実施例３９〜４５、比較例１１）。また、本発明におけるポリエステル樹脂と他のポリカーボネート樹脂と混合させた場合においても、良好な電気特性を維持しつつ、耐摩耗性がより優れたものとなる（実施例４６〜４７、比較例１２）。
以上から、本発明に係る電子写真感光体は、耐摩耗性に非常に優れ、かつ、初期の電気特性にも優れることを明らかにした。さらには、層同士の接着性の向上も可能であることを明らかとした。
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１６年９月２１日出願の日本特許出願（特願２０１６−１８４３７１）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１ 感光体
２ 帯電装置（帯電ローラ）
３ 露光装置
４ 現像装置
５ 転写装置
６ クリーニング装置
７ 定着装置
４１ 現像槽
４２ アジテータ
４３ 供給ローラ
４４ 現像ローラ
４５ 規制部材
７１ 上部定着部材（加圧ローラ）
７２ 下部定着部材（定着ローラ）
７３ 加熱装置
Ｔ トナー
Ｐ 記録紙
２ 帯電装置（帯電ローラ）
３ 露光装置
４ 現像装置
５ 転写装置
６ クリーニング装置
７ 定着装置
４１ 現像槽
４２ アジテータ
４３ 供給ローラ
４４ 現像ローラ
４５ 規制部材
７１ 上部定着部材（加圧ローラ）
７２ 下部定着部材（定着ローラ）
７３ 加熱装置
Ｔ トナー
Ｐ 記録紙
Claims (8)
- 導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（１）で表される構造、下記式（２）で表される構造及び下記式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１の構造αを含有し、前記構造αの数平均分子量は１５０００以下であり、かつ
前記ポリエステル樹脂は、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有する、電子写真感光体。
式（２）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ３は１以上１００以下の整数である。
式（３）中、Ｒ１は置換基を有してもよいアルキレン基又は下記式（５）で表される２価の基を表し、Ｒ３は２価の基を表し、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に１以上１００以下の整数である。）
- 前記構造αが、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる請求項１に記載の電子写真感光体。
- 前記２価フェノール残基が下記式（６）で表される構造を含む請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
- 前記２価カルボン酸残基が下記式（７）で表される構造を含む請求項１乃至３の何れか一項に記載の電子写真感光体。
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。） - 導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも感光層とを有する電子写真感光体であって、
前記感光層はポリエステル樹脂を含有し、
前記ポリエステル樹脂は、下記式（４）で表される構造、並びに、２価フェノール残基及び２価カルボン酸残基を含有し、
前記２価フェノール残基は下記式（６）で表される構造を含有し、
前記２価カルボン酸残基は下記式（７）で表される構造を含有し、かつ
少なくとも一部の前記式（６）で表される構造と、少なくとも一部の前記式（７）で表される構造とが直接結合している、電子写真感光体。
式（５）中、Ｒ２は置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｎ２は１以上１０以下の整数である。
式（６）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ１は、単結合、―ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−Ｓ−を表す。またＲ６及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基又はアルコキシ基を表し、前記炭化水素基およびアルコキシ基は、一部又は全部の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。前記Ｒ６とＲ７とは、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に０以上４以下の整数を表す。
式（７）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。Ｘ２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、下記式（８）で表される構造を有する２価の基又は下記式（９）で表される構造を有する２価の基を表す。ｋは０以上５以下の整数を表す。）
式（９）中、Ｒ１０は、アルキレン基、アリーレン基又は上記式（１０）で表される基を表す。
式（１０）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａｒ３はアリーレン基を表す。） - 前記式（４）で表される構造が、前記ポリエステル樹脂中に０．０１質量％以上５０質量％以下の割合で含まれる請求項５に記載の電子写真感光体。
- 請求項１乃至６の何れか一項に記載の電子写真感光体を含む電子写真カートリッジ。
- 請求項１乃至６の何れか一項に記載の電子写真感光体を含む画像形成装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016184371 | 2016-09-21 | ||
| JP2016184371 | 2016-09-21 | ||
| PCT/JP2017/033967 WO2018056326A1 (ja) | 2016-09-21 | 2017-09-20 | 電子写真感光体並びにそれを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2018056326A1 true JPWO2018056326A1 (ja) | 2019-07-04 |
| JP7024717B2 JP7024717B2 (ja) | 2022-02-24 |
Family
ID=61690994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018540273A Active JP7024717B2 (ja) | 2016-09-21 | 2017-09-20 | 電子写真感光体並びにそれを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10884348B2 (ja) |
| JP (1) | JP7024717B2 (ja) |
| CN (1) | CN109791381B (ja) |
| WO (1) | WO2018056326A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN118451140A (zh) * | 2021-11-30 | 2024-08-06 | 富士胶片株式会社 | 粉体成分、涂布用树脂组合物、涂膜 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280762A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-11-10 | Eastman Kodak Co | 電子写真要素 |
| JPH1020516A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Sharp Corp | 電子写真感光体 |
| JPH1081737A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-31 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 樹脂組成物及びその製造方法並びにそれを用いた塗膜又は電子写真感光体 |
| JP2000181096A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 電子写真感光体用バインダー及び電子写真感光体 |
| JP2000284508A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-10-13 | Sharp Corp | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| JP2002131956A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Sharp Corp | 電子写真感光体 |
| JP2002351113A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-12-04 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体並びにそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置 |
| JP2005172968A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置、画像形成方法、画像形成装置用プロセスカートリッジ |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2532127B2 (ja) | 1988-04-22 | 1996-09-11 | 旭化成工業株式会社 | 芳香族ポリカ―ボネ―トの製造方法 |
| JP3602890B2 (ja) | 1995-07-04 | 2004-12-15 | ユニチカ株式会社 | 電子写真感光体 |
| US6936388B2 (en) | 2001-03-23 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method, image forming apparatus, and image forming apparatus processing unit using same |
| JP3924162B2 (ja) | 2001-12-17 | 2007-06-06 | ユニチカ株式会社 | 共重合ポリエステルおよび接着剤組成物 |
| JP2004294750A (ja) | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体 |
| JP2008293006A (ja) | 2007-04-27 | 2008-12-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電子写真感光体 |
| JP5077765B2 (ja) | 2008-04-30 | 2012-11-21 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| JP6070261B2 (ja) | 2013-02-22 | 2017-02-01 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置 |
-
2017
- 2017-09-20 JP JP2018540273A patent/JP7024717B2/ja active Active
- 2017-09-20 CN CN201780057855.XA patent/CN109791381B/zh active Active
- 2017-09-20 WO PCT/JP2017/033967 patent/WO2018056326A1/ja active Application Filing
-
2019
- 2019-03-20 US US16/359,327 patent/US10884348B2/en active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280762A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-11-10 | Eastman Kodak Co | 電子写真要素 |
| JPH1020516A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Sharp Corp | 電子写真感光体 |
| JPH1081737A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-31 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 樹脂組成物及びその製造方法並びにそれを用いた塗膜又は電子写真感光体 |
| JP2000181096A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 電子写真感光体用バインダー及び電子写真感光体 |
| JP2000284508A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-10-13 | Sharp Corp | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| JP2002131956A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Sharp Corp | 電子写真感光体 |
| JP2002351113A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-12-04 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体並びにそれを用いた画像形成方法及び画像形成装置 |
| JP2005172968A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置、画像形成方法、画像形成装置用プロセスカートリッジ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7024717B2 (ja) | 2022-02-24 |
| WO2018056326A1 (ja) | 2018-03-29 |
| US10884348B2 (en) | 2021-01-05 |
| CN109791381A (zh) | 2019-05-21 |
| CN109791381B (zh) | 2023-03-10 |
| US20190219938A1 (en) | 2019-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3781268B2 (ja) | ポリエステル樹脂及びその製造方法、並びにそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP4214903B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4592381B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP7024717B2 (ja) | 電子写真感光体並びにそれを含有する電子写真カートリッジ及び画像形成装置 | |
| JP6123338B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置 | |
| US10725391B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus | |
| JP5641028B2 (ja) | ポリアリレート樹脂の製造方法 | |
| JP5741180B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP6070261B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP4774202B2 (ja) | 電子写真感光体並びにそれを用いた電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置 | |
| JP5211469B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP6609951B2 (ja) | ポリエステル樹脂の製造方法及びそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP4084933B2 (ja) | ポリエステル樹脂およびそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP6798215B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真カートリッジおよび画像形成装置 | |
| JP6953694B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真カートリッジおよび画像形成装置 | |
| JP4298190B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4154873B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JP6657860B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP6648486B2 (ja) | ポリエステル樹脂の製造方法、及び電子写真感光体の製造方法 | |
| JP4107135B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP6418026B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4151428B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4400288B2 (ja) | 電子写真感光体、該電子感光体を用いたドラムカートリッジおよび画像形成装置 | |
| JP2008203864A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2004246149A (ja) | 電子写真感光体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200821 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211026 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211220 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220111 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220124 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7024717 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |