JPWO2017026318A1 - 防汚層付きガラス板 - Google Patents
防汚層付きガラス板 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017026318A1 JPWO2017026318A1 JP2017534190A JP2017534190A JPWO2017026318A1 JP WO2017026318 A1 JPWO2017026318 A1 JP WO2017026318A1 JP 2017534190 A JP2017534190 A JP 2017534190A JP 2017534190 A JP2017534190 A JP 2017534190A JP WO2017026318 A1 JPWO2017026318 A1 JP WO2017026318A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- glass plate
- antifouling layer
- antifouling
- main surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 297
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims abstract description 266
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 57
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 56
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 38
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 474
- 238000000034 method Methods 0.000 description 80
- 239000010408 film Substances 0.000 description 75
- 239000000463 material Substances 0.000 description 32
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 24
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 14
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 13
- 206010052128 Glare Diseases 0.000 description 11
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 5
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910021488 crystalline silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017976 MgO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000560 X-ray reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N chromium(2+);methanidylidynechromium Chemical compound [Cr+2].[Cr]#[C-].[Cr]#[C-] GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010017 direct printing Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007735 ion beam assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 238000010896 thin film analysis Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/119—Deposition methods from solutions or suspensions by printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/34—Masking
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
図1は、第1の実施形態の防汚層付きガラス板1を概略的に示す断面図である。図1に示す防汚層付きガラス板1は、相互に向かい合う第一の主面2および第二の主面3と、第一の主面2および第二の主面3を接続する端面4とを有するガラス板5を備えている。さらに、防汚層付きガラス板1は、ガラス板5の第一の主面2から端面4にわたって、第一の主面2上および端面4上に形成される密着層6と、密着層6上に形成される防汚層7とを備えている。
実施形態の防汚層付きガラス板1に用いられるガラス板5は、一般に防汚層による防汚性の付与が求められている透明なガラス板であれば特に限定されず、二酸化ケイ素を主成分とする一般的なガラス、例えばソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガラス板を用いることができる。
(i)モル%で表示した組成で、SiO2を50%以上80%以下、Al2O3を2%以上25%以下、Li2Oを0%以上10%以下、Na2Oを0%以上18%以下、K2Oを0%以上10%以下、MgOを0%以上15%以下、CaOを0%以上5%以下、およびZrO2を0%以上5%以下含有するガラス
(ii)モル%で表示した組成で、SiO2を50%以上74%以下、Al2O3を1%以上10%以下、Na2Oを6%以上14%以下、K2Oを3%以上11%以下、MgOを2%以上15%以下、CaOを0%以上6%以下、およびZrO2を0%以上5%以下含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12%以上25%以下、MgOおよびCaOの含有量の合計が7%以上15%以下であるガラス
(iii)モル%で表示した組成で、SiO2を68%以上80%以下、Al2O3を4%以上10%以下、Na2Oを5%以上15%以下、K2Oを0%以上1%以下、MgOを4%以上15%以下、およびZrO2を0%以上1%以下含有するガラス
(iv)モル%で表示した組成で、SiO2を67%以上75%以下、Al2O3を0%以上4%以下、Na2Oを7%以上15%以下、K2Oを1%以上9%以下、MgOを6%以上14%以下、およびZrO2を0%以上1.5%以下含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が71%以上75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12%以上20%以下であり、CaOを含有する場合CaOの含有量が1%未満であるガラス
本実施形態の防汚層付きガラス板1において、用いられるガラス板5の第一の主面2は、防汚層付きガラス板1に防眩性を付与するための凹凸形状を有することが好ましい。
防汚層付きガラス板1においては、防汚層付きガラス板1の強度を高めるために、ガラス板5に対して化学強化処理が施されることが好ましい。化学強化処理は、上記で防眩処理のなされたガラス板5が必要に応じて所望の大きさに切断された後に行われることが好ましい。
密着層6は、上述したように、ガラス板5と防汚層7の間に密着性を付与可能な密着層形成材料によって形成される。密着層6の最表層が酸化ケイ素からなる層である場合、当該酸化ケイ素からなる層は、後述する低反射膜における、酸化ケイ素(SiO2)を材料とした低屈折率層と同様の方法で形成できる。また、後述する低反射膜の最表層が酸化ケイ素(SiO2)の低屈折率層の構成とすれば、当該低反射膜は、密着層6として機能する。
本実施形態の防汚層付きガラス板1は、第一の主面2と防汚層7の間に、低反射膜を備えることが好ましい。低反射膜は、ガラス板5が上記凹凸形状を有する場合には、凹凸形状を有する面(以下「防眩処理面」ともいう。)上に備えられることが好ましい。低反射膜の構成としては、光の反射を抑制できる構成であれば特に限定されず、例えば、波長550nmでの屈折率が1.9以上の高屈折率層と、波長550nmでの屈折率が1.6以下の低屈折率層とを積層した構成とすることができる。
防汚層7は、密着層6の表面に形成される。防汚層7としては、例えば、撥水・撥油性を有することで、得られる防汚層付きガラス板1に防汚性を付与できるものであれば特に限定されないが、含フッ素有機ケイ素化合物を硬化させて得られる、含フッ素有機ケイ素化合物被膜からなることが好ましい。
本発明の含フッ素有機ケイ素化合物被膜の形成に用いる含フッ素加水分解性ケイ素化合物は、得られる含フッ素有機ケイ素化合物被膜が撥水性、撥油性等の防汚性を有するものであれば特に限定されない。
防汚層付きガラス板1は、第二の主面3に印刷層を備えることが好ましい。図2は、第二の主面3に印刷層8を備える防汚層付きガラス板10を概略的に示す断面図である。図3は、図2に示す防汚層付きガラス板10の、第二の主面3を底面とした底面図である。第2の実施形態に係る防汚層付きガラス板10は、防汚層付きガラス板1において、さらに、第二の主面3に形成される印刷層8を備える点で、防汚層付きガラス板1と異なっているが、その他の構成は防汚層付きガラス板1と同様である。図2および図3に示す防汚層付きガラス板10において、防汚層付きガラス板1と同様の機能を奏する構成には同一の符号を付して重複する説明を省略する。
防汚層付きガラス板1、10は、ガラス板5の第一の主面2および端面4にわたって、密着層6および防汚層7が次のように形成されて製造される。ガラス板5の第二の主面3側に、ガラス板5の第二の主面3よりも面積の大きいキャリア基板が貼り付けられる。この際、キャリア基板は、防汚層付きガラス板1の第二の主面3に直接貼り付けられてもよい。防汚層付きガラス板10においては、キャリア基板は、印刷層8に貼り付けられることが好ましい。キャリア基板の材質は、密着層6および防汚層7を形成する温度、圧力、雰囲気等の条件に耐えるものであれば特に限定されず、ガラス製、樹脂製、金属製のものを使用できる。樹脂製のキャリア基板を用いる場合は、キャリア基板のガラス板5を貼り付ける側の表面の一部または全部に粘着剤が設置されていてもよい。このようにすることで、ガラス板5の保持力を高め、安定的に生産できる。
(4点曲げ強度)
防汚層付きガラス板1の4点曲げ強度は、400MPa以上であることが好ましく、500MPa以上であることがより好ましい。4点曲げ強度が上記した範囲であることで、防汚層付きガラス板1は、タッチパネル等に適した高い強度を有する。なお、4点曲げ強度は、JIS R1601に定められる方法に準じて測定された値である。
加傷4点曲げ強度は、防汚層付きガラス板1の評価面に割れの起点となりうるマイクロクラックを故意に与えて曲げ強度を評価するものである。加傷4点曲げ強度の大きさは、マイクロクラック数、各マイクロクラックの長さおよび深さに依存する。
防汚層付きガラス板1の接触角は、90°以上130°以下であることが好ましく、100°以上120°以下であることがより好ましい。接触角が上記した範囲であることで、防汚層付きガラス板1は優れた防汚性を発揮する。なお、接触角は、水に対する接触角の値であり、例えば、防汚層付きガラス板1の第一の主面2側の最表面に約1μLの純水の水滴を着滴させて、接触角計で測定できる(JIS R 3257参照)。防汚層付きガラス板10の接触角についても上記と同様である。
ガラス板に、(1)防眩処理、(2)面取り、(3)化学強化処理およびアルカリ処理、(4)黒色印刷層の形成、(5−1)密着層の形成、(6)防汚層の成膜を、この順で、以下の通りに行った。
ガラス板の第1面に、以下の手順により、フロスト処理による防眩処理を施した。
防眩処理を施したガラス板を150mm×250mmの大きさに切断した。その後、ガラス板の全周にわたって0.2mmの寸法でC面取りを行った。面取りは600番の砥石(東京ダイア社製)を用い、砥石の回転数が6500rpm、砥石の移動速度が5000mm/minで行った。
上記でガラス板に貼付した保護フィルムを除去し、ガラス板を、450℃に加熱して溶融させた硝酸カリウム塩に2時間浸漬した。その後、ガラス板を溶融塩より引き上げ、1時間で室温まで徐冷することで化学強化処理を行った。これにより、表面圧縮応力(CS)が730MPa、応力層の深さ(DOL)が30μmの化学強化されたガラス板を得た。さらに、このガラス板を、アルカリ溶液(サンウォッシュTL−75、ライオン社製)に4時間浸漬してアルカリ処理を施した。
ガラス板の第2面の外側周辺部の四辺に、2cm幅の黒枠状に印刷を施し、黒色印刷層を形成した。まず、スクリーン印刷機により、黒色インク(商品名:GLSHF、帝国インキ社製)を5μmの厚さに塗布した後、150℃で10分間保持して乾燥させ、第1の印刷層を形成した。次いで、第1の印刷層の上に、上と同じ手順で、黒色インクを5μmの厚さに塗布した後、150℃で40分間保持して乾燥させ、第2の印刷層を形成した。こうして、第1の印刷層と第2の印刷層とが積層された黒色印刷層を形成し、ガラス板の第2面の外側周辺部に黒色印刷層を備えたガラス板を得た。
次に、下記の方法でガラス板の第1面と端面に酸化ケイ素膜を形成した。
図6に示す装置と同様の装置を用い、以下の方法で防汚層を成膜した。なお、ガラス板はキャリア基板を貼りつけたまま用い、第1面上および端面上の密着層の表面に同時に防汚層を効率的に真空蒸着法にて成膜した。まず、防汚層の材料として、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料(KY−185、信越化学製)を、加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで10時間以上脱気して形成材料中の溶媒を除去し、加熱容器内でフッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成用組成物(以下、防汚層形成用組成物という。)を得た。
ガラス板に対して、例1と同様に、(1)防眩処理、(2)面取り、(3)化学強化処理およびアルカリ処理、(4)黒色印刷層の形成を行った。次いで、下記のように(5−2)密着層(低反射膜)の形成を行った後、低反射膜の最表層上に、例1と同様に(6)防汚層の成膜を行った。
まず、例1と同様に、ガラス板の、黒色印刷層の形成された第2面側の最表面をキャリア基板に貼りつけた。
例2において、(1)防眩処理を行わず、(6)防汚層における形成材料をオプツール(登録商標)DSX(商品名、ダイキン工業社製)に変更した以外は例2と同様にして、防汚層付きガラス板を得た。
例2において、(4)黒色印刷層の形成を行わない以外は例2と同様にして、防汚層付きガラス板を得た。
例2において、(5−2)密着層(低反射膜)の構成を下記のように変更した以外は例2と同様にして、防汚層付きガラス板を得た。例5では、例2と同様の方法で、低反射膜を、窒化ケイ素(SiN)からなる高屈折率層および酸化ケイ素からなる低屈折率層をそれぞれ4層ずつ交互に積層して形成した。窒化ケイ素からなる高屈折率層は、真空チャンバ内で、アルゴンガスに窒素ガスを50体積%となるように混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行って形成した。低反射膜を構成する各層の厚みは、ガラス板に近い層から順に、第1の高屈折率層が15nm、第1の低屈折率層が70nm、第2の高屈折率層が17nm、第2の低屈折率層が105nm、第3の高屈折率層が15nm、第3の低屈折率層が50nm、第4の高屈折率層が120nm、第4の低屈折率層が80nmである。
例1において、(5−1)密着層の形成を行わない以外は例1と同様にして、第1面の最表面に防汚層の形成されたガラス板を得た。
例1において、(5−1)密着層の形成および(6)防汚層の成膜を行わない以外は、ガラス板に対して例1と同様の処理を行った。
例1において、(6)防汚層の成膜を行わない以外は例1と同様にして、第1面の最表面に密着層の形成されたガラス板を得た。
例1〜5で得られた防汚層付きガラス板および例6〜8で得られたガラス板について、4点曲げ強度、加傷4点曲げ強度、視感反射率、水接触角およびX線光電子分光法(XPS)によるフッ素の1s軌道のピークの検出をそれぞれ以下の方法で行った。
JIS R1601に定められる方法に準じて平均4点曲げ強度を測定した。防汚層付きガラス板またはガラス板を、外幅80mm、内幅40mmの間隔で配置された2個の支持具上に載置し、防汚層付きガラス板またはガラス板の載置された各支点間の中央から左右に等しい距離にある2点に分けて荷重を加えて割れたときの最大曲げ応力を測定した。防汚層付きガラス板またはガラス板の割れた際の最大応力は上記JIS規格にある4点曲げの計算式を使用して算出した。また、防汚層付きガラス板またはガラス板が割れた後に、割れ起点を確認し、2個の支持具の間の端面部から割れているものを評価の対象とした。
上記4点曲げ強度において、防汚層付きガラス板またはガラス板の、2個の支持具と対向する面と垂直になる側の向かい合う2つの端面に、以下の加傷処理を行った後、上記同様に4点曲げ試験を行った。防汚層付きガラス板またはガラス板の端面に、厚み方向に対して平行な方向に沿って、カッター(オルファ製)の刃をあて、カッターに50gの荷重をかけた。この状態で、防汚層付きガラス板またはガラス板の端面の、厚み方向に対して平行な方向に沿って、全厚みに対してカッターを動かした。防汚層付きガラス板またはガラス板の2個の支持具の間の端面を4等分する位置に、上記方法で3箇所、加傷処理を行い、その後4点曲げ試験を行った。
防汚層付きガラス板またはガラス板の第1面側の最表面に約1μLの純水の水滴を着滴させ、接触角計(型式;DM−51、協和界面科学社製)を用いて、水に対する接触角を測定した。
防汚層付きガラス板またはガラス板の第1面側の最表面における、第2面に形成された黒色印刷層に向き合う領域について、分光測色計(型式:CM−2600d、コニカミノルタ社製)により、分光反射率をSCIモードで測定し、その分光反射率から、視感反射率(JIS Z8701において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。なお、例4の視感反射率は、例1と同様にして求めた。
X線光電子分光器(型式:Quantera SXM、アルバックファイ社製)を用いて、防汚層付きガラス板またはガラス板の端面におけるフッ素(F)の1s軌道のピークの検出の有無を測定した。当該フッ素は、含フッ素加水分解性ケイ素化合物に含まれるものであるため、フッ素の1s軌道のピークが検出されたことは、検出部分に防汚層が形成されたことを示す。
Claims (7)
- 第一の主面と、前記第一の主面に向かい合う第二の主面と、前記第一の主面および前記第二の主面を接続する端面とを有するガラス板と、
前記ガラス板の前記第一の主面から前記端面にわたって形成される密着層と、
前記密着層上に形成される防汚層と
を備えることを特徴とする、防汚層付きガラス板。 - 前記第二の主面の周縁部に形成される印刷層をさらに備える、請求項1に記載の防汚層付きガラス板。
- 前記密着層および前記防汚層がさらに前記ガラス板の前記第二の主面側の最表面の外周にわたって配設される、請求項1または2に記載の防汚層付きガラス板。
- 前記密着層および前記防汚層が前記印刷層の内周の外側かつ前記印刷層の外周の内側に存在する、請求項2または3に記載の防汚層付きガラス板。
- 前記防汚層は、含フッ素加水分解性ケイ素化合物を含む被膜形成用組成物の硬化物からなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の防汚層付きガラス板。
- 前記密着層の最表層は、酸化ケイ素からなる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の防汚層付きガラス板。
- 前記第一の主面は、凹凸形状を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の防汚層付きガラス板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020006102A JP6919735B2 (ja) | 2015-08-10 | 2020-01-17 | 防汚層付きガラス板 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015158418 | 2015-08-10 | ||
JP2015158418 | 2015-08-10 | ||
PCT/JP2016/072555 WO2017026318A1 (ja) | 2015-08-10 | 2016-08-01 | 防汚層付きガラス板 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020006102A Division JP6919735B2 (ja) | 2015-08-10 | 2020-01-17 | 防汚層付きガラス板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017026318A1 true JPWO2017026318A1 (ja) | 2018-07-05 |
JP6652137B2 JP6652137B2 (ja) | 2020-02-19 |
Family
ID=57983702
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017534190A Active JP6652137B2 (ja) | 2015-08-10 | 2016-08-01 | 防汚層付きガラス板 |
JP2020006102A Active JP6919735B2 (ja) | 2015-08-10 | 2020-01-17 | 防汚層付きガラス板 |
JP2021118173A Active JP7160155B2 (ja) | 2015-08-10 | 2021-07-16 | 防汚層付きガラス板 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020006102A Active JP6919735B2 (ja) | 2015-08-10 | 2020-01-17 | 防汚層付きガラス板 |
JP2021118173A Active JP7160155B2 (ja) | 2015-08-10 | 2021-07-16 | 防汚層付きガラス板 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11274063B2 (ja) |
JP (3) | JP6652137B2 (ja) |
CN (2) | CN107922256B (ja) |
DE (1) | DE112016003678B4 (ja) |
TW (3) | TWI800220B (ja) |
WO (1) | WO2017026318A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112016003678B4 (de) | 2015-08-10 | 2021-07-15 | AGC Inc. | Glasplatte mit Antiverschmutzungsschicht |
US11161778B2 (en) * | 2016-11-09 | 2021-11-02 | Corning Incorporated | Coated glass articles and processes for producing the same |
JP7087514B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2022-06-21 | Agc株式会社 | アンチグレアガラス基板 |
JP2018197183A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | Agc株式会社 | ガラス物品、および表示装置 |
WO2018237242A1 (en) * | 2017-06-23 | 2018-12-27 | Corning Incorporated | COATED ARTICLES COMPRISING EASY-TO-CLEAN COATINGS |
CN111278640A (zh) * | 2017-10-31 | 2020-06-12 | 大金工业株式会社 | 可穿戴终端用构件 |
US20200392369A1 (en) * | 2017-10-31 | 2020-12-17 | Daikin Industries, Ltd. | Layered product |
GB201719994D0 (en) * | 2017-11-30 | 2018-01-17 | Pilkington Group Ltd | Conductive pattern sheet, glazing having the same, vehicle having the glazing, method of manufacturing the sheet and method of manufacturing the glazing |
JP7139601B2 (ja) | 2017-12-27 | 2022-09-21 | 富士通株式会社 | 筐体の製造方法 |
JP7067077B2 (ja) * | 2018-01-18 | 2022-05-16 | Agc株式会社 | ガラス板及び表示装置 |
WO2019235160A1 (ja) * | 2018-06-04 | 2019-12-12 | 株式会社カネカ | ガラス積層体、その製造方法、及びそれを用いた表示装置の前面板 |
CN110599901B (zh) * | 2018-06-12 | 2023-09-08 | 三星显示有限公司 | 窗以及包括其的显示装置 |
JP6863343B2 (ja) * | 2018-07-12 | 2021-04-21 | Agc株式会社 | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板、表示装置およびガラス積層体の製造方法 |
US11426818B2 (en) | 2018-08-10 | 2022-08-30 | The Research Foundation for the State University | Additive manufacturing processes and additively manufactured products |
CN111204989A (zh) * | 2018-11-22 | 2020-05-29 | 康宁股份有限公司 | 低翘曲的强化制品以及制造其的不对称离子交换方法 |
CN109856839A (zh) * | 2019-03-22 | 2019-06-07 | 中航华东光电有限公司 | 一种提高液晶屏可视性技术 |
CN114041181A (zh) | 2019-06-26 | 2022-02-11 | 应用材料公司 | 可折叠显示器的柔性多层覆盖透镜堆叠 |
CN114845860B (zh) * | 2019-11-29 | 2024-04-23 | 大日本印刷株式会社 | 层叠体、层叠体的制造方法、层叠用膜、图像显示装置 |
KR20210073691A (ko) * | 2019-12-10 | 2021-06-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 윈도우 제조 방법 |
CN112209632A (zh) * | 2020-09-18 | 2021-01-12 | 苏州胜利精密制造科技股份有限公司 | 一种蓝色触摸板的玻璃盖板及制备方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005266291A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Seiko Epson Corp | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
JP2008107756A (ja) * | 2006-03-23 | 2008-05-08 | Central Glass Co Ltd | 防眩性ガラス基板 |
JP2012031494A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Ulvac Japan Ltd | 成膜方法及び成膜装置 |
JP2012088684A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法 |
WO2013089178A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラス及びその製造方法、並びにタッチセンサモジュールの製造方法 |
JP2013139381A (ja) * | 2011-12-07 | 2013-07-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 太陽電池用又はディスプレイ用ガラスとその製造方法 |
JP2013242725A (ja) * | 2012-05-21 | 2013-12-05 | Hoya Corp | トラックパッド用カバーガラス及びその製造方法 |
JP2014047109A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Hoya Corp | 電子機器用カバーガラスの製造方法、及びタッチセンサモジュールの製造方法 |
WO2014119453A1 (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-07 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き透明基体 |
JP2015142987A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Dic株式会社 | ガラスパネル、タッチパネル装置及び電子機器 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3700358B2 (ja) | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
JP2001192587A (ja) * | 2000-01-13 | 2001-07-17 | Inax Corp | ガラス層をもつ基体用防汚処理剤及びその製造方法並びにガラス層をもつ基体の防汚処理方法及びその製品 |
JP3457620B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2003-10-20 | 日本写真印刷株式会社 | 反射防止部材とその製造方法 |
KR100724135B1 (ko) * | 2001-10-05 | 2007-06-04 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 퍼플루오로폴리에테르-변성 실란, 표면처리제, 및반사방지 필터 |
DE102008045997A1 (de) | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Bluenergy Ag | Verkapselte Solarzelle |
US20100285272A1 (en) * | 2009-05-06 | 2010-11-11 | Shari Elizabeth Koval | Multi-length scale textured glass substrates for anti-fingerprinting |
JP5454969B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2014-03-26 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラスの製造方法、及びタッチセンサモジュールの製造方法 |
JP5527482B2 (ja) | 2011-04-28 | 2014-06-18 | 旭硝子株式会社 | 反射防止積層体 |
JP2013010234A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Konica Minolta Holdings Inc | スクリーン印刷用スキージ |
WO2013088999A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | シャープ株式会社 | 前面板付表示パネル及び表示装置 |
WO2013099824A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き基体およびその製造方法 |
JP4968755B1 (ja) * | 2012-01-17 | 2012-07-04 | サン工業株式会社 | ディスプレイ保護板製造方法 |
KR101279793B1 (ko) * | 2012-05-14 | 2013-06-28 | (주)윌닉스 | 액정 글래스 보호기구 |
JP5913608B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-04-27 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラス及びその製造方法 |
WO2014061615A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2014-04-24 | 旭硝子株式会社 | 反射防止性を有するガラスの製造方法および反射防止性を有するガラス |
JP5629025B2 (ja) * | 2013-01-23 | 2014-11-19 | デクセリアルズ株式会社 | 親水性積層体、及びその製造方法、防汚用積層体、物品、及びその製造方法、並びに防汚方法 |
DE112014000955T5 (de) * | 2013-02-22 | 2015-11-05 | Asahi Glass Company, Limited | Optische Komponente |
JP6361162B2 (ja) * | 2013-04-23 | 2018-07-25 | Agc株式会社 | 両面低反射膜付ガラス基板の製造方法 |
US10286630B2 (en) * | 2013-06-14 | 2019-05-14 | Corning Incorporated | Method of manufacturing laminated glass articles with improved edge condition |
DE112016003678B4 (de) | 2015-08-10 | 2021-07-15 | AGC Inc. | Glasplatte mit Antiverschmutzungsschicht |
-
2016
- 2016-08-01 DE DE112016003678.7T patent/DE112016003678B4/de active Active
- 2016-08-01 CN CN201680047150.5A patent/CN107922256B/zh active Active
- 2016-08-01 WO PCT/JP2016/072555 patent/WO2017026318A1/ja active Application Filing
- 2016-08-01 CN CN202110901690.8A patent/CN113716879B/zh active Active
- 2016-08-01 JP JP2017534190A patent/JP6652137B2/ja active Active
- 2016-08-04 TW TW111101931A patent/TWI800220B/zh active
- 2016-08-04 TW TW109140508A patent/TW202108373A/zh unknown
- 2016-08-04 TW TW105124819A patent/TWI714614B/zh active
-
2018
- 2018-02-06 US US15/889,612 patent/US11274063B2/en active Active
-
2020
- 2020-01-17 JP JP2020006102A patent/JP6919735B2/ja active Active
-
2021
- 2021-07-16 JP JP2021118173A patent/JP7160155B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005266291A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Seiko Epson Corp | 光学部品及び光学部品の製造方法 |
JP2008107756A (ja) * | 2006-03-23 | 2008-05-08 | Central Glass Co Ltd | 防眩性ガラス基板 |
JP2012031494A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Ulvac Japan Ltd | 成膜方法及び成膜装置 |
JP2012088684A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2013139381A (ja) * | 2011-12-07 | 2013-07-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 太陽電池用又はディスプレイ用ガラスとその製造方法 |
WO2013089178A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラス及びその製造方法、並びにタッチセンサモジュールの製造方法 |
JP2013242725A (ja) * | 2012-05-21 | 2013-12-05 | Hoya Corp | トラックパッド用カバーガラス及びその製造方法 |
JP2014047109A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Hoya Corp | 電子機器用カバーガラスの製造方法、及びタッチセンサモジュールの製造方法 |
WO2014119453A1 (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-07 | 旭硝子株式会社 | 防汚膜付き透明基体 |
JP2015142987A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Dic株式会社 | ガラスパネル、タッチパネル装置及び電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113716879B (zh) | 2022-12-30 |
CN113716879A (zh) | 2021-11-30 |
DE112016003678B4 (de) | 2021-07-15 |
JP2021185413A (ja) | 2021-12-09 |
US11274063B2 (en) | 2022-03-15 |
JP6652137B2 (ja) | 2020-02-19 |
TW202216633A (zh) | 2022-05-01 |
CN107922256B (zh) | 2021-07-27 |
TW201716349A (zh) | 2017-05-16 |
TWI714614B (zh) | 2021-01-01 |
TWI800220B (zh) | 2023-04-21 |
US20180162771A1 (en) | 2018-06-14 |
JP7160155B2 (ja) | 2022-10-25 |
DE112016003678T5 (de) | 2018-04-26 |
JP2020098343A (ja) | 2020-06-25 |
WO2017026318A1 (ja) | 2017-02-16 |
CN107922256A (zh) | 2018-04-17 |
TW202108373A (zh) | 2021-03-01 |
JP6919735B2 (ja) | 2021-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6919735B2 (ja) | 防汚層付きガラス板 | |
US10988410B2 (en) | Glass substrate with antifouling layer and front plate for display | |
CN107107543B (zh) | 带防污膜的基体 | |
JP6911828B2 (ja) | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板および表示装置 | |
JP7156429B2 (ja) | ガラス積層体、ディスプレイ用前面板、および表示装置 | |
WO2016181983A1 (ja) | 低反射膜付き基体 | |
TW201900405A (zh) | 覆蓋構件、覆蓋構件之製造方法及顯示裝置 | |
JP2021014399A (ja) | 低反射膜付き基体およびその製造方法 | |
JP7306438B2 (ja) | 防汚層付きガラス基体及び表示装置用前面板 | |
JP6969626B2 (ja) | 防汚層付きガラス基体の製造方法 | |
WO2023095760A1 (ja) | 金属酸化物層付き透明基板及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190207 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20190308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6652137 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |