JPWO2016117407A1 - 積層基材、カバーガラス、タッチパネル及び積層基材の製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、厚膜化や煩雑な工程を増やす必要がなく、簡便に加飾層の明度向上を達成することが可能な、積層基材を提供することを目的とする。本発明は、基材（Ａ）の表面に、層（Ｂ）、層（Ｃ）、の順で積層がされており、上記基材（Ａ）の屈折率ｎＡと、上記層（Ｂ）の屈折率ｎＢとが、０．６ ≧ ｎＡ − ｎＢ ≧ ０．１の関係を満たし、上記層（Ｃ）が、顔料を含有することを特徴とする積層基材を提供する。

Description

本発明は、積層基材、カバーガラス、タッチパネル及び積層基材の製造方法に関する。

近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等、静電容量式タッチパネルを用いたモバイル機器が急速に普及しつつある。静電容量式タッチパネルは、画面領域にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜のパターンが形成され、その周辺部にさらにモリブデン等の金属配線部が形成されていることが一般的である。このような金属配線部を使用者から視認されないように隠すため、静電容量式タッチパネルの基材、すなわちカバーガラス内表面の周辺部には、遮光層としての役割を併せ持つ、白色又は黒色等の加飾層が形成されている。

静電容量式タッチパネルの方式は、カバーガラスと液晶パネルとの間にタッチパネル層を形成するＯｕｔ−ｃｅｌｌ方式、液晶パネル上にタッチパネル層を形成するＯｎ−ｃｅｌｌ方式、液晶パネルの内部にタッチパネル層を形成するＩｎ−ｃｅｌｌ方式、及び、カバーガラス上にタッチパネル層を直接積層し形成するＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）方式に大別され、多様化が進んでいる。しかし、いずれの方式でも、純白色や、色相が微調整されたいわゆるパステルカラー等の白色系加飾層のパターンにおいては、高級感を付与し、カバーガラスあるいはカバーガラス一体型タッチパネルとしての製品価値を高める上で、薄膜でありながら可視光反射性が高く、明度が高いことが求められている。加飾層の明度を向上させる技術としては、パターンの加工性や形状において劣る厚膜化に代えて、透明基材の表面に形成された白色系樹脂層の表面を、アルミニウム、クロム又はモリブデン等の反射性の高い金属薄膜で覆う積層構成が提案されている。（特許文献１〜３）

特開２０１３−１５２６３９号公報 特開２０１３−８２７２号公報 特開２０１４−７８２１８号公報

しかしながら、白色系加飾層の表面に金属薄膜を形成する効果には限界があり、さらには、真空蒸着、スパッタ法による成膜、エッチング、レジスト除去等の工程が必要となることから、製造コストが極めて高額になるものであった。

そこで本発明は、厚膜化や煩雑な工程を増やす必要がなく、簡便に加飾層の明度向上を達成することが可能な、積層基材を提供することを目的とする。

本発明者らは鋭意検討を行った結果、基材と加飾層との間に、基材との屈折率差が０．１〜０．６の範囲にある層を形成することにより、使用者から視認される加飾層の明度が飛躍的に向上することを見出した。

本発明の積層基材によれば、加飾層を薄膜に保ちつつ、簡便な方法で、使用者から視認される加飾層の明度を顕著に向上させることができる。

本発明の積層基材を、層（Ｃ）側から見た場合を示す概略図である。 本発明の積層基材の断面を示す概略図である。 本発明の積層基材を備えるタッチパネルの構成を示す概略図である。 本発明の積層基材を備えるタッチパネルの断面を示す概略図である。 本発明の積層基材の、層（Ｃ）の厚さと明度の関係を示す図である。

本発明の積層基材は、基材（Ａ）の表面に、層（Ｂ）、層（Ｃ）、の順で積層がされており、基材（Ａ）の屈折率ｎＡと、層（Ｂ）の屈折率ｎＢが、
０．６ ≧ | ｎＡ − ｎＢ | ≧ ０．１
の関係を満たし、層（Ｃ）が、顔料を含有することを特徴とする。| ｎＡ − ｎＢ | は、後述の通り、波長６３２．８ｎｍにおける屈折率差の絶対値を示す。

基材（Ａ）とは、その表面に層（Ｂ）及び層（Ｃ）を形成して積層する、板状又はシート状の部材をいう。基材（Ａ）の材質としては、本発明の積層基材をタッチパネル用途等に用いることを勘案すれば、波長３８０〜８００ｎｍの可視光領域の光を透過する材質が好ましい。厚み０．１ｍｍ当たりの全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１準拠）が８０％以上である材質がより好ましく、その屈折率が、１．３０〜２．１０である材質がさらに好ましい。

そのような材質としては、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリイミド又はシクロオレフィンポリマーが挙げられる。可視光領域の光の透過性の高いガラス、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート又はシクロオレフィンポリマーが好ましく、耐久性の高いガラスがより好ましい。ガラスとしては、例えば、ソーダガラス、アルミノシリケートガラス、あるいはそれらに熱強化処理又は化学強化処理を施したガラス、サファイア等が挙げられる。タッチパネルのカバーガラスとして広く用いられている化学強化ガラスが好ましい。

ここで化学強化ガラスとは、化学的な処理によってガラス表面のナトリウムイオンをカリウムイオンに置き換える等して、硬度等の機械的物性を向上させたガラスをいう。化学強化ガラスの厚さは、強度と明度のバランスから、０．４〜２．０ｍｍが好ましく、０．５〜１．０ｍｍがより好ましい。０．４ｍｍを下回ると、本発明の積層基材、カバーガラス、タッチパネルが搭載された機器を使用者が落下させた際に割れやすくなる場合があり、２．０ｍｍを超えると、化学強化ガラス自身の可視光吸収による明度への悪影響が生じる場合がある。

基材（Ａ）の屈折率ｎＡは、プリズムカプラー（例えば、ＰＣ−２０００（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ（株）製））を用いて、大気圧下、２０℃の条件で、波長６３２．８ｎｍの光（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）を基材（Ａ）の表面、すなわち層（Ｂ）が形成される側の面に対し垂直方向から照射して、その屈折率を測定し、該屈折率の値を四捨五入により小数点第二位までの概数にすることで決定される。

基材（Ａ）の表面には、層（Ｂ）が形成されている。層（Ｂ）の屈折率ｎＢは、基材（Ａ）の屈折率ｎＡと同様に、波長６３２．８ｎｍの光を層（Ｂ）の表面に対し垂直方向から照射して、その屈折率の値を小数点第二位までの概数にすることで決定される。

屈折率差の絶対値を示す、| ｎＡ − ｎＢ | は、小数点第一位までの概数にすることで決定される。

０．６ ≧ | ｎＡ − ｎＢ | ≧ ０．１の関係を満たすことができれば、層（Ｂ）の屈折率ｎＢは、基材（Ａ）の屈折率ｎＡと比べて、高くても低くてもよい。積層基材の反射色度と屈折率差の制御が容易である点で、さらに、ｎＢ＜ｎＡの関係を満たすことがより好ましい。

屈折率ｎＢは、１．２０〜１．４０であることが好ましく、１．２０〜１．３５であることがより好ましい。屈折率ｎＢが１．２０未満であると、屈折率ｎＢを低くするために形成した空隙によって層（Ｂ）の空隙率が過度に高まり、層（Ｂ）が疎密化して基材（Ａ）への密着性が低下する場合がある。一方で、屈折率ｎＢが１．４０を超えると、該積層とは反対側の基材（Ａ）の表面（以下、「基材（Ａ）の反対面」）から視認される層（Ｃ）の明度向上が不十分となる場合がある。

なお、基材（Ａ）の表面に層（Ｂ）及び層（Ｃ）が積層された、本発明の積層基材について層（Ｂ）の屈折率ｎＢを決定しようとする場合には、積層基材において、中間層である層（Ｂ）が露出している部位、すなわち層（Ｃ）が積層していない部位を測定することができる。層（Ｂ）のパターンがフォトリソグラフィやスクリーン印刷法等により形成され、層（Ｂ）が露出している部位が存在しない場合には、積層基材を斜め方向に割断する、又は、基材（Ａ）に対して垂直方向から研磨処理をして層（Ｃ）を除去する、のいずれかの方法で層（Ｂ）を露出させ、プリズムカプラー又はエリプソメータ（例えば、ＦＥ−５０００（大塚電子（株）製）を用いて、層（Ｂ）の屈折率ｎＢを求めることができる。

本発明の積層基材をカバーガラス一体型タッチパネルに用いる場合、層（Ｂ）の厚さは、０．１〜３．０μｍであることが好ましく、０．２〜１．５μｍであることがより好ましい。層（Ｂ）の厚さは、触針型段差計（例えば、サーフコム１４００Ｄ（東京精密（株）製））で測定することができる。層（Ｂ）の厚さが０．１μｍ未満であると、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上が不十分となる場合がある。一方で、カバーガラス一体型タッチパネルの製造プロセスは２２０〜２５０℃下での高温処理工程を複数回含むことが前提となるため、層（Ｂ）の厚さが３．０μｍを超えると、層（Ｂ）の黄変がわずかであっても光吸収による反射光のロスが無視できなくなり、その結果として、明度向上の効果が小さいものとなってしまう場合がある。

層（Ｂ）の屈折率ｎＢを基材（Ａ）の屈折率ｎＡと比べて低い側へ制御する、すなわち層（Ｂ）を低屈折率化させる上では、層（Ｂ）は、二酸化ケイ素を含有することが好ましい。ここで二酸化ケイ素とは、二酸化ケイ素によって構成される物質であるシリカをいう。

二酸化ケイ素としては、粒子内部に空隙を有する中空シリカ微粒子、二次凝集状態が制御されたコロイダルシリカ、又は、多孔質シリカ微粒子等が好ましい。層（Ｂ）がこれら二酸化ケイ素を含有することで、層（Ｂ）の内部に微細な空隙が多数形成され、層（Ｂ）の屈折率ｎＢを１．２０〜１．４０の範囲にまで低減することが可能となる。二酸化ケイ素の一次粒子は、透光性を向上させるため、最大幅が１０〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましく、球形であることがさらに好ましい。

層（Ｂ）に占める二酸化ケイ素の割合は、３０〜９５質量％が好ましく、５０〜８０質量％がより好ましい。二酸化ケイ素の割合が３０質量％未満であると、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上が不十分となる場合がある。一方で、二酸化ケイ素の割合が９５質量％を超えると、層（Ｂ）を形成する際の加工性が悪化する場合がある。

一方で、逆に層（Ｂ）の屈折率ｎＢを基材（Ａ）の屈折率ｎＡと比べて高い側へ制御する、すなわち層（Ｂ）を高屈折率化する上では、層（Ｂ）は、高屈折率の金属酸化物粒子を含有することが好ましい。中でも、酸化ジルコニウム、二酸化チタンがより好ましい。一次粒子は、透光性を向上させるため、最大幅が１０〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましく、球形であることがさらに好ましい。

市販品のナノ粒子粉体を用いることができ、例えば、ＵＥＰ−１００（酸化ジルコニウム；第一稀元素化学工業株式会社製）又はＳＴＲ−１００Ｎ（二酸化チタン；堺化学工業株式会社製）が挙げられる。また、分散液としても調達することもできる。二酸化ケイ素−二酸化チタン分散液としては、例えば、“オプトレイク”（登録商標）ＴＲ−５０２、“オプトレイク”ＴＲ−５０３、“オプトレイク”ＴＲ−５０４、“オプトレイク”ＴＲ−５１３、“オプトレイク”ＴＲ−５２０、“オプトレイク”ＴＲ−５２７、“オプトレイク”ＴＲ−５２８、“オプトレイク”ＴＲ−５２９、“オプトレイク”ＴＲ−５４４又は“オプトレイク”ＴＲ−５５０（いずれも日揮触媒化成工業（株）製）が挙げられる。酸化ジルコニウム分散液としては、例えば、バイラールＺｒ−Ｃ２０（平均粒径＝２０ｎｍ；多木化学（株）製）、ＺＳＬ−１０Ａ（平均粒径＝６０−１００ｎｍ；第一稀元素株式会社製）、ナノユースＯＺ−３０Ｍ（平均粒径＝７ｎｍ；日産化学工業（株）製）、ＳＺＲ−Ｋ（堺化学（株）製）又はＨＸＵ−１２０ＪＣ（住友大阪セメント（株）製）が挙げられる。

層（Ｂ）に占める高屈折率の金属酸化物の割合は、３０〜９５質量％が好ましく、５０〜８０質量％がより好ましい。高屈折率の金属酸化物の割合が３０質量％未満であると、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上が不十分となる場合がある。一方で、９５質量％を超えると、層（Ｂ）を形成する際の加工性が悪化する場合がある。

層（Ｂ）の表面には、さらに顔料を含有する層（Ｃ）が形成されている。すなわち、基材（Ａ）の表面には、層（Ｂ）、層（Ｃ）、の順で積層がされている。仮に層（Ｂ）と層（Ｃ）の積層順を逆にした場合には明度向上の効果を得ることはできず、層（Ｂ）は、基材（Ａ）と層（Ｃ）の中間に位置することで、その効果が発現する。
ここで、基材（Ａ）の屈折率ｎＡと、層（Ｂ）の屈折率ｎＢとが、０．６ ≧ | ｎＡ − ｎＢ | ≧ ０．１の関係を満たすことで、基材（Ａ）の反対面、すなわち空気との界面から視認される層（Ｃ）の明度を顕著に向上させることができる。
| ｎＡ − ｎＢ |の値が０．６を超えると、基材（Ａ）の反対面での反射光量が大きくなり、カバーガラスあるいはカバーガラス一体型タッチパネル等として用いる場合には表示部の視認性が悪化する。一方で、| ｎＡ − ｎＢ | の値が０．１未満であると、基材（Ａ）と層（Ｂ）との屈折率差が不十分となり、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上を達成することができない。

ここで明度とは、標準光源Ｄ６５、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、大気圧下、２０℃の測定条件における反射色度（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）の内、明るさを示す座標であるＬ＊のことをいう。Ｌ＊の下限値は０、上限値は１００であり、その値が大きいほど高明度であることを示す。

層（Ｃ）は、顔料を含有する。ここでいう顔料とは、可視光領域の光を反射及びまたは吸収し、色味を呈する有機物あるいは無機物の粒子のことをさす。形状は球状、板状、薄片状、不定形であってもよく、溶媒に対する可溶性の有無は問わない。

白色系の加飾層を形成する場合には、層（Ｃ）に含有される顔料は、白色顔料であることが好ましい。ここで白色顔料とは、可視光領域に特定の吸収を持たず、かつ、屈折率が大きい不透明な顔料をいう。白色顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛又は鉛白が挙げられる。可視光反射性に優れ、化学的安定性が高く、工業的利用が容易な二酸化チタンが好ましい。二酸化チタンの結晶構造にはアナタース型、ルチル型及びブルッカイト型がある。屈折率が高く、触媒活性の低いルチル型二酸化チタンが好ましい。中でも、製法由来の着色不純物が少なく白色度が高い、塩素法で製造された二酸化チタンがより好ましく、分散性、耐光性及び耐熱性の観点から、表面処理された二酸化チタンがさらに好ましい。

二酸化チタンを表面処理するための表面処理材としては、金属酸化物又は金属酸化物の水和物が好ましく、アルミナにシリカ又はジルコニアを加えたものがより好ましい。中でも、耐光性及び耐熱性の観点から、アルミナにシリカを加えたものがさらに好ましい。表面処理された二酸化チタン粒子に占める表面処理材の割合は、可視光反射性を保持するため、１０質量％以下が好ましい。

層（Ｃ）の可視光反射性を向上させるため、白色顔料として用いる二酸化チタンの平均一次粒子径は、０．１〜０．５μｍが好ましく、０．２〜０．３μｍがより好ましい。ここで平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により測定した、一次粒子径の数平均をいう。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、一次粒子が１００個以上撮影された画像から平均一次粒子径を算出する。

層（Ｃ）に占める白色顔料の割合は、２０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。白色顔料の割合が２０質量％未満であると、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上が不十分となる場合がある。一方で、８０質量％を超えると、層（Ｃ）を形成する際の加工性が悪化したり、層（Ｂ）への密着性が低下したり、膜の強度不足が生じたりする場合がある。

層（Ｃ）が白色顔料以外の着色材（可視光領域に特定の吸収を有する化合物）を含有することで、赤味、青味、紫味等様々な色味を呈した層（Ｃ）すなわち加飾層を形成することが可能となる。

着色材としては、例えば、染料、有機顔料又は無機顔料が挙げられる。耐光性に優れる、有機顔料又は無機顔料が好ましい。

有機顔料としては、例えば、ピグメントイエロー１２、１３、１７、２０、２４、８３、８６、９３、９５、１０９、１１０、１１７、１２５、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１６８若しくは１８５等の黄色有機顔料、ピグメントオレンジ１３、３６、３８、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５若しくは７１等のオレンジ色有機顔料、ピグメントレッド９、４８、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０若しくは２５４等の赤色有機顔料、ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３２、３７、４０若しくは５０等の紫色有機顔料、ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０若しくは６４等の青色有機顔料、ピグメントグリ−ン７、１０、３６若しくは５８等の緑色有機顔料、又は、カーボンブラック、ペリレンブラック若しくはアニリンブラック等の黒色有機顔料が挙げられる。数値はいずれもカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．ナンバー）である。汎用性及び耐熱性に優れる、ピグメントブルー１５：３、ピグメントブルー１５：４、ピグメントブルー１５：６、ピグメントグリーン７、ピグメントグリーン３６又はカーボンブラックがより好ましい。これらの有機顔料は、分散性向上のため、ロジン処理、酸性基処理又は塩基性処理等の表面処理をされていても構わない。

無機顔料としては、例えば、酸化鉄、チタンニッケルアンチモン、チタンニッケルバリウム、酸化クロム、アルミン酸コバルト若しくは窒化チタン等の金属酸化物、複合酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物が挙げられる。これらの無機顔料は、他の無機成分又は有機成分で表面処理されていても構わない。白色系の加飾層を形成する場合、層（Ｃ）が含有する白色顔料に対する有機顔料及び無機顔料の割合としては、可視光反射性を保持するため、５０〜５０００ｐｐｍ（質量比）が好ましい。

着色材の平均粒子径は、１μｍ以下が好ましく、０．０１〜０．３μｍがより好ましい。

層（Ｃ）における、表面処理材を除く白色顔料の屈折率ｎＣ２と、全ての顔料を除く他の成分の屈折率ｎＣ１と、層（Ｂ）の屈折率ｎＢとは、
ｎＣ１ ＜ ｎＣ２ 、及び、
ｎＢ ＜ ｎＣ１
の関係を満たすことが好ましい。

標準光源Ｄ６５、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、入射角８°、大気圧下、２０℃の測定条件における層（Ｃ）の反射色度（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）は、それぞれ７０≦Ｌ＊≦９９、−５≦ｂ＊≦５、−５≦ａ＊≦５であることが好ましく、それぞれ８０≦Ｌ＊≦９９、−２≦ｂ＊≦２、−２≦ａ＊≦２であることがより好ましい。

層（Ｃ）の厚さは、１〜４０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましく、１５〜１８μｍであることがさらに好ましい。層（Ｃ）の厚さは、層（Ｂ）と同様に触針型段差計で測定することができる。層（Ｃ）の厚さが１μｍを下回ると、層（Ｃ）が白色系と比べて厚さ当たりの遮光性が極めて高い黒色系であっても、電極配線が透けてそれを使用者が視認してしまう場合がある。一方で、層（Ｃ）の厚さが４０μｍを超えると、層（Ｃ）を形成する際の加工性等に悪影響を及ぼす場合がある。また、白色顔料の光散乱能の限界と、白色顔料自身の僅かな光吸収性に起因して、明度Ｌ＊は、層（Ｃ）の厚さに比例して限りなく向上することはなく、一定の明度に達した後でほぼ飽和してしまう傾向がある。よって、意匠上特に高い明度が要求される場合、本発明の積層基材を用いれば、飽和した明度を超える明度を簡便に得ることができる。

層（Ｃ）は、いわゆる加飾層に相当する。このため層（Ｃ）は、基材（Ａ）の加飾領域にのみ形成されればよく、基材（Ａ）の表示領域に形成される必要はない。そして層（Ｂ）は、基材（Ａ）の反対面から視認される層（Ｃ）の明度向上を達成するために設けられるものであるため、層（Ｃ）が形成されるのと同一の領域に形成されれば足りる。このように層（Ｂ）及び層（Ｃ）は、基材（Ａ）の加飾領域のみに、一定のパターンとして形成されることが好ましい。

そのようなパターンを形成する方法としては、解像度や、パターンのエッジ直線性に優れる、フォトリソグラフィ（以下、「フォトリソ工程」）が好ましい。フォトリソ工程は、感光性樹脂組成物を基材に塗布して塗布膜を得る、塗布工程と、該塗布膜を露光及び現像して所望のパターンを得る、パターン形成工程と、を備える。すなわち、本発明の積層基材を製造方法は、感光性樹脂組成物を用いて前記層（Ｂ）を形成する、フォトリソ工程を備えることが好ましい。

塗布工程において感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スリットコート法、スピンコート法、グラビアコート法、スプレーコート法、インクジェット法又はスクリーン印刷法が挙げられる。膜厚均一性に優れる、スリットコート法、スピンコート法又はスクリーン印刷法が好ましい。

塗布工程で得られた塗布膜は、ホットプレート又はオーブン等の加熱装置を用いて、６０〜１５０℃で３０秒〜３分間プリベークしても構わない。

塗布工程で得られた塗布膜に、所望のパターンを得るためのマスクを介して露光光を照射し、露光する。露光光を照射するための露光機としては、例えば、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）又はパラレルライトマスクアライナー（以下、「ＰＬＡ」）が挙げられる。露光光の強度は、１０〜４０００Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍ露光量換算）が一般的である。また露光光源としては、例えば、ｉ線、ｇ線若しくはｈ線等の紫外線、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー又はＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーが挙げられる。

露光後、例えば用いた感光性樹脂組成物がネガ型である場合には、未露光部のみを溶解させて現像する。現像は、シャワー、ディッピング又はパドル等の方法で、露光後の塗布膜を現像液に５秒〜１０分間浸漬することが好ましい。

現像液としては、例えば、工業的に使用されているアルカリ現像液である、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液若しくは４質量％コリン水溶液等の高濃度現像液、又は、０．４質量％ＴＭＡＨ水溶液、０．２質量％ＴＭＡＨ水溶液、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液、１質量％炭酸水素ナトリウム水溶液、０．２質量％炭酸水素ナトリウム溶液若しくは０．１質量％水酸化ナトリウム水溶液等低濃度現像液が挙げられる。より高い現像性と、現像時間の加工マージンを確保する上で、これらの現像液に市販の界面活性剤を混合して用いてもよい。

パターン形成工程で得られたパターンは、ホットプレート又はオーブン等の加熱装置を用いて、１２０〜２５０℃で１５分〜２時間加熱しても構わない。

層（Ｂ）及び層（Ｃ）の形成に用いる感光性樹脂組成物は、解像性及び現像性に優れ、パターンの黄変を抑制すること可能であるため、ネガ型が好ましい。

層（Ｂ）及び層（Ｃ）の形成に用いる感光性樹脂組成物が含有する樹脂としては、着色が少なく、パターン形成工程における加工性に優れる、ポリシロキサン及び又はアクリル樹脂が好ましい。すなわち、層（Ｂ）が、ポリシロキサン及び／又はアクリル樹脂を含有することが好ましい。また、層（Ｃ）が、ポリシロキサン及び／又はアクリル樹脂を含有することが好ましい。

また、層（Ｂ）の形成に用いる感光性樹脂組成物（以下、「組成物（Ｂ）」）は、層（Ｂ）の屈折率ｎＢを基材（Ａ）の屈折率ｎＡと比べて低い側へ制御する、すなわち層（Ｂ）を低屈折率化する場合は、フッ素原子をその構造中に有する化合物を含有することが好ましく、フッ素原子をその構造中に有するポリシロキサン又はアクリル樹脂を含有することがより好ましい。
一方で、層（Ｂ）の屈折率ｎＢを基材（Ａ）の屈折率ｎＡと比べて高い側へ制御する、すなわち層（Ｂ）を高屈折率化させる場合は、カルド樹脂を含有することが好ましい。

ポリシロキサンは、例えば、アルコキシシラン化合物の加水分解及び脱水縮合により得られる。

ポリシロキサンの原料となるアルコキシシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、シリケート５１（テトラエトキシシランオリゴマー）トリメチルメトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−ジメチルエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、トリフルオロエチルトリメトキシシラン、トリフルオロエチルトリエトキシシラン、トリフルオロエチルトリプロポキシシラン、トリフルオロエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロエチルトリブトキシシラン、トリフルオロエチルトリアセトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン又はトリフルオロプロピルトリアセトキシシランが挙げられる。パターン形成工程における解像性及び現像性を向上させるためには、アルカリ可溶性基であるカルボキシル基又は酸無水物基を有するアルコキシシラン化合物を用いることが好ましい。

アクリル樹脂は、例えば、（メタ）アクリル化合物の共重合により得られる。

アクリル樹脂の原料となる（メタ）アクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸無水物、イタコン酸、イタコン酸無水物、こはく酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）、テトラヒドロフタル酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸シクロプロピル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキセニル、（メタ）アクリル酸４−メトキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−シクロプロピルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロペンチルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−シクロヘキセニルオキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸２−（４−メトキシシクロヘキシル）オキシカルボニルエチル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソボニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル、（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸α−エチルグリシジル、（メタ）アクリル酸α−ｎ−プロピルグリシジル、（メタ）アクリル酸α−ｎ−ブチルグリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸α−エチル−６，７−エポキシヘプチル又はベンジルメタクリレートが挙げられる。パターン形成工程における解像性及び現像性を向上させるためには、アルカリ可溶性基であるカルボキシル基又は酸無水物基を有する（メタ）アクリル化合物を用いることが好ましい。

カルド樹脂としては、市販品を好ましく用いることができ、オグゾール（登録商標）ＣＲ−ＴＲ１、同ＣＲ−ＴＲ２、同ＣＲ−ＴＲ３、同ＣＲ−ＴＲ４、同ＣＲ−ＴＲ５、同ＣＲ−ＴＲ６（以上、大阪ガスケミカル製）などが挙げられる。

層（Ｂ）及び層（Ｃ）の形成に用いる感光性樹脂組成物（以下、「組成物（Ｂ）」及び「組成物（Ｃ）」）は、フォトリソ工程におけるパターン加工性を向上させるため、多官能モノマーを含有することが好ましい。

多官能モノマーとしては、反応性、溶解性又は二重結合当量等を適宜選択することが可能な、多官能の（メタ）アクリレート基を有する化合物、すなわち、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。また、組成物（Ｂ）は、層（Ｂ）の低屈折率化のため、フッ素原子をその構造中に有する（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。

多官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロドデカンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートコハク酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートコハク酸付加物、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸−ＥＯ変性トリ及びジアクリレート（平均ＥＯ数＝３）混合物、トリメチロールプロパン−ＰＯ変性トリアクリレート（平均ＰＯ数＝３）、トリメチロールプロパン−ＥＯ変性トリアクリレート（平均ＥＯ数＝３）、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレートが挙げられる。ここでＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＰＯはプロピレンオキサイドを示す。

上記の多官能の（メタ）アクリレート化合物は、例えば、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤とは、光（紫外線及び電子線を含む）により分解又は反応し、ラジカルを発生させる化合物をいう。

光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−（２，４，４−トリメチルペンチル）−ホスフィンオキサイド、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン又は１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトンが挙げられる。層（Ｂ）及び層（Ｃ）の着色を抑制するため、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド又はビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−（２，４，４−トリメチルペンチル）−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤が好ましい。

組成物（Ｂ）に占める、フッ素原子をその構造中に有する化合物の割合が過度に高くなると、層（Ｂ）の形成に際して、はじき又はレベリング不良等が発生する場合がある。しかしながらこれら問題は、用いる基材（Ａ）の表面エネルギー及び組成物（Ｂ）を塗布する方法に応じて、レベリング剤の種類や添加量によって組成物（Ｂ）の表面張力を適宜調整することにより解決できる。レベリング剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ポリアルキレンオキシド系界面活性剤又はポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤が挙げられる。

二酸化ケイ素を含有する組成物（Ｂ）を用いることで、形成した層（Ｂ）に二酸化ケイ素を含有させることができる。二酸化ケイ素を含有する組成物（Ｂ）を調製するに際しては、二酸化ケイ素の粒子の分散液を用いることが好ましい。そのような分散液としては、市販の分散液以外にも、ゾルタイプ等のビルドアップ法で製造された分散液、又は、二酸化ケイ素をビーズミル等の分散機を用いたブレイクダウン法で分散させた分散液を用いることができる。硬化後の膜中に微細な空隙を設けることができ、層（Ｂ）の低屈折率化が可能となる点で、中空シリカゾル、多孔質シリカゾルを単独あるいはこれらを組み合わせて用いることが好ましい。また、分散状態をより安定化させるため、二酸化ケイ素の粒子表面がポリシロキサンと結合した状態にあることが特に好ましい。

顔料を含有する組成物（Ｃ）を用いることで、形成した層（Ｃ）に顔料を含有させることができる。顔料を含有する組成物（Ｃ）を調製するに際しては、顔料の分散液を用いることが好ましい。そのような分散液としては、市販の分散液以外にも、ビーズミル等の分散機を用いたブレイクダウン法で分散させた分散液を用いることができる。

形成した層（Ｂ）及び層（Ｃ）の黄変を抑制するため、組成物（Ｂ）及び組成物（Ｃ）は、酸化防止剤を含有しても構わない。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤又はヒンダードアミン系酸化防止剤が好ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、オクダデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート、チオジエチレンビス［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス（３−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール又は４，４’−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）が挙げられる。

ヒンダードアミン化合物としては、例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート又はテトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレートが挙げられる。

組成物（Ｂ）及び組成物（Ｃ）の粘度は、それら組成物をスリットコーター又はスピンコーターで塗布する場合には、コーンプレート（Ｅ型）型粘度計による測定で、１５ｃＰ以下が好ましく、１０ｃＰ以下がより好ましい。組成物（Ｂ）及び組成物（Ｃ）の粘度は、組成物が含有する場合がある有機溶媒の種類及び割合を適宜選択することで、調整することができる。

有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ダイアセトンアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、酢酸２−エトキシエチル、１−メトキシプロピル−２−アセテート、３−メトキシ−３−メチルブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノールアセテート、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセト酢酸エチル又はγ−ブチロラクトンが挙げられる。各成分を均一に溶解させるため、アルコール性化合物、エステル系化合物又はエーテル系化合物が好ましく、大気圧下の沸点が１１０〜２５０℃以下のそれら化合物がより好ましい。

層（Ｃ）の表面には、さらに遮光層として層（Ｄ）が形成されていても構わない。層（Ｄ）としては、可視光吸収性の高い、黒色の層が好ましい。遮光層として層（Ｄ）を形成することにより、ＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）値が向上し、タッチパネルの金属配線部の視認性をさらに抑制することができる。層（Ｄ）の形成方法としては、感光性黒色樹脂組成物を用いる、フォトリソ工程が好ましい。また、厚さ当たりのＯＤ値は低下してしまうが、層（Ｃ）に層（Ｄ）を積層することによる反射色度への影響を軽微なものとすることができる意匠上の利点から、層（Ｄ）は、灰色の層であっても構わない。灰色の層には、少なくとも白色顔料と、黒色顔料とを含むことが好ましい。

感光性黒色樹脂組成物としては、例えば、黒色顔料、アルカリ可溶性樹脂、多官能モノマー及び光重合開始剤を含有する組成物が挙げられる。感光性黒色樹脂組成物は、必要に応じて添加剤を含有しても構わない。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、窒化チタン、酸化コバルトが挙げられる。一方で、例えば感光性黒色樹脂組成物を用いて黒色系の加飾層である層（Ｃ）を形成する場合には、層（Ｄ）を形成する必要はない。

また、本発明は、カバーガラスの製造にも利用することができ、工法のひとつとして転写法を挙げることができる。ここでいう転写法とは、プラスチック製フィルムなどの屈曲性に富む支持体の表面に予め形成したパターンのみを、基板の表面に転写する工法のことである。転写法を用いることで、平面だけでなく、２．５Ｄガラス、３Ｄガラスとして知られる、直接印刷することが困難な曲面部を有する基板の表面にも、加飾層を簡便に歩留まり良く形成でき、多様な形状のカバーガラスを製造することができる。

以下に白色加飾層付きカバーガラスの製造プロセスの具体例を説明する。製造プロセスの一例は、フォトリソ工程と、粘着層形成工程と、転写工程と、キュア工程とを順に含む。

フォトリソ工程は、支持体の表面に、黒色感光性組成物を塗布、乾燥して塗布膜（Ｄ）を得、上記塗布膜の表面に、白色感光性組成物を塗布して塗布膜（Ｃ）を得る。次に、塗布膜（Ｄ）及び塗布膜（Ｃ）を一括して、塗布膜（Ｃ）側から露光して、塗布膜（Ｄ）が露光された露光膜（Ｄ）と塗布膜（Ｃ）が露光された露光膜（Ｃ）から成る積層露光膜を得る。次に、積層露光膜を一括で現像して、露光膜（Ｄ）が現像された現像膜（Ｄ）と露光膜（Ｃ）が現像された現像膜（Ｃ）から成る積層現像膜を支持体上に得る。

粘着層形成工程は、現像膜（Ｃ）の表面にのみ粘着材（Ｂ）を部分塗布し、露光して粘着層を形成する。

転写工程は、基材（Ａ）の表面と粘着層とを接着し、さらに支持体を剥離する。

キュア工程は、加熱により積層現像膜を硬化させる。

この製造プロセスにより、基材（Ａ）の表面に、層（Ｂ）、層（Ｃ）、層（Ｄ）がこの順に積層された基板、すなわち本発明の積層基材を備えるカバーガラスを得ることができる。さらに、本発明の積層基材を備えるタッチパネルを得ることができる。

支持体としては、例えば、離型フィルムが挙げられる。離型フィルムとは、ベースフィルムの表面に、密着性と離型性とを適度に制御するための離型層が形成されたフィルムをいう。

ベースフィルムとしては、例えば、耐熱性等に優れるポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート又はポリスチレン等のフィルムが挙げられる。二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また離型層としては、例えば、架橋度が高く耐溶剤性に優れるメラミン系、メラミン−アクリル系、アクリル系、エポキシ系又はシリコーン系等の樹脂からなる離型層が挙げられる。

支持体の厚さは、生産性が高いＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ方式での搬送が容易となる点で、５０〜１５０μｍが好ましい。

粘着材（Ｂ）としては、可視光領域における全光線透過率が９０％以上の透明性を有する光硬化膜を作製できる、光学用粘着材を用いることができる。粘着材（Ｂ）は、その厚さ、屈折率、透過率、硬化体積収縮率、基材（Ａ）との接着性等の観点から適宜選択し調達することができる。中でも、少なくとも（メタ）アクリレート、シリコン系（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等、光硬化後にアクリル樹脂となる成分を含む、ＵＶ硬化型粘着材が好ましい。また、現像膜（Ｃ）の表面にのみ部分塗布後、現像膜のパターン形状が変形する場合があるため、溶剤を含まない、無溶剤ＵＶ硬化型粘着材がより好ましい。

無溶剤ＵＶ硬化型粘着材としては、ＦＩＮＥＴＡＣＫ ＲＸ−１０１、同１０２、同１０３、同１０４（いずれもＤＩＣ製）、Ｐ−５９２０Ｊ（大同化成製）、ＳＫダイン シロップＷＳ（綜研化学製）ビームセットＮＴＺ−３０３、同３０４（いずれも荒川化学工業製）等が挙げられ、必要に応じて、これら粘着材に屈折率調整成分や、光重合開始剤、レベリング剤等を後添加して用いても構わない。

粘着材（Ｂ）をスクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷など公知の印刷法により、現像膜（Ｃ）のパターンと同じパターンに部分塗布した後、支持体ごと全面ＵＶ照射して光硬化させ、圧着し、さらに基材（Ａ）と結合した状態で加熱されることで、基材（Ａ）の加飾領域のみに、一定のパターンとして層（Ｂ）に相当する粘着層が形成されることとなる。よって、基材（Ａ）の屈折率ｎＡと、層（Ｂ）の屈折率ｎＢが、０．６ ≧ | ｎＡ − ｎＢ | ≧ ０．１の関係を満たすよう、基材（Ａ）と粘着層の屈折率差を制御することで、本発明の明度向上の効果が得られる。

本発明の積層基材を、ＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）方式のカバーガラス一体型タッチパネルを除く、カバーガラスに用いる場合、層（Ｂ）の厚さは、０．１〜５０μｍが好ましく、３〜３０μｍがより好ましい。０．１μｍを下回ると、本発明の明度向上が得られない場合がある。一方で５０μｍを超えると、層（Ｂ）自体の光吸収による反射光のロスを無視できなくなり、その結果として、明度向上の効果が小さくなる場合がある。なお、層（Ｂ）は、基材（Ａ）の加飾領域と同形状に打ち抜き裁断加工を施したＯＣＡ（光学透明接着シート）あるいは透光性を有する光学両面テープであっても構わない。

転写装置は、カバーガラスとタッチセンサーの貼り合せ工程で一般的な、ロールラミネーターや熱プレス機を選択して用いることができ、連続式又は枚葉式のいずれでも構わない。

以下に本発明をその実施例及び比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。

（シリカ共重合ポリシロキサン溶液（ｂ−１）の合成）
三口フラスコに、イソプロピルアルコール分散型中空シリカゾル（固形分１０質量％、平均粒子径４０ｎｍ）２１７．５５ｇ、イソプロピルアルコール分散型多孔質シリカゾル（固形分１０質量％、平均粒子径２５ｎｍ）２１７．５５ｇ、ダイアセトンアルコール（以下、「ＤＡＡ」）２０４．７０ｇ、並びに、メチルトリメトキシシラン２．２５ｇ、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン２．４０ｇ、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物２．１６ｇ及びアクリロキシプロピルトリメトキシシラン４．５１ｇ（アルコキシシランのｍｏｌ比は、メチルトリメトキシシラン／トリフルオロプロピルトリメトキシシラン／３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物／アクリロキシプロピルトリメトキシシラン＝３０／２０／１５／３５）を仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水３．１２ｇに酸触媒としてリン酸０．０２３ｇ（仕込みアルコキシシランに対して０．２質量％）を溶かしたリン酸水溶液を、滴下ロートで１０分かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから１時間加熱撹拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に、イソプロピルアルコールと、副生成物であるメタノール及び水を、リービッヒ冷却装置を用いて留去した。

１時間経過後、５℃に冷却して反応停止し、イオン交換樹脂を用いてリン酸を除去した。得られた樹脂溶液に対し、固形分濃度が２０質量％となるようにＤＡＡを加えて、二酸化ケイ素由来の部位とアルコシキシラン由来の部位との質量比が、８５／１５である、シリカ共重合ポリシロキサン溶液（ｂ−１）を得た。

（ポリシロキサン溶液（ｃ−１）の合成）
三口フラスコに、メチルトリメトキシシラン４７．７ｇ、フェニルトリメトキシシラン９９．２ｇ及び３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物３９．４ｇ（メチルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン／３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物＝３０／５０／１５）、並びに、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）１５２．３ｇを仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５６．７ｇにリン酸０．３７２ｇ（仕込みアルコキシシランに対して０．２質量％）を溶かしたリン酸水溶液を、滴下ロートで１０分かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水を、リービッヒ冷却装置を用いて留去した。２時間経過後、５℃に冷却して反応停止し、イオン交換樹脂を用い、リン酸を除去した。得られた樹脂溶液に対し、固形分濃度が４０質量％となるようにＰＧＭＥＡを加えて、ポリシロキサン溶液（Ｃ）を得た。

（アクリル樹脂溶液（ｄ−１）の合成）
三口フラスコに、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）２ｇ及びＰＧＭＥＡ５０ｇを仕込み、さらにメタクリル酸２６．５ｇ、スチレン２１．３ｇ及びトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレート３７．７ｇを仕込み、室温でしばらく撹拌してから、フラスコ内をバブリングによって十分に窒素置換した後、７０℃で５時間加熱撹拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジル１４．６ｇ、クロムアセチルアセトナート１ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ及びＰＧＭＥＡ１００ｇを添加し、９０℃で４時間加熱撹拌した。得られた樹脂溶液に対し、固形分濃度が４０質量％になるようにＰＧＭＥＡを加えて、アクリル樹脂溶液（ｄ−１）を得た。

（組成物（Ｂ−１）の調製）
シリカ共重合ポリシロキサン溶液（ｂ−１）１５．００ｇに、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（イルガキュア８１９；ＢＡＳＦ製）０．０３ｇを添加し、固形分が１０質量％となるようにＤＡＡを加えて１時間撹拌して、組成物（Ｂ−１）を得た。

（組成物（Ｂ−１）を用いて形成した層（Ｂ）の屈折率）
４インチのシリコンウェハ基板の表面に、スピンコーターで組成物（Ｂ−１）を塗布し、ホットプレート（ＳＣＷ−６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて１００℃で２分間プリベークし、ＰＬＡ（ＰＬＡ−５０１Ｆ；キヤノン（株）製）を用いて超高圧水銀灯を光源とし、露光量２００ｍＪ（ｉ線換算）で全面露光した。その後、自動現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液で１２０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした後、基板実測温度が２３０℃となるよう予め設定したオーブン内で、空気中６０分間キュアした。得られた厚さ１μｍの層（Ｂ）の屈折率ｎＢは、１．２０であった。また、６０分間のキュアを３０分間×２回に分けた以外は同様の方法で得た層（Ｂ）の屈折率ｎＢは、やはり１．２０であった。さらに、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、１．５μｍ、３μｍと変化させて屈折率ｎＢを調べたが、屈折率ｎＢに差異はなかった。

（組成物（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）の調製）
組成物（Ｂ−１）に、高屈折率化成分であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを、添加量を小刻みに変動させて加え、固形分濃度が１０質量％となるようにＤＡＡを加えて１時間撹拌し、０．２０μｍ濾過フィルターで処理した組成物を多数用意した。組成物（Ｂ−１）を用いて層（Ｂ）を形成したのと同様の方法で、各組成物を用いた層（Ｂ）をそれぞれ形成し、その屈折率ｎＢを測定した。屈折率ｎＢが１．３１であった水準を組成物（Ｂ−２）、１．４１であった水準を組成物（Ｂ−３）、１．３５であった水準を組成物（Ｂ−５）、１．２１であった水準を組成物（Ｂ−６）、１．４７であった水準を組成物（Ｂ−７）、とした。組成物（Ｂ−１）を用いた場合と同様、組成物（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）についても、キュア工程を３０分間×２回に分けて行なった場合の層（Ｂ）の屈折率ｎＢを調べたが、屈折率ｎＢに差異はなかった。

また、組成物（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）のそれぞれについて、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、１．５μｍ、３μｍと変化させて屈折率ｎＢを調べたが、いずれの組成物についても屈折率ｎＢに差異はなかった。

（組成物（Ｂ−８）の調製）
酸化ジルコニウム分散液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／酸化ジルコニウム＝３／７（重量比）のＰＧＭＥＡ分散液；ジルコニア含有量＝３５ｗｔ％）１．３６４ｇに、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”ＯＸＥ−０２を０．０３８２ｇ、ＨＱＭＥを０．００４８ｇ、ＴＨＦＡを９．５０ｇ、ＰＧＭＥＡを８．３４７ｇ添加し攪拌、溶解させた。

さらにジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの５０ｗｔ％ＰＧＭＥＡ溶液を０．０６８２ｇ、ＣＲ−ＴＲ５（大阪ガスケミカル製；アルカリ可溶性カルド樹脂の５０ｗｔ％ＰＧＭＥＡ溶液）を０．４７８ｇ、レベリング剤としてＢＹＫ−３３３のＰＧＭＥＡ１ｗｔ％溶液を０．２０００ｇ、それぞれ加えて１時間撹拌し、０．２０μｍフィルターで濾過し、組成物（Ｂ−８）を得た。

組成物（Ｂ−１）と同様に、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、１．５μｍ、３μｍと変化させて測定したが、いずれも屈折率ｎＢは、１．６６であった。

（組成物（Ｂ−９）の調製）
“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”ＯＸＥ−０２を０．０３８２ｇ、ＨＱＭＥを０．００４８ｇ、ＴＨＦＡを９．５０ｇ、ＰＧＭＥＡを８．３４７ｇ添加し攪拌、溶解させた。

さらに、ＥＡ−０２５０Ｐ（大阪ガスケミカル製；９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレンの５０ｗｔ％ＰＧＭＥＡ溶液；固形分濃度＝５０ｗｔ％）を０．２８７ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの５０ｗｔ％ＰＧＭＥＡ溶液を０．６６９ｇ、ＣＲ−ＴＲ５を０．９９５ｇ、ＢＹＫ−３３３のＰＧＭＥＡ１ｗｔ％溶液を０．２０００ｇ、それぞれ加えて１時間撹拌し、０．２０μｍフィルターで濾過し、組成物（Ｂ−９）を得た。

組成物（Ｂ−１）と同様に、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、１．５μｍ、３μｍと変化させて測定したが、いずれも屈折率ｎＢは、１．４７であった。

（組成物（Ｃ−１）の調製）
白色顔料である二酸化チタン（ルチル型、平均粒子径０．３μｍ、アルミナ／シリカ被覆；Ｒ９６０；デュポン（株）製）７５．３４ｇを、ポリシロキサン溶液（ｃ−１）１０２．４５ｇに添加し、プレミキシングを行った後、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散処理を行い、白色顔料分散液を得た。続いて、多官能モノマーであるイソシアヌル酸−ＥＯ変性トリ及びジアクリレート混合物（Ｍ−３１５；東亞合成（株）製）３０．１３ｇ、光重合開始剤であるビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド３．７７ｇ及び酸化防止剤であるペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０１０；ＢＡＳＦ製）０．４５ｇを、ＰＧＭＥＡ８９．１９ｇに添加し、１時間撹拌して溶解させた後、上記の白色顔料分散液１７７．７９ｇと混合し、さらに１時間撹拌して、組成物（Ｃ−１）を得た。

（黒色樹脂組成物（Ｄ−１）の調製）
窒化チタン顔料（ＴｉＮ ＵＦＰ；日清エンジニアリング製）１００ｇ、アクリル樹脂溶液（ｄ−１）４７ｇ、高分子分散剤（ＬＰＮ２１１１６；ビックケミー製）４０質量％溶液１５．５ｇ、ＰＧＭＥＡ３３７．５ｇを仕込み、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散処理を行い、固形分２５質量％の窒化チタン分散液を得た。続いて、カーボンブラック顔料（ＴＰＸ−１２９１；キャボット製）１００ｇ、アクリル樹脂溶液（ｄ−１）４７ｇ、高分子分散剤（ＬＰＮ２１１１６；ビックケミー製）４０質量％溶液１５．５ｇ及びＰＧＭＥＡ３３７．５ｇを仕込み、ジルコニアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散処理を行い、固形分２５質量％のカーボンブラック分散液を得た。アクリル樹脂溶液（ｄ−１）５８．６５ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２３．１８ｇ及び光重合開始剤（アデカオプトマーＮ−１９１９；ＡＤＥＫＡ製）５．８０ｇを、ＰＧＭＥＡ６７０．５０ｇに添加し、１時間撹拌して溶解させた後、上記の窒化チタン分散液１３７．１０ｇ及びカーボンブラック分散液１３７．１０ｇと混合し、さらに１時間撹拌して、黒色樹脂組成物（Ｄ−１）を得た。

（透明樹脂組成物（Ｅ−１）の調製）
アクリル樹脂溶液（ｄ−１）５０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１６ｇ、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”ＯＸＥ−０１；ＢＡＳＦ製）２ｇ、ダイアセトンアルコール３１．９ｇ及びポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ＢＹＫ−３３３；ビックケミー製）０．１ｇを混合し、透明樹脂組成物（Ｅ−１）を得た。

（アクリル系樹脂溶液ｄ−２の調製）
４０ｍｏｌ％メタクリル酸、３０ｍｏｌ％メチルメタクリレート、３０ｍｏｌ％スチレンを共重合成分とする共重合体のカルボキシル基に対して、０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたアクリル系樹脂Ａ（重量平均分子量４３０００、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度Ｔｇ１１０℃）を、固形分が４０質量％となるようにブチルカルビトールアセテートに溶解して、アクリル系樹脂溶液ｄ−２を得た。

（組成物（Ｃ−２）の調製）
４９．０２ｇの白色顔料（ルチル型酸化チタン；平均一次粒子径０．３μｍ；アルミナ／シリカ被覆；Ｒ９６０；デュポン製）、１２２．５５ｇのアクリル系樹脂溶液ｄ−２、１９．６１ｇのイソシアヌル酸−ＥＯ変性トリ及びジアクリレート混合物（Ｍ−３１５；東亞合成（株）製）、４．２０ｇのウレタンアクリレート（ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物；ＵＡ−３０６Ｈ；共栄社化学（株）製）、２．８０ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、酸化防止剤である０．４２ｇのペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０１０；ＢＡＳＦ製）、及び、３．１３ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、組成物（Ｃ−２）を得た。

（黒色樹脂組成物（Ｄ−２）の調製）
３１．８０ｇの黒色顔料（カーボンブラック；平均一次粒子径２４ｎｍ；ＭＡ−１００；三菱化学（株）製）、５．００ｇの高分子分散剤（ＬＰＮ−２１１１６；ビックケミー製）、２１．２０ｇのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、５．３０ｇの光重合開始剤Ａ（Ｎ−１９１９；ＡＤＥＫＡ製）、３．１８ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、１１０．２５ｇのアクリル系樹脂溶液ｄ−２、及び、２４．５８ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、黒色樹脂組成物（Ｄ−２）を得た。

（実施例１）
基材（Ａ−１）として、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚み０．７ｍｍ、屈折率１．５１の化学強化ガラスを用意した。組成物（Ｂ−１）と、組成物（Ｃ−１）とを用いて積層基材を作製し、（ｉ）の方法で層（Ｃ）のパターン形状を、（ｉｉ）の方法で明度を含む全反射色の評価を実施した。

基材（Ａ−１）（図２の符号１）の表面に、スピンコーターで組成物（Ｂ−１）を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で２分間プリベークし、ＰＬＡを用いて超高圧水銀灯を光源とし、マスクギャップ１５０μｍ、露光量２００ｍＪ（ｉ線換算）で露光した。その後、自動現像装置（ＡＤ−２０００；滝沢産業（株）製）を用いて、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液で１２０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした後、基材（Ａ−１）の実測温度が２３０℃となるよう予め設定したオーブン内で、空気中３０分間キュアし、厚さ１μｍの層（Ｂ）のパターンを形成した（図２の符号２）。続いて、層（Ｂ）の表面に、スピンコーターで組成物（Ｃ−１）を塗布し、現像液に２．３８質量％ＴＭＡＨを用いシャワー現像の時間を６０秒とした以外は同様の方法で、厚さ１６μｍの層（Ｃ）のパターンを形成し（図２の符号３）、積層基材１を製造した。なお層（Ｃ）の厚さは、層（Ｃ）と層（Ｂ）との二層の厚さから層（Ｂ）のみの厚さを差し引くことで求めた。また、下記（ｉ）及び（ｉｉ）の方法に従い、層（Ｃ）のパターン形状及び積層基材１の反射色度を評価した。評価結果を表１に示す。

（ｉ）層（Ｃ）のパターン形状の評価
形成した層（Ｃ）のパターンについて、線幅３０００μｍの部位を切り出し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてパターンのエッジ部分の断面を観察して、以下の判定基準に基づいてパターン形状を評価し、Ａ、Ｂ及びＣを合格とした。
Ａ：テーパー角度が７０°未満
Ｂ：テーパー角度が７０°以上８０°未満
Ｃ：テーパー角度が８０°以上９０°未満
Ｄ：９０°以上又はアンダーカット形状
（ｉｉ）積層基材の反射色度の評価
白色校正板（ＣＭ−Ａ１４５；コニカミノルタ（株）製）で校正した分光測色計（ＣＭ−２６００ｄ；コニカミノルタ（株）製）を用い、標準光源Ｄ６５（色温度６５０４Ｋ）、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、大気圧下、２０℃の測定条件下で基材（Ａ）の反対面から入射させた光に対する全反射色度（ＳＣＩ）を測定し、反射色度（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）を評価した。

なお測定は、分光測色計を逆さにして上向きに光を照射する状態にして、積層基材の基材（Ａ）の反対面を分光測色計の光照射部に押し当てて行なった。

（実施例２）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例３）
基材（Ａ−１）に代えて、基材（Ａ−２）（縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚み０．７ｍｍ、屈折率ｎＡが１．７７のサファイア基板）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材３を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例４）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−３）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材４を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例５）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−４）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材５を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例６）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−５）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材６を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例７）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−６）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材７を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例８）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを０．２μｍ、層（Ｃ）の厚さを１５μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材８を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例９）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを０．２μｍ、層（Ｃ）の厚さを１８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材９を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１０）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを１．５μｍ、層（Ｃ）の厚さを１５μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１０を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１１）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを１．５μｍ、層（Ｃ）の厚さを１８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１１を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１２）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、層（Ｃ）の厚さを１０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１２を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１３）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを０．１μｍ、層（Ｃ）の厚さを２０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１３を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１４）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを３μｍ、層（Ｃ）の厚さを１０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１４を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１５）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを３μｍ、層（Ｃ）の厚さを２０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１５を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１６）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを１μｍ、層（Ｃ）の厚さを３０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１６を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１７）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを１μｍとし、層（Ｃ）の形成にネガ型感光性黒色樹脂組成物（Ｄ−１）、現像液に０．０４５質量％水酸化カリウムを用い、層（Ｃ）の厚さを１μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１７を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１８）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−８）、現像液に０．４質量％ＴＭＡＨを用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１８を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例１９）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−２）を用い、層（Ｂ）の厚さを１μｍ、層（Ｃ）の厚さを４０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材１９を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例１）
層（Ｂ）を形成することなく、基材（Ａ−１）の表面に層（Ｃ）のみを形成した以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２０を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例２）
層（Ｂ）を形成することなく、基材（Ａ−１）の表面に層（Ｃ）のみを形成し、層（Ｃ）の厚さを３０μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２１を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例３）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−７）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２２を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例４）
層（Ｂ）を形成することなく、層（Ｃ）の厚さを４１μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２３を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例５）
層（Ｂ）を形成することなく、基材（Ａ−１）の表面にネガ型感光性黒色樹脂組成物（Ｄ−１）、現像液に０．０４５質量％水酸化カリウムを用いて層（Ｃ）を形成し、厚さを１μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２４を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例６）
層（Ｂ）の形成に組成物（Ｂ−９）、現像液に０．４質量％ＴＭＡＨを用いた以外は、実施例３と同じ方法で積層基材２５を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（比較例７）
層（Ｂ）と層（Ｃ）を形成する順序を逆にした以外は、実施例１と同じ方法で積層基材２６を得て、それを評価した。評価結果を表１に示す。

（実施例２０）
積層基材１の層（Ｃ）の表面に、スピンコーターで黒色樹脂組成物（Ｄ−１）を塗布し、線幅が４００μｍ小さいパターンのマスク用い、現像液に０．０４５質量％水酸化カリウムを用いた以外は、層（Ｃ）の形成と同様の方法で、黒色の遮光層である厚さ２μｍの層（Ｄ）のパターン（図４の符号４）を形成し、積層基材１’を得た。

積層基材１’に、スパッタリング装置（ＨＳＲ−５２１Ａ；島津製作所製）を用いて、ＲＦパワー１．４ｋＷ、真空度６．６５×１０^−１Ｐａで１２．５分間スパッタリングすることにより、厚さが１５０ｎｍのＩＴＯを成膜し、その表面にさらにポジ型フォトレジスト（ＯＦＰＲ−８００；東京応化工業（株）製）を塗布し、８０℃で２０分間プリベークして厚さ１．１μｍのレジスト膜を得た。ＰＬＡを用いて超高圧水銀灯を光源とし、得られたレジスト膜をマスクを介してパターン露光した後、自動現像装置を用いて２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で９０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。その後、３．５質量％シュウ酸水溶液に１５０秒浸すことでＩＴＯをエッチングし、５０℃の剥離液（４質量％水酸化カリウム水溶液）で１２０秒処理することでフォトレジストを除去し、２３０℃で３０分アニール処理を加え、厚さ１５０ｎｍのＩＴＯのパターンを形成した（図３、４の符号５）。

ＩＴＯのパターンを形成した積層基材の表面に、スピンコーターで透明樹脂組成物（Ｅ−１）を塗布し、マスク変更した以外は層（Ｄ）の形成と同様の方法で、透明絶縁膜のパターンを形成した（図３、４の符号６）。

透明絶縁膜を形成した積層基材の表面上に、ターゲットとしてモリブデン及びアルミニウムを用いて、エッチング液としてＨ_３ＰＯ_４／ＨＮＯ_３／ＣＨ_３ＣＯＯＨ／Ｈ_２Ｏ＝６５／３／５／２７（質量比）混合溶液を用いた以外は層（Ｄ）の形成と同様の方法で、厚さ２５０ｎｍのＭＡＭ（Ｍｏモリブデン／Ａｌアルミニウム／Ｍｏモリブデン）配線を形成し（図３、４の符号７）、カバーガラス上にタッチパネル層を直接形成するＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）方式のカバーガラス一体型タッチパネル１を製造した。

得られたカバーガラス一体型タッチパネル１の加飾領域について、上記（ｉｉ）の方法に従い、反射色度を評価した。また、カバーガラス一体型タッチパネル１の導通試験を行ない、導通した場合を「良好」、電極配線が断線して導通しなかった場合を「不良」と判定した。評価結果を表２に示す。

（実施例２１）
実施例２と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２２）
実施例３と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル３を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２３）
実施例４と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル４を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２４）
実施例５と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル５を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２５）
実施例６と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル６を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２６）
実施例７と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル７を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２７）
実施例８と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル８を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２８）
実施例９と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル９を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例２９）
実施例１０と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１０を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３０）
実施例１１と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１１を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３１）
実施例１２と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１２を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３２）
実施例１３と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１３を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３３）
実施例１４と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１４を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３４）
実施例１５と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１５を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３５）
実施例１６と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１６を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３６）
実施例１７と同様の方法で得た積層基材を用い、層（Ｄ）を形成しなかった以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１７を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３７）
実施例１８と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１８を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３８）
実施例１９と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル１９を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例８）
比較例１と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２０を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例９）
比較例２と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２１を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例１０）
比較例３と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２２を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例１１）
比較例４と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２３を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例１２）
比較例５と同様の方法で得た積層基材を用い、層（Ｄ）を形成しなかった以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２４を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例１３）
比較例６と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２５を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例１４）
比較例７と同様の方法で得た積層基材を用いた以外は、実施例２０と同様の方法でカバーガラス一体型タッチパネル２６を得て、それを評価した。評価結果を表２に示す。

（実施例３９）
実施例１で用いた、屈折率１．５１の化学強化ガラスを用意し、組成物（Ｄ−２）と、組成物（Ｃ−２）と、硬化後の屈折率ｎＢが１．４１である粘着材（Ｂ−１）を用いてカバーガラス１を作製し、（ｉｉ）の方法で明度を含む全反射色の評価を実施した。ここで屈折率ｎＢは、予め、粘着材（Ｂ−１）それ単体を、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２で全面露光し、ついでオーブンで１８０℃２０分間加熱して得られた硬化膜（厚さ５０μｍ）を測定して求めた。

支持体（メラミン系離型層付き二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム；セラピール；厚さ７５μｍ、幅５０ｃｍ、巻きの長さ１００ｍ；東レ（株）製）の離型層が形成された面に、スクリーン印刷機とステンレス製のスクリーンメッシュとを用いて黒色樹脂組成物（Ｄ−２）を部分塗布し、オーブンを用いて、１００℃で１５分間加熱乾燥し、黒色塗布膜を得た。

黒色塗布膜の表面に、組成物（Ｃ−２）を塗布し、１００℃で１５分間加熱乾燥する作業を二回繰り返して、積層塗布膜を得た。

ＰＬＡを用い、高圧水銀紫外線ランプを光源とし、マスクギャップ１５０μｍ、露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線換算値）で、マスクを介して積層塗布膜を露光し、積層露光膜を得た。

積層露光膜を、自動現像装置を用いて０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液で９０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間シャワーリンスし、さらにエアーブローをして、パターン状の積層現像膜を得た。得られた積層現像膜はオーブンを用いて、６０℃で１０分間加熱乾燥した。次いで、積層現像膜の表面のみに、粘着材（Ｂ−１）をスクリーン印刷で部分塗布し、ＰＬＡを用いて露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２で、全面露光し、粘着層を形成した。

粘着層の面が化学強化ガラス基板上に重なるように支持体の端部を固定し、ロールラミネーターを用いて加圧（大気圧下、ロール温度４０℃、ロール圧０．２ＭＰａ、ラミネート速度１００ｍｍ／秒）し、化学強化ガラスに粘着材（Ｂ−１）の露光膜を結合させ、支持体を剥離した。次いで、オーブンを用い、１８０℃で２０分間加熱して、カバーガラス１を得た。

カバーガラスの表面に対して垂直方向に割断し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）上でその断面を観察し、測長したところ、粘着材（Ｂ−１）から得られた層（Ｂ）に相当する粘着層の厚さは５０μｍ、組成物（Ｃ−２）から得られた層（Ｃ）の厚さは２３μｍ、組成物（Ｄ−２）から得られた層（Ｄ）の厚さは２μｍであった。

（実施例４０）
硬化後の屈折率ｎＢが１．３１である粘着材（Ｂ−２）を用いた以外は、実施例３９と同様の方法でカバーガラス２を得て、それを評価した。評価結果を表３に示す。

（実施例４１）
粘着層の厚さを５１μｍとした以外は、実施例３９と同様の方法でカバーガラス３を得て、それを評価した。評価結果を表３に示す。

（実施例４２）
塗布装置をスピンコーターに変更し、粘着層の厚さを０．１μｍとした以外は、実施例３９と同様の方法でカバーガラス４を得て、それを評価した。評価結果を表３に示す。

（比較例１５）
硬化後の屈折率ｎＢが１．５１である粘着材（Ｂ−３）を用いた以外は、実施例３９と同様の方法でカバーガラス５を得て、それを評価した。評価結果を表３に示す。

（比較例１６）
硬化後の屈折率ｎＢが１．４７である粘着材（Ｂ−４）を用いた以外は、実施例３９と同様の方法でカバーガラス６を得て、それを評価した。評価結果を表３に示す。

本発明の積層基材の、層（Ｃ）の厚さＴ（μｍ）と明度Ｌ＊の関係を図５に示す。横軸に層（Ｃ）の厚さＴ（μｍ）、縦軸に明度Ｌ＊を示す。実施例２，１６，１９を黒四角で、比較例１，２，４を黒三角で示す。

１ ・・・基材（Ａ）
２ ・・・層（Ｂ）
３ ・・・層（Ｃ）
４ ・・・層（Ｄ）
５ ・・・ＩＴＯ電極
６ ・・・透明絶縁膜
７ ・・・ＭＡＭ配線

本発明の積層基板は、加飾層が必要とされるカバーガラス一体型タッチパネル、カバーガラス、表示装置等に好適に用いられる。

Claims (11)

1. 基材（Ａ）の表面に、層（Ｂ）、層（Ｃ）、の順で積層がされており、前記基材（Ａ）の屈折率ｎＡと、前記層（Ｂ）の屈折率ｎＢとが、
   ０．６ ≧ | ｎＡ − ｎＢ | ≧ ０．１
   の関係を満たし、前記層（Ｃ）が、顔料を含有する、積層基材。
2. 前記層（Ｂ）の屈折率ｎＢが、１．２０〜１．４０である、請求項１記載の積層基材。
3. 前記層（Ｂ）の厚さが、０．１〜５０μｍであり、かつ、前記層（Ｃ）の厚さが、１〜４０μｍである、請求項１又は２記載の積層基材。
4. 前記層（Ｂ）が、二酸化ケイ素を含有する、請求項１〜３のいずれか一項記載の積層基材。
5. 前記層（Ｂ）が、ポリシロキサン及び／又はアクリル樹脂を含有する、請求項１〜４のいずれか一項記載の積層基材。
6. 前記層（Ｂ）が、フッ素原子をその構造中に有する化合物を含有する、請求項１〜５のいずれか一項記載の積層基材。
7. 前記顔料が、白色顔料である、請求項１〜６のいずれか一項記載の積層基材。
8. 前記層（Ｃ）が、ポリシロキサン及び／又はアクリル樹脂を含有する、請求項１〜７のいずれか一項記載の積層基材。
9. 請求項１〜８のいずれか一項記載の積層基材を備える、カバーガラス。
10. 請求項１〜８のいずれか一項記載の積層基材を備える、タッチパネル。
11. 請求項１〜８のいずれか一項記載の積層基材を製造する方法であって、感光性樹脂組成物を用いて前記層（Ｂ）を形成する、フォトリソ工程を備える、積層基材の製造方法。
    

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