JPWO2016117260A1 - 水処理装置および水処理方法 - Google Patents
水処理装置および水処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016117260A1 JPWO2016117260A1 JP2016570520A JP2016570520A JPWO2016117260A1 JP WO2016117260 A1 JPWO2016117260 A1 JP WO2016117260A1 JP 2016570520 A JP2016570520 A JP 2016570520A JP 2016570520 A JP2016570520 A JP 2016570520A JP WO2016117260 A1 JPWO2016117260 A1 JP WO2016117260A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ground
- discharge
- electrodes
- electrode
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
- C01B13/11—Preparation of ozone by electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
- C01B15/01—Hydrogen peroxide
- C01B15/029—Preparation from hydrogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/36—Organic compounds containing halogen
- C02F2101/366—Dioxine; Furan
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4611—Fluid flow
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4612—Controlling or monitoring
- C02F2201/46125—Electrical variables
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4616—Power supply
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4619—Supplying gas to the electrolyte
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/78—Details relating to ozone treatment devices
- C02F2201/782—Ozone generators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/02—Fluid flow conditions
- C02F2301/028—Tortuous
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/22—Eliminating or preventing deposits, scale removal, scale prevention
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2305/00—Use of specific compounds during water treatment
- C02F2305/02—Specific form of oxidant
- C02F2305/023—Reactive oxygen species, singlet oxygen, OH radical
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態1による水処理装置の断面図である。また、図2は、本発明の実施の形態1の図1における隣接する2つの接地電極2a、2bとその周囲を示す拡大図である。以下、図1と図2を用いて、本実施の形態1における水処理装置について、詳細に説明する。
として形成されている。
e+O2→2O (1)
e+H2O→H+OH (2)
O+O2+M→O3 (3)
OH+OH→H2O2 (4)
R+(O、OH、O3、H2O2)→CO2+H2O (5)
O3→O3(l) (6)
H2O2→H2O2(l) (7)
O3(l)+H2O2(l)→OH(l) (8)
R+(O3(l)、H2O2(l)、OH(l))
→CO2+H2O (9)
図4は、本発明の実施の形態2に係る水処理装置の断面図である。本実施の形態2は、放電電極であるワイヤ電極21a、21b、21c、21dの配置が、先の実施の形態1と異なっている。
図5は、本発明の実施の形態3に係る水処理装置の断面図である。また、図6は、本発明の実施の形態3の図5に示した接地カートリッジ25の拡大断面図である。また、図7は、本発明の実施の形態3の水処理装置の組立て方法を示す断面図である。以下、図5〜図7を用いて、本実施の形態3における水処理装置について説明する。
図8は、本発明の実施の形態4に係る水処理装置の断面図である。また、図9は、本発明の実施の形態4の図8に示した1種類目の接地カートリッジ35の拡大断面図である。また、図10は、本発明の実施の形態4の図8に示した2種類目の接地カートリッジ36の拡大断面図である。
図11は、本発明の実施の形態5に係る水処理装置の断面図である。図11において、接地電極44a、44b、44c、44dは、いずれも同形状であり、中空構造となっている。また、各接地電極44a、44b、44c、44dの底辺は、処理槽1の側壁に接続されており、処理槽1の側壁から各接地電極44a、44b、44c、44dの底辺に連なる貫通穴である接続口43a、43b、43c、43dが形成されている。また、各接地電極44a、44b、44c、44dの上面には、貫通孔である複数の細孔46が形成されている。
図12は、本発明の実施の形態6に係る水処理装置の断面図である。また、図13は、本発明の実施の形態6の図12に示した隣接する2つの接地電極2a、2bとその周囲を示す拡大図である。本実施の形態6は、接地電極2a、2b、2c、2dと、放電電極47a、47b、47cの形状が、先の実施の形態1と異なる。そこで、図12と図13を用いて、これらの相違点を中心に、以下に説明する。
図14は、本発明の実施の形態7に係る水処理装置の断面図である。本実施の形態7は、接地電極44a、44b、44c、44dの構成が異なる点を除き、実施の形態5と同様である。
図15は、本発明の実施の形態8に係る水処理装置の断面図である。本実施の形態8は、接地電極2a、2b、2c、2dのそれぞれの下面に下側水膜56が形成され、かつ接地電極2a、2b、2c、2dのそれぞれの下面に、突起58a、58b、58c、58dが備えられている点が、先の実施の形態1と異なる。
図16は、本発明の実施の形態9に係る水処理装置の断面図である。本実施の形態9は、先の実施の形態6と比べて、放電電極の構成が異なる。図16において、接地電極2a、2b、2c、2dは、処理槽1の内部に上下に並べて配置されている。接地電極2a、2b、2c、2dは、平板型であり、水平面に対して傾斜して配置されている。
Claims (14)
- 処理槽の内部に上下方向に並べて配置された複数の接地電極と、
前記上下方向において連続する2つの接地電極の、上側の接地電極の下面と、下側の接地電極の上面との間のそれぞれに形成された空隙に設けられた複数の放電電極と
を備え、
前記複数の接地電極は、前記上下方向において連続する2つの接地電極の上面が、水平面に対して交互に逆方向に傾斜するように配置されており、
前記複数の放電電極のそれぞれは、電圧が印加されることで、前記上側の接地電極の下面と放電電極との間の気中に第1の放電を形成し、前記下側の接地電極の上面と放電電極との間の気中に第2の放電を形成し、
前記処理槽の上部から供給された被処理水を、最上部の接地電極から最下部の接地電極まで、それぞれの上面に沿って連続的に流下させることで、前記被処理水を処理する
水処理装置。 - 前記空隙は、前記被処理水が流下する領域において、前記上下方向において連続する2つの接地電極間に均一に形成されている
請求項1に記載の水処理装置。 - 前記空隙は、
前記接地電極の上面と前記放電電極との間に形成された下方空隙と、
前記接地電極の下面と前記放電電極との間に形成された上方空隙と
で構成され、
前記下方空隙および前記上方空隙は、それぞれ均一な高さで形成されている
請求項1に記載の水処理装置。 - 前記複数の接地電極のそれぞれは、三角柱型である
請求項1から3のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の接地電極のそれぞれは、二等辺三角柱型である
請求項1から3のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記被処理水は、前記接地電極の下面に沿って流下する
請求項4または5に記載の水処理装置。 - 接地電極とフランジを有して構成された接地カートリッジを複数備え、
前記処理槽の外周壁の前記上下方向に渡って形成された複数の開口部のそれぞれに前記複数の接地カートリッジのそれぞれを挿入し、前記フランジと前記処理槽を締結することで、前記処理槽の内部に前記複数の接地電極が形成されている
請求項1から6のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の放電電極のそれぞれは、絶縁部材を介して前記複数の接地電極のそれぞれに保持されている
請求項1から7のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の放電電極のそれぞれは、絶縁部材を介して前記処理槽の外周壁に接続されている
請求項1から7のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の放電電極のそれぞれは、前記複数の接地電極のそれぞれの内部を通る配線により給電される
請求項1から9のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の接地電極のそれぞれは、中空構造であり、上面には貫通孔が形成されており、前記中空構造内に供給された酸素を含むガスが前記貫通孔を通って前記処理槽内に吐出される構造を有する
請求項1から10のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の接地電極のそれぞれは、中空構造であり、下面には貫通孔が形成されており、前記中空構造内に供給された酸素を含むガスが前記貫通孔を通って前記処理槽内に吐出される構造を有する
請求項1から11のいずれか1項に記載の水処理装置。 - 前記複数の接地電極のそれぞれは、平板型であり、
前記複数の放電電極のそれぞれは、長手面が前記上下方向に配置されたリボン形状の電極である
請求項1に記載の水処理装置。 - 処理槽の内部に上下方向に並べて配置された複数の接地電極と、
前記上下方向において連続する2つの接地電極の、上側の接地電極の下面と、下側の接地電極の上面との間のそれぞれに形成された空隙に設けられた複数の放電電極と
を備え、
前記複数の接地電極は、前記上下方向において連続する2つの接地電極の上面が、水平面に対して交互に逆方向に傾斜するように配置されている水処理装置に適用される水処理方法であって、
前記複数の放電電極のそれぞれに電圧を印加することで、前記上側の接地電極の下面と放電電極との間の気中に第1の放電を形成する工程と、
前記複数の放電電極のそれぞれに電圧を印加することで、前記下側の接地電極の上面と放電電極との間の気中に第2の放電を形成する工程と、
前記処理槽の上部から供給された被処理水を、最上部の接地電極から最下部の接地電極まで、それぞれの上面に沿って連続的に流下させ、前記第1の放電および前記第2の放電が形成された前記空隙を通過させることで、前記被処理水を処理する工程と
を有する水処理方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015009566 | 2015-01-21 | ||
JP2015009566 | 2015-01-21 | ||
PCT/JP2015/085515 WO2016117260A1 (ja) | 2015-01-21 | 2015-12-18 | 水処理装置および水処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6129447B2 JP6129447B2 (ja) | 2017-05-17 |
JPWO2016117260A1 true JPWO2016117260A1 (ja) | 2017-05-25 |
Family
ID=56416819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016570520A Expired - Fee Related JP6129447B2 (ja) | 2015-01-21 | 2015-12-18 | 水処理装置および水処理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9868655B1 (ja) |
JP (1) | JP6129447B2 (ja) |
CN (1) | CN107207290B (ja) |
SG (1) | SG11201704892VA (ja) |
WO (1) | WO2016117260A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10577261B2 (en) | 2015-12-04 | 2020-03-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Water treatment apparatus and water treatment method |
CN108367951B (zh) | 2015-12-24 | 2021-03-23 | 三菱电机株式会社 | 水处理装置和水处理方法 |
SG11202006549PA (en) * | 2018-03-14 | 2020-08-28 | Mitsubishi Electric Corp | Water treatment apparatus |
WO2019180864A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4850563A (ja) * | 1971-11-01 | 1973-07-17 | ||
DE4440813A1 (de) * | 1993-11-15 | 1995-05-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten |
US20040084382A1 (en) * | 2002-11-05 | 2004-05-06 | Aquapure Technologies, Ltd. | Method and system for purification and disinfection of water |
JP2007307486A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | ラジカル処理システム |
US20080233003A1 (en) * | 2007-03-22 | 2008-09-25 | Krasik Yakov E | System and method for treating liquid using a corona discharge process in a low pressure environment |
US20100240943A1 (en) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | Solnik Dvir | Degradation of organic pollutants in an aqueous environment using corona discharge |
JP4635204B2 (ja) * | 2006-01-25 | 2011-02-23 | 国立大学法人名古屋大学 | 水処理方法および水処理装置 |
JP2011161412A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Sekisui Chem Co Ltd | 水処理装置 |
JP2012096141A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Tokyo Electron Ltd | 水滅菌装置及び水滅菌方法 |
JP2013034945A (ja) * | 2011-08-08 | 2013-02-21 | Techno Ryowa Ltd | 廃水処理装置 |
WO2015111240A1 (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2615570A (en) * | 1949-08-12 | 1952-10-28 | Gen Mills Inc | Middlings purifier |
JP4015210B2 (ja) * | 1996-05-30 | 2007-11-28 | 富士電機システムズ株式会社 | オゾン発生装置 |
JP3507389B2 (ja) | 2000-02-10 | 2004-03-15 | 上田サーボ機械株式会社 | 汚濁物除去装置 |
JP2004066055A (ja) | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 液体処理装置 |
US20050189278A1 (en) * | 2004-02-03 | 2005-09-01 | Takanori Iijima | Apparatus for decomposing organic matter with radical treatment method using electric discharge |
JP4322728B2 (ja) | 2004-03-16 | 2009-09-02 | 株式会社東芝 | 水処理システム |
-
2015
- 2015-12-18 US US15/535,569 patent/US9868655B1/en active Active
- 2015-12-18 WO PCT/JP2015/085515 patent/WO2016117260A1/ja active Application Filing
- 2015-12-18 CN CN201580073833.3A patent/CN107207290B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-12-18 SG SG11201704892VA patent/SG11201704892VA/en unknown
- 2015-12-18 JP JP2016570520A patent/JP6129447B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4850563A (ja) * | 1971-11-01 | 1973-07-17 | ||
DE4440813A1 (de) * | 1993-11-15 | 1995-05-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten |
US20040084382A1 (en) * | 2002-11-05 | 2004-05-06 | Aquapure Technologies, Ltd. | Method and system for purification and disinfection of water |
JP4635204B2 (ja) * | 2006-01-25 | 2011-02-23 | 国立大学法人名古屋大学 | 水処理方法および水処理装置 |
JP2007307486A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Toshiba Corp | ラジカル処理システム |
US20080233003A1 (en) * | 2007-03-22 | 2008-09-25 | Krasik Yakov E | System and method for treating liquid using a corona discharge process in a low pressure environment |
US20100240943A1 (en) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | Solnik Dvir | Degradation of organic pollutants in an aqueous environment using corona discharge |
JP2011161412A (ja) * | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Sekisui Chem Co Ltd | 水処理装置 |
JP2012096141A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Tokyo Electron Ltd | 水滅菌装置及び水滅菌方法 |
JP2013034945A (ja) * | 2011-08-08 | 2013-02-21 | Techno Ryowa Ltd | 廃水処理装置 |
WO2015111240A1 (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
WO2015111465A1 (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9868655B1 (en) | 2018-01-16 |
WO2016117260A1 (ja) | 2016-07-28 |
CN107207290A (zh) | 2017-09-26 |
CN107207290B (zh) | 2019-01-01 |
US20170369341A1 (en) | 2017-12-28 |
SG11201704892VA (en) | 2017-07-28 |
JP6129447B2 (ja) | 2017-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6129447B2 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
WO2015111240A1 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
WO2014077181A1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
KR101639337B1 (ko) | 미세 버블 환경에서의 플라즈마를 이용한 수처리 방법 및 이를 이용한 수처리 장치 | |
US20090152097A1 (en) | Plasma generating device and plasma generating method | |
CN108367951B (zh) | 水处理装置和水处理方法 | |
WO2019175998A1 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
JP6157764B1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP6157763B2 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
US20090095619A1 (en) | Gas treating apparatus | |
DE19951117A1 (de) | Verfahren und Hochspannungsreaktor für die Nassoxidation im Hochspannungsfeld (KVOLTOX-Verfahren) | |
JP6486569B1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP6430076B1 (ja) | 水処理装置 | |
JP6029605B2 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
JP6121081B1 (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
KR100381273B1 (ko) | 격벽을 갖는 서포터를 구비한 오존발생장치 | |
JP2023074906A (ja) | 過酸化水素の生成装置 | |
Pawłat et al. | Studies on oxidants' generation in a foaming column with a needle to dielectric covered plate electrode | |
KR101187371B1 (ko) | 유전체 장벽 방전장치 | |
JP2007136444A (ja) | 液体製造装置、処理装置および表面加工装置 | |
JP2005228568A (ja) | コロナ放電用の電極、コロナ放電発生装置、および、化学物質の分解装置 | |
UA62133A (en) | An apparatus for electric-discharge purification and disinfection of water (variants) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170117 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20170117 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20170202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170314 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6129447 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |