DE4440813A1 - Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten - Google Patents
Verfahren zur Behandlung von FlüssigkeitenInfo
- Publication number
- DE4440813A1 DE4440813A1 DE4440813A DE4440813A DE4440813A1 DE 4440813 A1 DE4440813 A1 DE 4440813A1 DE 4440813 A DE4440813 A DE 4440813A DE 4440813 A DE4440813 A DE 4440813A DE 4440813 A1 DE4440813 A1 DE 4440813A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- discharge
- liquid
- electrode
- dielectric
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
- A23C—DAIRY PRODUCTS, e.g. MILK, BUTTER OR CHEESE; MILK OR CHEESE SUBSTITUTES; MAKING THEREOF
- A23C3/00—Preservation of milk or milk preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
- A23L—FOODS, FOODSTUFFS, OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES, NOT COVERED BY SUBCLASSES A21D OR A23B-A23J; THEIR PREPARATION OR TREATMENT, e.g. COOKING, MODIFICATION OF NUTRITIVE QUALITIES, PHYSICAL TREATMENT; PRESERVATION OF FOODS OR FOODSTUFFS, IN GENERAL
- A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
- A23L3/32—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by treatment with electric currents without heating effect
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/002—Construction details of the apparatus
- C02F2201/003—Coaxial constructions, e.g. a cartridge located coaxially within another
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Nutrition Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten, ins
besondere zur Reinigung und Entkeimung von Wasser, mit einer stillen
elektrischen Entladung gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch 1.
Sowohl bei der Entsorgung von schadstoffbelasteten Abwässern als auch
bei der Aufbereitung von Trink- oder Brauchwasser werden wirkungsvolle
großtechnische Behandlungsverfahren benötigt.
In der metallverarbeitenden Industrie entstehen große Mengen an Abwäs
sern, die mit chlorierten Kohlenwasserstoffen (CKWs), polychlorierten Bi
phenylen (PCB), etc. belastet sind. Insbesondere bei Galvanisierungsbetrie
ben fällt zudem cyanidhaltiges Wasser an.
Die Freisetzung von Perchlorethylen (PER) unterliegt zwar bei chemischen
Reinigungen inzwischen starken Beschränkungen, die Entsorgung von Alt
lasten gewinnt jedoch zunehmend an Bedeutung. Aromatische Kohlen
wasserstoffe wie Benzol, Toluol und Xylol werden in starkem Maße in der
Druck- und Farbenindustrie eingesetzt.
Für Pflanzenschutzmittel, Nitrit und Nitrat müssen bei der Grundwasserauf
bereitung enge Grenzwerte eingehalten werden. Öffentliche Kläranlagen
müssen wechselnde Einträge von Seifen, Fetten, Ölen und Tensiden aus
unterschiedlichen Quellen bewältigen. Die Entsorgung von Metallkomplexen
aus organische Komplexbildnern, die wie z. B. EDTA auch in Haushalts
waschmitteln zunehmend eingesetzt werden, ist in biologischen Kläranla
gen nicht möglich.
Neben der Reduzierung chemischer Verunreinigungen muß bei Trinkwasser
eine Entkeimung oder Sterilisierung durchgeführt werden. Aus Gründen des
Energieverbrauches scheidet eine Erhitzung des Wassers meist aus.
Das Anwendungspotential der Erfindung beinhaltet auch die Haltbarma
chung flüssiger Lebensmittel, die heute in der Regel durch Erhitzen oder
durch Zugabe chemischer Konservierungsstoffe, wie Sorbinsäure, Benzoe
säure, PHB-Ester oder Ameisensäure vorgenommen wird.
Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, flüssige Lebensmittel durch
thermische Einwirkung zu behandeln. Beim Sterilisieren wird der zu behan
delnde Stoff auf über 100°C erhitzt, was Eiweiß, Vitamine, Aroma und
Farbe beeinträchtigt. Beispielsweise bei Fruchtsäften oder Milch wird daher
lediglich pasteurisiert, d. h. kurzzeitig auf unter 100°C erhitzt, wobei aller
dings die Bakteriensporen keimfähig bleiben, so daß nur eine beschränkte
Haltbarkeit erreicht wird. Ein weiterer Nachteil ist der für das Erhitzen
erforderliche hohe Energieaufwand.
Bei Industrieabwässern ist die chemische Entgiftung von Cyanid durch
Chlorbleichlauge mit Natriumhypochlorid NaOCl oder durch Zugabe von
Oxidationsmitteln wie Sauerstoff O₂, Ozon O₃, Wasserstoffperoxid H₂O₂
oder Caroscher Säure KHSO₅ bekannt. Diese Behandlung hat jedoch den
Nachteil, daß lange Reaktionszeiten im Bereich von vielen Stunden bis zu
wenigen Tagen erforderlich sind. Außerdem können stabile
Cyanidkomplexe oft nicht zerstört werden. Daneben muß ein hoher Salzein
trag in das behandelte Wasser in Form von Kochsalz oder Sulfaten in Kauf
genommen werden. Die genannten Verfahren erfordern eine aufwendige
Anlagentechnik und teure und schwer zu lagernde Chemikalien.
Weiterhin ist es bekannt, Grundwasser aus Altlasten oder für die Trinkwas
serversorgung mit Aktivkohle zu filtern. Dieses Verfahren hat jedoch den
Nachteil, daß sich die Schadstoffe im Reinigungsmittel anlagern, so daß
dieses nach Gebrauch oft als Sondermüll entsorgt werden muß.
Das heute wohl gebräuchlichste Verfahren zur Aufbereitung von
Trinkwasser oder zur Desinfektion von Schwimmbädern ist die Chlorierung
des Wassers. Nachteilig daran ist jedoch, daß der Geschmack des Wassers
beeinträchtigt wird. Wegen der reizenden Wirkung von Chlor auf Atem
wege und Schleimhäute des Menschen müssen dabei enge Grenzwerte
eingehalten werden.
Weiterhin ist die Reinigung von Wasser mit Ozon bekannt. Die Herstellung
des Ozons erfolgt nach dem Stand der Technik (J.Phys. D: Appl. Phys. 20
(1987) 1421-1437) in dielektrischen Barrierenentladungen. Bei einer derar
tigen Barrierenentladung ist die Oberfläche wenigstens einer der Elektroden
durch ein Dielektrikum elektrisch gegen den Entladungsraum isoliert. Als
Folge davon bilden sich bei Anregung mit Wechselspannung im Bereich von
50 Hz bis zu mehreren kHz kurzzeitige Entladungsfilamente in der Phase
des Spannungsanstiegs aus.
Ein Entladungsfilament existiert jeweils nur für wenige Nanokunden und
besitzt einen Durchmesser in der Größenordnung von 100 µm. Während
der Entladung bildet sich auf dem elektrisch isolierenden Dielektrikum in
nerhalb eines Fußpunkts mit einem Durchmesser zwischen etwa 0.5 und 5
cm eine Oberflächenladung aus, durch die die Entladung an dieser Stelle
gestoppt wird. Erst bei weiterem Spannungsanstieg bzw. nach der Span
nungsumkehr kann eine weitere Mikroentladung an gleicher Stelle erfolgen.
Die Eigenschaften dieser kurzzeitigen Entladung sind sehr reproduzierbar
und nahezu unabhängig von dem Vorhandensein weiterer Filamente. Damit
ist eine Variation der Leistung über einen weiten Bereich durch Verände
rung der Frequenz der Spannung oder durch Aussteuerung von Span
nungspulsen, sowie über die Höhe, Form und Anstiegszeit der Spannung
möglich.
Neben chemischen Behandlungsverfahren wird heute bereits die Bestrah
lung mit ultraviolettem Licht bei der Reinigung von Wasser angewendet.
Dazu werden Quecksilberdampf-Tauchlampen verwendet. Diese erzeugen
breitbandige UV-Strahlung in einem relativ gut transmittierenden Tauch
rohr. Die Eindringtiefe der UV-Strahlung in Wasser, insbesondere in mit
Schwebstoffen verunreinigtes Wasser, ist jedoch gering, so daß nur mit
geringen Reaktorquerschnitten gearbeitet werden kann. Da zudem aufgrund
des endlichen Wirkungsgrades der UV-Lampen das Tauchrohr heiß wird,
entstehen lichtundurchlässige Beläge, vor allem aus hartem Wasser der so
genannte Kesselstein. In Intervallen muß daher die Anlage außer Betrieb
genommen und mit verdünnter Säure gereinigt werden, die vor der neuen
Inbetriebnahme wiederum gründlich ausgespült werden muß.
Aus der gattungsbildenden US 2 167 718 ist es bekannt, Flüssigkeiten in
einer Gasentladung zu behandeln, um die Viskosität zu erhöhen, indem die
Flüssigkeitsmoleküle zu langen Molekülketten vernetzt werden. Die offen
barte Vorrichtung erfordert ein Vakuum von 1.3-13 kPa und eine aktive
Kühlung (thermische Gasentladung). Eine besondere elektrische Funktion
eines ohnehin nur vorzugsweisen und somit nicht notwendigerweise erfor
derlichen Dielektrikums läßt sich dieser Druckschrift nicht entnehmen.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, das gattungsbildende Verfahren
dahingehend auszugestalten, daß in der Flüssigkeit, insbesondere dem
Wasser, vorhandene Schadstoffe oder sonstige unerwünschte Stoffe zer
setzt und zu unschädlichen Verbindungen umgesetzt werden.
Ein weiteres der Erfindung zugrundeliegendes Problem ist es, ein Verfahren
anzugeben, mit dem die bekannten Verfahren der Ozonbehandlung und UV-
Bestrahlung in einfacher Weise kombiniert durchgeführt werden können.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, Vorrichtungen anzuge
ben, mit denen das erfindungsgemäße praktisch durchgeführt werden kann.
Eine für das Verfahren erfinderische Lösung ist im kennzeichnenden Teil
des Anspruchs 1 angegeben. Vorteilhafte Weiterentwicklungen sind mit
den Merkmalen der Unteransprüche 2-9 angegeben. Zwei erfinderische
Lösungen für die Vorrichtung sind in den Ansprüchen 10 und 11 angege
ben.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens bestehen gegenüber che
mischen Verfahren darin, daß bei diesen stets Abfallprodukte entstehen,
die einer Entsorgung zuzuführen sind, während die erfindungsgemäße Be
handlung den Vorteil hat, daß die Schadstoffe im Wasser zu unschädlichen
Verbindungen umgesetzt werden, die im gereinigten Wasser gelöst bleiben
können.
Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß ge
genüber konventionellen Verfahren der UV-Reinigung eine besonders effek
tive Einkoppelung der UV-Strahlung in die Flüssigkeit erfolgt. Es treten
keine Absorptionsverluste in einer Lampenwand auf und es gibt auch keine
Grenzfläche, an der sich nicht transmittierende Verunreinigungen ablagern
können.
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des allgemeinen Erfin
dungsgedankens anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf
die Zeichnungen exemplarisch beschrieben, auf die im übrigen bezüglich
der Offenbarung aller im Text nicht näher erläuterten erfindungsgemäßen
Einzelheiten ausdrücklich verwiesen wird. Es zeigen
Fig. 1 schematische Darstellung des Prinzips der Erzeugung einer
Barrierenentladung nach dem Stand der Technik
Fig. 2 Anwendung der Barrierenentladung nach Fig. 1 für die
Behandlung von Flüssigkeiten
Fig. 3 schematische Darstellung der Behandlung einer Flüssigkeit mit
einer Barrierenentladung unter atmosphärischen Bedingungen
und Darstellung der dabei auftretenden, maßgeblichen Effekte
Fig. 4 schematische Darstellung einer ersten Weiterentwicklung des
in Fig. 3 dargestellten Verfahrens
Fig. 5 schematische Darstellung einer zweiten Weiterentwicklung des
in Fig. 3 dargestellten Verfahrens
Für die Ausführungsbeispiele wird die Reinigung von Wasser beschrieben.
Ohne Einschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens ist das vorlie
gende Verfahren jedoch nicht auf die Behandlung von Wasser beschränkt,
sondern kann auch bei der Behandlung anderer Stoffe, vorzugsweise Flüs
sigkeiten, Verwendung finden.
Fig. 1 zeigt schematisch die Darstellung des Prinzips der Barrierenentla
dung nach dem Stand der Technik. Dabei sind zwei metallische Elektro
den (1) und (2) voneinander beabstandet angeordnet und an eine Wech
selstromquelle (3) angeschlossen. Diese liefert eine hochfrequente Hoch
spannung, beispielsweise 8 kV bei 200 kHz. Wenigstens eine der Elektro
den ist mit einem Dielektrikum (4) belegt, welches eine sogenannte dielek
trische Barriere bildet. Beim Betrieb dieser Anordnung mit der zuvor ge
nannten hochfrequenten Hochspannung kommt es zur Ausbildung von vie
len, über den gesamten Entladungsraum verteilten, kurzlebigen Entla
dungsfilamenten (5), über die die Gasentladung von statten geht. Dieser
Entladungsmechanismus ist bei den Angaben zum Stand der Technik näher
erläutert.
Fig. 2 zeigt das Prinzip der erfindungsgemäßen Behandlung der zu reini
genden Flüssigkeit, im Ausführungsbeispiel also Wasser. Von zwei Elektro
den (1), (2) ist eine erste Elektrode (1) mit dem Dielektrikum (4) belegt,
während auf die zweite Elektrode (2) das zu reinigende Wasser (6) aufge
bracht wird. Die Wasserschicht wirkt zwar auch als Dielektrikum, besitzt
jedoch eine hohe Ionenleitfähigkeit, so daß als dielektrische Barriere ein zu
sätzliches Dielektrikum (4) vorgesehen ist. Dieses kann zum Beispiel aus
Glas, Quarz oder Keramik bestehen. Bei der Behandlung von Flüssigkeiten
mit einer relativ niedrigen Leitfähigkeit kann die Flüssigkeitsschicht selbst
als dielektrische Barriere verwendet werden.
Das Wasser (6) darf an jeder Stelle auf der Elektrode (2) den Entladungs
raum nur teilweise ausfüllen, da ansonsten ein dielektrischer Kurzschluß
entsteht und keine Gasentladung gezündet werden kann. Um eine homo
gene Dichte der Entladungsfilamente (5) auf der ganzen Fläche der An
ordnung zu gewährleisten, soll die Dicke des Wasserfilms und sein Abstand
zur oberen Elektrode (1) möglichst gleichmäßig sein.
Bei Flüssigkeiten, die eine hohe Oberflächenspannung aufweisen, wie dies
bei Wasser der Fall ist, ist darauf zu achten, daß das Dielektrikum (4) nicht
von den Wassertröpfchen benetzt wird und ein dielektrischer Kurzschluß
verursacht wird.
Aus der Dichte des Wassers und seiner Oberflächenspannung bestimmt
sich die maximale Größe eines runden Tropfens. Bei Erhöhung der Flüssig
keitsmenge im Tropfen behält dieser zwar seine Höhe bei, bedeckt aber
eine größere Fläche. Diese maximale Tropfenhöhe ist somit gleichzeitig eine
untere Grenze für die Dicke eines stabilen Flüssigkeitsfilms. Der Abstand
der Elektroden (1), (2) muß jedenfalls deutlich größer sein, um einen dielek
trischen Kurzschluß sicher zu vermeiden. Die Gefahr eines derartigen die
lektrischen Kurzschlusses durch Benetzung der oberen Elektrode (1) wird
gering, wenn der Abstand der Elektroden (1), (2) mindestens das zwei- bis
dreifache der Flüssigkeitsfilmdicke beträgt.
Vorteilhafterweise ist der Wasserfilm (6) auf der Elektrode (2) möglichst
dünn einzustellen. Dies ergibt sich zum einen aus der begrenzten Eindring
tiefe der Plasmabehandlung. Darüberhinaus nimmt mit zunehmendem Elek
trodenabstand auch die Zündspannung für die Barrierenentladung zu. Für
Wasser läßt sich eine stabile Entladung mit einem etwa 2 bis 3 mm dicken
Film und 6 bis 8 mm breiten Entladungsspalt (Abstand von der
Wasseroberfläche zum gegenüberliegenden Dielektrikum) aufrecht erhalten.
Dabei werden Spannungen im Bereich von 8 bis 12 kV benötigt.
Die Einwirkdauer der Entladung auf das Wasser ist sehr kurz und liegt im
Bereich der Lebensdauer eines einzelnen Entladungsfilaments (5). Aufgrund
der geringen Eindringtiefe der Entladungseffekte muß jedoch sichergestellt
werden, daß jedes Volumenelement des Wassers (6) einmal in der Nähe der
Oberfläche war, um von den Entladungsfilamenten (5) in ausreichender
Weise beaufschlagt zu sein. Dies wird zum einen dadurch erreicht, daß der
Wasserfilm möglichst dünn ist und zum anderen durch eine Vermischung
des Wassers über der Entladungsstrecke. Durch die zur Vermischung not
wendige Strecke wird somit die Länge der Entladungsanordnung bestimmt.
Bei eingeschalteter Entladung wurde eine deutliche Geruchs- und Ge
schmacksverbesserung bei stark geruchsbelastetem Grundwasser erzielt.
In Fig. 3 sind vereinfacht die bei der erfindungsgemäßen Behandlung des
Wassers unter atmosphärischer Umgebung maßgeblichen Effekte darge
stellt.
Die bei der Mikroentladung im Plasma erzeugten Elektronen (7) werden
durch das elektrische Feld zwischen den Elektroden (1), (2) beschleunigt
und treffen mit hoher Energie auf die Wasseroberfläche auf. Durch diesen
Elektronenbeschuß werden Moleküle angeregt und so plasmachemische
Reaktionen induziert. Neben den Elektronen können auch andere hochener
getische Teilchen aus dem Plasma hierzu beitragen.
Durch die Wechselwirkung der Elektronen mit den über der Wasseroberflä
che befindlichen Gasmolekülen kommt es zur Ausbildung von Gasphasen
radikalen (8), die ein hohes Reaktionspotential aufweisen und durch Einwir
kung auf das verschmutzte Wasser mit den Schadstoffen reagieren und
diese umwandeln. So wird der atmosphärische Sauerstoff von den Elektro
nen in Ozon umgewandelt, so daß auf die Erzeugung von Ozon durch auf
wendige Ozonisatoren verzichtet werden kann. Da das Ozon und auch
sonstige Gasphasenradikale in unmittelbarer Nähe des Wassers gebildet
werden, ist deren Ausnutzung besonders hoch.
Die in der Atmosphäre vorhandenen Edelgasmoleküle werden durch die
Stoßanregungen von Elektronen in Excimere umgewandelt. Diese können
sehr effektiv zur Erzeugung von schmalbandiger UV-Strahlung (9) einge
setzt werden (siehe Volkova et al in: Journal of Applied Spectroscopy 41
(1984), Seite 1194). Auch die übrigen Luftmoleküle tragen zur Erzeugung
der UV-Strahlung bei, jedoch weniger schmalbandig als Excimere. Die auf
diese Weise erzeugte UV-Strahlung (9) kann ohne Absorptionsverluste in
das Wasser eindringen und die Schadstoffe besonders effektiv umsetzen.
Da es sich bei der dielektrischen Barrierenentladung um eine hochfrequent
angelegte Entladung handelt, kann durch Wechselwirkung der elektroma
gnetischen Felder mit polaren Molekülen auch eine Umordnung der Molekü
le herbeigeführt werden.
Die Einwirkung der verschiedenen Effekte auf das Wasser führt zu einer
Umsetzung der im Wasser vorhandenen Schadstoffe zu unschädlichen
Verbindungen, die im gereinigten Wasser gelöst bleiben können. Durch
gleichzeitige Einwirkung aller Effekte wird eine gegenseitige Verstärkung
gegenüber anderen Anordnungen, wo jeweils nur einer der Effekte genützt
wird, gefördert.
Fig. 4 zeigt eine Anordnung auf der Basis des in Fig. 2 dargestellten
Prinzips des erfindungsgemäßen Verfahrens. In einem nach außen abge
schlossenen Gefäß (2), welches gleichzeitig die Masseelektrode bildet, ist
eine Hochspannungselektrode (1) mit gleichmäßigem Abstand über der
Oberfläche der zu behandelnden Flüssigkeit (6) angeordnet. Das Dielektri
kum (4) ist gleichzeitig Elektrodengehäuse der Hochspannungselektrode (1)
und kann ein Kühlmedium (12) aufnehmen. Die Zuleitungen für das Kühl
medium (12) und die Spannungsversorgung (3) werden durch die Gefäß
wand nach außen geführt (hier nicht dargestellt). Zwischen der Flüssigkeit
(6) und der Hochspannungselektrode (1) bilden sich bei Anlegen einer
hochfrequenten Wechselspannung (3) die Entladungsfilamente (5) aus.
Diese Anordnung hat den zusätzlichen Vorteil, daß eine Vermischung des
Wassers mit dem Entladungsgas stattfindet, da die in den Mikroentla
dungsfilamenten erzeugten Gasmoleküle wie Ozon, Excimere oder sonstige
Gasphasenradikale sich auch über den gesamten Entladungsraum verteilen.
Insbesondere die Wirksamkeit der Gasphasenradikale (siehe Position (8) in
Fig. 3, hier nicht dargestellt) kann durch Vermischung der Flüssigkeit mit
dem Entladungsgas verbessert werden, hier durch Eintropfen oder Zerstäu
ben der zufließenden Flüssigkeit (11). Zur Erhöhung der Behandlungsdauer
kann eine Umwälzung der aus der Ausströmöffnung (10) austretenden
Flüssigkeit vorgesehen werden. Die Hochspannungselektrode ist allseitig
isoliert und kann bei hohen Leistungen gekühlt werden.
Fig. 5 zeigt eine weitere Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfah
rens, bei der zur Behandlung des Wassers eine koaxiale Anordnung vorge
sehen ist. Die geerdete Elektrode (2) ist als Rohr ausgebildet, das im Entla
dungsraum senkrecht steht und nach oben offen ist, so daß das von unten
zugeführte Wasser (6) im Inneren des Rohres aufsteigt und nach seinem
Austritt an der Außenseite des Rohres als gleichmäßiger dünner Film ab
fließt.
In einem Abstand von etwa 6 bis 10 mm ist ein Dielektrikum (4) koaxial
angeordnet. Das Dielektrikum ist oberhalb der Öffnung des Rohres (2) und
in geeigneter Weise davon beabstandet geschlossen ausgeführt, so daß
das Dielektrikum (4) ein Entladungsgefäß (14) bildet. Im unteren Bereich
verfügt das Entladungsgefäß (14) zum einen über eine Ausströmöff
nung (10) und andererseits über eine Ausnehmung (11), durch die die als
Rohr ausgebildete Elektrode (2) geführt wird. Die Durchführung muß flüs
sigkeitsdicht ausgebildet sein, damit das vom Rohr abströmende Was
ser (6) über die Ausströmöffnung (10) vollständig aus dem Entladungsge
fäß (14) abfließen kann. Das Entladungsgefäß (14) kann beispielsweise als
Glaskolben ausgeführt sein.
An geeigneter Stelle, beispielsweise in der Oberseite des Entladungsgefä
ßes (14), kann eine zusätzliche Öffnung vorgesehen sein, um den Entla
dungsraum zusätzlich mit einem Reaktivgas zu füllen. Durch den Ablauf des
Wassers unterhalb der Elektrode (1) durch die im Boden der Anordnung
vorgesehene Ausströmöffnung (10) wird ein Austausch des Entladungsga
ses mit der Umgebung vermieden. Bei Überdruck des Entladungsgases
strömt dieses zusammen mit der behandelten Flüssigkeit aus der Öffnung
(10) aus und vermischt sich dabei mit dieser.
Außerhalb des Dielektrikums (4) ist die Hochspannungselektrode (1) koaxial
aufgebracht und mit einer hochfrequenten Hochspannungsquelle verbun
den, zum Beispiel 10 kV bei bei 200 KHz. Die Hochspannungselektrode (1)
kann beispielsweise als Folie auf das Entladungsgefäß (14) gewickelt wer
den. Alternativ dazu kann das Entladungsgefäß (14) von einem separaten
Boden (15) und Deckel (16) gebildet werden, zwischen denen die Hoch
spannungselektrode (1) als ein metallischer, auf der Innenseite isolierend
beschichteter, Zylinder formschlüssig eingesetzt ist. Mit dieser Hochspan
nungselektrode (also mit ihrem metallischen Teil) ist die Flüssigkeit kon
struktionsbedingt nicht in Kontakt, auch nicht bei (ungewollter) Brückenbil
dung zwischen (2) und (4). Ein Kontakt mit der Elektrode (2), die ebenso
wie die Zu- und Ableitungen geerdet ist, verursacht keine Verluste.
Die Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens nach Fig. 5 hat den
Vorteil eines abgeschlossenen Entladungsgefäßes, in dem aufgrund der
Symmetrie auf besonders einfache Weise ein Flüssigkeitsfilm homogener
Dicke erzeugt werden kann. Die Zeit, in der das Wasser der Barrierenentla
dung ausgesetzt ist, wird in einfacher Weise durch die Höhe der Anord
nung bestimmt.
Anstelle des Behandelns des Wassers oder sonstiger Flüssigkeiten unter
atmosphärischen Bedingungen können in den Entladungsraum über der
Flüssigkeitsoberfläche auch selektiv reaktive oder inerte Gase zugeführt
werden. Insbesondere die Zufuhr von Edelgasen erhöht den Anteil von
Excimeren über der Wasseroberfläche, so daß die Einwirkung der UV-
Strahlung verstärkt wird.
Ohne Einschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens können auch
andere Stoffe in den Entladungsraum eingebracht und durch den Elektro
nenbeschuß in den Mikroentladungsfilamenten verändert werden, um dann
in einer bestimmten Weise auf die Flüssigkeit einzuwirken.
Alternativ zu einem dünnen Flüssigkeitsfilm kann auch die Flüssigkeit im
Entladungsgas vernebelt werden oder ein Gas-Flüssigkeits-Gemisch durch
Einbringung von Gasbläschen erzeugt werden. Ferner sind Entladungen auf
einen freien Flüssigkeitsstrahl, der rund oder als dünne flache Scheibe er
zeugt werden kann, möglich. Aufgrund der Leitfähigkeit von nicht che
misch reinem Wasser genügt es dabei, die Düse mit einem der Pole der
Spannungsquelle zu verbinden und es kann auf eine Elektrode innerhalb
des Strahls verzichtet werden.
Wenn der Strahl in einen sich erweiternden Raum gespritzt wird, ergibt sich
nach dem bekannten Prinzip der Wasserstrahlpumpe eine Erniedrigung des
Gasdrucks gegenüber dem Umgebungsdruck. Da dadurch die Zündspan
nung der Entladung gesenkt wird ist es möglich, mit der gleichen Spannung
eine Entladung mit größerem Elektrodenabstand zu betreiben.
Neben Flüssigkeiten im engeren Sinne eignet sich das erfindungsgemäße
Verfahren auch für Kondensate gasförmiger Stoffe und für hochviskose
oder feinkörnige Medien. Zur Behandlung viskoser Flüssigkeiten zählt zum
Beispiel das Aushärten von Lacken, Druckfarben oder Kunstharzen durch
direkte Einwirkung der dielektrischen Barrierenentladung. Abgase von Ver
brennungsmotoren werden heute durch Katalysatoren weitgehend gerei
nigt. Oft bildet sich jedoch auf kalten Flächen ein Kondensat aus, das noch
schädliche Stoffe enthalten kann. Im Lebensmittelbereich ist die schonende
Entkeimung verderblicher flüssiger Lebensmittel, wie Milch oder Frucht
säfte, oder feinkörniger Nahrungsmittel, wie zum Beispiel von Gewürzen
möglich.
Neben der bekannten monofrequenten Hochfrequenzspannung kann die
Gasentladung auch mit anharmonischen Spannungen (siehe DE 43 07 768)
betrieben werden. Die räumliche Verteilung der Mikroentladungsfilamente
kann durch Verwendung einer Plasmaelektrode, wie sie in der
DE 43 02 465 beschrieben ist, homogenisiert werden.
Bezugszeichenliste
1, 2 Elektroden
3 Wechselstromquelle
4 Dielektrikum
5 Mikroentladungsfilament
6 Wasser
7 Elektronen
8 Gasphasenradikale
9 ultraviolette Strahlung
10 Ausströmöffnung
11 Flüssigkeitszufuhr
12 Kühlmedium
13 Ausnehmung für rohrförmige Elektrode (2)
14 Entladungsgefäß
15 Boden des Entladungsgefäßes
16 Deckel des Entladungsgefäßes
3 Wechselstromquelle
4 Dielektrikum
5 Mikroentladungsfilament
6 Wasser
7 Elektronen
8 Gasphasenradikale
9 ultraviolette Strahlung
10 Ausströmöffnung
11 Flüssigkeitszufuhr
12 Kühlmedium
13 Ausnehmung für rohrförmige Elektrode (2)
14 Entladungsgefäß
15 Boden des Entladungsgefäßes
16 Deckel des Entladungsgefäßes
Claims (13)
1. Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten, insbesondere zur Reini
gung und Entkeimung von Wasser, mit einer elektrischen Entladung,
wobei die Flüssigkeit in einen von wenigstens zwei Elektroden gebilde
ten Entladungsraum eingebracht wird, wobei eine Wechselspannung
an die Elektroden angelegt wird, wobei wenigstens eine Elektrode ein
Dielektrikum aufweist, wobei der Entladungsraum zwischen den Elek
troden nur teilweise mit der zu behandelnden Flüssigkeit ausgefüllt ist,
und wobei im Raum zwischen der Flüssigkeit und der der freien
Flüssigkeitsoberfläche gegenüberliegenden Elektrode eine
Gasentladung erfolgt,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasentladung in Form von Mikroentladungen erfolgt, bei der
sich im Entladungsraum Mikroentladungsfilamente ausbilden, daß die
Mikroentladungsfilamente eine endliche, insbesondere kurze, Lebens
dauer besitzen und sich wiederholen, und daß die Mikroentladungs
filamente sich von der freien Flüssigkeitsoberfläche zu der gegenüber
liegenden Elektrode erstrecken.
2. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssig
keit als dünner Film auf wenigstens einer der Elektroden ausgebracht
oder über diese Elektrode geströmt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, daß die
Flüssigkeit als frei laufender Strahl oder als Scheibe durch den Entla
dungsraum gespritzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet,
daß der Gasdruck im Entladungsraum nach dem Prinzip der
Wasserstrahlpumpe geringfügig unter den Umgebungsdruck abgesenkt
wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet,
daß die Flüssigkeit vernebelt oder mit Gasbläschen durchsetzt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5 dadurch gekennzeichnet,
daß eine Durchmischung des Entladungsgases mit der zu
behandelnden Flüssigkeit durchgeführt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 dadurch gekennzeichnet,
daß viskose Flüssigkeiten behandelt werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7 dadurch gekennzeichnet,
daß ein Kondensat behandelt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8 dadurch gekennzeichnet,
daß das Kondensat aus einem Abgas gereinigt wird.
10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprü
che 1 bis 9
dadurch gekennzeichnet,
daß eine erste, geerdete Elektrode als Gehäuse vorgesehen ist, daß
das Gehäuse in seinem oberen Bereich eine Eintrittsöffnung aufweist,
daß die Eintrittsöffnung mit einer Zuleitung für die zu behandelnde
Flüssigkeit verbunden ist, daß das im Gehäuse endende Teil der Zulei
tung eine mit einer Vielzahl von Öffnungen versehene Abdeckung
aufweist, durch die die Flüssigkeit in das Gehäuse eintropfen kann,
daß der Boden des Gehäuses gegenüber der Horizontalen geneigt ist
und an seinem tiefsten Ende wenigstens eine Austrittsöffnung auf
weist, durch die die behandelte Flüssigkeit austreten kann, daß im Innern
des Gehäuses eine zweite mit einem Dielektrikum belegte Elek
trode angeordnet ist, und daß die zweite Elektrode durch eine elek
trisch isolierte Öffnung im Gehäuse mit einer sich außerhalb des Ge
häuses befindlichen Wechselspannungsquelle elektrisch leitend ver
bunden ist.
11. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprü
che 1 bis 9
dadurch gekennzeichnet,
daß eine erste, geerdete Elektrode rohrförmig ausgestaltet und mit
einer rohrförmigen Zuleitung für die zu behandelnde Flüssigkeit ver
bunden ist, daß die erste Elektrode an dem der Zuleitung
abgewandten Ende senkrecht nach oben verläuft und oben offen ist,
daß der senkrechte Teil der ersten Elektrode wenigstens teilweise von
einem Dielektrikum koaxial und beabstandet umfaßt ist, daß der
untere Bereich der so gebildeten Öffnung mit einem Boden
verschlossen ist, daß am tiefsten Bereich des Bodens wenigstens eine
Austrittsöffnung vorgesehen ist, daß das Dielektrikum wenigstens
teilweise mit einer zweiten Elektrode koaxial belegt ist, und daß die
zweite Elektrode mit einer Wechselspannungsquelle verbunden ist.
12. Verfahren nach Anspruch 11 dadurch gekennzeichnet, daß am oberen
Ende des Dielektrikums ein Deckel vorgesehen ist, der den Ent
ladungsraum nach oben hin abschließt.
13. Verfahren nach Anspruch 12 dadurch gekennzeichnet, daß der Boden
und/oder Deckel aus demselben Material wie das Dielektrikum sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4440813A DE4440813C2 (de) | 1993-11-15 | 1994-11-15 | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4338902 | 1993-11-15 | ||
DE4440813A DE4440813C2 (de) | 1993-11-15 | 1994-11-15 | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4440813A1 true DE4440813A1 (de) | 1995-05-18 |
DE4440813C2 DE4440813C2 (de) | 1999-12-09 |
Family
ID=6502590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4440813A Expired - Fee Related DE4440813C2 (de) | 1993-11-15 | 1994-11-15 | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4440813C2 (de) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997022556A1 (en) * | 1995-12-20 | 1997-06-26 | Alcan International Limited | Thermal plasma reactor and wastewater treatment method |
WO1998009722A1 (en) * | 1996-09-09 | 1998-03-12 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
WO1998019788A2 (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-14 | E/P Technologies Inc. | Method and apparatus for dissociating materials |
US6117401A (en) * | 1998-08-04 | 2000-09-12 | Juvan; Christian | Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor |
EP1034359A1 (de) * | 1997-10-31 | 2000-09-13 | Juan Andres Sanchelima | Kontinuierlich verlängerter behälter mit variabler verweilzeit und verfahren |
WO2002046103A1 (en) * | 2000-12-08 | 2002-06-13 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
WO2002059046A2 (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-01 | Water Works Global, Inc. | Method of activation of chemically pure and potable water |
WO2002059045A2 (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-01 | WATER WORKS GLOBAL, INC. a Corporation of Delaware, US | Device for water activation in an electric non-self-maintained glow discharge |
WO2005097213A1 (de) * | 2004-04-08 | 2005-10-20 | Kist-Europe Forschungsgesellschaft Mbh | Vorrichtung und verfahren zur reinigung von flüssigkeiten |
WO2007144252A1 (de) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur reduzierung von verunreinigungen in einem wassersystem bei der herstellung von flächengebilden |
WO2008127135A1 (fr) | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Olexandr Borisovich Zayika | Procédé de traitement de l'eau et de solutions aqueuses par plasma de décharge gazeuse et dispositif de mise en oeuvre de ce procédé |
EP2247536A1 (de) * | 2008-03-07 | 2010-11-10 | LG Electronics Inc. | Vorrichtung für entladung in wasser |
EP2534931A2 (de) * | 2010-02-10 | 2012-12-19 | Alfredo Zolezzi-Garreton | Verfahren und vorrichtung zum aufbringen von plasmapartikeln auf eine flüssigkeit und verwendung zum desinfizieren von wasser |
WO2014108659A1 (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-17 | Asta Solutions Limited | A liquid treatment apparatus |
JP2015171672A (ja) * | 2014-03-11 | 2015-10-01 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
JPWO2016117260A1 (ja) * | 2015-01-21 | 2017-05-25 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
DE102018121551A1 (de) * | 2018-09-04 | 2020-03-05 | PICON GmbH | Verfahren und Anlage zur oxidativen Aufbereitung von Trink-, Brauch- und Abwasser |
DE102018214715A1 (de) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
WO2020109294A1 (de) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Graforce Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur plasmainduzierten wasserreinigung |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19951117A1 (de) * | 1999-10-23 | 2001-04-26 | Georg Haertel | Verfahren und Hochspannungsreaktor für die Nassoxidation im Hochspannungsfeld (KVOLTOX-Verfahren) |
WO2011092186A1 (de) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | Leibniz-Institut Für Plasmaforschung Und Technologie E. V. | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung einer elektrischen entladung in hohlkörpern |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2167718A (en) * | 1935-12-26 | 1939-08-01 | Standard Oil Dev Co | Apparatus for subjecting liquids to silent electric discharge |
FR1294282A (fr) * | 1960-04-13 | 1962-05-26 | Ici Ltd | Procédé pour effectuer des réactions chimiques dans des décharges électriques |
GB901022A (en) * | 1958-05-16 | 1962-07-11 | Berghaus Elektrophysik Anst | Method of and apparatus for producing reactions on gaseous, vaporous or finely dispersed liquid and solid substances under electrical action |
-
1994
- 1994-11-15 DE DE4440813A patent/DE4440813C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2167718A (en) * | 1935-12-26 | 1939-08-01 | Standard Oil Dev Co | Apparatus for subjecting liquids to silent electric discharge |
GB901022A (en) * | 1958-05-16 | 1962-07-11 | Berghaus Elektrophysik Anst | Method of and apparatus for producing reactions on gaseous, vaporous or finely dispersed liquid and solid substances under electrical action |
FR1294282A (fr) * | 1960-04-13 | 1962-05-26 | Ici Ltd | Procédé pour effectuer des réactions chimiques dans des décharges électriques |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J. Phys. D:Appl. Phys. 20(1987), 1421-37 * |
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997022556A1 (en) * | 1995-12-20 | 1997-06-26 | Alcan International Limited | Thermal plasma reactor and wastewater treatment method |
US6187206B1 (en) | 1995-12-20 | 2001-02-13 | Alcan International | Thermal plasma reactor and wastewater treatment method |
WO1998009722A1 (en) * | 1996-09-09 | 1998-03-12 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
US5980701A (en) * | 1996-09-09 | 1999-11-09 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
US6254764B1 (en) | 1996-11-05 | 2001-07-03 | E/P Technologies | Method for dissociating materials |
WO1998019788A2 (en) * | 1996-11-05 | 1998-05-14 | E/P Technologies Inc. | Method and apparatus for dissociating materials |
WO1998019788A3 (en) * | 1996-11-05 | 1998-08-06 | E P Technologies Inc | Method and apparatus for dissociating materials |
US5868919A (en) * | 1996-11-05 | 1999-02-09 | E/P Technologies | Method and apparatus for dissociating materials |
US6730275B2 (en) | 1997-09-05 | 2004-05-04 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
EP1034359A4 (de) * | 1997-10-31 | 2002-03-06 | Juan Andres Sanchelima | Kontinuierlich verlängerter behälter mit variabler verweilzeit und verfahren |
EP1034359A1 (de) * | 1997-10-31 | 2000-09-13 | Juan Andres Sanchelima | Kontinuierlich verlängerter behälter mit variabler verweilzeit und verfahren |
US6117401A (en) * | 1998-08-04 | 2000-09-12 | Juvan; Christian | Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor |
WO2002046103A1 (en) * | 2000-12-08 | 2002-06-13 | Battelle Memorial Institute | Corona method and apparatus for altering carbon containing compounds |
WO2002059046A2 (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-01 | Water Works Global, Inc. | Method of activation of chemically pure and potable water |
WO2002059045A2 (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-01 | WATER WORKS GLOBAL, INC. a Corporation of Delaware, US | Device for water activation in an electric non-self-maintained glow discharge |
WO2002059045A3 (en) * | 2001-01-25 | 2003-03-27 | Water Works Global Inc | Device for water activation in an electric non-self-maintained glow discharge |
WO2002059046A3 (en) * | 2001-01-25 | 2003-04-10 | Water Works Global Inc | Method of activation of chemically pure and potable water |
WO2005097213A1 (de) * | 2004-04-08 | 2005-10-20 | Kist-Europe Forschungsgesellschaft Mbh | Vorrichtung und verfahren zur reinigung von flüssigkeiten |
DE102004017509A1 (de) * | 2004-04-08 | 2005-11-17 | Kist-Europe Forschungsgesellschaft Mbh | Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung von Flüssigkeiten |
WO2007144252A1 (de) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur reduzierung von verunreinigungen in einem wassersystem bei der herstellung von flächengebilden |
WO2008127135A1 (fr) | 2007-04-11 | 2008-10-23 | Olexandr Borisovich Zayika | Procédé de traitement de l'eau et de solutions aqueuses par plasma de décharge gazeuse et dispositif de mise en oeuvre de ce procédé |
JP2010523327A (ja) * | 2007-04-11 | 2010-07-15 | ボリソビッチ ザイカ,アレキサンドル | ガス放電プラズマによる水及び水溶液の処理方法及びその遂行のための装置 |
US8813517B2 (en) | 2008-03-07 | 2014-08-26 | Lg Electronics Inc. | Air conditioner and air conditioning system |
EP2247536A1 (de) * | 2008-03-07 | 2010-11-10 | LG Electronics Inc. | Vorrichtung für entladung in wasser |
EP2247536A4 (de) * | 2008-03-07 | 2011-07-20 | Lg Electronics Inc | Vorrichtung für entladung in wasser |
US8449749B2 (en) | 2008-03-07 | 2013-05-28 | Lg Electronics Inc. | In-water discharging apparatus |
US8544825B2 (en) | 2008-03-07 | 2013-10-01 | Lg Electronics Inc. | Humidifier |
EP2534931A2 (de) * | 2010-02-10 | 2012-12-19 | Alfredo Zolezzi-Garreton | Verfahren und vorrichtung zum aufbringen von plasmapartikeln auf eine flüssigkeit und verwendung zum desinfizieren von wasser |
EP2534931A4 (de) * | 2010-02-10 | 2013-11-27 | Alfredo Zolezzi-Garreton | Verfahren und vorrichtung zum aufbringen von plasmapartikeln auf eine flüssigkeit und verwendung zum desinfizieren von wasser |
JP2016502931A (ja) * | 2013-01-08 | 2016-02-01 | アスタ ソリューションズ リミテッドAsta Solutions Limited | 液体処理装置 |
WO2014108659A1 (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-17 | Asta Solutions Limited | A liquid treatment apparatus |
AU2013372508B2 (en) * | 2013-01-08 | 2018-08-02 | Asta Solutions Limited | A liquid treatment apparatus |
JP2015171672A (ja) * | 2014-03-11 | 2015-10-01 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置及び水処理方法 |
JPWO2016117260A1 (ja) * | 2015-01-21 | 2017-05-25 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
DE102018214715A1 (de) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
DE102018214715B4 (de) | 2018-08-30 | 2020-07-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
DE102018121551A1 (de) * | 2018-09-04 | 2020-03-05 | PICON GmbH | Verfahren und Anlage zur oxidativen Aufbereitung von Trink-, Brauch- und Abwasser |
WO2020109294A1 (de) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Graforce Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur plasmainduzierten wasserreinigung |
CN113165913A (zh) * | 2018-11-30 | 2021-07-23 | 格拉福斯有限责任公司 | 用于等离子体诱导的水净化的方法和设备 |
JP2022509280A (ja) * | 2018-11-30 | 2022-01-20 | グラフォース・ゲーエムベーハー | プラズマ誘起浄水のための方法及び装置 |
US20220081328A1 (en) * | 2018-11-30 | 2022-03-17 | Graforce Gmbh | Method And Device For A Plasma-Induced Water Purification |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4440813C2 (de) | 1999-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4440813C2 (de) | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0478583B2 (de) | Verfahren und anlage zur behandlung von mit schadstoffen belasteten flüssigkeiten | |
DE4106568C2 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von Ozon in Flüssigkeiten | |
EP0470518B2 (de) | Vorrichtung zur Durchführung photochemischer Reaktionen | |
DE3043176A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von ozon | |
EP0697374A1 (de) | Vorrichtung zum Behandeln von Fluiden mit UV-Strahlung | |
DE68929524T2 (de) | Sterilisierung | |
EP3562276A1 (de) | Vorrichtung zur plasmagestützten behandlung von flüssigkeiten | |
DE2816875A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von ozon | |
EP1337281A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur oberflächenbehandlung von objekten | |
DE60104211T2 (de) | Elektrochemische zelle und elektrochemische behandlung von kontaminiertem wasser | |
DE102018121551A1 (de) | Verfahren und Anlage zur oxidativen Aufbereitung von Trink-, Brauch- und Abwasser | |
EP0508338A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Photolyse von organischen Schadstoffen in Wasser | |
DE19507189C2 (de) | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens | |
DE19951117A1 (de) | Verfahren und Hochspannungsreaktor für die Nassoxidation im Hochspannungsfeld (KVOLTOX-Verfahren) | |
DE10040566A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung eines aquatischen Systems | |
DE19813451B4 (de) | Verfahren zur mikrobiologischen Reinigung | |
DE2618338A1 (de) | Oxidation organischer inhaltsstoffe waessriger medien | |
DE10316759B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur oxidativen Beseitigung von unerwünschten Bestandteilen in einem Gasstrom, insbesondere Luftstrom | |
DE19628133A1 (de) | Verfahren zum Desinfizieren und Reinigen von Kleinteilen und dafür geeignete Vorrichtung | |
DE19740401C1 (de) | Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung | |
DE4438052C2 (de) | Verfahren, Vorrichtung und Strahlungsquelle zur oxidativen Photopurifikation | |
WO2005097213A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur reinigung von flüssigkeiten | |
EP1394118A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten | |
DE102018214715B4 (de) | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |