JP6157764B1 - 水処理装置および水処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
このような水処理を行う水処理装置として、被処理水を内部に蓄えることが可能な反応容器と、被処理水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生するピン状の電極とをそれぞれ有する階層化構成の処理手段と、電極に対して高電圧を印加する電源手段とを具備するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。このようなラジカル処理システムによれば、ラジカルを利用し、水中に溶存する難分解性物質の分解効率を向上させることが可能になる。
被処理水が流れる流路部と高電圧が印加される電圧印加部との間に電界を形成し、前記電圧印加部と前記流路部との間に放電を発生させることにより水処理を行う水処理装置において、
前記電圧印加部の外周に前記流路部と対向して配置され、前記流路部との間に電界を形成する電界緩和部と、
前記電圧印加部と前記電界緩和部とに電圧を印加する電源とを備え、
前記電圧印加部は、前記被処理水の通流方向と直交する延在方向に延在する形状を有し、
前記電界緩和部は、前記延在方向における前記電圧印加部の両端部と対向するようにして設けられたものであり、
前記電圧の印加によって前記電界緩和部が形成する電界は、前記電圧の印加によって前記電圧印加部が形成する電界よりも小さくするものである。
前記水処理装置を用いて水処理を行う水処理方法であって、
前記流路部に被処理水を通流しながら前記電圧印加部と前記流路部との間にて放電を形成し、前記被処理水を前記放電に接触させ、前記放電で生成された活性種を前記被処理水中に供給し、前記被処理水中に供給された前記活性種によって前記被処理水を処理するものである。
図1〜図3は、この発明を実施するための実施の形態1を示すものであり、図1は水処理装置の構成を示す構成図、図2(a)は図1のA−A線の断面図、図2(b)は第1部材および第2部材の断面図、図3(a)は図1のB−B線の断面図、図3(b)は高圧電極の断面図である。これらの図において、水処理装置10は、流路部2と、高電圧部3と、電界緩和部5とを有し、流路部2の図1における左側方に配置されたパルス電源8から電力の供給を受ける。なお、図示していないが、流路部2と高電圧部3と電界緩和部5とは密閉あるいは半密閉の収容装置に収容されている。水処理装置10において、被処理水Wは流路部2上を流れる間に放電によって処理される(詳細後述)。被処理水Wが流れる流路部2は、底板(流路)2a、一対の側壁2b,2cを有する。底板2aは平板状のものであり、被処理水Wが流れる方向(図1の線B−Bの向き)に延在され、この延在方向と直交する方向(図1のA−A線の向き)の両端部に、一対の側壁2b、2cが設けられ、底面が平らな断面矩形の樋状の形状を有している。流路部2は、導電性材料で構成する。特にステンレス鋼またはチタンなど、耐腐食性に優れた金属材料を用いることが望ましい。被処理水Wは、流路部2の底板2aと側壁2bと側壁2cとによって形成される断面矩形の溝状部を流れる。
高電圧部3と流路部2との間に供給される気体層を形成する気体としては、空気、酸素、希ガス(アルゴン、ネオン)などが用いられる。高電圧部3にパルス電圧を印加することで、高電圧部3と流路部2との間に形成される気体層、あるいは気体層と被処理水Wとの界面で放電が生じる。このとき、酸素分子(O2)、水分子(H2O)が高エネルギーの電子と衝突し、(1)式、(2)式の解離反応が生じる。ここでeは電子、Oは原子状酸素、Hは原子状水素、OHはOHラジカルである。
e+O2→2O (1)
e+H2O→H+OH (2)
(1)式で発生した原子状酸素の一部は、(3)式によりオゾン(O3)となる。ここで、Mは反応の第三体であり、気体中のあらゆる分子又は原子を表わす。
O+O2+M→O3 (3)
また、(2)式で生じたOHラジカルの一部は、(4)式の反応により過酸化水素(H2O2)となる。
OH+OH→H2O2 (4)
そして、(1)〜(4)式の反応で生成されたO、OH、O3、H2O2などの酸化性の活性種は、(5)式の反応により、被処理水W中の有機物を二酸化炭素(CO2)と水に酸化分解する。ここで、Rは処理対象となる有機物である。
R+(O、OH、O3、H2O2)→CO2+H2O (5)
O3→O3(l) (6)
H2O2→H2O2(l) (7)
さらに、O3(l)とH2O2(l)との反応により、(8)式の通り水中でOHラジカルが生成される。
O3(l)+H2O2(l)→OH(l) (8)
(6)から(8)式で生成されたO3(l)、H2O2(l)、及びOH(l)は、(9)式により、水中反応で有機物を分解する。
R+(O3(l)、OH(l)、H2O2(l))→CO2+H2O (9)
以上に述べたように、本実施の形態1による被処理水W中の有機物の分解は、反応(5)による被処理水Wの表面の有機物の分解と、反応(9)による被処理水Wの水中での有機物の分解の双方によって進行する。
また、パルス電源8から出力される電圧の極性、電圧波高値、繰り返し周波数、パルス幅などは、高圧電極4や流路部2の構造、気体層のガス種等の諸条件に応じて、適宜決定することができる。一般に、電圧波高値は1kV〜50kVが望ましい。これは、1kV未満では安定した放電が形成されず、また、50kV超とするためには、電源の大型化および電気絶縁の困難化により、製造コストや保守コストが著しく増加するためである。
また、繰り返し周波は、10pps(pulse−per−second)以上、100kpps以下とすることが望ましい。これは、10pps未満では、十分な放電電力を投入するために非常に高い電圧が必要となり、逆に、100kppsよりも大きくすると、水処理の効果が飽和し、電力効率が低下するためである。また、被処理水Wの流量または被処理水Wに含まれる成分や濃度に応じて、電圧波高値、繰り返し周波数、パルス幅を調整するようにしても良い。
また、本実施の形態では、高電圧部3の外周部を周回するように、被処理水Wの流れと直交する方向に一対の第1部材6を設け、被処理水Wの流れに沿う方向に一対の第2部材7を設けたが、第1部材6または第2部材7は、どちらか一方のみを設けることも可能である。つまり、第1部材6あるいは第2部材7は、高電圧部3の一部の端部に配置してもよい。例えば、本実施の形態の場合、隣り合う高圧電極4の間隔が、高電圧部3と流路部2との間隔Gよりも広い場合は、被処理水Wの流れに沿う方向に配置される一対の第1部材6を省略することができる。
なお、本実施の形態に示す水処理装置10では、流路部2の側方にパルス電源8を設けたが、接続線9を延長することで、流路部2と離れた位置にパルス電源8を設けることもできる。また、流路部2、高電圧部3、電界緩和部5を密閉あるいは半密閉の収容装置に収容し、収容装置の外にパルス電源8を設けることで、被処理水Wの飛沫や蒸気、また放電によって生じた酸化性粒子によってパルス電源8が劣化することを防ぐことができる。
図5〜図7は、実施の形態2を示すものであり、図5は水処理装置の構成を示す構成図、図6(a)は図5のA−A線の断面図、図6(b)は第1部材および第2部材の断面図、図7は図5のB−B線の断面図である。これらの図において、水処理装置20は、電圧印加部としての高電圧部13を有する。高電圧部13は、複数の高圧電極14を有する。高圧電極14は、断面円形のワイヤ状のステンレス鋼線で形成され(後述の図6(b)の第1部材16および第2部材17と同じ)、流路部2の上方にあって、その長さ方向が流路部2の延在方向と直交する方向(図5におけるA−A線の向き)になるようにして、流路部2の延在方向に等間隔に複数配置されている。高圧電極14の流路部2と対向する対向部14aは、断面円形の線材の下半分の部分である。高圧電極14は、流路部2に対して平行に、図示しない絶縁性保持部材によって流路部2の上方に流路部2との間に気体層を形成するように間隔Gを設けて保持されている。すなわち、高圧電極14と流路部2との間隔Gが一定値になるようにして、かつ間に気体層を形成するようにして保持されている。
図8〜図10は、実施の形態3を示すものであり、図8は水処理装置の構成を示す構成図、図9(a)は図8のA−A線の断面図、図9(b)は第1部材および第2部材の断面図、図10(a)は図8のB−B線の断面図、図10(b)は高圧電極の断面図である。これらの図において、水処理装置30は、電圧印加部としての高電圧部23を有する。高電圧部23は複数の高圧電極24を有する。高圧電極24は、図10(b)に示すように刃状の断面形状を有する対向部24aを有する。そして、高圧電極24は、流路部2の延在方向(被処理水Wの流れに沿う方向)(図8におけるB−B線の向き)に等間隔に複数配置されて構成されている。高圧電極24は、流路部2の上方にあって、流路部2の延在方向と直交する方向(図8におけるA−A線の向き)に流路部2に対して平行に、図示しない絶縁性保持部材によって保持されている。すなわち、高圧電極24と流路部2との間隔Gが一定値になるようにして、かつ間に気体層を形成するようにして保持されている。
Claims (11)
- 被処理水が流れる流路部と高電圧が印加される電圧印加部との間に電界を形成し、前記電圧印加部と前記流路部との間に放電を発生させることにより水処理を行う水処理装置において、
前記電圧印加部の外周に前記流路部と対向して配置され、前記流路部との間に電界を形成する電界緩和部と、
前記電圧印加部と前記電界緩和部とに電圧を印加する電源とを備え、
前記電圧印加部は、前記被処理水の通流方向と直交する延在方向に延在する形状を有し、
前記電界緩和部は、前記延在方向における前記電圧印加部の両端部と対向するようにして設けられたものであり、
前記電圧の印加によって前記電界緩和部が形成する電界は、前記電圧の印加によって前記電圧印加部が形成する電界よりも小さい水処理装置。 - 前記電界緩和部は、前記電圧印加部と電気的に接続され、同電位に保たれたものである請求項1に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部と前記流路部との間隔が、前記電圧印加部と前記流路部との間隔よりも大きいものである請求項1または請求項2に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部と前記電圧印加部が接して設けられ、前記電界緩和部と前記流路部との間隔が、前記電圧印加部と前記流路部との間隔以下に設けられたものである請求項1に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部は、前記流路部と最も近接する対向部が、所定方向の長さが長くされた平面部と前記所定方向と直交する方向の両端部に角が丸められた丸め部を有するものである請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部は、断面円形の線材あるいは中空材で形成されたものである請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部は、前記流路部と対向する対向部に絶縁層が設けられたものである請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記電圧印加部は、複数の高圧電極で構成され、前記電圧印加部は、前記高圧電極が前記通流方向に互いに間隔を設けて複数配置されたものである請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記電界緩和部は、前記電圧印加部の前記通流方向の両端に位置する前記高圧電極と対向するようにして設けられたものである請求項8に記載の水処理装置。
- 前記高圧電極が、薄板状のものである請求項8又は請求項9に記載の水処理装置。
- 請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の水処理装置を用いて行う水処理方法であって、前記流路部に前記被処理水を通流しながら前記電圧印加部と前記流路部との間にて放電を形成し、前記被処理水を前記放電に接触させ、前記放電で生成された活性種を前記被処理水中に供給し、前記被処理水中に供給された前記活性種によって前記被処理水を処理する水処理方法。
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