JP2012096141A - 水滅菌装置及び水滅菌方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】段差部と該段差部に連なる平板部とが複数交互に連設された階段状の流路11の上段部の水供給配管12から階段状の流路11に向かって雑菌を含んだ被処理水17を供給すると共に、プラズマ発生装置13で発生させたプラズマを階段状の流路11を膜状に流れる被処理水17に照射して雑菌を含んだ被処理水中17中の水分子を解離してOラジカル及びOHラジカルを生成させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて被処理水17に含まれる雑菌を死滅させる。
【選択図】図1
Description
11 階段状流路
12 水供給配管
13、23、33、43、63 プラズマ発生装置
17、37、47、67 被処理水
31、41 水処理容器
32 ミスト供給配管
39、49、69 処理水排出管
44 コイル
60 水槽
Claims (19)
- 段差部と該段差部に連なる平板部とが複数交互に連設された階段状の流路と、
該階段状の流路の上段部に雑菌を含んだ被処理水を供給する水供給装置と、
前記階段状の流路を膜状に流れる前記被処理水にプラズマを照射するプラズマ発生装置と、を有することを特徴とする水滅菌装置。 - 前記プラズマ発生装置から照射されたプラズマによって前記膜状の被処理水中の水分子を解離してOラジカル及びOHラジカルを生成させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項1に記載の水滅菌装置。
- 前記プラズマ発生装置により発生する前記プラズマ中においてOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を発生させ、発生したOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を前記被処理水に取り込んで前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項1に記載の水滅菌装置。
- 前記水供給装置は、前記被処理水をミスト状で前記階段状の流路に供給することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水滅菌装置。
- 水処理容器と、
該水処理容器内に雑菌を含んだミスト状の被処理水を供給するミスト供給装置と、
前記水処理容器内でプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、を有し、
該プラズマ発生装置で発生したプラズマを前記水処理容器内に供給されたミスト状の被処理水に照射して雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌装置。 - 前記プラズマは、該被処理水中の水分子を解離してOラジカル及びOHラジカルを生成させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項5に記載の水滅菌装置。
- 前記プラズマ中においてOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を発生させ、発生したOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を前記被処理水中に取り込んで前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項5に記載の水滅菌装置。
- 被処理水を貯留する水槽と、
プラズマ生成ガスを用いてOラジカル及びOHラジカルを生成するプラズマ発生装置と、
生成したOラジカル及びOHラジカルを含むプラズマ処理ガスを前記水槽中に供給してバブリングさせるプラズマ処理ガス供給装置と、を有し、
前記プラズマ処理ガス中の前記Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌装置。 - 前記プラズマ発生装置は、容量結合プラズマ(CCP)装置、誘導結合プラズマ(ICP)装置、DCプラズマ装置、DCパルスプラズマ装置、及びマイクロ波プラズマ装置のうちのいずれか1つであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の水滅菌装置。
- 誘電体からなり、内部を雑菌を含んだ被処理水が流れる水処理容器と、
該水処理容器の外周部に巻き回されたコイルと、
該コイルに接続された高周波電源と、
前記水処理容器にプラズマ生成ガスを供給するガス供給装置と、を有することを特徴とする水滅菌装置。 - 前記コイルに高周波電力を印加して前記水処理容器内に供給されるプラズマ生成ガスからプラズマを生成し、該生成したプラズマを前記水処理容器内を流れる被処理水に照射し、該被処理水中の水分子を解離してOラジカル及びOHラジカルを生成させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項10記載の水滅菌装置。
- 前記コイルに高周波電力を印加して前記水処理容器内に供給されるプラズマ生成ガスから生成するプラズマ中においてOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を発生させ、発生したOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を前記被処理水中に取り込んで前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項10記載の水滅菌装置。
- 段差部と該段差部に連なる平板部とが複数交互に連設された階段状の流路に雑菌を含んだ被処理水を膜状に流通させ、該膜状に流通する被処理水に対しプラズマを照射して前記雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌方法。
- 前記被処理水に前記プラズマを照射して前記被処理水中の少なくとも一部の水分子をOラジカル及びOHラジカルに解離させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項13記載の水滅菌方法。
- 前記プラズマ中においてOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を発生させ、発生したOラジカル及びOHラジカル若しくはその一方を前記被処理水中に取り込むことにより前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする請求項13記載の水滅菌方法。
- ミスト状の被処理水にプラズマを照射して前記被処理水中の水分子を解離させてOラジカル及びOHラジカルを生成し、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌方法。
- Oラジカル及びOHラジカルを含むガスを被処理水中に供給してバブリングし、前記Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌方法。
- 水処理容器内にプラズマ生成ガスと被処理水とを供給し、前記プラズマ生成ガスを励起して発生したプラズマによって前記被処理水中の水分子を解離させてOラジカル及びOHラジカルを生成させ、該Oラジカル及びOHラジカルを用いて前記被処理水に含まれる雑菌を死滅させることを特徴とする水滅菌方法。
- 前記雑菌を死滅させた処理水中に残留する電荷を除電することを特徴とする請求項13乃至18のいずれか1項に記載の水滅菌方法。
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