KR100479321B1 - 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리 장치 시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 라디칼 생성매질이 첨가된 원수가 유입되는 원수유입부; 유입된 원수를 자외선을 조사하면서 처리하는 층류흐름반응조; 상기 층류흐름반응조에서 처리된 원수를 수용하여 자외선을 조사하면서 처리하는 완전혼합반응조; 및 처리수 배출부를 포함하여 구성된 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템에 관한 것으로서, 연속처리가 가능하고, 처리효율을 증가시키고 반응조의 크기를 줄일 수 있으며 완충효과를 기대할 수 있다.
Description
본 발명은 저분자성 또는 난분해성 유기물을 처리하기 위한 장치 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 고급 산화법(광분해 산화법)을 이용하여 원수에 포함된 저분자성 또는 난분해성 유기물을 제거하는 장치 시스템에 관한 것이다.
반도체, TFT-LCD, 유기EL 등의 다양한 산업 생산 공정 중에 발생되는 산업폐수 등은 다양한 방법에 의해서 처리되게 된다.
종래에는 폐수를 미생물을 이용하여 분해 처리하는 생물학적방법이 널리 사용되었으나, 폐수 중에 케톤, 알데히드, 삼중결합 탄소, 알콜류 등과 같은 난분해성 유기물이 포함된 경우에는 그 처리가 효과적이지 못하여, 산화공정을 이용하는 다양한 물리화학적 방법이 고안되었고, 그 중에서 최근에는 자외선을 이용한 고급산화법이 시도되고 있다.
고급산화법은 오존(O3) 또는 과산화수소(H2O2)에 자외선을 조사하여 강한 산화제인 라디칼(ㆍOH)을 형성시켜 유기물을 분해하는 방법이다.
이와 같은 고급산화법은 저분자성 또는 난분해성 유기물을 분해하는데 매우 효과적이긴 하지만, 그와 같은 분해효과를 극대화하기 위해서는 고급산화법을 적용하기 위한 장치 시스템 개발이 우선되어야 한다.
종래의 고급산화법을 이용한 유기물처리 장치 시스템은 원수의 흐름을 제어하는데 있어서 완전혼합방식 또는 회분식을 채택하였는데, 완전혼합방식의 경우는 처리효율이 떨어지고, 회분식의 경우는 연속운전이 불가능한 단점이 있었고, 사용하는 자외선 램프에 있어서도 고압램프의 적용에 따른 문제점을 극복하지 못하여 저압램프를 사용함에 따라서 처리 효율이 떨어지는 단점이 있었다.
본 발명은 상기 단점을 해결하기 위해서 고안된 것으로서, 본 발명의 목적은 저분자성 또는 난분해성 유기물을 보다 효율적으로 처리할 수 있는 장치 시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 라디칼 생성매질이 첨가된 원수가 유입되는 원수유입부; 유입된 원수를 자외선을 조사하면서 처리하는 층류흐름반응조; 상기 층류흐름반응조에서 처리된 원수를 수용하여 자외선을 조사하면서 처리하는 완전혼합반응조; 및 처리수 배출부를 포함하여 구성된 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템을 제공한다.
상기 원수유입부는 원수유입배관 및 원수유입배관에 연결된 라디칼 생성매질 주입장치로 구성된다. 이때, 상기 원수유입배관은 상기 층류흐름반응조 내부까지 연장되어 형성되며, 층류흐름반응조 내에서 원수의 층류흐름을 유도하기 위해서 상부쪽으로 원수유출구가 형성될 수 있다. 또한, 상기 라디칼 생성매질 주입장치에서는 과산화수소(H2O2) 또는 오존(O3)이 주입될 수 있다.
상기 층류흐름반응조 및 상기 완전혼합반응조 내에는 고압자외선램프가 형성되어 있어 자외선이 조사되게 된다. 이때, 상기 고압자외선램프의 양 말단은 상기 반응조 측면으로부터 150mm 이상의 간격으로 이격되어 형성되는 것이 램프열에 의한 전기설비의 열화방지측면에서 바람직하다.
상기 완전혼합반응조에는 공기주입장치가 연결되어 반응조 내에 공기를 주입함으로써 원수의 완전혼합이 유도될 수 있다.
상기 처리수 배출부에는 촉매가 코팅된 활성탄 필터와 같은 라디칼 생성매질 제거장치가 추가로 연결되어, 최종 처리후 처리수에 잔류하는 과산화수소 또는 오존 등을 제거할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 첫 번째 특징은 층류흐름반응조 및 완전혼합반응조의 2가지 반응조의 혼합구성에 있는데, 그 점에 대해서 상세히 설명하면 다음과 같다.
일반적으로 수처리 공정에 사용되는 반응조는 층류흐름반응조(Laminar Flow Reactor), 완전혼합반응조(Continuous Stirred Tank Reactor: CSTR), 및 회분식 반응조(Batch Reactor)로 나뉜다.
층류흐름반응조는 처리효율이 높고, 반응조의 크기를 최소화할 수 있으며, 연속적인 처리가 가능한 장점이 있는 반면에, 완충역할이 없고, 층류조건 유지를 위한 섬세한 설계 및 운전이 요구되는 단점이 있다. 특히, 완충역할이 없기 때문에 종래에는 유기물 처리 장치에서 사용되지 않았다.
완전혼합반응조는 완충역할이 탁월하고, 설계 및 운전이 간단하고, 연속적인 처리가 가능한 장점이 있는 반면에, 처리효율이 낮고 반응조의 크기가 커지는 단점이 있다.
회분식 반응조는 처리효율이 높고 반응조의 크기를 최소화할 수 있지만 연속적인 처리가 불가능한 단점이 있다.
본원발명은 우선, 연속적인 처리가 불가능한 회분식 반응조를 그 구성에서 제외하였으며, 층류흐름반응조와 완전혼합반응조를 혼합구성함으로써 양 반응조의 장단점을 보완할 수 있도록 한 것이다. 특히, 층류흐름반응조를 채택함으로써 처리효율을 증가시켰고, 층류흐름반응조의 최대 단점인 완충역할을 완전혼합반응조로 보완하도록 하였다.
층류흐름반응조가 완전혼합반응조에 비해 처리효율이 우수함은 다음 식으로부터 설명될 수 있다.
층류흐름반응조의 반응식은 t = 이고,
완전혼합반응조의 반응식은 t = 이다.
(상기 식에서, t는 시간, k는 처리속도상수, Ce는 유기물의 처리후 농도, Co는 유기물의 초기농도이다)
여기서, 처리속도상수(k)는 양자가 동일하다고 가정하고, 유기물이 90% 제거되는데 걸리는 시간을 비교해보면(즉, 유기물의 초기농도(Co)를 1로, 처리후 농도(Ce)를 0.1),
t(층류흐름반응조) / t(완전혼합반응조) = / = 9
결국, 동일한 처리효과를 나타내는데 층류흐름반응조가 완전혼합반응조에 비해 처리시간을 9배 단축시킬 수 있으며, 따라서 반응조의 크기를 9배 줄일수 있게 된다.
본 발명의 두 번째 특징은 반응조 내에 고압자외선램프를 적용시킨 것인데, 이하 그 점에 대해서 상세히 설명한다.
자외선에 의해 과산화수소 및 오존이 라디칼(ㆍOH)로 전환되고 이 라디칼이 유기물을 분해하는데 그 과정은 다음과 같다.
1) H2O2 + UV → 2 ㆍOH
2) O3 + H2O + UV → O2 + H2O2 → + UV → 2ㆍOH
→ + O3 → 2HO2
- + O → 2ㆍOH
3) 유기물 + ㆍOH → 유기물 중간생성물(유기물 라디칼) + ㆍOH → CO2 + H2O
상기 과정에서 알 수 있듯이, 유기물을 완벽하게 분해하기 위해서는 많은 양의 라디칼(ㆍOH) 생성이 선행되어야 하며 이를 위해서는 과산화수소 및 오존을 분해하는데 필요한 충분한 양의 자외선이 필수적이다.
자외선을 발생시키는 자외선램프는 크게 저압자외선램프와 고압자외선램프로 나뉜다.
저압자외선램프는 110V 또는 220V의 전압을 사용하는데, 전기에너지의 자외선으로의 전환율이 높고, 램프 열에 의한 물의 온도상승이 작은 장점이 있는 반면에, 254nm의 단파장만 이용가능하며, 조사강도가 1watt/램프길이(inch)정도로서 매우 작고, 자외선의 조사 가능 거리가 매우 짧아, 유기물처리장치에 적용하기 위해서는 램프의 수가 증가하게 되고, 따라서 설비가 복잡하게 되며 유지관리가 어려운 단점이 있다.
고압자외선램프는 700V이상의 전압을 사용하는데, 램프열(보통 900℃)에 의해서 전기설비가 열화될 가능성이 있고 또한 물의 온도가 상승되므로 설계 및 운전시 각별한 주의가 요하는 단점이 있는 반면에, 180 내지 600nm의 복합파장을 이용할 수 있고, 조사강도가 200 내지 600watt/램프길이(inch)정도로서 매우 크고, 자외선의 조사 가능 거리가 길어, 유기물처리장치에 적용하기 위해서는 램프의 수를 감소시킬 수 있고, 따라서 설비가 간단하게 되어 유지관리가 용이한 장점이 있다.
상기 장단점을 근거로, 과산화수소 및 오존을 분해하여 많은 양의 라디칼(ㆍOH)을 형성시키기 위해서는 고압자외선램프가 보다 바람직함을 알 수 있다.
한편, 종래에는 고압자외선램프의 열로 인해 발생되는 문제점을 극복하는 것이 불가능하였기 때문에 실제로 고압자외선램프를 적용하지 못하였으나, 본 발명은 그와 같은 문제점을 해결함으로써 고압자외선램프의 적용이 가능하도록 한 것이다.
그 해결방안은 다음과 같다.
첫째, 완전혼합반응조에 공기를 주입함으로써, 완전혼합반응조로 이동된 원수의 온도상승이 억제되도록 한 것이다.
둘째, 고압자외선램프의 양 말단이 반응조 측면으로부터 소정의 간격으로, 바람직하게는 150mm 이상의 간격으로 이격되도록 함으로써 전기설비의 열화를 방지하도록 한 것이다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템의 개략도로서, 도 1에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 장치 시스템은 층류흐름반응조(10) 및 완전혼합반응조(20)를 포함하여 구성된다.
저분자성 또는 난분해성 유기물이 포함된 원수는 원수유입배관(30)을 통해 층류흐름반응조(10)로 공급된 후 완전혼합반응조(20)를 거쳐 처리된 후 배출관(40)을 통해 배출되게 된다(원수의 흐름은 도면에 화살표로 도시됨).
층류흐름반응조(10)와 완전혼합반응조(20)는 일 측면이 서로 접하여 형성되며, 원수가 층류흐름반응조(10)에서 완전혼합반응조(20)로 연속적으로 이동할 수 있도록 양 반응조(10, 20)의 접면 상부는 개방된 구조(50)로 형성되어 있다.
상기 원수유입배관(30)에는 라디칼 생성매질 주입장치(60)가 연결되어 있어, 원수에 라디칼 생성매질이 첨가된다. 이때, 라디칼 생성매질로는 과산화수소 또는 오존이 바람직하다.
도 2는 본 발명에 따른 층류흐름반응조의 상세도로서, 도 2에서 알 수 있듯이, 상기 층류흐름반응조(10)의 하부에는 상기 원수유입배관(30)이 연장되어 형성되며, 원수가 층류흐름으로 유도될 수 있도록 원수유입배관(30)의 상부쪽에 원수유출구(33)가 형성되어 있다.
상기 층류흐름반응조(10) 내에는 자외선 조사를 위한 복수개의 고압자외선램프(12)가 형성되어 있으며, 상기 램프(12) 둘레에는 석영슬리브(18)가 형성되어 있어 램프(12)를 보호하고 램프가 원수와 접촉하지 않도록 한다.
도 3a는 층류흐름반응조 내에 자외선 조사부가 설치되는 모습을 보여주는 상세도이고, 도 3b는 고압자외선램프가 반응조의 측면으로부터 이격되는 거리에 따른 석영슬리브 내부의 온도변화를 보여주는 그래프이다.
도 3a와 같이 본 발명에 따른 고압자외선램프(12)는 그 양 말단이 반응조(10) 측면으로부터 소정의 간격(x)으로 이격되어 형성되는 것이 램프열에 의한 전기설비의 열화방지측면에서 바람직한데, 도 3b에서 알 수 있듯이, 그 거리는 150mm 이상의 간격으로 이격되도록 형성되는 것이 바람직하다. 설명되지 않은 도면부호 13은 램프의 전극이고, 도면부호 14는 전원과 연결하기 위한 인출선이다.
도 4는 본 발명에 따른 완전혼합반응조의 상세도로서, 도 4에서 알 수 있듯이, 상기 층류흐름반응조에서 처리된 원수는 접면의 개방된 공간(50)을 통해 완전혼합반응조(20)로 유입되게 된다. 유입된 원수는 완전혼합반응조(20)에서 완전혼합되는데, 이는 완전혼합반응조(20)에 연결된 공기주입장치(70)로부터 주입된 공기의 작용에 의해서 이루어진다.
상기 공기주입장치(70)에서 주입되는 공기는 배관을 통해 완전혼합반응조(20)의 하부에서 완전혼합반응조의 내부로 주입되는 것이 바람직하며, 주입된 공기에 의해 전술한 바와 같이 원수의 완전혼합이 이루어지고, 원수의 온도가 낮아지게 된다.
상기 완전혼합반응조(20) 내에는 고압자외선램프(22)가 형성되어 있고, 램프(22)둘레에는 석영슬리브(28)가 형성되어 있다. 고압자외선램프(22)는 그 양 말단이 반응조(20) 측면으로부터 150mm 이상의 간격으로 이격되어 형성되는 것이 바람직함은 전술한 바와 동일하다.
처리된 처리수는 배출배관(40)을 통해서 배출되게 된다.
이때, 배출배관(40)이 형성된 쪽의 완전혼합반응조(20) 내에는 격막(25)이 형성되는 것이 바람직하다. 상기 격막(25)이 형성됨으로써, 층류흐름반응조(10)에서 유입된 원수가 완전혼합반응조(20)에서 처리되지 않고 곧바로 배출배관(40)으로 배출되는 것이 방지된다.
한편, 배출배관(40)을 통해서 배출된 처리수는 그 후에 역삼투압 장치 또는 이온교환수지와 같은 장치에서 후처리되는 경우가 있다. 이와 같은 경우에 처리수에 과산화수소 또는 오존 등과 같은 라디칼 생성매질이 잔류하는 경우는 시스템에 큰 문제를 야기시킬 수 있다. 따라서, 역삼투압 장치 또는 이온교화수지 장치 등이 추가적으로 도입되는 경우에는 잔류하는 라디칼 생성매질을 제거하기 위한 라디칼 생성매질 제거장치(80)를 상기 배출배관(40)과 연결하여 형성하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 층류흐름반응조(10) 및 완전혼합반응조(20)의 전체부피는 비속도가 2(hr-1)가 되도록 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명자는 반응조의 크기를 설계하기 위해서 1m3의 수조에 조사량이 각각 다른 자외선램프를 삽입하여 과산화수소의 제거특성을 측정하였다.
도 5는 그 결과를 보여주는 그래프로서, 도 5에서 알 수 있듯이, 과산화수소를 90% 이상 제거하는데 소요된 시간은, 자외선 조사량이 2kW/m3에서는 약 45분, 4kW/m3에서는 약 35분, 8kW/m3에서는 약 25분, 12kW/m3에서는 약 18분의 시간이 소요되었으며, 이들의 평균시간은 약 30분임을 알 수 있었다. 따라서, 반응조 전체의 크기를 원수의 체류시간이 30분이 되도록, 다시 말하면 반응조 전체의 부피를 비속도가 2(hr-1)가 되도록 형성하였다.
또한, 적정 자외선 조사량과 조사거리를 결정하기 위해서 상기 두가지를 인자로 하여 연속실험을 수행하였다. 실험은 비속도를 2(hr-1)로 고정한 상태에서 과산화수소의 제거율을 측정하여 수행하였다. 직접 저분자성 또는 난분해성 유기물의 제거율을 측정하지 않은 이유는 과산화수소의 제거율과 유기물의 제거율은 거의 일치하기 때문이며, 현실적으로 과산화수소의 제거율 측정이 그 측정 장비면에서 보다 유리한 것도 또 하나의 이유이다.
도 6a는 고압자외선램프의 조사거리를 설명하기 위한 반응조의 개략도로서, 고압자외선램프의 조사거리는 좌우방향에서의 조사거리(a)와 상하방향에서의 조사거리(b)로 정의될 수 있다.
도 6b는 상기 자외선 조사량과 조사거리에 따른 과산화수소의 제거율에 대한 실험결과를 보여주는 그래프로서, 도 6b에서 알 수 있듯이, 과산화수소 제거율이 90% 이상을 나타내면서, 고압자외선램프의 조사거리를 최대화하여 설계, 시공, 및 운전관리를 용이하게 할 수 있는 조건으로는 고압자외선램프의 조사량은 4 내지 7kW/m3, 조사거리(a, b)는 250 내지 750mm가 바람직하다.
결과적으로, 층류흐름반응조 또는 완전혼합반응조 내에 배치되는 고압자외선램프는 반응조의 크기에 따라 250 내지 750mm의 조사거리 내에서 적절히 배치되면 되는 것으로서, 도 2 및 도 4에 도시된 고압자외선램프의 배치는 본 발명에 따른 장치 시스템의 일예이고, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니다.
상기 구성에 의한 본 발명은 층류흐름반응조 및 완전혼합반응조의 혼합반응조를 채택함으로써, 연속처리가 가능함과 동시에, 처리효율을 증가시키고 반응조의 크기를 줄일 수 있으며 완충효과를 기대할 수 있다.
또한, 고압자외선램프를 적용시킴으로써 라디칼 생성매질로부터 많은 양의 라디칼(ㆍOH) 생성이 가능하여 저분자성 또는 난분해성 유기물을 완전히 분해할 수 있다.
또한, 고압자외선램프를 반응조로부터 소정의 간격으로 이격되게 설치함으로써, 전기설비의 열화를 방지할 수 있다.
또한, 공기주입장치로부터 혼합반응조에 공기를 주입함으로써, 원수가 완전히 혼합될 수 있도록 함과 동시에 원수의 온도를 저하시킬 수 있다.
또한, 라디칼 생성매질 제거장치를 추가로 설치함으로써 처리수에 잔류하는 과산화수소 또는 오존과 같은 라디칼 생성매질을 완전히 제거할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 유기물처리장치 시스템의 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 층류흐름반응조의 상세도이다.
도 3a는 본 발명에 따른 층류흐름반응조 내에 자외선 조사부가 설치되는 모습을 보여주는 상세도이다.
도 3b는 고압자외선램프가 반응조의 측면으로부터 이격되는 거리(x)에 따른 석영슬리브 내부의 온도변화를 보여주는 그래프이다.
도 4는 본 발명에 따른 완전혼합반응조의 상세도이다.
도 5는 본 발명에 따른 고압자외선 조사량에 따른 과산화수소의 제거시간을 보여주는 그래프이다.
도 6a는 고압자외선램프의 조사거리를 설명하기 위한 반응조의 개략도이다.
도 6b는 자외선 조사량과 조사거리에 따른 과산화수소의 제거율에 대한 실험결과를 보여주는 그래프이다.
<도면의 주요부에 대한 부호의 설명>
10 : 층류흐름반응조 20 : 완전혼합반응조
30 : 원수유입배관 40 : 배출배관
50 : 접면의 개방된 공간 60 : 라디칼 생성매질 주입장치
70 : 공기주입장치 80 : 라디칼 생성매질 제거장치
Claims (13)
- 일 측면이 서로 접하여 형성되며, 원수가 이동할 수 있도록 접면 상부가 개방된 구조로 형성된 층류흐름반응조 및 완전혼합반응조;상기 층류흐름반응조에 원수를 공급하기 위해서 층류흐름반응조 내부까지 연장되어 형성되며, 원수의 층류흐름을 유도하기 위해서 상부쪽으로 원수유출구가 형성된 원수유입 배관;원수에 라디칼 생성 매질을 첨가할 수 있도록 상기 원수유입 배관에 연결된 라디칼 생성 매질 주입장치;상기 층류흐름반응조 내부에 형성되며, 복수개의 고압자외선램프 및 상기 램프를 각각 둘러싸고 있는 복수개의 석영슬리브로 구성된 제1자외선 조사부;상기 완전혼합반응조 내부에 형성되며, 복수개의 고압자외선램프 및 상기 램프를 각각 둘러싸고 있는 복수개의 석영슬리브로 구성된 제2자외선 조사부;상기 완전혼합반응조에서 원수가 완전혼합될 수 있도록, 상기 완전혼합반응조에 공기를 주입하기 위한 공기주입장치; 및상기 완전혼합반응조와 연결되어 있는 처리수 배출배관을 포함하여 이루어진, 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 라디칼 생성매질로서 과산화수소 또는 오존이 주입되는 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 층류흐름반응조 및 완전혼합반응조의 전체부피는 비속도가 2(hr-1)가 되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 고압자외선램프의 조사량은 4 내지 7kW/m3인 것을 특징을 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 고압자외선램프의 조사거리는 250 내지 750mm인 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 고압자외선램프의 양 말단은 상기 반응조 측면으로부터 150mm 이상의 간격으로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,추가로, 처리수에 잔류하는 라디칼 생성매질을 제거하기 위한 라디칼 생성매질 제거장치가 상기 배출배관에 연결되어 형성된 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 7항에 있어서,상기 라디칼 생성매질 제거장치는 촉매가 코팅된 활성탄 필터인 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 1항에 있어서,상기 배출배관이 형성된 쪽의 완전혼합반응조 내에 격막이 형성된 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 라디칼 생성매질이 첨가된 원수가 유입되는 원수유입부; 유입된 원수를 자외선을 조사하면서 처리하는 층류흐름반응조; 상기 층류흐름반응조에서 처리된 원수를 수용하여 자외선을 조사하면서 처리하는 완전혼합반응조; 및 처리수 배출부를 포함하여 구성된 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 10항에 있어서,상기 라디칼 생성매질로서 과산화수소 또는 오존이 사용되는 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 10항에 있어서,상기 완전혼합반응조에서 원수가 완전혼합되도록 하기 위해서, 상기 완전혼합반응조내로 공기를 주입하는 공기 주입장치가 상기 완전혼합반응조와 연결되어 형성된 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
- 제 10항에 있어서,추가로 최종 처리후 잔류하는 라디칼 생성매질을 제거하기 위한 라디칼 생성매질 제거장치가 상기 완전혼합반응조와 연결되어 형성된 것을 특징으로 하는 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리장치 시스템.
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Applications Claiming Priority (1)
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| KR10-2003-0025677A KR100479321B1 (ko) | 2003-04-23 | 2003-04-23 | 저분자성 또는 난분해성 유기물 처리 장치 시스템 |
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