JPWO2013146073A1 - R−t−b系焼結磁石の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
RH拡散源は、重希土類元素RHを80原子%以上含む金属または合金であり、前記重希土類元素RHは、Dy、Tbのうち少なくとも一種であり、例えば、Dyメタル、Tbメタル、DyFe合金、TbFe合金などである。Dy、Tb、Fe以外に他の元素を含んでも良い、RH拡散源は、重希土類元素RHを80原子%以上含むことが好ましい。重希土類元素RHの含有量が80原子%よりも少なくなると、RH拡散源からの重希土類元素RHの供給量が少なくなり、所望のHcJ向上効果を得るために処理時間が非常に長くなる為、好ましくない。
R−T−B系焼結磁石体は、公知の組成、製造方法によって製造されたものを用いることができる。
本開示は、RH供給拡散処理を行う工程の前に、まず、処理容器内に、RH拡散源とR−T−B系焼結磁石体とを、保持部材を介して交互に積層し、積層体5を構成する。具体的には、図1に示すように、処理容器1内の底部から保持部材4、RH拡散源3、保持部材4、R−T−B系焼結磁石体2、保持部材4、RH拡散源3、保持部材4、R−T−B系焼結磁石体2をこの順序で積層して、積層体5を構成する。保持部材4の厚さを調整することで、R−T−B系焼結磁石体2とRH拡散源3との距離を調整することができる。
前記積層体を処理容器内に配置し、前記処理容器内を2.0Pa以上50Pa以下、800℃以上950℃以下の雰囲気にしてRH供給拡散処理を行う。すなわち、R−T−B系焼結磁石体とRH拡散源を加熱し、RH拡散源から重希土類元素RHをR−T−B系焼結磁石体の表面に供給しつつ、重希土類元素RHをR−T−B系焼結磁石体の内部に拡散させる。以下、RH供給拡散処理を行う工程を「工程(A)」という。
工程(A)の後、処理容器内の圧力を重希土類元素RHの蒸気圧よりも高い150Pa以上2kPa以下に上昇させRH拡散処理を行う。すなわち、RH拡散源からの重希土類元素RHの供給を抑制し、R−T−B系焼結磁石体内部へ拡散のみを行う。以下、このRH拡散処理を行う工程を「工程(B)」という。
次に、RH供給拡散処理を行う工程(A)とRH拡散処理を行う工程(B)を交互に2回以上繰り返し行う。図5は、重希土類元素RHとしてDyを用いた場合の工程(A)と工程(B)の繰り返し例を示す説明図である。図5(a)は、工程(A)3時間と工程(B)6時間を1回のみ行う、すなわち繰り返し行わない(1サイクル)従来例を示している。図5(b)は、工程(A)1時間と工程(B)2時間とを3回繰り返す(3サイクル)本開示の例を示し、図5(c)は、工程(A)0.5時間と工程(B)1時間とを6回繰り返す(6サイクル)本開示の例を示している。図5(a)〜(c)いずれも繰り返し回数(サイクル数)が増加しても、工程(A)の合計処理時間は3時間であり、工程(B)の合計処理時間は、図5(a)〜(c)いずれも6時間である。なお、工程(A)では、処理容器内の圧力を2.0Paに制御し、工程(B)では、処理容器内の圧力を500Paにしている。また、工程(A)および工程(B)の処理温度は、一定(900℃)に保持しており、圧力を制御することにより、Dyの供給を断続的に繰り返している。
工程(A)と工程(B)を交互に2回以上繰り返す工程の後に、R−T−B系焼結磁石の磁気特性向上を目的として行う熱処理を施してもよい。この熱処理は、公知のR−T−B系焼結磁石体の製造方法において、焼結後に実施される熱処理と同様である。熱処理雰囲気、熱処理温度などは、公知の条件を採用すればよい。
RH供給拡散処理やRH拡散処理を行うための処理装置は、公知のバッチ式の熱処理炉や連続式の熱処理炉で行うことができる。本開示では、2.0Pa以上の比較的高い圧力でRH供給拡散処理やRH拡散処理を行うことができるので、10−2Pa以下の低い圧力を発生させるクライオポンプや油拡散ポンプなどの高価なポンプは必要なく、ロータリーポンプまたはロータリーポンプおよびメカニカルブースターポンプといった安価なポンプで実施することができる。
工程(A)と工程(B)を交互に2回以上繰り返す工程の後のR−T−B系焼結磁石に、寸法調整のための加工を行っても良い。このような工程を経ても、磁気特性向上効果はほとんど変わらない。寸法調整のための加工量は、1〜300μm、より好ましくは5〜100μm、さらに好ましくは、10〜30μmである。また、工程(A)と工程(B)を交互に2回以上繰り返す工程の後のR−T−B系焼結磁石に、表面処理を施してもよい。表面処理は、公知の表面処理で良く、例えばAl蒸着や電気Niめっきや樹脂塗装などの表面処理を行うことができる。表面処理を行う前に、サンドブラスト処理、バレル研磨処理、機械研磨、酸洗浄等の公知の前処理を行っても良い。
Nd22.3%、Pr6.2%、Dy4.0%、B1.0%、Co0.9%、Cu0.1%、Al0.2%、Ga0.1%、残部Fe(単位は質量%)の組成を有するR−TB系焼結磁石体を作製した。熱処理後の磁気特性は、Br=1.35T、HcJ=1730kA/mであった。
RH供給拡散処理1時間とRH拡散処理2時間とを3サイクル行ったこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を作製した。
RH供給拡散処理とRH拡散処理を繰り返し行った後の処理容器内の温度を900℃から500℃までガス冷却(80℃/分)により急冷することを、処理容器内の温度を900℃から500まで3℃/分の冷却速度で冷却し、500℃から室温までガス冷却(80℃/分)により急冷することへ変更したこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を製作した。
RH供給拡散処理3時間とRH拡散処理6時間とを1サイクル行ったこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を作製した。
RH供給拡散処理時の処理容器内の圧力を3.0Paから、油拡散ポンプを用いて10−3Paへ変更したこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を製作した。
RH供給拡散処理時の処理容器内の圧力を3.0Paから、油圧拡散ポンプを用いて10−3Paへ変更したこと、および、RH供給拡散処理3時間とRH拡散処理6時間とを1サイクル行ったこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を作製した。
RH供給拡散処理時の処理容器内の圧力を3.0Paから、油圧拡散ポンプを用いて10−3Paへ変更したこと、RH供給拡散処理3時間とRH拡散処理6時間とを1サイクル行ったこと、保持部材の厚さを8mmとし、R−T−B系焼結磁石体2とRH拡散源3との距離を2mmから8mmへ変更したこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を製作した。
RH供給拡散処理時の処理容器内の圧力を3.0Paから40000Paに変更したこと、RH供給拡散処理3時間とRH拡散処理6時間とを1サイクル行ったこと以外は、実施例1と同じ条件でR−T−B系焼結磁石を作製した。
表2は、実施例1と同じ条件で、RH供給拡散処理とRH拡散処理とを繰り返し6回処理した後の処理容器内の各冷却条件を示す。表2中の(1)〜(9)の「冷却条件」は、RH供給拡散処理とRH拡散処理とを繰り返し6回処理した後の処理容器内の温度(900℃)から500℃までの冷却速度を示す。いずれの場合も500℃から室温まではガス冷却(80℃/分)により急冷した。本開示における室温とは、20℃±15℃の範囲をいう。「HcJ」は、(1)〜(9)の冷却条件でそれぞれ冷却処理した後のR−T−B系焼結磁石のHcJを示す。
2 R−T−B系焼結磁石体
3 RH拡散源
4 保持部材
5 積層体
Claims (4)
- RH拡散源(重希土類元素RHを80原子%以上含む金属または合金、ただし、重希土類元素RHは、DyおよびTbの少なくとも一種)とR−T−B系焼結磁石体(Rは希土類元素のうち少なくとも一種、Tは遷移金属元素のうち少なくとも一種であり、Feを必ず含む)とを、開口部を有する平板状の保持部材を介して交互に配置し、積層体を構成する工程と、
前記積層体を処理容器内に配置する工程と、
前記処理容器内の圧力を2.0Pa以上50Pa以下、温度を800℃以上950℃以下でRH供給拡散処理を行う工程(A)と、
前記処理容器内の圧力を150Pa以上2kPa以下、温度を800℃以上950℃以下でRH拡散処理を行う工程(B)と、
を含み、
前記工程(A)と前記工程(B)を交互に2回以上繰り返す工程と、
を含むR−T−B系焼結磁石の製造方法。 - 前記保持部材の厚さが0.1mm以上4mm以下である請求項1に記載のR−T−B系焼結磁石の製造方法。
- 前記工程(A)と前記工程(B)を交互に2回以上繰り返した後、処理容器内の温度を1℃/分以上15℃/分以下の冷却速度で500℃まで冷却する、請求項1または2に記載のR−T−B系焼結磁石の製造方法。
- 前記処理容器内をロータリーポンプまたはロータリーポンプおよびメカニカルブースターポンプを用いて真空排気処理を行う、請求項1から3のいずれかに記載のR−T−B系焼結磁石の製造方法。
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