JPWO2011102109A1 - 光源最適化方法、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、露光装置、リソグラフィシステム、及び光源評価方法、並びに光源変調方法 - Google Patents
光源最適化方法、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、露光装置、リソグラフィシステム、及び光源評価方法、並びに光源変調方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
ここで、最小二乗法は、線形最小二乗法及び非線形最小二乗法の両者を含む。
これによって、実際に得られている照明輝度分布Ψ(ξ,η)の持つ結像性能を本来得たい照明輝度分布ΨDESIGN(ξ,η)による結像性能に実効的に近づけるという目的で、各変調パラメータZiの値から決まる照明輝度分布の追加的な微小変調を空間光変調器3Sに対して行なう事が可能になる(OPEマッチング)。
Claims (54)
- 物体上にパターンを形成するための照明光源の形状である光源形状を最適化する光源最適化方法であって、
パターン及び前記照明光源を最適化する最適化計算の結果として得られた前記光源形状を目標とし、該目標からのずれが許容範囲内になるように前記光源形状を設定することと;
設定された前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いて前記最適化計算の手法によって決定されたパターンの像を前記物体上に形成し、形成されたパターンの像を検出した検出結果を用いて結像性能を評価することと;
前記結像性能の評価結果に基づいて前記光源形状を最適化することと;
を含む光源最適化方法。 - 前記最適化することでは、前記光源形状の最適化のため、前記光源形状を表現するモデルを用いる請求項1に記載の光源最適化方法。
- 前記光源形状を表現するモデルは、前記光源形状の変調分を表現するモデルを含む請求項2に記載の光源最適化方法。
- 前記モデルに含まれるパラメータと前記結像性能との関係を求めることをさらに含み、
前記最適化することでは、前記関係を用いて前記結像性能が改善されるように前記パラメータを決定する請求項3に記載の光源最適化方法。 - 前記モデルとして、ツェルニケ多項式とディストーション多項式とのいずれかが用いられる請求項3又は4に記載の光源最適化方法。
- 前記結像性能は、検出された前記パターンの像の線幅の設計上の線幅に対する誤差を評価指標として評価される請求項1〜5のいずれか一項に記載の光源最適化方法。
- 前記光源形状は、前記照明光を前記物体上に照射する光学系の瞳面上での前記照明光の強度分布により定義され、
前記光源形状を設定することでは、前記強度分布を再現するよう前記照明光源が制御される請求項1〜6のいずれか一項に記載の光源最適化方法。 - 前記強度分布は、前記照明光を分割して反射する複数のミラー素子を有する光変調器によって設定され、
前記光源形状を設定することでは、決定された前記光源形状を目標として前記複数のミラー素子の位置が個別に制御される請求項7に記載の光源最適化方法。 - 前記強度分布は、前記照明光を回折する回折光学素子を有する光変調器と、該光変調器からの回折された照明光を前記光学系の瞳面に導くリレー光学系とによって設定され、
前記光源形状を設定することでは、決定された前記光源形状を目標として前記回折光学素子の位置又は前記リレー光学系中の光学部材が制御される請求項7に記載の光源最適化方法。 - 前記光源形状を設定することでは、前記最適化計算の結果として得られた前記光源形状を目標とする前記光源形状の設定、設定された光源形状の実測、及び実測された光源形状の前記目標からのずれが許容範囲内か否かの判断が、少なくとも1回行われる請求項1〜9のいずれか一項に記載の光源最適化方法。
- 前記結像性能を評価することでは、前記パターンの像を前記物体上に形成するための転写が行われ、転写された前記パターンの像が実測される請求項1〜10のいずれか一項に記載の光源最適化方法。
- 前記結像性能を評価することでは、前記パターンの像が前記物体上に投影され、投影された前記パターンの像が検出される請求項1〜10のいずれか一項に記載の光源最適化方法。
- 前記光源形状を設定することと、前記結像性能を評価することと、前記光源形状を最適化することと、を、所望の前記結像性能が得られるまで繰り返す請求項1〜12のいずれか一項に記載の光源最適化方法。
- 前記設定された前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いて前記最適化計算の結果として得られたパターンの像を前記物体上に形成するシミュレーションを行って、前記パターンの像の結像性能を予測することと;
前記結像性能の予測結果に基づいて、前記光源形状を最適化することと;をさらに含む請求項1〜13のいずれか一項に記載の光源最適化方法。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の光源最適化方法により最適化された光源形状を有する前記照明光源からの照明光を照射して前記パターンを物体上に転写する露光方法。
- 請求項15に記載の露光方法を用いて、物体上にパターンを形成することと;
前記パターンが形成された前記物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。 - 照明光を照射して物体上にパターンを形成する露光装置を制御するコンピュータに、前記照明光を生成する照明光源の形状である光源形状を最適化する処理を実行させるプログラムであって、
パターン及び前記照明光源を最適化する最適化計算の結果として得られた光源形状を目標とし、該目標からのずれが許容範囲内になるように前記光源形状を設定する手順と;
設定された前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いて前記最適化計算の結果として得られたパターンの像を前記物体上に形成し、形成されたパターンの像を検出した検出結果を用いて結像性能を評価する手順と;
前記結像性能の評価結果に基づいて前記光源形状を最適化する手順と;
を前記コンピュータに実行させるプログラム。 - 前記最適化する手順では、前記光源形状の最適化のため、前記光源形状を表現するモデルが用いられる請求項17に記載のプログラム。
- 前記光源形状を表現するモデルは、前記光源形状の変調分を表現するモデルを含む請求項18に記載のプログラム。
- 前記モデルに含まれるパラメータと前記結像性能との関係を求める手順を、前記コンピュータにさらに実行させ、
前記最適化する手順では、前記関係を用いて前記結像性能が改善されるように前記パラメータが決定される請求項19に記載のプログラム。 - 前記モデルとして、ツェルニケ多項式とディストーション多項式とのいずれかが用いられる請求項19又は20に記載のプログラム。
- 前記結像性能は、検出された前記パターンの像の線幅の理論上の線幅に対する誤差を評価指標として評価される請求項17〜21のいずれか一項に記載のプログラム。
- 前記光源形状は、前記照明光を前記物体上に照射する光学系の瞳面上での前記照明光の強度分布により定義され、
前記光源形状を設定する手順では、前記強度分布を再現するよう前記照明光源が制御される請求項17〜22のいずれか一項に記載のプログラム。 - 前記強度分布は、前記照明光を分割して反射する複数のミラー素子を有する光変調器によって設定され、
前記光源形状を設定する手順では、決定された前記光源形状を目標として前記複数のミラー素子の位置が個別に制御される請求項23に記載のプログラム。 - 前記強度分布は、前記照明光を回折する回折光学素子を有する光変調器と、該光変調器からの回折された照明光を前記光学系の瞳面に導くリレー光学系とによって設定され、前記照明光が照射される回折光学素子を有する光変調器によって設定され、
前記光源形状を設定する手順では、決定された前記光源形状を目標として前記回折光学素子の位置又は前記リレー光学系中の光学部材が制御される請求項23に記載のプログラム。 - 前記光源形状を設定する手順では、前記最適化計算の結果として得られた前記光源形状を目標とする前記光源形状の設定、設定された光源形状の実測、及び実測された光源形状の前記目標からのずれが許容範囲内か否かの判断が、少なくとも1回行われる請求項17〜25のいずれか一項に記載のプログラム。
- 前記結像性能を評価する手順では、前記パターンの像を前記物体上に形成するための転写が行われ、転写された前記パターンの像が実測される請求項17〜26のいずれか一項に記載のプログラム。
- 前記結像性能を評価する手順では、前記パターンの像が前記物体上に投影され、投影された前記パターンの像が検出される請求項17〜26のいずれか一項に記載のプログラム。
- 前記コンピュータに、前記光源形状を設定する手順と、前記結像性能を評価する手順と、前記光源形状を最適化する手順と、を、所望の前記結像性能が得られるまで繰り返させる請求項17〜28のいずれか一項に記載のプログラム。
- 前記設定された前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いて前記最適化計算の結果として得られたパターンの像を前記物体上に形成するシミュレーションを行って、前記パターンの像の結像性能を予測する手順と;
前記結像性能の予測結果に基づいて、前記光源形状を最適化する手順と;を前記コンピュータにさらに実行させる請求項17〜29のいずれか一項に記載のプログラム。 - 照明光を照射して物体上にパターンを形成する露光装置であって、
前記照明光を生成する照明光源と;
前記照明光源の形状である光源形状を設定する設定部と;
パターン及び前記照明光源を最適化する最適化計算の結果として得られた前記光源形状を目標とし、該目標からのずれが許容範囲内になるように前記設定部を介して前記光源形状を設定し、該光源形状が設定された前記照明光源からの照明光を用いて前記物体上に形成された前記最適化計算の結果として得られた前記パターンの像の検出結果を用いて結像性能を評価し、前記結像性能の評価結果に基づいて前記設定部を介して前記光源形状を最適化する処理装置と;を備える露光装置。 - 前記処理装置は、前記光源形状を最適化するに際し、前記光源形状を表現するモデルを用いる請求項31に記載の露光装置。
- 前記光源形状を表現するモデルは、前記光源形状の変調分を表現するモデルを含む請求項31に記載の露光装置。
- 前記処理装置は、前記モデルに含まれるパラメータと前記結像性能との関係を用いて前記結像性能が改善されるように前記パラメータを決定する請求項33に記載の露光装置。
- 前記モデルとして、ツェルニケ多項式とディストーション多項式とのいずれかが用いられる請求項33又は34に記載の露光装置。
- 前記照明光を前記物体に向けて射出する光学系をさらに備え、
前記光源形状は、前記光学系の瞳面上での前記照明光の強度分布により定義され、
前記処理装置は、前記強度分布を再現するように前記設定部を介して前記光源形状を設定する請求項31〜35のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記照明光を分割して反射する複数のミラー素子の個々の位置に応じて前記強度分布を設定する光変調器を有し、
前記設定部は、前記複数のミラー素子の位置を個別に制御し、
前記処理装置は、前記光源形状を目標として前記設定部を制御する請求項36に記載の露光装置。 - 前記照明光を回折する回折光学素子を有する光変調器と、該光変調器からの回折された照明光を前記光学系の瞳面に導くリレー光学系とを有し、
前記設定部は、前記回折光学素子の位置又は前記リレー光学系中の光学部材を制御し、
前記処理装置は、前記光源形状を目標として前記設定部を制御する請求項36に記載の露光装置。 - 前記物体上に転写されたパターンの像を検出する検出系をさらに備え、
前記処理装置は、前記物体上に転写された前記パターンの像の前記検出系による検出結果を用いて結像性能を評価する請求項31〜38のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記物体上に投影された前記パターンの像を検出するための光検出器をさらに備え、
前記処理装置は、前記パターンの像の前記光検出器による検出結果を用いて結像性能を評価する請求項31〜38のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記処理装置は、さらに、前記設定された前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いて前記最適化計算の結果として得られたパターンの像を前記物体上に形成するシミュレーションを行って、前記パターンの像の結像性能を予測し、該予測結果に基づいて、前記光源形状を最適化する請求項31〜40のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項31〜41のいずれか一項に記載の露光装置と;
前記露光装置を管理する上位装置と;
を備えるリソグラフィシステム。 - 物体上にパターンを形成するための照明光源の形状である光源形状を評価する光源評価方法であって、
所定の強度分布を持つ基準光源形状を準備することと;
前記光源形状の強度分布を取得することと;
前記光源形状の評価に用いるため、前記基準光源形状と前記光源形状との変調分を表す所定の多項式の各項の係数を最小二乗法により算出することと;
を含む光源評価方法。 - 前記所定の多項式は、ツェルニケ多項式に前記基準光源形状の前記強度分布を乗じたものを含む請求項43に記載の光源評価方法。
- 前記所定の多項式は、ディストーション多項式に変調前の瞳座標値を乗じたものを含む請求項43又は44に記載の光源評価方法。
- 前記所定の多項式は、ボケの輝度分布を表すボケ関数と前記基準光源形状の前記強度分布との畳込みを含む請求項43〜45のいずれか一項に記載の光源評価方法。
- 前記所定の多項式は、フレア成分による変調に関する所定の指数関数を含む請求項43〜46のいずれか一項に記載の光源評価方法。
- 物体上にパターンを形成するための照明光源の形状である光源形状を最適化する光源最適化方法であって、
請求項43〜47のいずれか一項に記載の光源評価方法を用いて前記多項式の各項の係数を算出することと;
前記光源形状を有する前記照明光源からの照明光を用いてパターンの像を前記物体上に形成する際の結像性能の変化と、前記多項式の各項の係数との関係を求めることと;
求められた前記関係を用いて前記光源形状を最適化することと;
を含む光源最適化方法。 - 前記最適化することでは、前記多項式の係数を変更することを含む請求項48に記載の光源最適化方法。
- 前記結像性能の変化は、前記パターンの前記像を形成する結像光学系の結像性能の変化であることを特徴とする請求項48又は49に記載の光源最適化方法。
- 物体上にパターン像を形成するための照明光源の輝度分布である瞳輝度分布を変調する光源変調方法であって、
前記瞳輝度分布の変調分を表現する多項式を用いて、前記瞳輝度分布を表現することと;
前記多項式に含まれる変調パラメータの微小変化に応じた、前記パターン像の設計値に対する誤差を評価指標とする結像性能の変化を、前記変調パラメータ毎に求めることと;
前記パターン像の前記設計値に対する前記誤差の目標値からのずれが許容範囲内になるように、前記変調パラメータ毎に求められた前記結像性能の変化を用いて、前記変調パラメータの追加変調値を求めることと;
を含む光源変調方法。 - 前記瞳輝度分布の変調分を表現する前記多項式は、前記照明光源が形成される面内の位置ξ,ηに関するフリンジツェルニケ多項式fi(ξ,η)と該フリンジツェルニケ多項式の各次数の展開係数Ziとを用いて定義される透過率変調関数T(ξ,η)≡exp[ΣiZifi(ξ,η)]を備える請求項51に記載の光源変調方法。
- 前記瞳輝度分布の変調分を表現する前記多項式は、ディストーション多項式ξ’=ΣiZ’i{Di(ξ,η)・Dξ},η’=ΣiZ’i{Di(ξ,η)・Dη}を備える請求項51又は52に記載の光源変調方法。
- 前記追加変調値を用いて前記瞳輝度分布を変調させることをさらに含む請求項51〜53の何れか一項に記載の光源変調方法。
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