JP5286744B2 - 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5286744B2 JP5286744B2 JP2007283034A JP2007283034A JP5286744B2 JP 5286744 B2 JP5286744 B2 JP 5286744B2 JP 2007283034 A JP2007283034 A JP 2007283034A JP 2007283034 A JP2007283034 A JP 2007283034A JP 5286744 B2 JP5286744 B2 JP 5286744B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical system
- illumination
- illumination optical
- modulation unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
Description
本発明の目的は、照明光学系の瞳位置において形成される光分布形状、該光分布形状内における偏光状態及び光強度分布を迅速に変更することができる空間光変調ユニット、該空間光変調ユニットを備える照明光学系、該照明光学系を備える露光装置及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法を提供することである。
また、本発明の照明光学系は、光源から供給される照明光によって被照射面を照明する照明光学系であって、前記照明光学系の光路内に配置され、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成する空間光変調ユニットを備え、該空間光変調ユニットは、素子配列領域内に二次元的に配列された複数の反射素子の傾斜角及び傾斜方向をそれぞれ独立に制御可能であり、入射した光に対して空間的な変調を与える空間光変調器と、第1の偏光状態の前記第1光を前記素子配列領域内の第1領域に入射させると共に、前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態の第2光を前記素子配列領域における前記第1領域とは異なる第2領域に入射させる偏光制御部材とを備え、前記照明光学系は、前記偏光制御部材に入射する前記光源からの光束の位置を変更する変更手段と、前記照明光学系の瞳位置又は前記瞳位置と光学的に共役な前記位置に形成される前記光強度分布の偏光状態を変更するために、前記光束の位置を変更するように前記変更手段を制御する制御手段と、をさらに備えることを特徴とする。
また、本発明の照明光学系は、光源から供給される照明光によって被照射面を照明する照明光学系であって、前記照明光学系の光路内に配置され、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成する空間光変調ユニットを備え、該空間光変調ユニットは、二次元的に配列された複数の反射素子の傾斜角及び傾斜方向をそれぞれ独立に制御可能であり、入射した光に対して空間的な変調を与える空間光変調器と;前記複数の反射素子が二次元的に配列された素子配列領域を複数領域に分割したとき、前記複数領域のうちの第1領域に入射する光の偏光状態を第1の偏光状態に設定するとともに、前記複数領域のうちの前記第1領域とは異なる第2領域に入射する光の偏光状態を前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態に設定する偏光制御部材と;を備え、前記偏光制御部材が設定する前記第1の偏光状態および前記第2の偏光状態は、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成するために、前記反射素子の反射による位相のずれを考慮して設定されることを特徴とする。
Claims (12)
- 二次元的に配列された複数の反射素子の傾斜角及び傾斜方向をそれぞれ独立に制御可能であり、入射した光に対して空間的な変調を与える空間光変調器と;
前記複数の反射素子が二次元的に配列された素子配列領域内の第1領域に対応して配置される第1偏光制御素子と、前記素子配列領域内で前記第1領域とは異なる第2領域に対応して配置される第2偏光制御素子とを有する偏光制御部材と;
を備え、
前記空間光変調器の前記第1領域に向かう第1光と、前記第1領域内の前記複数の反射素子で反射された前記第1光とが前記偏光制御部材を通過することを特徴とする空間光変調ユニット。 - 前記偏光制御部材は、第1の偏光状態の前記第1光を前記第1領域に入射させると共に、前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態の第2光を前記第2領域に入射させることを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
- 光源から供給される照明光によって被照射面を照明する照明光学系であって、
前記照明光学系の光路内に配置され、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成する請求項1又は請求項2に記載の空間光変調ユニット
を備えることを特徴とする照明光学系。 - 前記照明光学系の前記瞳位置又は前記瞳位置と光学的に共役な前記位置に配置されたオプティカルインテグレータを備え、前記空間光変調ユニットからの光を前記瞳位置又は前記共役な位置に導く光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項3に記載の照明光学系。
- 前記空間光変調ユニットに入射する前記照明光を所望の断面形状に整形する光整形部材を備えることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の照明光学系。
- 前記光整形部材により整形され前記空間光変調ユニットに入射する前記照明光の位置と前記空間光変調ユニットの位置を相対的に変更する変更手段を備えることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 光源から供給される照明光によって被照射面を照明する照明光学系であって、
前記照明光学系の光路内に配置され、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成する空間光変調ユニットを備え、
該空間光変調ユニットは、
素子配列領域内に二次元的に配列された複数の反射素子の傾斜角及び傾斜方向をそれぞれ独立に制御可能であり、入射した光に対して空間的な変調を与える空間光変調器と、
第1の偏光状態の前記第1光を前記素子配列領域内の第1領域に入射させると共に、前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態の第2光を前記素子配列領域における前記第1領域とは異なる第2領域に入射させる偏光制御部材とを備え、
前記照明光学系は、
前記偏光制御部材に入射する前記光源からの光束の位置を変更する変更手段と、
前記照明光学系の瞳位置又は前記瞳位置と光学的に共役な前記位置に形成される前記光強度分布の偏光状態を変更するために、前記光束の位置を変更するように前記変更手段を制御する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする照明光学系。 - 前記偏光制御部材は、前記複数領域のうちの第1領域に対応して配置される第1偏光制御素子と、前記複数領域のうちの前記第1領域とは異なる第2領域に対応して配置される第2偏光制御素子とを有することを特徴とする請求項7に記載の照明光学系。
- 前記変更手段は、傾斜可能なミラーを備えることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の照明光学系。
- 光源から供給される照明光によって被照射面を照明する照明光学系であって、
前記照明光学系の光路内に配置され、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成する空間光変調ユニットを備え、
該空間光変調ユニットは、
二次元的に配列された複数の反射素子の傾斜角及び傾斜方向をそれぞれ独立に制御可能であり、入射した光に対して空間的な変調を与える空間光変調器と;
前記複数の反射素子が二次元的に配列された素子配列領域を複数領域に分割したとき、前記複数領域のうちの第1領域に入射する光の偏光状態を第1の偏光状態に設定するとともに、前記複数領域のうちの前記第1領域とは異なる第2領域に入射する光の偏光状態を前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態に設定する偏光制御部材と;
を備え、
前記偏光制御部材が設定する前記第1の偏光状態および前記第2の偏光状態は、前記照明光学系の瞳位置又は該瞳位置と光学的に共役な位置に所望の偏光状態であり、かつ所望の光強度分布を形成するために、前記反射素子の反射による位相のずれを考慮して設定されることを特徴とする照明光学系。 - 感光性基板上に所定のパターンを転写する露光装置において、
被照射面に配置された前記パターンを照明するための請求項3乃至請求項10の何れか一項に記載の照明光学系を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項11記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記パターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程と
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283034A JP5286744B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283034A JP5286744B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009111223A JP2009111223A (ja) | 2009-05-21 |
JP5286744B2 true JP5286744B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=40779384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007283034A Expired - Fee Related JP5286744B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5286744B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5365982B2 (ja) * | 2008-10-02 | 2013-12-11 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP5403244B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-01-29 | 株式会社ニコン | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2011012148A1 (en) | 2009-07-31 | 2011-02-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical beam deflecting element and method of adjustment |
JP5327715B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2013-10-30 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR20120116329A (ko) | 2010-02-20 | 2012-10-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 광원 최적화 방법, 노광 방법, 디바이스 제조 방법, 프로그램, 노광 장치, 리소그래피 시스템, 광원 평가 방법 및 광원 변조 방법 |
NL2007303A (en) | 2010-09-23 | 2012-03-26 | Asml Netherlands Bv | Process tuning with polarization. |
WO2012060099A1 (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 株式会社ニコン | 光源調整方法、露光方法、デバイス製造方法、照明光学系、及び露光装置 |
JP5473880B2 (ja) * | 2010-12-07 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5813961B2 (ja) * | 2011-02-10 | 2015-11-17 | 株式会社Screenホールディングス | 描画装置、光学ユニット及び描画装置の調整方法 |
JP6020834B2 (ja) * | 2011-06-07 | 2016-11-02 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
TWI684788B (zh) * | 2011-06-13 | 2020-02-11 | 日商尼康股份有限公司 | 照明光學系統、曝光裝置以及元件製造方法 |
WO2013039240A1 (ja) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、光学系ユニット、照明方法、並びに露光方法及び装置 |
TW201426200A (zh) * | 2012-11-19 | 2014-07-01 | 尼康股份有限公司 | 照明光學系統、照明方法、曝光方法以及裝置 |
JP6466106B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2019-02-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光変調装置および光学システム |
CN113267842A (zh) * | 2021-05-19 | 2021-08-17 | 福州高意光学有限公司 | 一种玻璃偏振片及其制作方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002062582A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Sony Corp | 画像表示装置 |
JP2006085071A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | マルチビーム露光装置 |
US7525642B2 (en) * | 2006-02-23 | 2009-04-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2007
- 2007-10-31 JP JP2007283034A patent/JP5286744B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009111223A (ja) | 2009-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5286744B2 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5935852B2 (ja) | 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5287114B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5287113B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5326259B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2009093175A (ja) | 空間光変調ユニット、照明装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP6583741B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2013502703A (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JPWO2005036619A1 (ja) | 照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
JP2006054328A (ja) | 照明光学装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2015005764A (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5700272B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5403244B2 (ja) | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP5353408B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2011114041A (ja) | 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2005302826A (ja) | 照明光学装置、露光装置及び露光方法 | |
JP6390879B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP5532213B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
WO2012017783A1 (ja) | 伝送光学系、照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP5327715B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012004558A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2012256742A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2011029596A (ja) | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010283101A (ja) | 偏光子ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2008021767A (ja) | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5286744 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |