JPWO2009113156A1 - 接続装置および光デバイス - Google Patents

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Abstract

接続装置(300)は、多層セラミック基板(300a)の内層に設けられた内層GND(340)と、内層GND(340)上に誘電体層を介して設けられた第1伝送路(310)、および内層GND(340)と電気的に接続されて設けられた表面GND(320)およびリード(360),(370)とを設け、各リード(360),(370)は、フレキシブル基板上の第2伝送路およびGND層に設けられたスルーホールに嵌合して接続する。

Description

本発明は、フレキシブル基板を接続する接続装置および光デバイスに関するものである。光デバイスとは、LDや変調器などの電気−光変換部、PDなどの光−電気変換部、また、それらを用いて構成された、送信機、受信機および送受信機を指す。
光通信システムに使用される光デバイスは、小型化、低コスト化が進んでおり、例えば、10Gbpsの光送受信機においては、X2、XFP(10Gigabit Small Form Factor Pluggable)に代表されるように、より小型で、低消費電力の光送受信機の規格が一般的になっている。
それにともない、光送受信機の内部に使用される電気−光変換部および光−電気変換部においても、小型化が進み、XMD−MSA(Miniature Device Multi Source Agreement)に代表されるように、TOSA(Transmitter Optical SubAssembly)、ROSA(Reciever Optical SubAssembly)タイプの小型の規格が一般的になっている。
また、上記のTOSA、ROSAでは、光部品とプリント基板との間をフレキシブル基板で接続することが一般的に行われている。図16は、フレキシブル基板を備えた従来の光送受信機の構成を示す図である。同図に示すように、この光送受信機10は、光レセプタクル12と、ROSA13aと、TOSA13bと、光部品端子14と、フレキシブル基板15と、プリント基板16とを備えて構成される。
光送受信機10は、光コネクタ11と光レセプタクル12とを嵌合することにより光結合を行っており、光コネクタ11に対する光レセプタクル12の位置は、一般的に100μm以下の制度が要求される。そのため、TOSA13b、ROSA13aなどの光部品は、光レセプタクル12側の位置を基準として光送受信機10に配置され固定される。あるいは、挿入されるコネクタに合う位置に動くようにTOSA13a、ROSA13bは、光送受信機10に固定されない場合もある。
光レセプタクル12側の位置を基準として光送受信機10内にTOSA13a、ROSA13bを配置することにより、ROSA13a、TOSA13b、およびプリント基板16の外形公差と位置公差により、光部品端子14とプリント基板16との間に位置ずれが生じる。この位置ずれにより、光部品端子14とプリント基板16の接続部では、接続端子を長くして、プリント基板16の接続パッド位置に合うように整形し接続する必要があり、高周波信号の特性劣化、信号および電源間のショートが起こる恐れがあるが、インピーダンスコントロールされたフレキシブル基板15を用いることにより、位置ずれの緩和、高周波特性保持の対策を施すことができる。
また、光部品(ROSA13a、TOSA13b)、光部品端子14、フレキシブル基板15等を接続する接続部17の構造は、様々なものが考案されている(例えば、特許文献1、非特許文献1等参照)。図17、図18は、従来の接続部の構造を示す図である。
図17に示す例では、接続部20は、多層セラミック基板21の表面パタン(高周波伝送路22、表面GND23、DC端子25)にリード26を接続し、フレキシブル基板27のスルーホール28にリード26を差込み、はんだで接続している。
また、図18に示す例では、接続部30は、多層セラミック基板31の表面パタン(高周波伝送路32、表面GND33、DC端子35)にフレキシブル基板36のフライングリード37をボンディングなどで電気的に接続している。
特開2007−158856号公報 三菱電機、"XMD-MSA準拠10Gbps 変調器集積半導体レーザ(EA-LD)モジュール"、[online]、[平成19年8月21日検索]、インターネット<URL:http://www.mitsubishichips.com/Japan/new_pro/no.118/p18_1.html>
しかしながら、上述した従来の技術では、GND不連続による高周波特性劣化と、以下に説明するように、伝送路GND部での高周波特性劣化が生じてしまうという問題があった。図17において、高周波伝送路22の断面図および信号−GND間の電気力線は、図19に示すように、内層(下層)GND24に密に生じている。図17に示す接続方法では、このような伝送線路の表面GND23のみをフレキシブル基板27のGND層に接続することになる。電気力線が密に生じている内層(下層)GND24を直接フレキシブル基板27のGNDへ接続できず、29のビアを経由して接続されるため、高周波においては、伝送線路が不連続になり、特性が劣化する。
なお、図18のように、高周波伝送線路32と表面GND33の間隙を小さくし、図20に示すように信号−GND間の電気力線が表面GND33側に密に生じるような伝送線路形状とした場合について考える。図18のような接続方法を行う場合、高周波伝送線路32と表面GND33の間隙を小さくしたことにより、図17のようにリード26を接続する事は、スペース的に困難であるため、フレキシブル基板36を直接高周波伝送線路32に直接接続、または図18のようにフライングリード37を用いて接続される。この場合、リード部分による信号線の不連続は解消され、表面GNDのみの接続による高周波特性確保も可能となるが、40GHz程度の高周波特性を満足するには、高周波伝送線路32と表面GND33の間隙を100μm以下程度にする必要があり、フレキシブル基板36と高周波伝送線路32の接続において、数十μm程度の位置精度が必要となる。また、フレキシブル基板の接続部において、十分な接続強度が確保できず、フレキシブル基板またはフライングリード部の破損が発生する可能性がある。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、高周波伝送路を伝送する信号の高周波特性の劣化を防止することができる接続装置、光デバイスを提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、この接続装置は、基板に設けられた接地電極層と、前記接地電極層上に誘電体層を介して設けられた第1伝送路を有し、前記第1伝送路と、前記接地電極層または、当該接地電極層と電気的に接続された平面にそれぞれ接続された複数のリードとを設け、前記複数のリードはフレキシブル基板上の第2伝送路および接地電極に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記誘電体基板上に前記第1伝送路以外の複数の線路を有し、各線路はリードにそれぞれ接続され、当該リードは前記フレキシブル基板に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記第1伝送路が形成された基板において、当該第1伝送路を挟むように両側の基板端を切り欠き、前記接地電極の領域を露出させ、前記第1伝送路、露出させた接地電極層にそれぞれ接続された複数のリードを設け、前記複数のリードはフレキシブル基板上の第2伝送路および接地電極に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記第1伝送路が形成された基板および当該第1伝送路が電気的に接続された平面を有する第1誘電体は、誘電体多層基板で一括に作成されることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記第1伝送路において、当該第1伝送路と同一の面上に第1伝送路を挟むように両側に設けられ、かつ誘電体層を介して設けられた接地電極層に電気的に接続された表面接地電極を有するグランデッドコプレーナ線路を用いることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記誘電体多層基板としてセラミック多層基板を用いることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記誘電体多層基板としてセラミック多層基板が用いられ、前記多層セラミック多層基板上のグランデッドコプレーナ線路において、表面接地電極部を基板端で切り欠き、切り欠き部の側面で表面接地電極と、誘電体を介して電気的に接続された接地電極層を電気的に接続することを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板は、基板の一方の面に第2伝送線路を有し、基板を介して他方の面に接地電極層を有することを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板のスルーホールの接地電極側から前記リードを差込み嵌合し、電気的に接続することを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板に空けたスルーホールにおいて、第2伝送路の接地電極面に配置されたスルーホールランドと、接地電極層の間隙を30μm〜150μmとし、所望の周波数特性を有することを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板において、材料に液晶ポリマーを用いることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板において、材料にポリイミドを用いることを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、前記フレキシブル基板において、第2伝送路の表面あるいは接地電極層の表面の少なくとも片方に絶縁層を有することを要件とする。
また、この接続装置は、上記の接続装置において、他の装置と嵌合するとともに、嵌合部分を封止する封止部をさらに備えたことを要件とする。
また、この光デバイスは、光信号を送信する光デバイスであって、請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、前記接続装置を伝送する電気信号に基づいて、レーザを制御することにより光信号を外部に送信する送信手段を備えたこと要件とする。
また、この光デバイスは、光信号を受信する光デバイスであって、請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、外部から受信した光信号を電気信号に変換した後に、当該電気信号を前記接続装置に出力する受信手段を備えたことを要件とする。
また、この光デバイスは、光信号を送受信する光デバイスであって、請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、前記接続装置を伝送する電気信号に基づいて、前記レーザを制御することにより光信号を外部に送信する送信手段と、外部から受信した光信号を電気信号に変換した後に、当該電気信号を前記接続装置に出力する出力手段と備えたことを要件とする。
この接続装置によれば、第1伝送路から生じる電気力線が向かっているGND層をフレキシブル基板のGND層に途切れることなく接続できるため、高周波特性を改善することができる。
図1は、本実施例1にかかる接続装置の概念を説明するための図(1)である。 図2は、本実施例1にかかる接続装置の概念を説明するための図(2)である。 図3は、本実施例1にかかる接続装置の概念を説明するための図(3)である。 図4は、第1伝送路からGND層に対して生じる電気力線を示す図である。 図5は、本実施例1にかかる接続装置の多層セラミック基板を示す図である。 図6は、セラミック基板とフレキシブル基板とを接続した接続装置を示す図である。 図7は、本実施例1にかかる接続装置の周波数特性を示す図である。 図5に示した多層セラミック基板を多層フレキシブル基板に接続した接続装置を示す図である。 図9は、光送受信機の構成を示す一例である。 図10は、接続部の一例を示す図である。 図11は、接続装置のその他の構成を示す図(1)である。 図12は、接続装置のその他の構成を示す図(2)である。 図13は、接続装置のその他の構成を示す図(3)である。 図14は、接続装置のその他の構成を示す図(4)である。 図15は、光デバイスに封止部を備えた接続装置を接続した図である。 図16は、フレキシブル基板を備えた従来の光送受信機の構成を示す図である。 図17は、従来の接続部の構造を示す図(1)である。 図18は、従来の接続部の構造を示す図(2)である。 図19は、図17の高周波伝送路の断面図および信号−GND間の電気力線を示す図である。 図20は、図18の高周波伝送路の断面図および信号−GND間の電気力線を示す図である。
符号の説明
10,600 光送受信機
11,610 光コネクタ
12,620 光レセプタクル
13a,630a ROSA
13b,630b TOSA
14,640 光部品端子
15,27,36,200,300b,650 フレキシブル基板
16,660 プリント基板
17,30 接続部
21,31,300a,800b 多層セラミック基板
22,32 高周波伝送路
23,33,320 表面GND
24,34,340 内層(下層)GND
25,35,330,400,520,820,960,974 DC端子
26,150,160,360,370,380,360,370,380,962,971,973,975 リード
28,220,230,410,420,430,540,550,560,963,980,981,982 スルーホール
29 表面GND−内層(下層)GND間ビア
37 フライングリード
100 誘電体基板
110 第1誘電体
120 第2誘電体
130,310,810,972 第1伝送路
140,240,530,830 GND層
210,390,510 第2伝送路
300,800,900,950a,950b 接続装置
250 GND
350,961 ビア
500 多層フレキシブル基板
631 第1レンズ
632 第2レンズ
633 ペルチェ素子
634 EMLチップ
670 電気入力部
680 CDR
690 Driverアンプ
840,850 誘電体
910 封止部
970 接地電極面
以下に、本発明にかかる接続装置、光送受信装置および光デバイスの実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。
本実施例1にかかる接続装置の概要を説明する。図1〜3は、本実施例1にかかる接続装置の概念を説明するための図である。なお、図1は、接続装置における誘電体基板の概要を示し、図2は、接続装置におけるフレキシブル基板の概要を示し、図3は、誘電体基板とフレキシブル基板とを接続した接続装置の例を示している。
まず、図1左側の説明を行う。図1に示す誘電体基板100は、第1誘電体110の上面にGND層140が設けられている。図1中では、GND層140は、誘電体基板の前面に配置されているが、部分的でもよい。また、誘電体基板は、金属基板でもよい。
そして、GND層140の上面に第2誘電体120が設けられ、第2誘電体120の上面に第1伝送路130が設けられている。第1伝送路130の材質は、アルミナセラミック、ガラスセラミックのどのセラミック材料、あるいは、テフロン(登録商標)、ガラスエポキシ、PTFEなどのプリント基板材料などである。
そして、GND層140には、リード150が接続され、第1伝送路130には、リード160が接続されている。リード150,160は、厚数100μm程度のコバールあるいは銅などの金属である。リード150は、GND接続用のリードであり、リード160は、信号線接続用のリードである。
また、図1の右側に示すように、第2誘電体120において、第1伝送路130が配置された面の逆側の面は、接地電極層となっている。第2誘電体120の接地電極層と、第1誘電体110の導体層とを結合することにより、第1誘電体110の上面が第1伝送路の接地電極(GND層140)となる。
続いて、図2の説明を行う。図2の左側は、フレキシブル基板200の斜視図であり、図2の右側1段目はフレキシブル基板200の正面図を示している。また、図2の右側2段目は、フレキシブル基板200のCD断面およびAB断面を示している。
図2の左側に示すように、フレキシブル基板200の表面には、第2伝送路210が設けられている。第2伝送路210の材質は、ポリイミド、液晶ポリマー、プラスティックなどのフレキシブル基板材料である。また、フレキシブル基板200は、GND接続用リード150をはめ込むスルーホール220と、信号線接続用リード160をはめ込むスルーホール230とを備える。
図2の右側2段目は、フレキシブル基板の構造の一例である。フレキシブル基板200において、GND層240が設けられた面とは反対の面に第2伝送路210が設けられている。また、スルーホール220の内側は、GND250となっており、スルーホール230の内側は、第2伝送路210と電気的に接続されている。また、AB断面において、GND層間隙dは、30μm〜150μmとなっている。
なお、フレキシブル基板200は、信号線とGNDを有し、インピーダンスコントロールされた伝送線路を形成していれば、線路形状は自由に変えられる。また、フレキシブル基板200は、第2伝送路210の表面あるいは接地電極層の表面の片方あるいは両方に絶縁層を有していてもよい。
続いて、図3の説明を行う。図3の左側は、誘電体基板100とフレキシブル基板200とを接続した接続装置の斜視図であり、図3の右側1段目は、接続装置の正面図を示している。また、図3の右側2段目は、接続装置のC’D’断面およびA’B’断面を示している。
図3の左側に示すように、フレキシブル基板200および誘電体基板100は、リード150,160をスルーホール220,230にそれぞれはめ込み、はんだなどで電気的に接続されている。ここで、信号線スルーホールとGND層の間隙d(図2参照)が、高周波特性に影響するため、100μm程度の最適値にしておく。このとき、第1伝送路130では、図4に示すように、電気力線が、GND層140に対して生じている(図4は、第1伝送路130からGND層140に対して生じる電気力線を示す図である。)。図3の右側2段目に示すとおり、この接続によれば、GND層140をGND層240に最短で接続できる。
このように、接続装置は、誘電体基板100のGND層140にリード150を接続し、第1伝送路130にリード160を接続すると共に、フレキシブル基板200に設けられたスルーホール220,230にリード150,160をそれぞれはめ込むことによって誘電体基板100とフレキシブル基板200とを接続するので、第1伝送路から生じる電気力線が向かっているGND層140をGND層240に途切れることなく接続できるため、高周波特性を改善することができる。
次に、本実施例1にかかる接続装置の構成を具体的に説明する。図4は、本実施例1にかかる接続装置の多層セラミック基板を示す図であり、図5は、多層セラミック基板とフレキシブル基板とを接続した接続装置を示す図である。
図5に示すように、接続装置300は、多層セラミック基板(誘電体または金属等)300aの上面に、表面パタンとして、第1伝送路(第1伝送路の材質は、上記した第1伝送路130と同様)310、表面GND320およびDC端子330が設けられており(グランデットコプレーナ線路を構成しており)、多層セラミック基板300aの内層に内層GND340が設けられている。また、表面GND320と内層GND340とはビア350によって電気的に接続されている。
第1伝送路310を伝送する信号は、表面GND320および内層GND340との間においてインピーダンス整合をとる。量産化の観点から、表面GND320と第1伝送路310とのピッチを所定値(例えば、0.6mm程度)とすると、表面GND320と第1伝送路との間でインピーダンス整合する割合よりも、内層GND340と第1伝送路との間でインピーダンス整合する割合が大きくなり(第1伝送路310からの電気力線が、内層GND340に対して密に生じているので)、第1伝送路310を伝送する高周波信号は、内層GND340のインピーダンス不整合の影響を顕著に受ける。
第1伝送路310の上面には、リード360が接続されており、内層GND340の上面には、リード370が接続されており、DC端子330の上面には、リード380が接続されている。リード360〜380を各面に接続する方法は周知技術のどのような方法を用いても構わないが、例えば、銀蝋などを用いて接続することができる。
また、図5に示すように、内層GND340にリード370を接続する場合には、表面GND320側の多層セラミック基板300aの面を内層GND340の層まで切り欠き(内層GND340を露出させ)、内層GND340に直接リード370を接続する。なお、多層セラミック基板300aを切り欠いた部分には、側面にメッキを施しても良い(メタライズしても良い)。
続いて、図6の説明に移ると、図6の左側は、多層セラミック基板300aとフレキシブル基板300bとを接続した接続装置300の斜視図であり、図6の右側1段目は、接続装置300の正面図を示している。また、図6の右側2段目は、接続装置300のA’’B’’断面、C’’D’’断面、E’’F’’断面を示している。
図6の左側に示すように、多層セラミック基板300aおよびフレキシブル基板300bは、リード360〜380をスルーホール410〜430にそれぞれはめ込むことによって接続されている。また、リード360〜380がスルーホール410〜430にそれぞれはめ込まれた後にはんだで接続される。
すなわち、リード360によって第1伝送路310と第2伝送路とが電気的に接続され、リード370によって表現GND320とGND層440とが電気的に接続され、リード380によってDC端子330と、DC端子420とが電気的に接続される。
フレキシブル基板300bは、第2伝送路(第2伝送路の材質は、上記した第2伝送路210と同様)390、DC端子400、リード360をはめ込むスルーホール410、リード370をはめ込むスルーホール420、リード380をはめ込むスルーホール430が設けられている。
また、図6の右側1段目に示すように、フレキシブル基板300bの表面には、GND層440が設けられている。GND層440は、第2伝送路390が設けられた面と反対側の面に設けられる。そして、スルーホール410の内側は、第2伝送路390と電気的に接続されており(A’’B’’断面参照)、スルーホール420の内側は、GND層440と電気的に接続されており(C’’D’’断面参照)、スルーホール430の内側は、DC端子400に電気的に接続されている(E’’F’’断面参照)。
図6の右側2段目に示すように、スルーホール430にリード380をはめ込むことによって、DC端子330とDC端子400とが接続される(E’’F’’断面参照)。また、スルーホール420にリード370をはめ込むことによって、内層GND340とGND層440とが接続される(C’’D’’断面参照)。
この場合、内層GND340とGND層440とは途切れることなく結合される(電気的に接続される)ので、インピーダンスミスマッチが発生することを防止し、第1伝送路310、第2伝送路390を伝送する高周波信号の劣化を防ぐことができる。また、スルーホール410にリード360をはめ込むことによって、第1伝送路310と第2伝送路390とが電気的に接続される(A’’B’’断面参照)。また、A’’B’’断面において、GND層間隙dは、30μm〜150μmとなっており、高周波特性に対する影響を防いでいる。
次に、本実施例1にかかる接続装置300の周波数特性について説明する。図7は、本実施例1にかかる接続装置300の周波数特性を示す図である。なお、図7の上段は、図6に示した接続装置300の略図であるため同一の符号を付して説明を省略する。
図7の下段に示すように、第1伝送路310を伝送する信号の周波数が70GHz以上となる場合に、透過が−3[dB]となる。すなわち、本実施例1にかかる接続装置300を用いることによって、70GHzまでの高周波信号を劣化させることなく伝送させることができる。
上述してきたように、本実施例1にかかる接続装置300は、内層GND340にリード370を接続し、第1伝送路310にリード360を接続すると共に、フレキシブル基板300bに設けられたスルーホール410,420にリード360,370をそれぞれはめ込むことによって多層セラミック基板300aとフレキシブル基板300bを接続するので、第1伝送路310から生じる電気力線が向かっているGND層340をGND層440に途切れることなく接続できるため、高周波特性を改善することができる。
また、本実施例1にかかる接続装置300は、リード360〜380をそれぞれスルーホール410〜430に嵌合して接続し、はんだづけを行うので、多層セラミック基板300aとフレキシブル基板300bとの接続作業性を向上させることができる。
また、本実施例1にかかる接続装置300は、第1伝送路310と表面GND320とのピッチを0.6mm程度に構成することができるので、高精度に接続パタン位置を合わせる技術が不要となり、量産性を向上させることができる。
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例1以外にも、種々の異なる形態にて実施されてよいものである。そこで、以下では実施例2として本発明に含まれる他の実施例を説明する。
(1)フレキシブル基板が多層の場合
本発明にかかる接続装置は、多層のフレキシブル基板(以下、多層フレキシブル基板)を用いることもできる。多重フレキシブル基板を使用すると、配線層が増加するため、配線の自由度を増加させることができる。図8は、図5に示した多層セラミック基板300aを多層フレキシブル基板500に接続した接続装置を示す図である。図8の上段は、接続装置の正面図を示しており、図8の下段は、接続装置のA’’B’’断面、C’’D’’断面、E’’F’’断面を示している。
図8の上段に示すように、多層フレキシブル基板500は、第2伝送路510、DC端子520、GND層530、スルーホール540〜560を備える。なお、図8の下段に示すように、第2伝送路510は、多層フレキシブル基板500の内層に設けられており(A’’B’’断面参照)、GND層530は、第2伝送路510を挟むように多重フレキシブル基板500の両面に設けられている(第2伝送路510は、誘電体層を介してGND層530に挟まれている)。
図8の下段に示すように、スルーホール540の内側は第2伝送路510と電気的に接続されており(A’’B’’断面参照)、スルーホール550の内側は、GND層530と電気的に接続されており(C’’D’’断面参照)、スルーホール560の内側は、DC端子520と電気的に接続されている(E’’F’’断面参照)。
この場合、内層GND340とGND層530とは途切れることなく結合(される電気的に接続される)ので、インピーダンスミスマッチが発生することを防止し、第1伝送路310、第2伝送路510を伝送する高周波信号の劣化を防ぐことができる。また、スルーホール540にリード360をはめ込むことによって、第1伝送路310と第2伝送路510とが電気的に接続される(A’’B’’断面参照)。なお、スルーホール540と、GND層530との間隙dは、高周波特性に影響するため、30μm〜150μmに設定されている。
さらに、図8に示すように、高周波信号を伝送する第2伝送路510をGND層530で挟むことによって、周囲(モジュールの筐体など)に対する影響を低減させることができると共に、短絡を防止することができる。
(2)各種装置への適用
本実施例1に示した接続装置を光送受信機(プラガブルモジュールなど)の各種装置に適用することができる。図9は、光送受信機の構成を示す一例である。同図に示すように、この光送受信機600は、光レセプタクル620と、ROSA630aと、TOSA630bと、光部品端子640と、フレキシブル基板650と、プリント基板660と、電気入力部670と、CDR(Clock and Data Recovery)680と、Driverアンプ690とを備え、接続部700に実施例1に示した接続装置300を適用している。
図10は、接続部700の一例を示す図である。同図に示す例では、接続装置がTOSA630bに適用されている例を示している。図10に示すように、TOSA630bは、第1レンズ631、第2レンズ632、ペルチェ素子633、EMLチップ634等を備えており、接続装置の第1伝送路(図5、図6参照)から伝送される電気信号を光信号に変換する。
図9において、光レセプタクル620、ROSA630a、光部品端子640、フレキシブル基板650、プリント基板660は、図10に示した、光レセプタクル12と、ROSA13aと、TOSA13bと、光部品端子14と、フレキシブル基板15と、プリント基板16と同様であるため説明を省略する。
電気入力部670は、光通信システムのポート(図示略)に挿入された場合に、光る通信システムのポートと電気信号の送受信を実行する手段である。CDR680は、電気入力部670から入力された電気信号からデータ信号およびクロック信号を抽出し、Driverアンプに出力する手段である。Driverアンプ690は、CDR680から出力される電気信号に基づいて、TOSA630bを駆動する駆動信号をTOSA630bに出力するドライバアンプである。
このように、接続部700に実施例1に示した接続装置300(図4、図5を参照)を適用することによって、高周波信号の劣化を防止することができ、送受信対象となる信号が高周波の信号であっても、光送受信機600を信号の送受信に利用することができる。
(3)接続装置のその他の構成について
接続装置の構成は、上記の接続装置300に限定されるものではない。図11〜図14は、接続装置のその他の構成を示す図である。図11に示す接続装置800は、第1伝送路810を表面に備えた誘電体840と、DC端子820を表面に備えた誘電体850とを多層セラミック基板800bのGND層830に結合させ、誘電体840と誘電体850との隙間から露出したGND層830にリード870を接続している。
また、リード860は、第1伝送路810に接続され、リード880は、DC端子820に接続されている。そして、リード860,870,880を、フレキシブル基板300bのスルーホール410,420,430にはめ込みはんだなどで電気的に接続する(フレキシブル基板300bは、図6と同様である)。
図12に示す接続装置900は、図5に示した多層セラミック基板300aの上面に封止部910を備えている。封止部910は、光デバイスと接続装置900とを嵌合する場合に用いられる。また、封止部910は、表面がメッキ加工されているため、光デバイスと封止部910とを嵌合させた場合に、勘合部を金錫ハンダなどで接続し、光デバイス内部を密閉できるようになっている。図15は、光デバイス(例えば、TOSA630b)に封止部910を備えた接続装置900を接続した図である。なお、接続装置800は、多層セラミック基板300a上にそのほかの配線を備えていても良い。
図13および図14に示す接続装置950a、950bは、多層セラミック基板300aの両面に配線層を設けた例を示している。図13に示す接続装置950aは、DC端末960が、多層セラミック基板300aの表面(封止部910が接続された面)から内部を通過し、ビア961を介して裏面に到達し、リード962に接続されている。また、リード962は、フレキシブル基板に設けられたスルーホール963にはめこまれ、はんだで接続されている(その他の構成は、図12に示した接続装置900と同様である)。
図14に示す接続装置950bは、多層セラミック基板300aの裏面に接地電極面970を備えており、接地電極面970にリード971が接続されている。そして、リード971が、フレキシブル基板のスルーホール980にはめ込まれ、はんだで接続されている。また、第1伝送路972は、多層セラミック基板300aの内層を通り、リード973に接続されている。そして、リード973が、フレキシブル基板のスルーホール980にはめ込まれ、はんだで接続されている。また、DC端子974は、多層セラミック基板300aの内層を通り、リード975に接続されている。そして、リード975が、フレキシブル基板のスルーホール983にはめ込まれ、はんだで接続されている。
このように、図11〜14に示す接続装置800,900,950a,950bは、第1伝送路から生じる電気力線が向かっているGND層をフレキシブル基板のGND層に途切れることなく接続できるので、高周波特性を改善することができる。また、図12〜14に示す接続装置900,950a,950bは、封止部910を備えているので、他の光デバイス(例えば、ROSA、TOSA等)との接続を容易に行うことができると共に、デバイス内部を密閉することが出来る。
ところで、本実施例1、2において説明した各処理のうち、自動的に行われるものとして説明した処理の全部または一部を手動的に行うこともでき、あるいは、手動的に行われるものとして説明した処理の全部あるいは一部を公知の方法で自動的に行うこともできる。また、上記の接続装置における各種の配線を備えた多層セラミック基板300aは、周知の技術によって、誘電体多層基板から一括して作成することも可能である。
また、本実施例1、2に示した接続装置、光デバイスは概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散・統合して構成することができる。

Claims (17)

  1. 基板に設けられた接地電極層と、前記接地電極層上に誘電体層を介して設けられた第1伝送路を有し、前記第1伝送路と、前記接地電極層または、当該接地電極層と電気的に接続された平面にそれぞれ接続された複数のリードとを設け、前記複数のリードはフレキシブル基板上の第2伝送路および接地電極に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを特徴とする接続装置。
  2. 前記誘電体基板上に前記第1伝送路以外の複数の線路を有し、各線路はリードにそれぞれ接続され、当該リードは前記フレキシブル基板に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを特徴とする請求項1に記載の接続装置。
  3. 前記第1伝送路が形成された基板において、当該第1伝送路を挟むように両側の基板端を切り欠き、前記接地電極の領域を露出させ、前記第1伝送路、露出させた接地電極層にそれぞれ接続された複数のリードを設け、前記複数のリードはフレキシブル基板上の第2伝送路および接地電極に設けられたスルーホールに嵌合して電気的に接続されることを特徴とする請求項2に記載の接続装置。
  4. 前記第1伝送路が形成された基板および当該第1伝送路が電気的に接続された平面を有する第1誘電体は、誘電体多層基板で一括に作成されることを特徴とする請求項3に記載の接続装置。
  5. 前記第1伝送路において、当該第1伝送路と同一の面上に第1伝送路を挟むように両側に設けられ、かつ誘電体層を介して設けられた接地電極層に電気的に接続された表面接地電極を有するグランデッドコプレーナ線路を用いることを特徴とする請求項4に記載の接続装置。
  6. 前記誘電体多層基板としてセラミック多層基板を用いることを特徴とする請求項4に記載の接続装置。
  7. 前記誘電体多層基板としてセラミック多層基板が用いられ、前記多層セラミック多層基板上のグランデッドコプレーナ線路において、表面接地電極部を基板端で切り欠き、切り欠き部の側面で表面接地電極と、誘電体を介して電気的に接続された接地電極層を電気的に接続することを特徴とする請求項5に記載の接続装置。
  8. 前記フレキシブル基板は、基板の一方の面に第2伝送線路を有し、基板を介して他方の面に接地電極層を有することを特徴とする請求項7に記載の接続装置。
  9. 前記フレキシブル基板のスルーホールの接地電極側から前記リードを差込み嵌合し、電気的に接続することを特徴とする請求項8に記載の接続装置。
  10. 前記フレキシブル基板に空けたスルーホールにおいて、第2伝送路の接地電極面に配置されたスルーホールランドと、接地電極層の間隙を30μm〜150μmとし、所望の周波数特性を有することを特徴とする請求項9に記載の接続装置。
  11. 前記フレキシブル基板において、材料に液晶ポリマーを用いることを特徴とする請求項10に記載の接続装置。
  12. 前記フレキシブル基板において、材料にポリイミドを用いることを特徴とする請求項11に記載の接続装置。
  13. 前記フレキシブル基板において、第2伝送路の表面あるいは接地電極層の表面の少なくとも片方に絶縁層を有することを特徴とする請求項12に記載の接続装置。
  14. 他の装置と嵌合するとともに、嵌合部分を封止する封止部をさらに備えたことを特徴とする請求項13に記載の接続装置。
  15. 光信号を送信する光デバイスであって、
    請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、
    前記接続装置を伝送する電気信号に基づいて、レーザを制御することにより光信号を外部に送信する送信手段を備えたことを特徴とする光デバイス。
  16. 光信号を受信する光デバイスであって、
    請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、
    外部から受信した光信号を電気信号に変換した後に、当該電気信号を前記接続装置に出力する受信手段を備えたことを特徴とする光デバイス。
  17. 光信号を送受信する光デバイスであって、
    請求項1〜14のいずれか一つに記載の接続装置を備え、
    前記接続装置を伝送する電気信号に基づいて、前記レーザを制御することにより光信号を外部に送信する送信手段と、
    外部から受信した光信号を電気信号に変換した後に、当該電気信号を前記接続装置に出力する出力手段と
    を備えたことを特徴とする光デバイス。
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