JPWO2008090757A1 - スクアリリウム化合物、スクアリリウム化合物含有組成物、光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルター - Google Patents

Abstract

本発明は新規なスクアリリウム化合物、該スクアリリウム化合物と分散媒との組成物、更には該組成物を用いた光学フィルター、特にディスプレイ用前面フィルターを提供することであり、新規なスクアリリウム化合物は下記一般式（１）で表されることを特徴とする。【化１】（式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一方は置換基であり、Ｒ1とＲ2は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3及びＢ4は炭素原子または窒素原子であり、炭素原子のとき水素原子または置換基を有する。Ｒ3及びＲ4は水素原子または置換基を表す。）

Description

本発明は、スクアリリウム化合物、スクアリリウム化合物を少なくとも１種及び分散媒を少なくとも１種含有する組成物、及びこれを用いた光学フィルター、特にディスプレイ用前面フィルターに関する。

近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとして、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、液晶ディスプレイ等、様々なディスプレイが開発され、その需要が増大している。また、ＥＬディスプレイやＦＥＤディスプレイなど新規ディスプレイ技術も実用化の域に達しており、今後もディスプレイの需要は大幅に拡大するものと推測されている。

こうした中でもプラズマディスプレイやＣＲＴなど発光型ディスプレイでは、発光体に電子線や紫外線を照射させるなど種々の方法により、赤、青、緑のそれぞれの３原色発光を得て表示を行うが、これらの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスを補正する色調整フィルターが求められている。

上記の色調整フィルター用色素には、可視域に良好な吸収特性を有すること、例えば、モル吸光係数が大きいこと、半値幅が小さいこと、副吸収を有さないことが求められる。また、同時にフィルター製造の観点から、種々の有機溶媒に対して溶解性が高いこと、分散媒との相溶性が高いことなどが求められる。また、更にディスプレイは長期間の使用が前提とされるため高い耐候性、特に耐光性が高いことが求められている。

プラズマディスプレイにおいては、色純度を向上させたり、色温度を上げたりするために５６０〜６２０ｎｍ近辺に吸収を持つ色素を配合する必要がある。また、この波長域にはパネル内のネオンガスからの発光も含まれるため、このような不必要な発光を吸収する光学フィルターが求められている。

このような要望を受けて、様々な色素が提案されており、その中でもスクアリリウム色素はモル吸光係数が大きく、半値幅も小さいという優れた吸収特性を有し、これを利用した光学フィルター、プラズマディスプレイ用フィルターが提案されている。

こうした中でも、ピラゾロン及び芳香族６員環からなる非対称スクアリリウム化合物としては、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）で表されるものが知られている（例えば、特許文献１、２参照。）。

この内、（Ａ）はピラゾロンとレゾルシノール誘導体との組み合わせである。（Ｂ）についてはピラゾロンとアニリン誘導体の組み合わせであるが、ピラゾロンの１位の置換基がフェニル基であり、且つ該フェニル基はＸで表される酸性基（解離することができる水素原子を有する基）を持つことが特徴であり、具体的にはカルボキシル基が例示されているのみであり、半導体と共に光電変換材料として用いられている。

このようにピラゾロンとアニリン誘導体からなる非対称スクアリリウムは公知であるが、前記非対称スクアリリウムと分散媒との組成物は知られていない。また、ピラゾロン１位のフェニル基に酸性基を持たないピラゾロンとアニリン誘導体の組み合わせ、ピラゾロン１位の置換基がフェニル基でないピラゾロンとアニリン誘導体の組み合わせによる非対称スクアリリウム化合物については知られていない。また、このような非対称スクアリリウム化合物及び分散媒を含有する組成物を用いた光学フィルター、特にディスプレイ用前面フィルターについても未だ知られていない。
特開２００６−２４１４５９号公報 特開２００６−６３０３４号公報

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、新規なスクアリリウム化合物、該スクアリリウム化合物と分散媒との組成物、更には該組成物を用いた光学フィルター、特にディスプレイ用前面フィルターを提供することにある。

本発明のスクアリリウム化合物含有組成物におけるスクアリリウム化合物は、前記一般式（１）で表されることを特徴とする。

本発明者らの検討によれば、本発明のスクアリリウム化合物は分散媒との組成物として、優れた相溶性、分光吸収特性、耐候性を有することがわかった。更には本発明のスクアリリウム化合物含有組成物に金属イオン含有化合物を加えることで、更に優れた分光吸収特性、耐候性を示すことが明らかとなった。これによって、耐候性、吸収特性に優れた光学フィルター、特にディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

以下、本発明の上記目的は、下記構成により達成される。

１．下記一般式（１）で表されるスクアリリウム化合物を少なくとも１種及び分散媒を少なくとも１種含有することを特徴とするスクアリリウム化合物含有組成物。

（式中、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一方は置換基であり、Ｒ₁とＲ₂は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄は炭素原子または窒素原子であり、炭素原子のとき水素原子または置換基を有する。Ｒ₃及びＲ₄は水素原子または置換基を表す。）
２．金属イオン含有化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする前記１に記載のスクアリリウム化合物含有組成物。

３．前記１または２に記載のスクアリリウム化合物含有組成物を含有することを特徴とする光学フィルター。

４．前記１または２に記載のスクアリリウム化合物含有組成物を含有することを特徴とするディスプレイ用前面フィルター。

５．５６０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有することを特徴とする前記４に記載のディスプレイ用前面フィルター。

６．下記一般式（２）で表されることを特徴とするスクアリリウム化合物。

（式中、Ｒ₁₁及びＲ₁₂は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一方は置換基であり、Ｒ₁₁とＲ₁₂は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｂ₁₁、Ｂ₁₂、Ｂ₁₃及びＢ₁₄は炭素原子または窒素原子であり、炭素原子のとき水素原子または置換基を有する。Ｒ₁₃及びＲ₁₄は水素原子あるいは置換基を表し、該置換基がフェニル基である場合、該フェニル基の置換基はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。）

本発明によって、新規なスクアリリウム化合物、該スクアリリウム化合物とバインダーとの組成物、更にはこの組成物を用いて、優れた分光吸収特性及び耐候性を有する光学フィルター、具体的にはディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

以下、本発明のスクアリリウム化合物及び分散媒をそれぞれ少なくとも１種含有する組成物、更にこれを用いた光学フィルター、具体的にはディスプレイ用前面フィルターについて説明するが、本発明はこれらに限定されない。

本発明に関するスクアリリウム化合物は、前記一般式（１）、（２）で表されることを特徴とする。

式中、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一つは置換基である。Ｒ₁及びＲ₂で表される置換基として、具体的には、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基などが挙げられる。

より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、へテロアリール基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基であり、最も好ましくはアルキル基である。

また、これら置換基は更に同様の置換基によって置換されてもよい。また、更にＲ₁とＲ₂は同一でも異なっていてもよく、互いにあるいはＢ₁、Ｂ₆における置換基と結合して環を形成してもよい。このとき形成される環としてはＲ₁とＲ₂が互いに結合したヘテロ環あるいはヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に限定されないが、５員または６員環であることが好ましく、より好ましくは５員環である。

Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄は炭素原子または窒素原子を表し、芳香環を形成する。このときＢ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄の内、少なくとも２つは炭素原子であることが好ましく、より好ましくは少なくとも３つが炭素原子であって、このときＢ₁、Ｂ₃及びＢ₄が炭素原子であることがより好ましい。更には、Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄は全て炭素原子であることがより好ましい。

Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄のいずれかが炭素原子である場合、水素原子または置換基を有する。置換基の数としては特に限定されないが、２以上であることが好ましく、より好ましくは３以上である。このとき特にＢ₂及びＢ₃が炭素原子であって、少なくとも一方に置換基を有することが好ましい。

置換基として、具体的には上記Ｒ₁及びＲ₂で表される置換基を同様のものを挙げることができる。この中でも好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が挙げられる。

より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基である。

特にＢ₂及びＢ₃上の置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アミド基、カルバモイル基が挙げられ、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アミド基が挙げられ、ヒドロキシル基、アミド基であることが特に好ましい。

また、Ｂ₁及びＢ₄上の置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子が挙げられ、いずれか一方は電子吸引性基であることがより好ましい。

Ｒ₃及びＲ₄は水素原子または置換基を表す。ここで表される置換基としては、上記Ｒ₁及びＲ₂で表される置換基と同様のものを挙げることができる。

Ｒ₃の置換基として好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基が挙げられ、より好ましくはアルキル基、アリール基であり、最も好ましくはアルキル基である。

Ｒ₄で表される置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基が挙げられ、より好ましくはアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。

アルキル基の中でも更に好ましくは分岐アルキル基であり、分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ネオペンチル基、ｔ−アミル基などが挙げられるが、より好ましくはイソプロピル基、ｔ−ブチル基である。また、アルキル基の一部、あるいは全てがフッ素原子で置換されたフッ素置換アルキル基も同様に好ましい。

Ｒ₄で表される置換基がフェニル基である場合、該フェニル基は更に置換基が結合してもよいが、水素原子を解離しない置換基を有することがより好ましい。

水素原子を解離しない置換基として具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）を挙げることができる。

ここでいう水素原子を解離しない置換基について、水素原子を解離する指標としてｐＫａを挙げることができ、本発明における水素原子を解離しない置換基とは、ｐＫａが１１以上であることを特徴とする。ここでいうｐＫａはある置換基をベンゼン環に導入した場合のｐＫａを表し、具体的には以下のような値が知られている。

上記に挙げた水素原子を解離しない基としてより好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子（特に塩素原子、フッ素原子）が挙げられ、更に好ましくはアルコキシ基、ハロゲン原子（特に塩素原子、フッ素原子）が挙げられる。

本発明のスクアリリウム化合物は、前記一般式（２）で表される。

式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂はそれぞれ前記一般式（１）のＲ₁、Ｒ₂と同義である。また、Ｂ₁₁、Ｂ₁₂、Ｂ₁₃、Ｂ₁₄はそれぞれ前記一般式（１）のＢ₁、Ｂ₂、Ｂ₃、Ｂ₄と同義である。また、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄はそれぞれ前記一般式（１）のＲ₃、Ｒ₄と同義である。但し、Ｒ₁₄で表される置換基がフェニル基である場合、該フェニル基の置換基はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。

以下に一般式（１）、（２）で表されるスクアリリウム化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。

本発明に係る前記一般式（１）、（２）で表されるスクアリリウム化合物は、例えば、特開平５−１５５１４４号、同５−２３９３６６号、同５−３３９２３３号、特開２０００−３４５０５９号、同２００２−３６３４３４号、同２００４−８６１３３号、同２００４−２３８６０６号の各公報に記載された従来公知の方法を参考にして合成することができる。

本発明のスクアリリウム化合物は、製膜安定性などのために分散媒との組成物、もしくはこれに更に溶媒を加えた組成物として用いられることが好ましい。

分散媒としては、（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、アミノ系樹脂、フッ素系樹脂、フェノール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アラミド樹脂などが挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂などが好ましく用いられ、最も好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂である。また、これらの共重合体も同様に好ましい。

（メタ）アクリレート系樹脂とは種々のメタクリレート系モノマー、もしくはアクリレート系モノマーを単独重合、もしくは共重合することにより合成され、モノマー種及びモノマー組成比を種々変えることによって、望みの（メタ）アクリレート系樹脂を得ることができる。

また、本発明においては、（メタ）アクリレート系モノマーと一緒に（メタ）アクリレート系モノマー以外の不飽和二重結合を有する共重合可能なモノマーと共に共重合しても使用可能であり、更に本発明においては、ポリ（メタ）アクリレート系樹脂と一緒に他の複数の樹脂を混合しても使用可能である。

本発明において用いられる（メタ）アクリレート系樹脂を形成するモノマー成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ（エチレングリコール）エチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、塩化エチルトリメチルアンモニウム（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２−アセトアミドメチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−トリメトキシシランプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

好ましくは、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリ
レート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートである。

ポリスチレン系樹脂とは、スチレンモノマーの単独重合物、あるいはスチレンモノマーと共重合可能な他の不飽和二重結合を有するモノマーを共重合したランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体が挙げられる。更に、かかるポリマーに他のポリマーを配合したブレンド物やポリマーアロイも含まれる。

前記スチレンモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−メチルスチレン−ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン、ｏ−クロルスチレン、ｍ−クロルスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジクロルスチレン、ジブロモスチレン、トリクロルスチレン、トリブロモスチレンなどの核ハロゲン化スチレンなどが挙げられるが、この中でスチレン、α−メチルスチレンが好ましい。

これらを単独重合、もしくは共重合することによって本発明で用いられる樹脂は合成され、例えば、ベンジルメタクリレート／エチルアクリレート、あるいはブチルアクリレート等の共重合体樹脂、またメチルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート等の共重合体樹脂、メチルメタクリレート／メタクリル酸／ステアリルメタクリレート／アセトアセトキシエチルメタクリレートの共重合体樹脂、スチレン／アセトアセトキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体樹脂、スチレン／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体、更には２−エチルヘキシルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の共重合体樹脂等が例として挙げられる。

本発明における金属イオン含有化合物とは、金属イオンを含有するものであれば特に限定されない。金属イオンは特に限定されないが、遷移金属であることが好ましく、より好ましくは第一遷移系列元素であって、更に好ましくは鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛であり、最も好ましくは銅である。また、このときの金属の価数は２価あるいは３価であることが好ましく、より好ましくは２価である。

また、本発明に係る金属イオン含有化合物は、下記一般式（３）で表されることがより好ましい。

一般式（３） Ｍ（Ｘ₁）_m（Ｘ₂）_l・Ｗ_s
式中、Ｍは金属イオンを表す。Ｘ₁及びＸ₂はそれぞれ独立に１座または２座の配位子を表し、同一であっても異なっていてもよく、Ｘ₁とＸ₂は連結していてもよい。

Ｘ₁及びＸ₂として、例えば、特開２０００−２５１９５７号、同２０００−３１１７２３号、同２０００−３２３１９１号、同２００１−６７６０号、同２００１−５９０６２号、同２００１−６０４６７号の各公報に記載されているようなものが挙げられる。

具体的には、ハロゲンイオン、水酸イオン、アンモニア、ピリジン、アミン（例えばメチルアミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン等）、シアン化物イオン、シアン酸イオン、チオラートイオン、チオシアン酸イオン、及びビピリジン類、アミノポリカルボン酸類、８−ヒドロキシキノリン等の各種のキレート配位子が挙げられ、キレート配位子については上野景平著「キレート化学」等に例示されている。

１座配位子としては、アシル基、カルボニル基、チオシアネート基、イソシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルコキシ基またはアリールオキシ基で配位する配位子、あるいはジアルキルケトンまたはカルボンアミドからなる配位子が好ましい。

２座配位子としては、アシルオキシ基、オキザリレン基、アシルチオ基、チオアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオカルボネート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、アルキルチオ基またはアリールチオ基で配位する配位子、あるいはジアルキルケトンまたはカルボンアミドからなる配位子が好ましい。

以下に配位子例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。なお、ここに示す構造式は幾つも取り得る共鳴構造の中の一つの極限構造に過ぎず、共有結合（−で示す）と配位結合（…で示す）の区別も形式的なもので、絶対的な区別を表すものではない。

更に、Ｘ₁で表される配位子は下記一般式（４）で表されることがより好ましい。

式中、Ｅ₁、Ｅ₂及びＲは置換基を表す。置換基として、具体的には前記Ｒ₁及びＲ₂で表される置換基と同様のものを挙げることができる。これら置換基は更に同様の置換基よって置換されてもよく、また置換基同士が更に互いに結合して環を形成してもよい。

Ｅ₁及びＥ₂は電子吸引性基であることが好ましく、電子吸引性の度合いを示す指標としてハメット置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の電子吸引性基であることが好ましく、より好ましくはＥ₁がハメット置換基定数（σｐ）０．３５以上０．９以下であり、更に好ましくはＥ₁及びＥ₂がともにハメット置換基定数（σｐ）が０．３５以上０．９以下であることである。

電子吸引性の度合いを示すハメットの置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の置換基について説明する。ここでいうハメットの置換基定数σｐの値としては、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．Ｌｅｏらの報告（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１６、１２０７（１９７３）；ｉｂｉｄ．２０、３０４（１９７７））に記載の値を用いるのが好ましい。

例えば、σｐの値が０．１０以上の置換基または原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基（例えば、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメタンスルホニルメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、置換アリール基（例えば、ペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンズチアゾリル、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、アシロキシ基（例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えば、ベンゼンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル）などが挙げられる。

また、σｐの値が０．３５以上の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、フッ素置換アルキル基（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル）、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、フッ素またはスルホニル基置換芳香族基（例えば、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホリル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基などが挙げられる。

σｐの値が０．６０以上の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、脂肪族、芳香族もしくはヘテロ環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、ジフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）などが挙げられる。

また、Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が７５ų以下であることが好ましく、４５ų以下であることがより好ましい。特にＥ₂はファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が３５ų以下であることが好ましい。

置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積とは、アクセルリス社製分子シミュレーションソフトＣｅｒｉｕｓ２を用いて求められるパラメーターを用いるが、ベンゼン環に置換基を導入し、Ｄｒｅｉｄｉｎｇ Ｆｏｒｃｅ Ｆｉｅｌｄを用いて、ＭＭ計算で分子構造を最適化して、Ｃｏｎｎｏｌｙ Ｓｕｒｆａｃｅを用いて求めたＶｏｌｕｍｅ値と定義する。具体的な置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積の例を数例以下に示す。

Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基の好ましい例として、具体的にはハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基等が挙げられる。また、Ｅ₁がハロゲン置換アルキル基、シアノ基であることがより好ましく、更に好ましくはハロゲン置換アルキル基であることであって、最も好ましくはフッ素置換アルキル基であることである。Ｅ₂はシアノ基、ニトロ基、アル
キルスルホニル基あるいはカルボニル基であることがより好ましく、更に好ましくはシノ基、ニトロ基であることであって、最も好ましくはシアノ基であることである。

Ｒはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であることが好ましく、より好ましい置換基としては炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が挙げられ、更に好ましくは炭素数２〜１８のアルキル基または炭素数１〜１８のアルコキシ基、アリールオキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜１６のアルコキシ基である。

ｍ及びｌはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｌ≧１である。

以下に前記一般式（４）で示される配位子の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。

Ｗは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表し、例えば、ある金属イオン含有化合物が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかはその金属、配位子、及び置換基に依存する。置換基が解離性基を有する場合、解離して負電荷を持ってもよく、この場合にも分子全体の電荷はＸによって中和される。

典型的な陽イオンは、無機または有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン）、アルカリ金属イオン及びプロトンであり、一方、陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えば、メチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、エノレート（例えば、アセチルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート）、水酸イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、炭酸イオン、過塩素酸イオン、アルキルカルボン酸イオン、アリールカルボン酸イオン、テトラアルキルボレート、サリシネート、ベンゾエート、ヘキサフルオロアンチモン等が挙げられる。

ｓは０〜３の整数であって、好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０である。

以下に、前記一般式（３）で表される金属イオン含有化合物の代表的な具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明のスクアリリウム化合物と金属イオン含有化合物の混合比（モル比）に特に制限はないが、スクアリリウム化合物：金属イオン含有化合物＝１：Ｙと表す場合、Ｙは好ましくは０．０１〜１００を表し、より好ましくは０．１〜１０、更に好ましくは０．３〜２．０を表し、最も好ましくは０．５〜１．０である。

《光学フィルター、具体的にはディスプレイ用前面フィルター》
本発明の光学フィルター、具体的にはディスプレイ用前面フィルターは、基材中に本発明のスクアリリウム化合物及び分散媒をそれぞれ少なくとも１種含有する組成物、もしくはスクアリリウム化合物、分散媒及び金属イオン含有化合物をそれぞれ少なくとも１種含有する組成物を含むことを特徴とする。

本発明でいう基材に含有するとは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味する。

本発明の光学フィルターは、可視域に吸収極大を少なくとも一つ有することが特徴であって、所謂カラーフィルターとして知られるようなＲＧＢ三色を１組として格子状に多数並び、全体として四角形に配置され、ＣＣＤイメージセンサなど固体撮像素子、あるいは液晶を使用したカラーディスプレイに用いられる部品のように特定の色の光を透過させ、それ以外を遮るものではなく、特定の波長域の光を減色させるあるいは遮り、それ以外の光は透過させるために用いられるものである。

また、本発明のディスプレイ用前面フィルターは、プラズマディスプレイや有機ＥＬディスプレイのような自発光型表示装置の前面に配置され、色調補整や不要な波長域の発光を遮るために用いられる。このために、本発明のディスプレイ用前面フィルターは可視領域に少なくとも一つの吸収極大を有することが特徴である。

これを実現するために、本発明のスクアリリウム化合物は溶液状態において可視領域に吸収極大を有することが特徴であり、より好ましくは色調調整のために４５０〜６２０ｎｍに吸収極大を有することが好ましく、特にネオン発光をカットするためには５６０〜６２０ｎｍに吸収極大を有することが好ましく、５８０〜６００ｎｍに吸収極大を有することがより好ましい。

基材としては透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば特に制限はない。例えば、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好ましく用いられる。

基材の厚さはある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。

上記光学フィルター用組成物を用いて本発明の光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルターを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、
（１）透明粘着剤に含有させる方法
（２）高分子成形体へ含有させる方法
（３）高分子成形体またはガラス表面にコーティングする方法
等が挙げられる。

（１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。

色素の添加量は粘着剤中の樹脂に対して、通常１０ｐｐｍ〜２０質量％であり、１０ｐｐｍ〜１０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜５質量％が更に好ましく、１００ｐｐｍ〜２質量％であることが最も好ましい。また、粘着剤濃度は通常１０〜７０質量％であり、２０〜６０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。

（２）に挙げた高分子樹脂成形体へ含有させる方法としては、（Ａ）樹脂に色素混合物を混錬し、加熱成形する方法と（Ｂ）有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーと色素混合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成形体を作製する方法が挙げられる。

（Ａ）で使用される樹脂としては、板またはフィルムを作製した際にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。

加工条件としては、色素混合物をベース高分子の粉体あるいはペレットに添加、混合し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸乃至２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法等が挙げられる。なお、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。

（Ｂ）のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に色素混合物を添加、溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発、乾燥または重合、溶剤揮発、乾燥させることにより、板またはフィルムを製造することができる。

使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＡ、ＥＶＡ等）あるいはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。

上記（Ａ）、（Ｂ）の方法で用いられる組成物の色素濃度は使用される色素のグラム吸光係数、高分子成型体の膜厚、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、樹脂の質量に対して通常１ｐｐｍ〜３０質量％であり、１０ｐｐｍ〜１０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜５質量％が更に好ましく、１００ｐｐｍ〜２質量％が最も好ましい。

（３）に挙げた高分子成形体またはガラス表面にコーティングする方法としては、本発明に係る金属イオン含有化合物及び色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて組成物とした後に塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に本発明に係るスクアリリウム色素、金属イオン化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて、アクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。

バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）あるいはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。

溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。

組成物の色素濃度はグラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の質量に対して通常１０ｐｐｍ〜２０質量％であり、１０ｐｐｍ〜１０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜５質量％が更に好ましく、１００ｐｐｍ〜２質量％が最も好ましい。また、樹脂濃度は塗料全体に対して通常１〜５０質量％であり、１０〜４０質量％であることが好ましい。

上記の方法で作製した塗料は、基材上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、あるいはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。

更に、本発明のディスプレイ用前面フィルターには、電磁波シールド機能や近赤外線遮断機能を持たせることが好ましい。

電磁波シールドとしては、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属のメッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に積層したようなものが好ましい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用い、パターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。また、金属を含有するインクによるパターニングを行う方法、ハロゲン化銀を塗布、現像定着させる方法なども好適に用いられる
近赤線遮断機能については、銀薄膜を用いる電磁波シールドを用いる場合は、銀の自由電子による散乱のため同時に近赤外線の遮断を行うことができる。その他、メッシュ、インクパターニングあるいは現像法などを用いた場合は、別途、近赤外線を吸収、もしくは反射するフィルムを用いる。

更に、本発明におけるディスプレイ用前面フィルターには、公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層などの機能性透明層を付加することができる。

また、紫外線カットについては紫外線カットアクリル板を基板に使ってもよいし、基板の一方の面あるいは両面に紫外線吸収層を形成させてもよいが、本発明のディスプレイ用前面フィルターに紫外線吸収剤を含有させてもよい。

紫外線吸収剤として、例えば、サリチル酸誘導体（ＵＶ−１）、ベンゾフェノン誘導体（ＵＶ−２）、ベンゾトリアゾール誘導体（ＵＶ−３）、アクリロニトリル誘導体（ＵＶ−４）、安息香酸誘導体（ＵＶ−５）または有機金属錯塩（ＵＶ−６）等があり、それぞれ（ＵＶ−１）としてはサリチル酸フェニル、４−ｔ−チルフェニルサリチル酸等を、（ＵＶ−２）としては２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、（ＵＶ−３）としては２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、（ＵＶ−４）としては２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等を、（ＵＶ−５）としてはレゾルシノール−モノベンゾエート、２′，４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、（ＵＶ−６）としてはニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。

本発明で好ましく用いられる上記の紫外線吸収剤は透明性が高く、偏光板や液晶素子、プラズマディスプレイ等の光学装置の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。

また、これ以外にも酸化防止剤や重合開始剤などを必要に応じて適宜添加することができる。

本発明のディスプレイ用前面フィルターを用いて、電子ディスプレイまたはプラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、表示装置として公知の表示装置、あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。

プラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と２枚のガラス板との間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガス及びネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そして、この紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。

本発明のディスプレイ用前面フィルターは、セル内のネオンガスの発光を選択的に遮断するネオンカットフィルターとして好適に利用することができる。上述したようにプラズマディスプレイでは蛍光体の発光によりカラー表示を行っているが、ネオン原子が励起された後基底状態に戻る際に６００ｎｍ付近を中心とする、所謂ネオンオレンジ光を発光することが知られている（映像情報メディア学会誌、Ｖｏｌ．５１、Ｎｏ．４、Ｐ．４５９〜４６３（１９９７））。

このため、プラズマディスプレイでは赤色にオレンジ色が混ざり、鮮やかな赤色が得られない欠点があった。この欠点を解消するためネオン発光をカットすることが好ましく、本発明のスクアリリウム化合物含有組成物を用いてネオン発光吸収フィルターを作製する場合には、スクアリリウム化合物が溶液状態で５６０〜６２０ｎｍに吸収極大を有していること好ましく、５８０〜６０５ｎｍに吸収極大を有することが更に好ましい。このとき、５６０〜６２０ｎｍの波長領域の吸収極大でのフィルターの透過率は、０．０１〜８０％の範囲であることが好ましく、１〜７０％の範囲であることが更に好ましい。

また、ディスプレイの色再現性を高めるために、５６０〜６２０ｎｍの波長領域の吸収波形はシャープであることが好ましい。具体的には５６０〜６２０ｎｍにおける吸収波形は、半値幅（吸収極大の吸光度の半分の吸光度を示す波長領域の幅）が１５〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜７０ｎｍであることがより好ましく、２５〜５０ｎｍであることが更に好ましい。

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
〔スクアリリウム化合物の合成〕
（例示化合物（１−２）の合成）

スクアリン酸ジクロライド２．５ｇを窒素雰囲気下、ジクロロメタン中に溶解させ氷水冷し、これにＮ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルイジン３．３ｇのジクロロメタン溶液を滴下し、４時間撹拌した。この反応液に水を加えた後、希塩酸、水、飽和食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィーによって精製し、中間体Ａ′、２．０ｇを得た。

中間体Ａ′、１．０ｇに酢酸１ｍｌ、水１ｍｌを加え、２時間加熱撹拌した。析出した固体をろ取し、水で洗浄して中間体Ａ、０．８ｇを得た。

中間体Ａ、０．２６ｇ、３−ｔ−ブチル−１−フェニルピラゾール−５（１Ｈ）−オン０．２２ｇ、ｎ−ブタノール２５ｍｌ及びトルエン１０ｍｌを加え、４時間過熱還流した。反応終了後、カラムクロマトグラフィーによって精製し、例示化合物（１−２）の０．３０ｇを得た。化合物の吸収スペクトルはλｍａｘ：５８６．５ｎｍ、ε１３３，０００（酢酸エチル）であり、¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ_３）スペクトルは、δ＝８．４（ｄ，１Ｈ）、７．９（ｄ，２Ｈ）、７．４（ｔ，２Ｈ）、７．２（ｄ，２Ｈ）、６．５（ｂｒ，２Ｈ）、３．５（ｔ，４Ｈ）、２．７（ｓ，３Ｈ）、１．３（ｓ，９Ｈ）、１．２（ｔ，６Ｈ）であり、更にＭａｓｓスペクトルによって同定した。

実施例２
〔光学フィルターの作製〕
（光学フィルター：１−Ａの作製）
例示化合物（１−２）、０．１０ｇをポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０％テトラヒドロフラン溶液５．０ｍｌに混合し、超音波分散機で十分に分散させた（組成物：１−ａ）。この組成物をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター：１−Ａを作製した。このフィルターは青紫色を呈しており、可視光線を有効に吸収することがわかった（極大吸収波長：５９６ｎｍ）。

（光学フィルター：１−Ｂの作製）
上記、組成物１−ａに金属イオン含有化合物ＭＳ−４１、０．０５ｇ（スクアリリウム化合物：金属イオン含有化合物＝１．０：０．３）を加え、攪拌して超音波分散機で十分に分散させた（組成物：１−ｂ）。この組成物をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター：１−Ｂを作製した。このフィルターも１−Ａとほぼ同様の青紫色を呈したおり、可視光線を有効に吸収することがわかった（極大吸収波長：５９７ｎｍ）。

（光学フィルター：２−Ａ〜１５−Ａ及び２−Ｂ〜１５−Ｂの作製）
スクアリリウム化合物を下記表５に示す通りに変更した以外は、上記光学フィルター：１−Ａの作製と同様にして光学フィルター：２−Ａ〜１５−Ａを作製した。

金属イオン含有化合物の種類及び添加量を下記表６に示す通りに変更した以外は、上記光学フィルター：１−Ｂの作製と同様にして、光学フィルター：２−Ｂ〜１５−Ｂを作製した。

（光学フィルター：１６−Ａの作製）
例示化合物（１−５４）、０．１０ｇをテトラヒドロフラン５．０ｍｌに溶解させ、超音波分散機で十分に分散させた後、この組成物をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター：１６−Ａを作製した。このフィルターは青紫色を呈していた。

（光学フィルター：１６−Ｂの作製）
例示化合物（１−５４）、０．１０ｇ、金属イオン含有化合物ＭＳ−５５、０．３４ｇ（スクアリリウム化合物：金属イオン含有化合物＝１．０：２．０）にテトラヒドロフラン５．０ｍｌを加え、攪拌して超音波分散機で十分に分散させ、この溶液をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター：１６−Ｂを作製した。

作製した光学フィルター：１−Ａ〜１６−Ａ、１−Ｂ〜１６−Ｂについて、表面状態及び耐湿性を下記基準により評価した。評価結果を表５及び表６に併せて示す。

（表面状態）
乾燥後の表面状態を目視で観察し、以下の評価基準に基づいて４段階評価した。Ａ、Ｂが実用上問題ないレベルであり、表面状態が優れていることを示す。

Ａ：フィルターの失透やヒビ、ワレなどが観察されないもの
Ｂ：若干の失透が見られるが実用上問題ないもの
Ｃ：明らかな失透が観察されたもの
Ｄ：ヒビ、ワレなどが観察されたもの。

（耐湿性）
作製した光学フィルターを４０℃、８０％ＲＨの環境下で２４時間保存し、表面状態を目視で観察し、下記評価基準に基づいて４段階評価した。

◎：保存前後でフィルターの失透やヒビ、ワレなどが観察されないもの
○：保存後、若干の失透が見られたもの
△：保存後、明らかな失透が観察されたもの
×：保存後、ざらつきが観察されたもの。

以上より、分散媒を用いなかった比較の光学フィルター：１６−Ａ及び１６−Ｂは表面にヒビが入り、均一な塗工ができず、耐湿性試験をすることができなかった。また、本発明のスクアリリウム化合物と分散媒からなる光学フィルター：１−Ａ〜１４−Ａは比較の光学フィルター：１５−Ａに較べ、表面状態に優れていることがわかる。また、更には本発明のスクアリリウム化合物と分散媒に金属イオン含有化合物を加えた組成物よりなる光学フィルター：１−Ｂ〜１４−Ｂは、比較の光学フィルター：１５−Ｂに較べ、表面状態に優れると共に耐湿性にも優れていることがわかった。

以上より、本発明によって分散媒との相溶性が高く、耐湿性に優れた光学フィルターを提供できた。

実施例３
〔ディスプレイ用前面フィルターの作製〕
（本発明のディスプレイ用前面フィルター１の作製）
アクリル系粘着剤の主剤溶液（オリバインＢＰＳ５８９６（東洋インキ製造（株）製））に、酢酸エチル、例示化合物（１−２）０．１５質量％／樹脂及びポリイソシアネート系硬化剤（ＢＸＸ４７７３（東洋インキ製造（株）製））を加え、この可視光吸収粘着剤をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み５０μｍ）にバーコーターで塗工、乾燥し、この面にＰＥＴ製フィルム（厚み５０μｍ）をローラーで貼り合わせ、ディスプレイ用前面フィルター１を得た。

このディスプレイ用前面フィルター１の透過率曲線は５８７ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

得られたフィルターをキセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後の試料の未露光試料からの可視領域の極大吸収波長における吸収スペクトル濃度の低下率を評価し、色素残存率％を算出したところ６２．５％であった。計算式は下記式を用いた。

色素残存率（％）＝（露光後のフィルターの極大吸収波長濃度／未露光フィルターの極大吸収波長濃度）×１００。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター２の作製）
前記、実施例１で得られた可視光吸収粘着剤にＭＳ−４１を０．１５質量％加えた以外は同様にして、本発明のディスプレイ用前面フィルター２を作製した。このディスプレイ用前面フィルター２の透過率曲線は５８８ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、８５．２％であった。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター３の作製）
スクアリリウム化合物に例示化合物（１−４３）を用いた以外は実施例１と同様にして、本発明のディスプレイ用前面フィルター３を作製した。このディスプレイ用前面フィルター３の透過率曲線は５８０ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、６５．８％であった。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター４の作製）
前記、実施例３で得られた可視光吸収粘着剤にＭＳ−４１を０．３０質量％加えた以外は同様にして、本発明のディスプレイ用前面フィルター４を作製した。このディスプレイ用前面フィルター４の透過率曲線は５８７ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、８６．１％であった。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター５の作製）
前記、本発明のディスプレイ用前面フィルター２に、色素塗布面の反対面に近赤外線吸収色素（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジインモニウムの六フッ化アンチモン酸塩）を塗布したポリエステルフィルムを貼り合わせ、色素塗布面上にジチオールニッケル錯体近赤外線吸収色素（ビス−２，２−（１，２−ジ（３−クロロフェニル）エチレンジイミン）ベンゼンチオラート）ニッケルを塗布したポリエステルフィルムをコーティングしたポリエステルフィルム、電磁波シールドメッシュ（線巾１０μｍ、線ピッチ２５０μｍ）フィルム及びガラスを貼り合わせ、更にＡＲフィルムを紫外線防止剤（２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール）を添加した粘着剤により貼り合わせて、本発明のディスプレイ用前面フィルター５を得た。

このディスプレイ用前面フィルター５の透過率曲線は５８８ｎｍと１１００ｎｍに極小値を有しており、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、赤外線吸収能及び紫外線吸収能を有するネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を紫外線吸収色素面から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、９４．８％であった。

（比較のディスプレイ用前面フィルター１の作製）
前記、本発明のディスプレイ前面フィルター１で用いた可視光吸収粘着剤の例示化合物（１−２）の代わりに、下記比較化合物２の０．１５質量％／樹脂を用いた以外は同様にして、比較のディスプレイ用前面フィルター１を作製した。この比較のディスプレイ用前面フィルター１の透過率曲線は５５０ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなかったが、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍよりも短波側にあることから、ネオン発光を有効に吸収することができなかった。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、４０．４％であった。

（比較のディスプレイ用前面フィルター２の作製）
前記、比較のディスプレイ用前面フィルター１で用いた可視光吸収粘着剤にＭＳ−４１、０．５０質量％／樹脂を加えた以外は同様にして、比較のディスプレイ用前面フィルター２を作製した。この比較のディスプレイ用前面フィルター２の透過率曲線は５５８ｎｍに極小値を有しており、これ以外に可視光域に明瞭な極小値はなかったが、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍよりも短波側にあることから、ネオン発光を有効に吸収することができなかった。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて、キセノン光を色素塗布面の反対側から２４時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、５５．８％であった。

以上より、本発明のスクアリリウム化合物を用いることでディスプレイパネルから発せられる５６０〜６２０ｎｍのネオン発光を有効に吸収することができ、耐光性の良好なディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。また、本発明のスクアリリウム化合物及び分散媒からなる組成物に金属イオン含有化合物を加えることで、更に耐光性に優れたディスプレイ用前面フィルターを提供できることが明らかとなった。

これによって、プラズマディスプレイからのネオン発光を有効に吸収できるネオン発光吸収フィルター、及び紫外線吸収層、赤外線吸収層等を有するディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

Claims (6)

1. 下記一般式（１）で表されるスクアリリウム化合物を少なくとも１種及び分散媒を少なくとも１種含有することを特徴とするスクアリリウム化合物含有組成物。
   

   

   
   （式中、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一方は置換基であり、Ｒ₁とＲ₂は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｂ₁、Ｂ₂、Ｂ₃及びＢ₄は炭素原子または窒素原子であり、炭素原子のとき水素原子または置換基を有する。Ｒ₃及びＲ₄は水素原子または置換基を表す。）
2. 金属イオン含有化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載のスクアリリウム化合物含有組成物。
3. 請求の範囲第１項または第２項に記載のスクアリリウム化合物含有組成物を含有することを特徴とする光学フィルター。
4. 請求の範囲第１項または第２項に記載のスクアリリウム化合物含有組成物を含有することを特徴とするディスプレイ用前面フィルター。
5. ５６０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有することを特徴とする請求の範囲第４項に記載のディスプレイ用前面フィルター。
6. 下記一般式（２）で表されることを特徴とするスクアリリウム化合物。
   

   

   
   （式中、Ｒ₁₁及びＲ₁₂は水素原子あるいは置換基を表し、少なくとも一方は置換基であり、Ｒ₁₁とＲ₁₂は同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｂ₁₁、Ｂ₁₂、Ｂ₁₃及びＢ₁₄は炭素原子または窒素原子であり、炭素原子のとき水素原子または置換基を有する。Ｒ₁₃及びＲ₁₄は水素原子あるいは置換基を表し、該置換基がフェニル基である場合、該フェニル基の置換基はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。）