JP5126066B2 - 光学フィルター用組成物、その製造方法、光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルター - Google Patents

Description

本発明は、金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物を含有する光学フィルター用組成物、その製造方法、この光学フィルター用組成物を含有する光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルターに関する。

近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとして、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、液晶ディスプレイ等、様々なディスプレイが開発され、その需要が増大している。また、ＥＬディスプレイやＦＥＤディスプレイなど新規ディスプレイ技術も実用化の域に達しており、今後もディスプレイの需要は大幅に拡大するものを推測されている。

こうした中でも、プラズマディスプレイやＣＲＴなど発光型ディスプレイでは、発光体に電子線や紫外線を照射させるなど種々の方法により、赤、青、緑のそれぞれの３原色発光を得て表示を行うが、これらの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスを補正する色調整フィルターが求められている。

上記の色調整フィルター用色素には、可視域に良好な吸収特性を有すること、例えばモル吸光係数が大きいこと、半値幅が小さいこと、副吸収を有さないことが求められる。また同時にフィルター製造の観点から、種々の有機溶媒に対して溶解性が高いこと、バインダーとの相溶性が高いことなどが求められる。また更にディスプレイは長期間の使用が前提とされるため高い耐候性、特に耐光性が高いことが求められている。

プラズマディスプレイにおいては、色純度を向上させたり、色温度を上げたりするために５６０〜６２０ｎｍ近辺に吸収をもつ色素を配合する必要がある。また、この波長域にはパネル内のネオンガスからの発光も含まれるため、このような不必要な発光を吸収する光学フィルターが求められている。このような要望を受けて、様々な色素が提案されており、そのなかでもスクアリリウム色素は、モル吸光係数が大きく、半値幅も小さいという優れた吸収特性を有し、これを利用した光学フィルター、プラズマディスプレイ用フィルターが提案されている（例えば、特許文献１〜４参照）。

しかしながら、スクアリリウム化合物のみでは耐久性、特に耐光性は十分ではなく、実用には不適当であるという問題点があった。

そこで光学フィルターとしての耐光性を向上させるために、スクアリリウム化合物に加え、酸化防止剤および紫外線吸収剤を含有したプラズマディスプレイフィルターも開示されている（例えば、特許文献５参照）。

上記光学フィルターの耐光性は、スクアリリウム化合物のみを用いた場合に比較して向上してはいるものの未だ十分ではなく、より高い耐光性を示し、幅広い分野で使用可能な光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルターの開発が望まれていた。
特開２００１−１８３５２２号公報 特開２００１−１８８１２１号公報 特開２００４−８６１３３号公報 特開２００４−９９７１１号公報 特開２００１−３５００１３号公報

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、可視域に色再現性上好ましい色相を有し、耐候性、環境保存性など堅牢性が良好な光学フィルター用組成物、その製造方法、この光学フィルター用組成物を用いた光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルターを提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。

１．下記一般式（１）で表される金属イオン含有化合物の少なくとも１種と、スクアリリウム化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フィルター用組成物。

一般式（１） Ｍ（Ｘ₁）_m（Ｘ₂）_n・Ｗ_s
（式中、Ｍはコバルト、銅あるいは亜鉛を表す。Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独立に１座または２座の配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ₁とＸ₂は連結していても良い。ｍおよびｎはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｎ＞１である。Ｗは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表し、ｓは０〜３の整数を表す。）
２．一般式（１）におけるＸ₁が下記一般式（２）で表されることを特徴とする前記１記載の光学フィルター用組成物。

（式中、Ｅ₁、Ｅ₂およびＲは置換基を表す。）
３．前記、Ｅ₁、Ｅ₂およびＲの表す置換基が、それぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ホスホリル基、スルファモイル基、アミノ基、アゾ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基から選ばれる１種であることを特徴とする前記２記載の光学フィルター用組成物。

４．一般式（２）におけるＥ₁およびＥ₂で表される置換基のうち少なくとも一方のハメット置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の電子吸引性基であることを特徴とする前記２又は３記載の光学フィルター用組成物。

５．一般式（１）におけるＭが、銅であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルター用組成物。

６．前記スクアリリウム化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項記載の光学フィルター用組成物。

（式中、環Ｂは５員または６員の芳香族炭化水素環、複素環を表す。Ｒ₁は置換基であって、ｐは０〜４の整数を表す。）
７．前記１〜６のいずれか１項記載の光学フィルター用組成物が、一般式（１）で表される金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物をモル比で１．０：０．１〜１．０：２．０の比率で混合させて製造されたことを特徴とする光学フィルター用組成物の製造方法。

８．前記１〜６のいずれか１項記載の光学フィルター用組成物を含有することを特徴とする光学フィルター。

９．前記８記載の光学フィルターがディスプレイ用前面フィルターであることを特徴とするディスプレイ用前面フィルター。

１０．前記ディスプレイ用前面フィルターがプラズマディスプレイ用のディスプレイ用前面フィルターであり、かつ該ディスプレイ用前面フィルターが５６０〜６２０ｎｍの範囲に少なくとも一つの吸収極大を有することを特徴とする前記９記載のディスプレイ用前面フィルター。

本発明により、耐候性、特に耐光性に優れ、温度変化などの環境保存性に優れた光学フィルター用組成物を提供することができた。この組成物を用いて、優れた分光吸収特性および耐候性を有する光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

以下、本発明の金属イオン含有化合物およびスクアリリウム化合物をそれぞれ少なくとも１種含有する光学フィルター用組成物および製造方法、さらにこれを用いた光学フィルター、ディスプレイ用前面フィルターについて説明するが、本発明はこれらに限定されない。

《一般式（１）で表される金属イオン含有化合物》
一般式（１）において、Ｍはコバルト、銅あるいは亜鉛を表し、より好ましくは銅を表す。該金属イオンの価数は２価あるいは３価であり、より好ましくは２価である。

Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独立に１座または２座の配位子を表し、同一であっても異なっていても良く、Ｘ₁とＸ₂は連結していても良い。本発明におけるＸ₁およびＸ₂で表される配位子の特徴は、配位子のみでは可視域に実質的に吸収を持たないことである。Ｘ₁もしくはＸ₂が金属イオンと結合した場合に可視域には可視域に吸収を有してもよいが、ある系中にＸ₁もしくはＸ₂で表される配位子が単独で存在する場合においては実質的に可視域に吸収を持たないことが特徴である。実質的に可視域に吸収を持たないとは、例えば、Ｘ₁もしくはＸ₂で表される配位子を溶媒に溶かした際に、目視で明らかに着色があると認めることができない場合や０．０１０モル／ｌ溶液を分光吸収測定した際に可視波長域の平均吸光度が０．０５を下回っているような場合を示す。このように配位子のみでは可視域に吸収を有さない金属イオン含有化合物を用いることで、スクアリリウム化合物の色調に影響を及ぼさず、好ましい分光吸収特性を有する光学フィルターを提供することができる。このようなＸ₁およびＸ₂として、例えば特開２０００−２５１９５７号、特開２０００−３１１７２３号、特開２０００−３２３１９１号、特開２００１−６７６０号、特開２００１−５９０６２号、特開２００１−６０４６７号等に記載されているようなものが挙げられる。具体的にはハロゲンイオン、水酸イオン、アンモニア、ピリジン、アミン（たとえばメチルアミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン等）、シアン化物イオン、シアン酸イオン、チオラートイオン、チオシアン酸イオン、およびビピリジン類、アミノポリカルボン酸類、８−ヒドロキシキノリン等の各種のキレート配位子が挙げられ、キレート配位子については上野景平著「キレート化学」等に例示されている。

１座配位子としてはアシル基、カルボニル基、チオシアネート基、イソシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。

２座配位子としてはアシルオキシ基、オキザリレン基、アシルチオ基、チオアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオカルボネート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、アルキルチオ基又はアリールチオ基で配位する配位子、或いはジアルキルケトン又はカルボンアミドからなる配位子が好ましい。

以下に配位子例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、ここに示す構造式は幾つも取り得る共鳴構造の中の１つの極限構造に過ぎず、共有結合（−で示す）と配位結合（…で示す）の区別も形式的なもので、絶対的な区別を表すものではない。

また、Ｘ₁は上記一般式（２）で表される化合物であることが更に好ましい。一般式（２）において、Ｅ₁、Ｅ₂およびＲは置換基を表す。置換基として、具体的には、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基などが挙げられる。またこれら置換基は更に同様の置換基よって置換されても良く、また置換基同士が更に互いに結合して環を形成しても良い。

以下に前記一般式（２）で示される配位子の具体例を示すが本発明はこれらに限定されることはない。

Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基は、いずれか一方が電子吸引性基であることが好ましく、Ｅ₁及びＥ₂は共に電子吸引性基であることがより好ましい。電子吸引性の度合いを示す指標としてハメット置換基定数（σｐ）が挙げられ、Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基は０．１以上０．９以下の電子吸引性基であることが好ましく、より好ましくは、Ｅ₁がハメット置換基定数（σｐ）０．３５以上０．９以下であることが好ましく、さらに好ましくはＥ₁及びＥ₂がともにハメット置換基定数（σｐ）が０．３５以上０．９以下であることである。

電子吸引性の度合いを示すハメットの置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の置換基について説明する。ここでいうハメットの置換基定数σｐの値としては、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．Ｌｅｏらの報告（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１６、１２０７（１９７３）；ｉｂｉｄ．２０、３０４（１９７７））に記載の値を用いるのが好ましい。

例えば、σｐの値が０．１０以上の置換基または原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基（例えば、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメタンスルホニルメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくは複素環アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル）、脂肪族・芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、置換芳香族基（例えば、ペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル）、複素環残基（例えば、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンズチアゾリル、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えば、ベンゼンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル）などが挙げられる。

また、σｐの値が０．３５以上の置換基としてはシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、フッ素置換アルキル基（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくは複素環アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル）、脂肪族、芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、弗素又はスルホニル基置換芳香族基（例えば、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル）、複素環残基（例えば、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えば、ジメトキシホスホリル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基などが挙げられる。

σｐの値が０．６０以上の置換基としては、シアノ基、ニトロ基、脂肪族・芳香族もしくは複素環スルホニル基（例えば、トリフルオロメタンスルホニル、ジフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）などが挙げられる。

また、Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が７５ų以下であることが好ましく、４５ų以下であることがより好ましい。特にＥ₂はファンデルワールス（ＶＤＷ）体積が３５ų以下であることが好ましい。

置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積とは、アクセルリス社製分子シミュレーションソフトＣｅｒｉｕｓ２を用いて求められるパラメーターを用いるが、ベンゼン環に置換基を導入し、Ｄｒｅｉｄｉｎｇ Ｆｏｒｃｅ Ｆｉｅｌｄを用いて、ＭＭ計算で分子構造を最適化して、Ｃｏｎｎｏｌｙ Ｓｕｒｆａｃｅを用いて求めたＶｏｌｕｍｅ値と定義する。具体的な置換基のファンデルワールス（ＶＤＷ）体積の例を数例以下に示す。

置換基 ų
メチル基 ２５．４
エチル基 ４２．６
イソプロピル基 ５９．５
ｔｅｒｔ−ブチル基 ７６．２
フェニル基 ７４．９
メトキシ基 ３４．０
アミノ基 ２２．２
ヒドロキシル基 １６．７
塩素原子 ２２．４
臭素原子 ２６．５
フッ素原子 １３．３
トリフルオロメチル基 ４２．５
Ｅ₁及びＥ₂で表される置換基の好ましい例として、具体的にはハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基等が挙げられる。また、Ｅ₁がハロゲン化アルキル基、シアノ基であることがより好ましく、さらに好ましくはハロゲン化アルキル基であることであって、最も好ましくはフッ素置換アルキル基であることである。Ｅ₂はシアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基あるいはカルボニル基であることがより好ましく、さらに好ましくはシアノ基、ニトロ基であることであって、最も好ましくはシアノ基であることである。

Ｒはアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であることが好ましく、より好ましい置換基としては炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が挙げられ、更に好ましくは炭素数２〜１８のアルキル基又は炭素数１〜１８のアルコキシ基、アリールオキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜１６のアルコキシ基である。

ｍおよびｎはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｎ＞１である。

Ｗは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表す。

Ｗは電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表し、例えば、ある金属イオン含有化合物が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかは、その金属、配位子、および置換基に依存する。置換基が解離性基を有する場合、解離して負電荷を持っても良く、この場合にも分子全体の電荷はＸによって中和される。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウムイオン（例えばテトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン）、アルカリ金属イオンおよびプロトンであり、一方、陰イオンは具体的に無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン、（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えば、メチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、エノレート（アセチルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート）、水酸イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、炭酸イオン、過塩素酸イオン、アルキルカルボン酸イオン、アリールカルボン酸イオン、テトラアルキルボレート、サリシネート、ベンゾエート、ヘキサフルオロアンチモン等が挙げられる。ｓは０〜３の整数であって、好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０である。

以下に金属イオン含有化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。

《スクアリリウム化合物》
スクアリリウム化合物は分子中央部にスクアリン酸骨格を持ち、その対角線上に位置する二ヶ所の炭素原子に置換基（下記一般式（４）におけるＡ′およびＢ′）を有した構造をしている。それら二つの置換基が同一である場合には、これを便宜上対称型スクアリリウム化合物（または対称型スクアリリウム色素）と呼んでおり、異なる場合には、非対称型スクアリリウム化合物（または非対称型スクアリリウム色素）と呼んでいる。本発明のスクアリリウム化合物は対称型スクアリリウム化合物であっても非対称型スクアリリウム化合物であっても良いが、色調調整の観点からは非対称型であることが好ましく、製造上の観点からは対称型が好ましい。

式中、Ｂ′は５員または６員の芳香族炭化水素環、複素環であることが好ましい。Ｂ′で表される５員環としては、ピラゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、ピラゾロン環、ピロリドン環、チオキサチアゾリジノン環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾロピリミジン環、イミダゾール環、イミダゾロピラゾール環、ピロール環、イソオキサゾリジンジオン環、チオキサイミダゾリジノン環、イミダゾリジンジオン環、イミダゾリジンジチオン環、チアゾリジンジオン環、ピラゾールジオン環、インドール環等が挙げられ、これらは任意の位置に前記Ｅ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基を有していても良い。

Ｂ′で表される６員環としては、例えば、シクロヘキサジエン環（１、３−シクロヘキサジエン環、１、４−シクロヘキサジエン環）、ジヒドロピリジン環（１、４−ジヒドロピリジン環、３、４−ジヒドロピロジン環）、４Ｈ−ピラン環、４Ｈ−チオピラン環、ピリドン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−オン環）、ピリジンチオン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−チオン環）、ピリジンジオン環（例えばピリジン−２，４（３Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、オキサジン環、チアジン環、ジヒドロピリミジンジオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、ジヒドロピリミジンジチオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジチオン環）、オキサジンジオン環（例えば、４Ｈ−１，３−オキサジン−４，６（５Ｈ）−ジオン環）、オキサジアジン環（例えば、４Ｈ−１，２，３−オキサジアジン環）、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環等があげられ、これらは任意の位置に前記Ｅ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基を有していても良い。

本発明におけるスクアリリウム化合物は、一般に公知のものであれば特に限定されず用いることができる。以下に、本発明に使用可能なスクアリリウム化合物の例を示す。

また、本発明で用いられるスクアリリウム化合物は前記一般式（３）で表されることがより好ましい。以下一般式（３）で表されるスクアリリウム化合物について説明するが本発明はこれに限定されない。

一般式（３）において、環Ｂは５員または６員の芳香族炭化水素環、複素環を表し、スクアリン酸骨格の隣接位にヒドロキシル基を有することが特徴として挙げられる。Ｒ₁は置換基であって、Ｒ₁で表される置換基としては前記Ｅ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基が挙げられる。Ｒ₁で表される置換基として好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ハロゲン原子、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスホノ基、アシル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、イミド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基などが好ましく、少なくとも一つはアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基あるいはアミノ基であることがより好ましく、溶解性向上の観点からは少なくとも一つの置換基は炭素数４原子以上の直鎖あるいは分岐のアルキル基を有することが好ましい。またこれら置換基はさらに結合して環を形成しても良い。ｐは０〜４の整数であって、より好ましくは１〜３である。

また環Ｂとして、好ましくはベンゼン環、ナフタレン環、ピラゾロン環、ピロリドン環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロトリアゾール環、イミダゾール環、ピロール環、ピラゾールジオン環、インドール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環であり、より好ましくはピラゾロン環、ピロール環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾールジオン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環であり、さらに好ましくはピラゾロン環、ピロール環、ベンゼン環、ピリジン環である。

Ａは任意の有機基を表し、有機基としては例えば前述したＥ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基をあげることができ、好ましくは芳香族炭化水素環基、複素環基が挙げられる。具体的には上記一般式（４）のＢ′に例示したものが挙げられる。より好ましくは、下記一般式（Ａ−１）〜（Ａ−３２）で表される構造が挙げられ、色調など光学特性の観点からさらに好ましくは（Ａ−１）〜（Ａ−１５）である。Ｒａ〜Ｒｇは水素原子または置換基であり、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよく、置換基の種類としては前記Ｅ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基が挙げられる。

また、堅牢性の面からさらに好ましくは芳香族炭化水素環基または複素環基または下記一般式（１−Ａ）で表される置換基が挙げられる。

一般式（１−Ａ） Ａ₁＝Ｃ（Ｒ′）−
Ａ₁は５員環または６員環を表し、Ａ₁で表される５員環としては、ピラゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、ピラゾロン環、ピロリドン環（例えば、１Ｈ−ピロール−２（５Ｈ）−オン環）、チオキサチアゾリジノン環（例えば、ローダニン環、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環、５−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、ピロロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［１，５−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロピリミジン環、イミダゾール環（例えば４Ｈ−イミダゾール環）、イミダゾロピラゾール環、ピロール環、イソオキサゾリジンジオン環、チオキサイミダゾリジノン環（例えば、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、イミダゾリジンジオン環（例えば、ヒダントイン環）、イミダゾリジンジチオン環（例えば、イミダゾリジン−２，４−ジチオン環）、チアゾリジンジオン環、ピラゾールジオン環、インドール環等が挙げられ、これらは任意の位置に前述したＥ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基を有していても良い。

Ａ₁で表される６員環としては、例えば、シクロヘキサジエン環（１，３−シクロヘキサジエン環、１，４−シクロヘキサジエン環）、ジヒドロピリジン環（１、４−ジヒドロピリジン環、３，４−ジヒドロピロジン環）、４Ｈ−ピラン環、４Ｈ−チオピラン環、ピリドン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−オン環）、ピリジンチオン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−チオン環）、ピリジンジオン環（例えば、ピリジン−２，４（３Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、オキサジン環、チアジン環、ジヒドロピリミジンジオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、ジヒドロピリミジンジチオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジチオン環）、オキサジンジオン環（例えば、４Ｈ−１，３−オキサジン−４，６（５Ｈ）−ジオン環）、オキサジアジン環（例えば、４Ｈ−１，２，３−オキサジアジン環）等があげられ、これらは任意の位置に前述したＥ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基を有していても良い。

Ｒ′は水素原子または置換基を表し、該置換基は前述したＥ₁、Ｅ₂およびＲで表される置換基と同義の基である。Ｒ′は好ましくは水素原子またはアルキル基またはハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子またはアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子またはメチル基またはエチル基であり、最も好ましいのは水素原子である。

以下に前記一般式（３）で示される配位子の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されることはない。

本発明に係るスクアリリウム化合物は、例えば、特開平５−１５５１４４号公報、特開平５−２３９３６６号公報、特開平５−３３９２３３号公報、特開２０００−３４５０５９号公報、特開２００２−３６３４３４号公報、特開２００４−８６１３３号公報、特開２００４−２３８６０６号公報等に記載された従来公知の方法を参考にして合成することができる。

また、本発明の光学フィルター用組成物は、一般式（１）で表される金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物とを、溶媒中、室温〜１２０℃の間の温度で３時間〜２４時間反応させることにより得られる。

溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系炭化水素溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、水等があげられ、その使用量はスクアリリウム化合物に対して１〜５００倍量（質量比）であるのが好ましい。

また、もう一つの好ましい態様は、金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物を微粒子状に粉砕、あるいは高分子分散剤や界面活性剤など種々の添加剤とともに分散機（例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーターミル、ヘンシェルミキサー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、ジェットミル、オングミル等）を用いて微粒子状に分散しながら混合すると、反応に必要なエネルギーの低減が図られるので好ましい。

金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物の混合比（モル比）に特に制限はないが、金属イオン含有化合物：スクアリリウム化合物＝１：Ｙと表す場合、Ｙは好ましくは０．０１〜１００を表し、より好ましくは０．１〜１０、更に好ましくは０．３〜２．０を表し、最も好ましくは０．５〜１．０である。

以下に本発明の光学フィルター用組成物について説明する。

本発明の光学フィルター用組成物は、本発明の金属イオン含有化合物およびスクアリリウム化合物に加え、製膜安定性などのために分散剤（バインダー）との組成物、もしくはこれに更に溶媒を加えた組成物として用いられる。

バインダーとしては、（メタ）アクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、アミノ系樹脂、フッ素系樹脂、フェノール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アラミド樹脂などが挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂などが好ましく用いられ、最も好ましくは（メタ）アクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂である。また、これらの共重合体も同様に好ましい。

（メタ）アクリレート系樹脂とは、種々のメタクリレート系モノマー、もしくはアクリレート系モノマーを単独重合、もしくは共重合することにより合成され、モノマー種及びモノマー組成比を種々変えることによって、望みの（メタ）アクリレート系樹脂を得ることができる。また本発明においては、（メタ）アクリレート系モノマーと一緒に（メタ）アクリレート系モノマー以外の不飽和二重結合を有する共重合可能なモノマーと共に共重合しても使用可能であり、更に本発明においては、ポリ（メタ）アクリレート系樹脂と一緒に他の複数の樹脂を混合しても使用可能である。

本発明において用いられる（メタ）アクリレート系樹脂を形成するモノマー成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ（エチレングリコール）エチルエーテル（メタ）アクリレート、エチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、塩化エチルトリメチルアンモニウム（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、２−アセトアミドメチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、３−トリメトキシシランプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられるが、好ましくは（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートである。

ポリスチレン系樹脂とはスチレンモノマーの単独重合物、あるいはスチレンモノマーと共重合可能な他の不飽和二重結合を有するモノマーを共重合したランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体が挙げられる。更に、かかるポリマーに他のポリマーを配合したブレンド物やポリマーアロイも含まれる。前記スチレンモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−メチルスチレン−ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、などの核アルキル置換スチレン、ｏ−クロルスチレン、ｍ−クロルスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジクロルスチレン、ジブロモスチレン、トリクロルスチレン、トリブロモスチレンなどの核ハロゲン化スチレンなどが挙げられるが、この中でスチレン、α−メチルスチレンが好ましい。

これらを単独重合、もしくは共重合することによって本発明で用いられる樹脂は合成され、例えば、ベンジルメタクリレート／エチルアクリレート、あるいはブチルアクリレート等の共重合体樹脂、またメチルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート等の共重合体樹脂、またメチルメタクリレート／メタクリル酸／ステアリルメタクリレート／アセトアセトキシエチルメタクリレートの共重合体樹脂、またスチレン／アセトアセトキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体樹脂、また、スチレン／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ステアリルメタクリレートの共重合体、更には、２−エチルヘキシルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の共重合体樹脂等が例として挙げられる。

《光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター》
本発明の光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルターは、基材中に本発明の金属イオン含有化合物を少なくとも１種および少なくとも１種のスクアリリウム色素を含有してなる組成物である。本発明でいう基材に含有するとは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味する。

本発明における光学フィルターは、可視域に吸収極大を少なくとも一つ有することが特徴であって、いわゆるカラーフィルターとして知られるような、ＲＧＢ三色を１組として格子状に多数並び全体として四角形に配置される。そして、ＣＣＤイメージセンサなど固体撮像素子、あるいは液晶を使用したカラーディスプレイに用いられる部品のように特定の色の光を透過させ、それ以外を遮るものではない。従って、特定の波長域の光を減色させる、あるいは遮り、それ以外の光は透過させるために用いられる。

また、本発明におけるディスプレイ用前面フィルターは、プラズマディスプレイや有機ＥＬディスプレイのような自発光型表示装置の前面に配置され、色調補整や不要な波長域の発光を遮るために用いられる。このために本発明のディスプレイ用前面フィルターは可視領域に少なくとも一つの吸収極大を有することが特徴である。これを実現するために本発明の色素は溶液状態において可視領域に吸収極大を有することが特徴であり、より好ましくは色調調整のために４５０〜６２０ｎｍに吸収極大を有することが好ましい。特にネオン発光をカットするためには５６０〜６２０ｎｍに吸収極大を有することが好ましく、５８０〜６０５ｎｍに吸収極大を有することがより好ましい。

基材としては、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば特に制限はない。例えば、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好ましく用いられる。

基材の厚さは、ある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は、２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。

上記光学フィルター用組成物を用いて本発明の光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルターを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、
（１）透明粘着剤に含有させる方法
（２）高分子成形体へ含有させる方法
（３）高分子成形体又はガラス表面にコーティングする
方法等が挙げられる。

（１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。色素の添加量は、通常１０ｐｐｍ〜３０質量％であり、１０ｐｐｍ〜２０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜１０質量％が特に好ましい。

（２）に挙げた高分子樹脂成形体へ含有させる方法としては、（Ａ）樹脂に色素混合物を混錬し、加熱成形する方法と（Ｂ）有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーと色素混合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成形体を作製する方法が挙げられる。

（Ａ）で使用される樹脂としては、板またはフィルム作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタ
クリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。

加工条件としては、色素混合物をベース高分子の粉体或いはペレットに添加、混合し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１軸乃至２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。尚、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えても良い。

（Ｂ）のキャスティング法では、樹脂又は樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に、色素混合物を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥又は重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、板又はフィルムを製造することができる。

使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＡ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。

（３）に挙げた高分子成形体又はガラス表面にコーティングする方法としては、本発明の金属イオン含有化合物および色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて組成物とした後に塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に本発明の金属イオン化合物とスクアリリウム色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えても良い。

バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。

溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。

組成物の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の質量に対して、通常、０．１ｐｐｍ〜３０質量％である。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０質量％である。

上記の方法で作製した塗料は、基材上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。

さらに本発明のディスプレイ用前面フィルターには、電磁波シールド機能や近赤外線遮断機能を持たせることが好ましい。電磁波シールドとしては、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属のメッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に、積層したようなもの
が好ましい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用いパターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。また、金属を含有するインクによるパターニングを行う方法、ハロゲン化銀を塗布、現像定着させる方法なども好適に用いられる
近赤線遮断機能については、銀薄膜を用いる電磁波シールドを用いる場合は、銀の自由電子による散乱のため、同時に、近赤外線の遮断を行うことができる。その他、メッシュ、インクパターニングあるいは現像法などを用いた場合は、別途、近赤外線を吸収、もしくは反射するフィルムを用いる。

更に本発明のディスプレイ用前面フィルターには、公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層などの機能性透明層を付加することができる。

また、紫外線カットについては、紫外線カットアクリル板を基板に使っても良いし、基板の一方の面あるいは両面に紫外線吸収層を形成させても良いが、本発明のディスプレイ用前面フィルムに、紫外線吸収剤を含有させても良い。紫外線吸収剤として、例えば、サリチル酸誘導体（ＵＶ−１）、ベンゾフェノン誘導体（ＵＶ−２）、ベンゾトリアゾール誘導体（ＵＶ−３）、アクリロニトリル誘導体（ＵＶ−４）、安息香酸誘導体（ＵＶ−５）又は有機金属錯塩（ＵＶ−６）等があり、それぞれ（ＵＶ−１）としては、サリチル酸フェニル、４−ｔ−チルフェニルサリチル酸等を、（ＵＶ−２）としては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等を、（ＵＶ−３）としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を、（ＵＶ−４）としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、メチル−α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等を、（ＵＶ−５）としては、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′、４′−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を、（ＵＶ−６）としては、ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリン酸のニッケル塩等を挙げることができる。

本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子、プラズマディスプレイ等の光学装置の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。

更に本発明のディスプレイ用前面フィルターには公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層などの機能性透明層を付加することができる。

本発明のディスプレイ用前面フィルターを用いて、電子ディスプレイ、またはプラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、表示装置として、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。

プラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。

本発明のディスプレイ用前面フィルターは、セル内のネオンガスの発光を選択的に遮断するネオンカットフィルターとして好適に利用することができる。上述したようにプラズマディスプレイでは蛍光体の発光によりカラー表示を行っているが、ネオン原子が励起された後基底状態に戻る際に６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光することが知られている（映像情報メディア学会誌Ｖｏｌ．５１、Ｎｏ．４、Ｐ．４５９〜４６３（１９９７））。このため、プラズマディスプレイでは、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点があった。この欠点を解消するため、ネオン発光をカットすることが好ましく、本発明の組成物を用いてネオン発光吸収フィルターを作製する場合には、スクアリリウム色素が溶液状態で５６０〜６２０ｎｍに吸収極大を有していること好ましく、５８０〜６０５ｎｍに吸収極大を有することが更に好ましい。このとき５６０〜６２０ｎｍの波長領域の吸収極大でのフィルターの透過率は、０．０１〜８０％の範囲であることが好ましく、１〜７０％の範囲であることがさらに好ましい。またディスプレイの色再現性を高めるために、５６０〜６２０ｎｍの波長領域の吸収波形は、シャープであることが好ましい。具体的には５６０〜６２０ｎｍにおける吸収波形は、半幅値（吸収極大の吸光度の半分の吸光度を示す波長領域の幅）が、１５〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜７０ｎｍであることがより好ましく、２５〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。

実施例１
《光学フィルター》
（光学フィルターＡ−１の製造）
スクアリリウム化合物２−２１：０．１０ｇをポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液１５０ｍｌに混合し、超音波分散機で十分に分散させた（組成物：ａ−１）。この組成物をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター（試料：Ａ−１）を作製した。このフィルターは、水色を呈しており（極大吸収波長：６３８ｎｍ）、可視光線を有効に吸収することがわかった。

（光学フィルターＡ−２の製造）
上記、組成物ａ−１に、金属イオン含有化合物ＭＳ−４０：１．０ｍｇ（スクアリリウム化合物：金属イオン含有化合物＝１．０：０．０１）を加え、よく攪拌して超音波分散機で十分に分散させた（組成物：ａ−２）。この組成物をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター（試料：Ａ−２）を作製した。このフィルターは、水色を呈していた。

（光学フィルター：Ａ−３〜Ａ−２０の製造）
金属イオン含有化合物の種類および添加量を下記表３に示す値に変更した以外は上記組成物ａ−２、光学フィルターＡ−２の製造と同様にして、光学フィルターＡ−３〜Ａ−２０を作製した。なお添加比（Ｙ）は添加剤の添加量をスクアリリウム化合物を１として換算した場合の値を示す（スクアリリウム化合物の添加量（ｇ）：添加剤の添加量（ｇ）＝１．０：Ｙ）。得られた光学フィルターはどれも水色を呈していた。

作製した光学フィルター、Ａ−１〜Ａ−２０について下記方法で耐光性、環境保存性を評価した。評価結果を表３に併せて示す。

《耐光性》
得られたフィルターをキセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）にて４８時間露光した後の、試料の未露光試料からの可視領域の極大吸収波長における吸収スペクトル濃度の低下率を評価し、色素残存率を算出した。計算式は
色素残存率（％）＝（露光後のフィルターの極大吸収波長濃度／未露光フィルターの極大吸収波長濃度）×１００に従って求め、以下の評価基準に基づいて耐光性を５段階評価した。○以上であることが好ましい。

◎◎：耐光性が９５％以上
◎：耐光性が８５％以上、９５％未満
○：耐光性が７０％以上、８５％未満
△：耐光性が６０％以上、７０％未満
×：耐光性が６０％未満
《環境保存性》
作製直後の光学フィルターを密閉容器に入れ、６０℃の恒温槽に１２時間保存後、続いて−１０℃の冷凍庫で１２時間保存した。これを１サイクルとして、合計３サイクル保存したのち、密閉容器を常温に戻した。

（表面状態）
表面の状態を目視で観察し、以下の評価基準に基づいて４段階評価した。Ａ、Ｂが実用上問題ないレベルであり、環境保存性に優れていることを示す。

Ａ：保存前後でフィルターの失透やヒビ、ワレなどが観察されないもの
Ｂ：保存後若干の失透が見られるが実用上問題ないもの
Ｃ：明らかな失透が観察されたもの
Ｄ：ヒビ、ワレなどが観察されたもの。

（耐光性）
さらに、ヒビやワレのない光学フィルターについては、上記と同様の耐光性試験を行い、以下の評価基準に基づいて４段階評価した。

◎：耐光性が８５％以上
○：耐光性が７０％以上、８５％未満
△：耐光性が６０％以上、７０％未満
×：耐光性が６０％未満

表３より、本発明における金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物の組成物は、比較の金属イオン含有化合物を含まない光学フィルターＡ−１に比較して、耐光性、環境保存性に優れることがわかった。

実施例２
（光学フィルターＢ−１の製造）
スクアリリウム化合物１−３：０．０１ｇをアクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン社製）の２０％ジメトキシエタン溶液２０ｍｌに混合し、超音波分散機で十分に分散させた（組成物：ｂ−１）。この組成物をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み１００μｍ）上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター（試料：Ｂ−１）を作製した。このフィルターは、青紫色を呈しており、バインダーを変更した場合であっても可視光線を有効に吸収する光学フィルターを提供できることがわかった。

（光学フィルターＢ−２の製造）
上記、組成物ｂ−１に、金属イオン含有化合物ＭＳ−５：０．０３ｇ（スクアリリウム化合物：金属イオン含有化合物＝１．０：２．０）を加え、よく攪拌して超音波分散機で十分に分散させた（組成物：ｂ−２）。この組成物をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み１００μｍ）上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター（試料：Ｂ−２）を作製した。このフィルターは、青紫色を呈していた。

（光学フィルター：Ｂ−３〜Ｂ−２０の製造）
スクアリリウム化合物を２−４７に変えた以外は同様にして光学フィルターＢ−１１を作製した。また金属イオン含有化合物の種類、添加量および添加剤の種類を下記表４に示す値に変更した以外は上記組成物ｂ−２、光学フィルターＢ−２の製造と同様にして、光学フィルターＢ−３〜Ｂ−１０およびＢ−１２〜Ｂ−２０を作製した。なお添加比（Ｙ）は添加剤の添加量をスクアリリウム化合物を１として換算した場合の値を示す（スクアリリウム化合物の添加量（ｇ）：添加剤の添加量（ｇ）＝１．０：Ｙ）。

作製した光学フィルター、Ｂ−１〜Ｂ−２０について実施例１と同様に耐光性試験、環境保存性試験を行った。結果を表４に併せて示す。なお酸化防止剤は下記記載の化合物を用い、紫外線吸収剤には２−（２′−ヒドロキシ−３′、５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾールを用いた。

表４より、本発明における金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物の組成物は、比較の金属イオン含有化合物を含まない光学フィルターＢ−１およびＢ−１１に比較して、耐光性、環境保存性に優れることがわかる。また、本発明の金属イオン含有化合物を添加した光学フィルターは、酸化防止剤や紫外線吸収剤を添加した光学フィルターに較べ、耐光性だけでなく、環境保存性が高く、表面状態の変化も少ないことがわかり、温度変化の大きい条件下での使用に対しても好適に利用できることがわかった。

《ディスプレイ用前面フィルター》
（比較のディスプレイ用前面フィルター１１の作製）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み１００μｍ）に、スクアリリウム化合物（１−１）の０．５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．７ｇ、ポリエステル樹脂の２０％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液１０ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのコーティング膜を得た。このディスプレイ用前面フィルターの透過率曲線は、５９３ｎｍに極小値を有していた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）を用いてキセノン光を色素塗布面の反対側から７２時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、２８．９％であった。

（比較のディスプレイ用前面フィルター１２の作製）
スクアリリウム化合物（１−１）とポリエステル樹脂溶液の混合物に、酸化防止剤として上記実施例２で使用した酸化防止剤を０．００１５ｇ加えた以外は上記比較のディスプレイ用前面フィルター１１の作製と同様にして比較のディスプレイ用前面フィルター１２を作製した。

上記と同様の耐光性試験を行ったところ、色素残存率は３２．３％であった。

（比較のディスプレイ用前面フィルター１３の作製）
紫外線防止剤（２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．５ｇにポリエステル樹脂の２０％シクロヘキサノン溶液７．０ｇを混合した。この組成物を上記比較のディスプレイ用前面フィルター１２のスクアリリウム含有表面と反対面にバーコーターで塗工、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜を得た。

上記と同様の耐光性試験を、キセノン光を紫外線吸収層面より露光して行ったところ、色素残存率％は６２．５％であった。また、１０日間露光した後の色素残存率は２０．６％であった。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター１の作製）
上記と同様にして、スクアリリウム化合物（２−４７）の０．５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．７ｇ、ポリエステル樹脂の２０％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液１０ｇを混合した後、金属イオン含有化合物ＭＳ−４０を０．００３５ｇ添加し、バーコーターでポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み１００μｍ）に、塗工、乾燥して、膜厚５μｍのコーティング膜を得た。このディスプレイ用前面フィルターの透過率曲線は、５８５ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

キセノンフェードメーター（７万Ｌｕｘ）を用いてキセノン光を色素塗布面の反対側から７２時間露光した後のサンプルの未露光サンプルからの可視領域極大吸収波長における色素残存率％を算出したところ、９０．２％であった。また１０日間露光後の色素残存率は５６．９％であり、本発明のディスプレイ用前面フィルターの耐光性は比較のディスプレイ用前面フィルターに比べ優れていた。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター２の作製）
スクアリリウム化合物を１−１に、金属イオン含有化合物をＭＳ−５２に変更した以外は同様にして本発明のコーティングフィルム２を作製した。このディスプレイ用前面フィルターの透過率曲線は、５９４ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

上記と同様の耐光性試験を行ったところ、７２時間露光後の色素残存率は８４．７％であり、本発明のディスプレイ用前面フィルターの耐光性は比較のディスプレイ用前面フィルターに比べ優れていた。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター３の作製）
スクアリリウム化合物（２−３）の０．５％テトラヒドロフラン溶液１．０ｇに金属イオン含有化合物ＭＳ−４８を０．０１０ｇ添加した後、熱溶融ポリエステル樹脂（ダイアボンド工業社製、商品名：ＳＰ３３００Ｘ１）の２０％ジメトキシエタン溶液１０ｇと混合し、剥離用ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：ＭＲＦ７５、厚さ７５μｍ）にバーコーターで塗工、乾燥した後、ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ１００μｍ）を塗布面に熱ロールラミネート装置を用いて貼り付けた。剥離用ポリエステルフィルムを剥がしてＳＰ３３００Ｘ１塗工面をガラス側にし、表面が約１００℃のアイロンにて１分間熱をかけ、ガラス基板へ貼り合わせ、本発明のコーティングフィルム３を作製した。このディスプレイ用前面フィルターの透過率曲線は、６０２ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５６０〜６２０ｎｍにあることから、ネオン発光を有効に吸収することのできるネオン発光カットフィルター、ディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

上記と同様の耐光性試験を行ったところ、７２時間露光後の色素残存率は８１．４％であった。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター４の作製）
上記ディスプレイ用前面フィルター１の色素含有層面と反対側のＰＥＴ樹脂面上に、紫外線防止剤（２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．５ｇにポリエステル樹脂の２０％シクロヘキサノン溶液７．０ｇの混合液をバーコーターで塗工、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜を得た。

上記と同様の耐光性試験を、キセノン光を紫外線吸収層面より露光して行ったところ、１０日間露光した後の色素残存率は７２．２％であり、本発明のディスプレイ用前面フィルターの耐光性は比較のディスプレイ用前面フィルターに比べ優れていた。

（本発明のディスプレイ用前面フィルター５の作製）
スクアリリウム化合物（２−５２）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．７ｇ、ポリエステル樹脂の２０％シクロヘキサノン溶液１０ｇを混合した後、金属イオン含有化合物ＭＳ−４５を０．００６ｇおよび近赤外線吸収色素（Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ′−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジインモニウムの六フッ化アンチモン酸塩）を０．０１５ｇを添加し、よく攪拌した後、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルム（厚み１００μｍ）にバーコーターで塗工、乾燥して、膜厚６μｍ のでコーティング膜を得た。このディスプレイ用前面フィルターを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５９３ｎｍ及び１１００ｎｍであった。

さらに、このディスプレイ用前面フィルターの近赤外線吸収色素、スクアリリウム化合物および金属イオン含有化合物含有表面と反対側の上記本発明のディスプレイ用前面フィルター４で作製した２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾールを紫外線吸収剤として含有する紫外線吸収コート液をバーコーターでコーティングし、乾燥して、膜厚６μｍの紫外線吸収層を形成した。

上記と同様の耐光性試験を、キセノン光を紫外線吸収層面より露光して行ったところ、１０日間露光した後の色素残存率は７７．１％であった。

以上より、本発明の金属イオン含有化合物およびスクアリリウム化合物を含有する組成物を用いることで耐光性に優れたディスプレイ用前面フィルターを提供できることが明らかとなった。また同様の耐光性を有し、プラズマディスプレイからのネオン発光を有効に吸収できるネオン発光吸収フィルター及び紫外線吸収層、赤外線吸収層等を有するディスプレイ用前面フィルターを提供することができた。

Claims (9)

1. 下記一般式（１）で表される金属イオン含有化合物の少なくとも１種と、スクアリリウム化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フィルター用組成物。
   一般式（１） Ｍ（Ｘ₁）_m（Ｘ₂）_n・Ｗ_s
   （式中、Ｍはコバルト、銅あるいは亜鉛を表す。Ｘ₁およびＸ₂はそれぞれ独立に下記一般式（２）または下記式（Ｘ−８）で表される配位子を表し、同一であっても異なっていてもよく、ｍおよびｎはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｍ＋ｎ＞１である。Ｗは電荷を中和させるのに必要な対イオンを表し、ｓは０〜３の整数を表す。）
   
2. 前記Ｅ₁、Ｅ₂およびＲの表す置換基が、それぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ホスホリル基、スルファモイル基、アミノ基、アゾ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基から選ばれる１種であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター用組成物。
3. 一般式（２）におけるＥ₁およびＥ₂で表される置換基のうち少なくとも一方のハメット置換基定数（σｐ）が０．１以上０．９以下の電子吸引性基であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター用組成物。
4. 一般式（１）におけるＭが、銅であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルター用組成物。
5. 前記スクアリリウム化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルター用組成物。
   （式中、Ａは芳香族炭化水素環基または複素環基を表す。環Ｂは５員または６員の芳香族炭化水素環、複素環を表す。Ｒ₁は置換基であって、ｐは０〜４の整数を表す。）
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター用組成物が、一般式（１）で表される金属イオン含有化合物とスクアリリウム化合物をモル比で１．０：０．１〜１．０：２．０の比率で混合させて製造されたことを特徴とする光学フィルター用組成物の製造方法。
7. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター用組成物を含有することを特徴とする光学フィルター。
8. 請求項７に記載の光学フィルターがディスプレイ用前面フィルターであることを特徴とするディスプレイ用前面フィルター。
9. 前記ディスプレイ用前面フィルターがプラズマディスプレイ用のディスプレイ用前面フィルターであり、かつ該ディスプレイ用前面フィルターが５６０〜６２０ｎｍの範囲に少なくとも一つの吸収極大を有することを特徴とする請求項８に記載のディスプレイ用前面フィルター。