JPWO2008056400A1 - ディスク原盤製造方法 - Google Patents

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    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography

Abstract

原盤を線速度一定で回転駆動し、原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で原盤を所定半径方向に平面移動させ、複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の同心円のデータパターンの露光において原盤の表面上で原盤の1回転当たり第1偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向に偏向させ、1回目〜(n−1)周目各々の同心円のデータパターンの露光が終了すると、原盤の表面上で第2偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させ、n周目の同心円のデータパターンの露光が終了すると、電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の同心円の露光開始位置に位置するように原盤の表面上で第3偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させるディスク原盤製造方法。

Description

本発明は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して露光することにより複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法に関する。
光ディスクの原盤にレーザビームを照射して露光することにより同心円のトラック上にピット列を描画する従来方法としては、原盤1回転中にその原盤を搭載したステージを原盤半径方向に移動させつつその移動方向と同一方向にトラックのピッチ分だけ等速度でビームを偏向させることが行われる(特許文献1参照)。例えば、複数のトラックにピット列を露光により描画する場合には、図1(a)に矢印によって示すように、第1トラックの開始点Aからビームを照射して露光を開始すると、原盤が1回転してビーム照射位置がその開始点Aに達するまでにビームは図1(b)に示すようにトラックピッチ分だけ定速度で偏向される。トラックピッチ分は1回転中のステージの移動距離に相当する。ビームの照射位置が開始点Aに達すると、開始点Aと同一半径方向上に位置する第2トラックの開始点Bにビームの照射位置は高速偏向により直ちに移動される。このようなビーム偏向動作をトラック毎に繰り返すことになる。
ハードディスク等の磁気ディスクにおいては、位置情報を示すサーボパターンを記録するために電子ビームにより光ディスクの場合と同様に同心円のパターンの描画が行われている。
特開昭63−112839号公報
しかしながら、磁気ディスクにおいては、高密度化に伴い高解像かつ高精度なパターンの露光が必須となっており、従来のディスク原盤製造方法では電子ビ−ムの安定性の影響を受け易く、ライン幅の変動、露光位置の変動等の劣化が問題となっていた。
本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、高解像かつ高精度なパターンの同心円のトラックを露光することができるディスク原盤製造方法及びその方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムを提供することが本発明の目的である。
請求項1に係る発明のディスク原盤製造方法は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。
請求項7に係る発明のプログラムは、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。
従来のディスク原盤製造方法を示す図である。 本発明のディスク原盤製造方法が適用された電子ビーム描画装置の構成を示す図である。 図2の装置によって4つの同心円の描画によって1トラックを形成する場合の描画手順を示す図である。 図2の装置中のメインコントローラの動作を示すフローチャートである。 4つの同心円の描画によって1トラックを形成する場合の電子ビームのスポット位置及び偏向量を示す図である。 4つの同心円の描画によって1トラックを形成する場合の電子ビームの偏向状態を示す図である。 図2の装置によってn個の同心円の描画によって1トラックを形成する場合の描画手順を示す図である。 n個の同心円の描画によって1トラックを形成する場合の電子ビームのスポット位置及び偏向量を示す図である。
請求項1に係る発明のディスク原盤製造方法及び請求項7に係る発明のプログラムによれば、1トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に電子ビームの偏向量を原盤の1回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。
図2は、磁気ディスクの基板作製用の転写型又は露光マスクの原盤露光工程で使用される電子ビーム描画装置を示している。電子ビーム描画装置は、電子カラム1、真空チャンバ2及び記録制御系30〜38からなる。
電子カラム1は、電子ビームを生成してそれを真空チャンバ2内の後述の原盤4に照射するための電子光学系を内部に備えた円柱状の部材である。電子カラム1内の光学系は、電子放出部11、コンデンサレンズ12、ブランキングプレート13、アパーチャプレート14、偏向コイル15、アライメントコイル16、高速デフレクタ17、フォーカスレンズ18及び対物レンズ19を備えている。これらの部材11〜19は電子カラム1内に上部からその順に配置されている。
電子放出部11は後述の加速高圧電源30によって高電圧が印加されると電子ビームを生成する。コンデンサレンズ12は電子放出部11によって生成された電子ビームを集束させてブランキングプレート13の中央部にクロスオーバを形成させる。ブランキングプレート13は後述のビーム変調器31の出力信号に応じて電子ビームをオンオフさせるための例えば、静電偏向型の電極である。アパーチャプレート14は電子ビームの電子束を制限する円形の開口を備えている。偏向コイル15は図示しない偏向回路の出力信号に応じて電子ビームの進行方向を変化させる。アライメントコイル16はビーム位置補正器32の出力信号に応じて電子ビームを偏向させる。高速デフレクタ17は偏向コントローラ37の出力信号に応じて電子ビームを任意の方向に偏向させる。フォーカスレンズ18はフォーカスコントローラ33の出力信号に応じて電子ビームのフォーカス制御を行い、対物レンズ19を介して原盤4上に合焦させる。
真空チャンバ2内には、高さ検出器21、スピンドルモータ22、ミラー23、ターンテーブル24、ステージ25及びステージ移動機構26が備えられている。スピンドルモータ22及びミラー23はステージ25上に配置されている。スピンドルモータ22はターンテーブル24を回転させる。ターンテーブル24上にディスク原盤4がセットされる。原盤4は例えば、シリコン基板上に電子線レジスト層が形成されたものである。ステージ25はステージ移動機構26によってディスク原盤4のディスク半径方向(X方向)に移動可能とされている。ステージ移動機構26は真空チャンバ2の外側に取り付けられたモータ27を動力源としてステージ25を移動させる。ミラー23はステージ25のディスク半径方向の移動距離を測定するために設けられている。高さ検出器21は真空チャンバ2内の上部に設けられ、ディスク原盤4の記録位置の高さを光学的に検出する。
記録制御系は、加速高圧電源30、ビーム変調器31、ビーム位置補正器32、フォーカスコントローラ33、位置コントローラ34、レーザ測長器35、回転コントローラ36、偏向コントローラ37及びメインコントローラ38を備えている。
加速高圧電源30はメインコントローラ38の指令に応じて電子放出部11に対して高電圧を印加する。
ビーム変調器31はメインコントローラ38から供給される記録データに応じてブランキングプレート13に対してビーム変調信号を供給する。
フォーカスコントローラ33は高さ検出器21によって検出された記録位置の高さ情報に応じてフォーカスレンズ18の集束位置を移動させる。
レーザ測長器35はミラー23に対してレーザビームを照射してその反射光を受光してミラー23の位置、すなわちステージ25の移動距離情報rを検出する。移動距離情報rはディスク原盤4の半径方向の記録位置を示すことになる。レーザ測長器35によって測定された移動距離情報rは位置コントローラ34に供給される。位置コントローラ34は移動距離情報rと基準距離情報REFとを比較してその比較結果の位置誤差信号に応じて図示しないモータ駆動手段を介してモータ27を駆動する。また、その位置誤差信号はビーム位置補正器32に供給される。ビーム位置補正器32は位置コントローラ34からの位置誤差信号に応じてアライメントコイル16を励磁させ、それによって電子ビームを偏向させる。
回転コントローラ36はメインコントローラ38の指令に応じてスピンドルモータ22を回転駆動する。偏向コントローラ37は、メインコントローラ38から供給される指令に応じて高速デフレクタ17による電子ビームの偏向を制御する。
加速高圧電源30、ビーム変調器31、フォーカスコントローラ33、位置コントローラ34、回転コントローラ36及び偏向コントローラ37は、メインコントローラ38の指令に応じて各々制御される。メインコントローラ38は例えば、マイクロコンピュータからなり、プログラムに応じて指令動作を実行する。
かかる構成の電子ビーム描画装置を用いてディスク原盤4への露光によるパターン描画について次に説明する。このパターン描画では、複数のトラックをトラックピッチ8δxで形成し、各トラックを4つの同心円描画によって形成することが行われる。4つの同心円のピッチはδxであり、トラックの幅は4δxである。
メインコントローラ38は、サーボゾーンデータとデータゾーンデータとを記録するに当たって、位置コントローラ34に対してステージ移動を上記の基準距離情報REFとして指令し、回転コントローラ36に対してスピンドルモータ22が回転線速度一定の回転数となるように指令する。
位置コントローラ34はレーザ測長器35から出力されるステージ25の移動距離情報rと基準距離情報REFとを比較してその比較結果の位置誤差信号に応じて図示しないモータ駆動手段を介してモータ27を駆動する。
これらの指令及び動作によって原盤4はスピンドルモータ22によってターンテーブル24と共に1回転されつつ、原盤半径方向にステージ移動機構26によってステージ25と共に移動される。ステージ25の移動距離はスピンドルモータ22の1回転当たり2δxである。2δxはトラックピッチ8δxの1/4の距離である。
ステージ25の送り速度vは、記録線速度をV、記録位置の半径をRとすると、
v=(V/2πR)×2δx=Vδx/πR
となる。メインコントローラ38は位置コントローラ34に供給する基準距離情報REFを送り速度vに応じて変化させる。位置コントローラ34は移動距離情報rと基準距離情報REFとが一致するように位置誤差信号を生成してモータ27を駆動するので、結果としてステージ25がスピンドルモータ22の1回転当たり2δxという割合で等速移動する。
また、メインコントローラ38は、加速高圧電源30に対して高電圧の電子放出部11への印加を指令し、これによって電子ビームが電子放出部11から発射される。更に、フォーカスコントローラ33に対して電子ビームの原盤4上へのフォーカシングを指令する。
ビーム位置補正器32は位置コントローラ34からの位置誤差信号に応じてアライメントコイル16を励磁させ、それによって電子ビームを偏向させる。
メインコントローラ38からビーム変調器31には記録データが一定のクロックタイミングで供給される。そのクロックタイミングは位置コントローラ34及び回転コントローラ36に対する指令に同期している。記録データは1ディスク分のサーボゾーンデータとデータゾーンデータとを記録順に示すデータである。記録データに応じてビーム変調器31が変調信号を生成し、その変調信号に応じてブランキングプレート13は電子放出部11から発射された電子ビームを偏向させる。これにより電子ビームはアパーチャプレート14のアパーチャを通過する場合と、アパーチャを通過しない場合とのいずれかとなる。アパーチャを通過する場合にはその通過した電子ビームは偏向コイル15、アライメントコイル16、高速デフレクタ17、フォーカスレンズ18及び対物レンズ19を介して原盤4の記録面にスポットとして照射される。一方、アパーチャを通過しない場合には、電子ビームはアパーチャプレート14以降に進まず、原盤4へ照射されることがない。
電子ビームの原盤4への照射によって照射された部分には潜像としてパターンが形成され、潜像部分のレジスト層がその後の現像工程において除去される。レジスト層が除去された部分が凹部となり、実際にパターンを形成する。
記録データについては1トラックを形成するためにディスク1周分のデータが4回繰り返される。
1トラック分の描画をする場合に、図3に示すように、第1トラック上において基準となる同一のディスク半径方向に位置する点をA,B,C,Dとし、その点A,B,C,Dはδxの間隔で内周側から順に位置しているとする。点Aがそのトラックの記録開始点であり、また、点Dがそのトラックの記録終了点である。回転コントローラ36はスピンドルモータ22を回転線速度一定の回転数となるように駆動しているとする。
メインコントローラ38は、1トラックの描画をするに当たり、図4に示すように、先ず、スポットによる記録位置(露光位置)が点Aの位置であるか否かを判別する(ステップS1)。記録位置の点Aへの移動はステージ25の移動により行われる。点Aの位置であるならば、ビーム変調器31に記録データを供給してビーム変調を開始させ(ステップS2)、それと同時に偏向コントローラ37に対して電子ビームの定速偏向を指令する(ステップS3)。偏向コントローラ37は、定速偏向指令に応じて電子ビームを半径方向(内周方向)に偏向させる(第1偏向ステップ)。原盤4の記録面の高さ平面ではステージ25の送り速度vに等しい速度でビームのスポットが移動されることになるが、原盤4が速度vで同一方向に移動しているので結果として原盤4上でスポットは半径方向には固定された状態となり、点Aを通る同心円上に位置する。すなわち、点Aを通る同心円上において記録データに対応したパターンが図3の矢印の方向に露光により順次描画される。
メインコントローラ38は、スポットによる記録位置が一周して点Aに戻ったか否かを判別する(ステップS4)。記録位置が点Aに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は2δxであり、第1偏向量に相当する。偏向コントローラ37に対して記録位置が点Bとなるように電子ビームの高速偏向を指令する(ステップS5)。すなわち、これが第2偏向ステップであり、電子ビームの偏向量をδxに戻すことが行われる。この偏向量が第2偏向量に相当する。スポットによる記録位置が点Bの位置であるか否かを判別する(ステップS6)。点Bの位置であるならば、ビーム変調器31に記録データを供給してビーム変調を開始させ(ステップS7)、それと同時に偏向コントローラ37に対して電子ビームの定速偏向を指令する(ステップS8)。これにより、点Bを通る同心円上に点Aを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが露光により描画される。
メインコントローラ38は、スポットによる記録位置が一周して点Bに戻ったか否かを判別する(ステップS9)。記録位置が点Bに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は3δxである。偏向コントローラ37に対して記録位置が点Cとなるように電子ビームの高速偏向を指令する(ステップS10)。すなわち、電子ビームの偏向量を2δxとするのである。スポットによる記録位置が点Cの位置であるか否かを判別する(ステップS11)。点Cの位置であるならば、ビーム変調器31に記録データを供給してビーム変調を開始させ(ステップS12)、それと同時に偏向コントローラ37に対して電子ビームの定速偏向を指令する(ステップS13)。これにより、点Cを通る同心円上に点A,Bを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが露光により描画される。
メインコントローラ38は、スポットによる記録位置が一周して点Cに戻ったか否かを判別する(ステップS14)。記録位置が点Cに戻ったならば、この時点では電子ビームの偏向量は4δxである。偏向コントローラ37に対して記録位置が点Dとなるように電子ビームの高速偏向を指令する(ステップS15)。すなわち、電子ビームの偏向量を3δxとするのである。スポットによる記録位置が点Dの位置であるか否かを判別する(ステップS16)。点Dの位置であるならば、ビーム変調器31に記録データを供給してビーム変調を開始させ(ステップS17)、それと同時に偏向コントローラ37に対して電子ビームの定速偏向を指令する(ステップS18)。これにより、点Dを通る同心円上に点A,B,Cを通る同心円上と同一の記録データに対応したパターンが描画される。
メインコントローラ38は、スポットによる記録位置が一周して点Cに戻ったか否かを判別する(ステップS19)。記録位置が点Dに戻ったならば、1トラックの記録データについてのパターン描画が終了したこととなる。この時点では電子ビームの偏向量は5δxである。偏向コントローラ37に対して記録位置が次のトラックの点Aとなるように電子ビームの高速偏向を指令する(ステップS20)。これが第3偏向ステップに相当し、第3偏向量5δxに等しい電子ビームの偏向量を0に戻すことが行われる。次のトラックについても上記のステップS1〜S20の動作が繰り返される。
よって、半径方向のスポット位置は時間に対して図5(a)に示すように移動し、記録面での電子ビームの偏向量は時間に対して図5(b)に示すように変化する。また、図6には原盤4に対する電子ビームの偏向方向の変化と照射位置との関係を示している。図6においては実線で示した電子ビームは各同心円の記録開始時の偏向状態であり、破線で示した電子ビームは各同心円の記録終了時の偏向状態である。これらの図から分かるように、1トラックについての露光の描画を開始する時点の記録開始点Aでは電子ビームの偏向量は0であるが、描画を終了した時点の記録終了点Dでは電子ビームの偏向量は5δxとなる。この偏向量5δxを高速偏向によりリセットすることにより偏向量は0となり、次の第2トラックについての記録開始点Aにスポットが位置することになる。この動作をトラック毎に繰り返すことにより、各同心円間でステージの移動量に相当するブランキング動作を行うことなく複数のトラック各々にパターンを描画することができる。このように1トラックを描画する際の電子ビームの偏向量をステージの移動量(トラックピッチ)より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度な同心円描画による露光が可能となる。
上記した実施例においては、4回の同心円描画により1トラックを形成しているが、4回以外のn回の同心円描画により1トラックを形成しても良い。この場合には、図7に示すように、トラック幅をnδx、トラック間のランドの幅をmδxとすると、トラックピッチは(n+m)δxとなる。ステージ25の送り速度vは、記録線速度をV、記録位置の半径をRとすると、
v=(V/2πR)×(n+m)δx/n=Vδx(n+m)/2nπR
となる。記録開始点A1からその点A1までのスピンドルモータ22の1回転分の描画においては電子ビームの偏向量は(n+m)δx/nである。記録位置を点A1から次の点A2となるように電子ビームの高速偏向により、電子ビームの偏向量はδxだけ減少されてmδx/nとなる。その後の電子ビームの偏向量も同様であり、半径方向のスポット位置は時間に対して図8(a)に示すように移動し、記録面での電子ビームの偏向量は時間に対して図8(b)に示すように変化する。
ステ−ジ移動速度は偏向量(n+m)δx/nに比例するので、nに比べmの値を大きく設定することにより、ステ−ジを速く送ることができるため描画時間短縮が可能となる。描画時間短縮により、電子ビ−ムの変動の影響を受けにくくなり、記録精度向上に寄与することになる。
なお、上記した各実施例において各トラックの記録開始点A又はA1にビームスポットが位置した時点において電子ビームの偏向量は0にされているが、その開始点で0以外の偏向量を有していても良い。
以上のように、本発明によれば、1トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に1周目〜(n−1)周目各々の同心円のデータパターンの露光において原盤の表面上で原盤の1回転当たり第1偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向に偏向させ、1回目〜(n−1)周目各々の同心円のデータパターンの露光が終了すると、原盤の表面上で第2偏向量だけ電子ビームを偏向させ、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように第3偏向量だけ原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることにより、電子ビームの偏向量を原盤の1回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間での描画が可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。
本発明のディスク原盤製造方法はハードディスク等の磁気ディスクの基板作製用原盤のデータパターン描画のために好適である。
本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、高解像かつ高精度なパターンの同心円のトラックを露光することができるディスク原盤製造方法その方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラム及び電子ビーム描画装置を提供することが本発明の目的である。
請求項7に係る発明のプログラムは、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴としている。
請求項8に係る発明の電子ビーム描画装置は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成する電子ビーム描画装置であって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動手段と、前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動手段と、前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向手段と、1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向手段と、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向手段と、を備えたことを特徴としている。
【0009】
【発明を実施するための最良の形態】
請求項1に係る発明のディスク原盤製造方法、請求項7に係る発明のプログラム及び請求項8に係る発明の電子ビーム描画装置によれば、1トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に電子ビームの偏向量を原盤の1回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。

Claims (7)

  1. 表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、
    前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
    前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
    前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、
    1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、
    n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴とするディスク原盤製造方法。
  2. 前記所定間隔をδx(δxは正数)とし、前記複数のトラックのトラック間のランド幅をmδx(mは1以上の整数)とし、前記トラックピッチを(n+m)δxとすると、前記所定の移動量及び第1偏向量は(n+m)δx/nであり、前記第2偏向量はδxであり、前記第3偏向量は(m+1)δxであることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
  3. 前記複数のトラック各々の1周目の前記同心円の露光開始位置において前記電子ビームの偏向量は0であることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
  4. 前記第2偏向ステップでは1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
  5. 前記第3偏向ステップではn周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
  6. 前記1回目〜n周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置は前記原盤の同一半径方向に位置することを特徴とする請求項4又は5記載のディスク原盤製造方法。
  7. 表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、
    前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
    前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
    前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、
    1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、
    n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴とするプログラム。
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