JPWO2008056400A1 - ディスク原盤製造方法 - Google Patents
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- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
Abstract
Description
v=(V/2πR)×2δx=Vδx/πR
となる。メインコントローラ38は位置コントローラ34に供給する基準距離情報REFを送り速度vに応じて変化させる。位置コントローラ34は移動距離情報rと基準距離情報REFとが一致するように位置誤差信号を生成してモータ27を駆動するので、結果としてステージ25がスピンドルモータ22の1回転当たり2δxという割合で等速移動する。
v=(V/2πR)×(n+m)δx/n=Vδx(n+m)/2nπR
となる。記録開始点A1からその点A1までのスピンドルモータ22の1回転分の描画においては電子ビームの偏向量は(n+m)δx/nである。記録位置を点A1から次の点A2となるように電子ビームの高速偏向により、電子ビームの偏向量はδxだけ減少されてmδx/nとなる。その後の電子ビームの偏向量も同様であり、半径方向のスポット位置は時間に対して図8(a)に示すように移動し、記録面での電子ビームの偏向量は時間に対して図8(b)に示すように変化する。
請求項8に係る発明の電子ビーム描画装置は、表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成する電子ビーム描画装置であって、前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動手段と、前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動手段と、前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向手段と、1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向手段と、n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向手段と、を備えたことを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
請求項1に係る発明のディスク原盤製造方法、請求項7に係る発明のプログラム及び請求項8に係る発明の電子ビーム描画装置によれば、1トラックの形成のために複数の同心円のデータパターンを露光し、その各同心円のデータパターンを露光する際に電子ビームの偏向量を原盤の1回転中の所定半径方向への移動量より少ない量で済ますことができるので、短時間で描画することが可能となり、かつ複数回露光の平均化効果を利用して高解像かつ高精度なデータパターンのトラックの露光が可能となる。
Claims (7)
- 表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法であって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、
1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、
n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴とするディスク原盤製造方法。 - 前記所定間隔をδx(δxは正数)とし、前記複数のトラックのトラック間のランド幅をmδx(mは1以上の整数)とし、前記トラックピッチを(n+m)δxとすると、前記所定の移動量及び第1偏向量は(n+m)δx/nであり、前記第2偏向量はδxであり、前記第3偏向量は(m+1)δxであることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
- 前記複数のトラック各々の1周目の前記同心円の露光開始位置において前記電子ビームの偏向量は0であることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
- 前記第2偏向ステップでは1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
- 前記第3偏向ステップではn周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置に戻ったときに高速偏向により前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させることを特徴とする請求項1記載のディスク原盤製造方法。
- 前記1回目〜n周目各々の前記同心円のデータパターンの露光開始位置は前記原盤の同一半径方向に位置することを特徴とする請求項4又は5記載のディスク原盤製造方法。
- 表面にレジスト層を有する原盤に電子ビームを照射して同心円のデータパターンを所定間隔で1トラック当たりn(nは2以上の整数)周回だけ露光することにより所定のトラックピッチを有する複数のトラックを形成するディスク原盤製造方法を実行するコンピュータ読取可能なプログラムであって、
前記原盤を線速度一定で回転駆動する回転駆動ステップと、
前記原盤の1回転当たり所定の移動量となる定速度で前記原盤を所定半径方向に平面移動させる移動ステップと、
前記複数のトラック各々の1周目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光において前記原盤の表面上で前記原盤の1回転当たり前記所定の移動量に等しい第1偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向に偏向させる第1偏向ステップと、
1回目〜(n−1)周目各々の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記原盤の表面上で前記所定間隔に等しい第2偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第2偏向ステップと、
n周目の前記同心円のデータパターンの露光が終了すると、前記電子ビームの照射位置が隣接トラックの1周目の前記同心円の露光開始位置に位置するように前記原盤の表面上で第3偏向量だけ前記電子ビームを前記原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させる第3偏向ステップと、を備えたことを特徴とするプログラム。
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